JPS6337628A

JPS6337628A - 半導体ウエハ用カセツト移送装置

Info

Publication number: JPS6337628A
Application number: JP61181342A
Authority: JP
Inventors: Yoshiyuki Iwazawa; 岩沢　祥行; Tsutomu Ishida; 勉石田; Hiroshi Harada; 博司原田; Kenji Okamoto; 健二岡本; Shintaro Kobayashi; 伸太郎小林
Original assignee: Shimizu Construction Co Ltd
Current assignee: Shimizu Construction Co Ltd
Priority date: 1986-08-01
Filing date: 1986-08-01
Publication date: 1988-02-18
Anticipated expiration: 2011-03-21
Also published as: JPH0828414B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】「産業上の利用分野」この発明は、半導体ウェハが格納された半導体ウェハ用
カセットを、半導体製造工程間で移送する半導体ウェハ
用カセット移送装置に関する。

「従来の技術」一般に、半導体装置の製造工程、とりわけ半導体ウェハ
上に回路素子を形成する前工程では塵埃は大赦であり、
作業雰囲気における清浄度がそのまま製品歩留まりに結
び付く。このため、この種の半導体装置の作業雰囲気の
高清浄化を図るために、クリーンルームが使用されてお
り、例えば第４図に示すクリーンルームが知られている
。

第４図において、符号にはクリーンルームであり、全体
を外隔壁１によって外界と区画されている。そして、こ
の区画内の中央には通路部領域２が、また該通路部領域
２と直交するように装置部領域３．３、・・・及び装置
保全領域４．４、・・・がバックパネル５により区画さ
れて交互に設けられている。

通路部領域２の天井には、この領域２に沿って、各装置
部領域３．３、・・・に前記半導体ウェハが格納された
半導体ウェハ用カセットを移送する自動移送装置６か設
置されている。この自動移送装置６の概要は、例えば第
５図に示すようなものであり、移送ボックス４１３内に
前記半導体ウェハ用カセットが収納され、この移送ボッ
クス１３が載置された台車１４が、通路部領域２に沿っ
て架設された軌道１２上を移動することで、半導体ウェ
ハ用カセットを各装置部領域３．３、・・・に移送する
。

台車１４には、４個の車輪１５、Ｉ５、・・・及びこの
車輪１５を回転させて台車１４を駆動するモータ等の駆
動機構１６が設けられている。

各装置部領域３には、前記半導体の製造工程の一部分に
対応する半導体製造装置７．７、・・・が設置され、半
導体ウェハが各装置部領域３で処理され、順次次の装置
部領域３へ移送されるに従って、その製造工程も順次進
行されるような構成となっている。装置部領域３の通路
部領域２がらの入口付近には、各装置部領域３間での工
程待ちをしている前記半導体ウェハを一時的に貯蔵して
おくストッカー８、及び該ストッカー８から自動移送装
置６に半導体ウェハ用カセットを供給するスタッカーク
レーン９が設けられている。また、装置部領域３内には
、半導体製造装置７．７、・・・に沿って配設された軌
道！０上を移動する、移送及び半導体製造の作業を行う
多機能な自動移送ロボット１１が設置される場合もある
。

装置部領域３には、その天井に主空調機に連通して給気
ダクト（共に図示略）が配設され、ＵＬＰＡフィルタや
ＨＥＰＡフィルタ等の高性能空気濾過フィルタを通じて
装置部領域３に清浄な空気を送風している。これにより
、装置部領域３は、その内部が超高清浄度に、また通路
部領域２は高清浄度に保たれている。

「発明が解決しようとする問題点」ところで、前記従来の半導体ウェハ用カセット自動移送
装置６では、その移送の際に車輪１５と軌道１２との間
の摩擦等の理由で塵埃が発生し、製品の歩留まりを低下
させる一因になっていた。

また、半導体ウェハ用カセット移送中に台車１２が微振
動し、これにより半導体ウェハの周縁部等に欠けを生じ
たり、またこの半導体ウェハ上に塗布されたレジストが
剥離し、これらが塵埃となって製品の歩留まりを低下さ
せる一因にもなっていた。

近年、塵埃の発生を極力抑制する目的で、半導体ウェハ
用カセットが収納された移送ボックスそのものを、圧縮
空気又は磁気により浮上させると共に、リニアモータに
よりこの移送ボックスを走行、停止させる自動移送装置
が提案されている。

しかし、この自動移送装置を前記クリーンルームに内全
体に設置すると、例えば圧縮空気により移送ボックスを
浮上させる場合、移送時には常時装置全体で圧縮空気を
噴出させる必要があり、設備費が嵩んで、不経済であっ
た。

この発明は、半導体ウェハ用カセットを半導体製造工程
間で移送する際に、塵埃の発生を可能な限り抑制すると
共に、経済的な設置が可能な半導体ウェハ用カセット移
送装置を如何にして実現するかを問題にしている。

１−問題点を解決する１こめの手段−１この発明は、各
半導体製造工程間を結んで設けられた軌道と、半導体ウ
ェハ用カセットが収納された扶植で前記軌道に沿って前
記各工程間を移動する移送手段と、該移送手段に設けら
れた半導体ウェハ用カセット収納部とからなる半導体ウ
ェハ用カセット移送装置において、該収納部を、前記半
導体ウェハ用カセットが収納される内箱体と、該内箱体
を囲繞する外箱体とから構成し、さらに前記内箱体と外
箱体との間に緩衝手段を設けたような半導体ウェハ用カ
セット移送装置を構成して、前記問題点を解決している
。

ここで、前記緩衝手段としては、前記内箱体と外箱体と
の間に圧縮空気を封入すると共に、これら内箱体と外箱
体とを弾性体により緩く結合したような構成や、また内
箱体と外箱体との間にオイル等の粘性液体を充填すると
共に、この粘性液体を弾性体により封止するような構成
等が挙げられる。

「作用Ｊこの発明では、半導体ウェハ用カセット収納部に設けら
れた緩衝手段により、半導体ウェハ用カセットが静穏に
移送される。

「実施例」以下、この発明の実施例について図面を参照して説明す
る。

第１図ないし第３図は、この発明の一実施例である半導
体ウェハ用カセット移送装置を示す図である。この移送
装置は、前記従来の移送装置と同様に、第４図に示すよ
うなりリーンルームに内の通路部領域２天井に設置され
ている。

半導体ウェハ用カセット移送装置は、各装置部領域３．
３、・・・、即ち各半導体製造工程間を結んで設けられ
た軌道１７と、半導体ウェハ用カセット＋８が収納され
た状態で軌道１７に沿って前記各装置部領域３．３、・
・・間を移動する台車（移送手段）１９と、この台車１
９に設けられた半導体ウェハ用カセット収納部２０とか
ら概略構成されている。

軌道１７は、前記クリーンルームにの通路部領域２の天
井に沿って延在して配置され、横断面形状略矩形の中空
状箱体の上面に、軌道１７の長さ方向に延在する開口部
２１が形成された構成とされている。軌道１７の内側面
には、横断面形状コ字形のレール２２．２２が、互いに
対向された状態で、この軌道１７の全長に亙って設けら
れている。レール２２の下部には、中空状の角管２３が
配設され、この角管２３と前記レール２２とには、これ
らを鉛直方向に貫通する排気スリット２４が、軌道１７
の長さ方向に設けられている。この角管２３は、その内
部が図示されない吸気装置により、常時外気より陰圧に
維持されている。従って、排気スリット２４からは、常
時レール２２周囲の空気が角管２３内に吸入され、これ
によりレール２２周辺の空気が高清浄度に維持されてい
る。

角管２３．２３間には基部２５が架設されていると共に
、この基部２５上には、軌道１７の長さ方向に延在する
スライダ２６．２６が、この軌道１７の長さ方向に延在
されている。コイル２６．２Ｇは、その表面が櫛歯状に
形成され、その背面を互いに対向さけた状態で基部２５
上に配設されている。また、コイル２６．２６は図示さ
れない電源装置に接続されている。

コイル２６．２６には、これを跨ぐように断面形状コ字
形の基台２７が配置されていると共に、この基台２７に
は、前記コイル２６．２６に対向するように、表面が櫛
歯状の鉄及びアルミニウム製の二次導体２８．２８が取
り付けられている。

ここで、コイル２６及び二次導体２８は、コイル２６を
固定子、二次導体２８を移動子とする一対のりニアモー
タを構成している。また、基台２７には、外方に向って
腕部２９．２９、・・・が延在して取り付けられ、この
腕部２９の先端には前記軌道１７のレール２２の上下方
向に嵌合するローラ３０、及びレール２２の内面に当接
するローラ３１が取り付けられている。このローラ３０
．３１は、前記コイル２６と二次導体２８との間の間隔
を一定に保持し、かつ前記基台２７を前記軌道１７の長
さ方向に沿って移動自在に支持する役割を有している。

基台２７の上面には、底板３２が取り付けられている。

底板３２の上面には、半導体ウェハ用カセット１８が収
納される半導体ウェハ用カセット収納部２０が設けられ
ている。この収納部２０は、半導体ウェハ用カセット１
８が内部に収納される内箱３３と、この内箱３３を囲繞
する外箱３４から概略構成されている。この内箱３３と
外箱３４との間には、圧縮空気あるいはオイル等粘性の
高い液体３５が充填されていると共に、内箱３３及び外
箱３４の上端部には、これらの間を閉塞して前記液体３
５を封止する弾性部材からなる環状のチューブシール３
６が嵌入されている。このチューブシール３６は中空に
形成され、内部に空気３７が封入されている。以上の構
成において、液体３５及びチューブシール３６は、内箱
３３と外箱３４との間の緩衝手段３８を構成している。

内箱３４の内部には、第１図及び第３図に示すように、
半導体ウェハ用カセット１８が収納され、このカセット
１８内には所定枚数の半導体ウェハ４０．４０゜・・・
が格納されている。また、外箱３４には、その上部に蓋
体３９が設けられる場合らある。そして、以上の構成に
おいて、基台２７、腕部２９、ローラ３０．３１、底板
３２及びカセット収納部２０は、前記半導体ウェハ用カ
セット１８が収納された状態で、前記軌道１７に沿って
クリーンルームに内を移動する台車１９を構成している
。

次に、この発明の一実施例である半導体ウェハ用カセッ
ト移送装置により、半導体ウェハ用カセット１８を移送
する方法について説明する。

まず、前記図示されない電源装置により、軌道１７のコ
イル２６に電流を印加して台車１９を移動させ、所定の
装置部領域３の入口付近に設置されたスタッカークレー
ン９上方に到着した段階で、この台車１９を停止させる
。次に、このスタッカークレーン９により、半導体ウェ
ハ４０．４０、・・・が格納された半導体ウェハ用カセ
ット１８を、内箱３３内に格納する。カセット１８格納
作業終了後、前記電源装置により再度台車１９を移動さ
せ、次の製造工程に相当する装置部領域３の入口付近に
設置されたスタッカークレーン９上方に到着した段階で
、この台車１９を停止させる。そして、このスタッカー
クレーン９により、台車１９内の半導体ウェハ用カセッ
ト１８をこの台車１９から降ろし、前記装置部領域３内
に搬入する。以後、この作業を繰り返して、各装置部領
域３．３、・・・間での半導体ウェハ用カセット１８の
移送を行うのである。

ここで、前記カセット１８移送中にローラ３０．３１と
レール２２との間の摩擦で発生する塵埃は、その発生と
ほぼ同時に、レール２２に設けられた排気スリット２４
から角管２３内に吸入され、速やかに系外に排出される
。また、内箱３３と外箱３４との間に設けられた緩衝手
段３８により、台車１９で発生する微震動の内箱３３へ
の伝達が極力遮断されるので、半導体ウェハ用カセット
１８が極めて静穏に移送される。従って、半導体ウェハ
４０の欠けや、レジストの剥離等の現象が起こりにくい
ため、この面からも塵埃の発生が抑制される。そして、
前記台車１９は、純粋に機械的に構成されているので、
前記従来の磁気ないしは圧縮空気により台車を浮上させ
る自動移送装置と比較して、その構成が単純であり、従
って設置に必要な費用も安価で済む。よって、半導体ウ
ェハ用カセット１８を装置部領域３．３、・間、即ち半
導体製造工程間で移送する際に、塵埃の発生を可能な限
り抑制すると共に、経済的な設置が可能な半導体ウェハ
用カセット移送装置を実現することが可能となる。

なお、この発明である半導体ウェハ用カセット移送装置
は、前記実施例に限定されない。例えば、前記緩衝手段
３８としては、液体３５の代わりに圧縮空気を封入した
ような構成であってら良い。

この場合、カセット１８が収納されていない状態で、内
箱３３が外箱３４から浮き上がるのを防止するために、
これら内箱３３及び外箱３４の底面をゴム紐等の弾性体
により緩く結合する必要がある。また、カセット１８の
移送手段は、前記実施例のような台車１９に限定されず
、例えば前記従来の台車１４であっても実現可能である
。この場合、前記実施例の如く、軌道１０に塵埃排出機
構を設ける必要がある。

「発明の効果ｊ以上詳細に説明したように、この発明によれば、各半導
体製造工程間を結んで設けられた軌道と、この軌道周辺
を常時高清浄度に維持する清浄度維持手段と、半導体ウ
ェハ用カセットが収納された状態で前記軌道に沿って前
記各工程間を移動する移送手段と、該移送手段に設けら
れた半導体ウェハ用カセット収納部とからなる半導体ウ
ェハ用カセット移送装置において、該収納部を、前記半
導体ウェハ用カセットが収納される内箱体と、該内箱体
を囲繞する外箱体とから構成し、さらに前記内箱体と外
箱体との間に緩衝手段を設けたような半導体ウェハ用カ
セット移送装置を構成したので、前記緩衝手段により、
前記移送手段で発生する微振動のカセットへの伝達が極
力遮断され、半導体ウェハ用カセットが極めて静穏に移
送される。従って、半導体ウェハの欠けや、レジストの
剥雅等の現象が起こりにくいため、塵埃の発生が抑制さ
れろ。そして、前記移送手段は機械的に構成されること
か可能であるので、従来の磁気ないし；よ、■縮空気に
より台車を浮上させる自動移送装置と比較して、その構
成が単純であり、従って設置に必要な費用も安価で済む
。よって、半導体ウェハ用カセットを半導体製造工程間
で移送する際に、塵埃の発生を可能な限り抑制すると共
に、経済的な設置が可能な半導体ウェハ用カセット移送
装置を実現することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例である半導体ウェハ用カセ
ット移送装置を示す要部を断面視した正面図、第２図は
同要部のみを示した平面図、第３図は同側断面図、第４
図はこの発明の一実施例である半導体ウェハ用カセット
移送装置が適用されるクリーンルームを示す平面図、第
５図は従来の半導体ウェハ用カセット移送装置を示す正
面図である。

Claims

【特許請求の範囲】

半導体ウェハが格納された半導体ウェハ用カセットを半
導体製造工程間で移送する半導体ウェハ用カセット移送
装置であって、該移送装置は、前記各工程間を結んで設
けられた軌道と、前記半導体ウェハ用カセットが収納さ
れた状態で前記軌道に沿って前記各工程間を移動する移
送手段と、該移送手段に設けられた半導体ウェハ用カセ
ット収納部とからなり、該収納部は、前記半導体ウェハ
用カセットが収納される内箱体と、該内箱体を囲繞する
外箱体とからなり、さらに前記内箱体と外箱体との間に
は緩衝手段が設けられていることを特徴とする半導体ウ
ェハ用カセット移送装置。