JPS6335495A - 高効率ダイヤモンド気相合成装置 - Google Patents
高効率ダイヤモンド気相合成装置Info
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- JPS6335495A JPS6335495A JP17540586A JP17540586A JPS6335495A JP S6335495 A JPS6335495 A JP S6335495A JP 17540586 A JP17540586 A JP 17540586A JP 17540586 A JP17540586 A JP 17540586A JP S6335495 A JPS6335495 A JP S6335495A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は1ミクロンドリル、エンドミルなどの穴あけ工
具を含めた切削工具部品、ドツトピン、スリッター、ガ
ラス切断刃などの耐摩耗工具部品、該融合炉の炉壁に代
表される原子炉用部品、各種素子用のヒートシンク、ポ
ロン、リンなどをドープしたダイヤモンド半導体又はス
ピーカーの振動板などのエレクトロニクス部品並びにカ
メラ、時計などの精密機械部品等を作製するのに利用で
きる高効率ダイヤモンド気相合成袋ごに関するものであ
る。
具を含めた切削工具部品、ドツトピン、スリッター、ガ
ラス切断刃などの耐摩耗工具部品、該融合炉の炉壁に代
表される原子炉用部品、各種素子用のヒートシンク、ポ
ロン、リンなどをドープしたダイヤモンド半導体又はス
ピーカーの振動板などのエレクトロニクス部品並びにカ
メラ、時計などの精密機械部品等を作製するのに利用で
きる高効率ダイヤモンド気相合成袋ごに関するものであ
る。
(従来の技術)
気相からダイヤモンドを合成するための装ことしては、
スパッタ法を利用した装置、イオンブレーティング法を
利用した装置、蒸着法とイオン注入法を組合わせた装置
、マイクロ波又は高周波によるプラズマ化学蒸着法を利
用した装置並びに熱電子放射材を利用した装置などがあ
る。
スパッタ法を利用した装置、イオンブレーティング法を
利用した装置、蒸着法とイオン注入法を組合わせた装置
、マイクロ波又は高周波によるプラズマ化学蒸着法を利
用した装置並びに熱電子放射材を利用した装置などがあ
る。
これらのダイヤモンド気相合成装置の内、熱電子放射材
を利用した装置は、反応容器内でのガスのコントロール
が容易で連続的に生産ができること、並びにこの装置で
得られるダイヤモンドは均質で良質な粒状ダイヤモンド
及び膜状ダイヤモンドになりやすいという利点がある。
を利用した装置は、反応容器内でのガスのコントロール
が容易で連続的に生産ができること、並びにこの装置で
得られるダイヤモンドは均質で良質な粒状ダイヤモンド
及び膜状ダイヤモンドになりやすいという利点がある。
熱゛心子放射材を備えたダイヤモンド気相合成装置によ
るダイヤモンドの合成法が特開昭59−91100号公
報、特開昭59−182300号公報、特開昭60−2
21395号公報及び特開昭61−117281号公報
に開示されている。
るダイヤモンドの合成法が特開昭59−91100号公
報、特開昭59−182300号公報、特開昭60−2
21395号公報及び特開昭61−117281号公報
に開示されている。
(発明が解決しようとする問題点)
熱′1[子放射材を愉えたダイヤモンド気相合成装置に
よるダイヤモンド気相合成法として開示されている特開
昭58−91100号公報は、Wからなる熱電子放射材
を備えた装置を用いており、特開昭59−182300
号公報はW 、 T a 。
よるダイヤモンド気相合成法として開示されている特開
昭58−91100号公報は、Wからなる熱電子放射材
を備えた装置を用いており、特開昭59−182300
号公報はW 、 T a 。
Moあるいは黒鉛からなる熱電子放射材を備えた装置を
用いており、特開昭60−221395号公報は、Wか
らなる熱電子放射材を備えており、しかもこの熱電子放
射材とダイヤモンドの被覆層を形成させるための基板と
の間に直流電圧を印加させるようにしたダイヤモンド気
相合成装置を用いており、特開昭61−117281号
公報はTaからなる熱電子放射材を備えた装置を用いて
いるものである。これらの従来から用いられているダイ
ヤモンド気相合成装置は、いずれも高融点金属又は黒鉛
からなる熱電子放射材を備えたものであり、高融点金属
からなる熱電子放射材を備えた装とでは、装置内に供給
されるダイヤモンドの合成に必要なガスと熱電子放射材
との反応が生じ、又黒鉛からなる熱電子放射材を備えた
装置では、熱電子放射材の表面が徐々に気化されて、装
置内に供給されたダイヤモンドの合成に必要なガスの中
に混在するために、装置内のカーボンポテンシャルの変
動が激しくなる。このために、基板上のダイヤモンドの
合成に必要なガスの供給がか不安定になって、ダイヤモ
ンドの生成を低下させるのと又は生成ダイヤモンドの結
晶性が悪くなるという問題がある。
用いており、特開昭60−221395号公報は、Wか
らなる熱電子放射材を備えており、しかもこの熱電子放
射材とダイヤモンドの被覆層を形成させるための基板と
の間に直流電圧を印加させるようにしたダイヤモンド気
相合成装置を用いており、特開昭61−117281号
公報はTaからなる熱電子放射材を備えた装置を用いて
いるものである。これらの従来から用いられているダイ
ヤモンド気相合成装置は、いずれも高融点金属又は黒鉛
からなる熱電子放射材を備えたものであり、高融点金属
からなる熱電子放射材を備えた装とでは、装置内に供給
されるダイヤモンドの合成に必要なガスと熱電子放射材
との反応が生じ、又黒鉛からなる熱電子放射材を備えた
装置では、熱電子放射材の表面が徐々に気化されて、装
置内に供給されたダイヤモンドの合成に必要なガスの中
に混在するために、装置内のカーボンポテンシャルの変
動が激しくなる。このために、基板上のダイヤモンドの
合成に必要なガスの供給がか不安定になって、ダイヤモ
ンドの生成を低下させるのと又は生成ダイヤモンドの結
晶性が悪くなるという問題がある。
また、W 、 T a 、 M oあるいは黒鉛からな
る熱電子放射材を備えた装置の内、W 、 T a 、
又はMOからなる8電子放射材の場合は、装置内に供給
されたダイヤモンドの合成に必要なガスと熱電子放射材
との反応により熱電子放射材が変形するのと、黒鉛から
なる熱電子放射材の場合は、熱電子放射材自身の気化に
よって変形するためにダイヤモンド合成において、非常
に重要な因子であるところの熱電子放射材と基板との距
離が一定に保たれなくなって、基板上にダイヤモンドが
安定に生成し難くなるという問題がある。
る熱電子放射材を備えた装置の内、W 、 T a 、
又はMOからなる8電子放射材の場合は、装置内に供給
されたダイヤモンドの合成に必要なガスと熱電子放射材
との反応により熱電子放射材が変形するのと、黒鉛から
なる熱電子放射材の場合は、熱電子放射材自身の気化に
よって変形するためにダイヤモンド合成において、非常
に重要な因子であるところの熱電子放射材と基板との距
離が一定に保たれなくなって、基板上にダイヤモンドが
安定に生成し難くなるという問題がある。
本発明は、上述のような問題点を解決したもので、具体
的には、表面から少なくとも50μm厚さが周期律表の
4a、5a、6a族元素の炭化物及びこれらの相互固溶
体から選ばれた少なくとも1種からなる熱電子放射材を
A@1.たダイヤモンド気相合成型この提供を目的とす
るものである。
的には、表面から少なくとも50μm厚さが周期律表の
4a、5a、6a族元素の炭化物及びこれらの相互固溶
体から選ばれた少なくとも1種からなる熱電子放射材を
A@1.たダイヤモンド気相合成型この提供を目的とす
るものである。
(問題点を解決するための手段)
本発明者らは、W又はTaからなる熱電子放射材を備え
たダイヤモンド気相合成装置を用いて基板上にダイヤモ
ンドの析出を試みた所、反応初期には殆んどダイヤモン
ドが析出しないときがあるのと、更に長時間の反応によ
り徐々にダイヤモンドの析出が生じてくるという結果を
得た。
たダイヤモンド気相合成装置を用いて基板上にダイヤモ
ンドの析出を試みた所、反応初期には殆んどダイヤモン
ドが析出しないときがあるのと、更に長時間の反応によ
り徐々にダイヤモンドの析出が生じてくるという結果を
得た。
また、同じくW又はTaからなる8電子放射材を備えた
ダイヤモンド気相合成装置を用いて供給ガスの濃度とダ
イヤモンドの析出状況及びその形態との関係についてl
K察した所、供給ガスの実質的な濃度コントロールが殆
んど行なわれていないに等しいという結果を得た。
ダイヤモンド気相合成装置を用いて供給ガスの濃度とダ
イヤモンドの析出状況及びその形態との関係についてl
K察した所、供給ガスの実質的な濃度コントロールが殆
んど行なわれていないに等しいという結果を得た。
これらの結果から、熱電子放射材を調査した所、熱電子
放射材が供給ガスと反応していることが確認できた。そ
こで、供給ガスと殆んど反応しないか又は全々反応しな
い材料からなる熱電子放射材を備えたダイヤモンド気相
合成型こでは、供給ガスの濃度コントロールが容易にな
り、ダイヤモンドの析出も安定するという知見を得て、
本発明を完成させるに至ったものである。
放射材が供給ガスと反応していることが確認できた。そ
こで、供給ガスと殆んど反応しないか又は全々反応しな
い材料からなる熱電子放射材を備えたダイヤモンド気相
合成型こでは、供給ガスの濃度コントロールが容易にな
り、ダイヤモンドの析出も安定するという知見を得て、
本発明を完成させるに至ったものである。
すなわち、本発明の高効率ダイヤモンド気相合成装置は
、ガス供給口とガス排気口とを設けた反応容器と該反応
容器内に設置された熟°心子放射材と該熱電子放射材か
らの幅射熱領域内に配設された基板支持体とを具備して
おり、前記熱電子放射材は、該熱電子放射材の表面から
少なくとも50涛m厚さが周期律表の4a、5a、Ba
族元素の炭化物及びこれらの相互固溶体から選ばれた少
なくとも1種からなることを特徴とするものである。
、ガス供給口とガス排気口とを設けた反応容器と該反応
容器内に設置された熟°心子放射材と該熱電子放射材か
らの幅射熱領域内に配設された基板支持体とを具備して
おり、前記熱電子放射材は、該熱電子放射材の表面から
少なくとも50涛m厚さが周期律表の4a、5a、Ba
族元素の炭化物及びこれらの相互固溶体から選ばれた少
なくとも1種からなることを特徴とするものである。
本発明の高効率ダイヤモンド気相合成装置における反応
容器は、ガス供給口とガス排気口とを設けられていて、
容器内が真空又はガス雰囲気の調!1可能なものであれ
ばどのような形状でもよい。
容器は、ガス供給口とガス排気口とを設けられていて、
容器内が真空又はガス雰囲気の調!1可能なものであれ
ばどのような形状でもよい。
この反応容器内に配設される基板支持体は、ダイヤモン
ドを析出させるための基板を支持するもので、その材質
は熱電子放射材から放出される輻射熱により変形が生じ
なければ、特別な制限がなく、例えば、アルミナ系セラ
ミックス、窒化ケイ素系セラミックス、炭化ケイ素系セ
ラミックス。
ドを析出させるための基板を支持するもので、その材質
は熱電子放射材から放出される輻射熱により変形が生じ
なければ、特別な制限がなく、例えば、アルミナ系セラ
ミックス、窒化ケイ素系セラミックス、炭化ケイ素系セ
ラミックス。
石英ガラス、 W 、 M oなどの高融点金属ステン
レス、炭素鋼などの鉄系合金、Cu、A文又はその合金
、ハステロイ、インコネルなどのニッケル系合金、ステ
ライトなどのコバルト系合金が挙げられる。この基板支
持体の設置位置は、熱電子放射材から放出される輻射熱
が到達する幅射熱領域内であればよい。
レス、炭素鋼などの鉄系合金、Cu、A文又はその合金
、ハステロイ、インコネルなどのニッケル系合金、ステ
ライトなどのコバルト系合金が挙げられる。この基板支
持体の設置位置は、熱電子放射材から放出される輻射熱
が到達する幅射熱領域内であればよい。
反応容器内に設とする熱電子放射材は1例えば、周期律
表の4a (Ti 、Zr、V)、5a(V、Nb、T
a)、6a(Cr、Mo、W)族の金属からなる芯部に
その表面の少なくとも50μm厚さが周期律表の4a、
5a、6a族元素の炭化物及びこれらの相互固溶体から
選ばれた少なくとも1種からなるもので、具体的には、
芯部がタングステンで、表面層が炭化タングステンでな
るもの、芯部がタングステンで、表面層が炭化タンタル
でなるもの、芯部がモリブデンで表面層が炭化モリブデ
ンでなるもの、芯部がモリブデンで表面層が炭化タンタ
ルでなるもの、芯部がタンタルで表面層が炭化タンタル
でなるものがあり、特に、芯部がW 、 M o又はT
aで表面層が炭化タンタルでなるものは、強度が高くて
取扱い易く、しかもダイヤモンドが安定に効率よく析出
し、その析出ダイヤモンドの結晶性もすぐれるので好ま
しいことである。また、熱電子放射材の全体が周期律表
の4a、5a、6a族元素の炭化物及びこれらの相互固
溶体から選ばれた少なくとも1!!からなるもので、例
えば、全体が炭化タンタルでなる場合は熱的に安定して
いて、基板の表面へのダイヤモンドが安定に効率よく析
出すること及び析出ダイヤモンドの結晶性が著しくすぐ
れるので最も好ましいことである。これらの熱電子放射
材は、コイル状、棒状又は板状など各種の形状にして、
反応容器内に設置することができる。
表の4a (Ti 、Zr、V)、5a(V、Nb、T
a)、6a(Cr、Mo、W)族の金属からなる芯部に
その表面の少なくとも50μm厚さが周期律表の4a、
5a、6a族元素の炭化物及びこれらの相互固溶体から
選ばれた少なくとも1種からなるもので、具体的には、
芯部がタングステンで、表面層が炭化タングステンでな
るもの、芯部がタングステンで、表面層が炭化タンタル
でなるもの、芯部がモリブデンで表面層が炭化モリブデ
ンでなるもの、芯部がモリブデンで表面層が炭化タンタ
ルでなるもの、芯部がタンタルで表面層が炭化タンタル
でなるものがあり、特に、芯部がW 、 M o又はT
aで表面層が炭化タンタルでなるものは、強度が高くて
取扱い易く、しかもダイヤモンドが安定に効率よく析出
し、その析出ダイヤモンドの結晶性もすぐれるので好ま
しいことである。また、熱電子放射材の全体が周期律表
の4a、5a、6a族元素の炭化物及びこれらの相互固
溶体から選ばれた少なくとも1!!からなるもので、例
えば、全体が炭化タンタルでなる場合は熱的に安定して
いて、基板の表面へのダイヤモンドが安定に効率よく析
出すること及び析出ダイヤモンドの結晶性が著しくすぐ
れるので最も好ましいことである。これらの熱電子放射
材は、コイル状、棒状又は板状など各種の形状にして、
反応容器内に設置することができる。
熱″世子放射材の表面に形成される周期律表の4a、5
a、Ba族元素の炭化物及びこれらの相介固溶体の厚さ
が50μm未満になると反応容器内に供給されるガスが
安定しなくなる。供給ガスの組成を安定にするために熱
電子放射材の表面に形成される周期律表の4a、5a、
6a族元素の炭化物及びこれらの相互固溶体の厚さは、
少なくとも1004mであることが好まし、い。
a、Ba族元素の炭化物及びこれらの相介固溶体の厚さ
が50μm未満になると反応容器内に供給されるガスが
安定しなくなる。供給ガスの組成を安定にするために熱
電子放射材の表面に形成される周期律表の4a、5a、
6a族元素の炭化物及びこれらの相互固溶体の厚さは、
少なくとも1004mであることが好まし、い。
本発明の高効率ダイヤモンド気相合成装置は、基板支持
体に支持される基板を冷却するための機構を設けること
、又は熱電子放射材と基板との間に電圧を印加させるこ
となどによって一層高効率にダイヤモンドの析出が生じ
るような装置にすることもできる。
体に支持される基板を冷却するための機構を設けること
、又は熱電子放射材と基板との間に電圧を印加させるこ
となどによって一層高効率にダイヤモンドの析出が生じ
るような装置にすることもできる。
(作用)
本発明の高効率ダイヤセント気相合成装置は、表面から
少なくとも50μm厚さが周期律表の4a、5a、Ba
族元素の炭化物及びこれらの相互固溶体から選ばれた少
なくとも1種からなるもので、熱゛電子放射材を具備し
ていることから、この熱電子放射材と反応容器内に導入
された反応が押えられて、熱電子放射材により励起され
た導入ガスの殆んど全てがダイヤモンド析出のために作
用することになる。
少なくとも50μm厚さが周期律表の4a、5a、Ba
族元素の炭化物及びこれらの相互固溶体から選ばれた少
なくとも1種からなるもので、熱゛電子放射材を具備し
ていることから、この熱電子放射材と反応容器内に導入
された反応が押えられて、熱電子放射材により励起され
た導入ガスの殆んど全てがダイヤモンド析出のために作
用することになる。
(実施例)
実施例1
第1図に示すようなガス供給+コ(2)を設けた反応容
器(1)内に炭化タンタルからなる熱電子放射材(3)
とこの熱電子放射材(3)から5腸層離した供給ガスの
下流に配設した基板支持体(4)とこの基板支持体(0
に表面処理を施したSiからなる基板(5)を支持させ
たダイヤモンド気相合成装置を用いて、次の条件でダイ
ヤモンドの析出を行なった・ 反応容器内に導入したガスは、98マaJ1%H2−2
vo1%CH4ガス、圧力30torr、流速50 c
c/win、pJ%電子放射材を2000”Cに加熱、
基板温度870℃で3時間析出させた後、基板の表面を
SEMII察した所、約4.7μm厚さの膜状のダイヤ
モンドが生成していた。
器(1)内に炭化タンタルからなる熱電子放射材(3)
とこの熱電子放射材(3)から5腸層離した供給ガスの
下流に配設した基板支持体(4)とこの基板支持体(0
に表面処理を施したSiからなる基板(5)を支持させ
たダイヤモンド気相合成装置を用いて、次の条件でダイ
ヤモンドの析出を行なった・ 反応容器内に導入したガスは、98マaJ1%H2−2
vo1%CH4ガス、圧力30torr、流速50 c
c/win、pJ%電子放射材を2000”Cに加熱、
基板温度870℃で3時間析出させた後、基板の表面を
SEMII察した所、約4.7μm厚さの膜状のダイヤ
モンドが生成していた。
比較として、熱電子放射材にTaを用いて、他は上述と
同一条件でダイヤモンドを析出させた所、直径的0.5
μmの粒状ダイヤモンドがまばらに生成していた。
同一条件でダイヤモンドを析出させた所、直径的0.5
μmの粒状ダイヤモンドがまばらに生成していた。
尚、本発明の装置として用いた炭化タンタルの熱電子放
射材は、コイル状のTa線を90voJ1%H2−Io
ta又%CHs中、圧力50torr、2500℃加熱
により2時間炭化処理したもので、先頭観察及びX線回
折の結果、はぼ表面から芯まで炭化タンタルになってい
るものであった。
射材は、コイル状のTa線を90voJ1%H2−Io
ta又%CHs中、圧力50torr、2500℃加熱
により2時間炭化処理したもので、先頭観察及びX線回
折の結果、はぼ表面から芯まで炭化タンタルになってい
るものであった。
実施例2
実施例1の内、熱電子放射材に炭化タングステンを備え
た装置で、98.5マ0文%H2−1,5voJ1%C
2H2ガス、圧力45torr、流速30 cc/si
n、熱電子放射材を2000℃に加熱、基板温度900
℃で2時間析出させた後、基板の表面をSEM観察した
所、平均粒径3.5μmの粒状のダイヤモンドが析出密
度的105個/C麿?で生成していた。
た装置で、98.5マ0文%H2−1,5voJ1%C
2H2ガス、圧力45torr、流速30 cc/si
n、熱電子放射材を2000℃に加熱、基板温度900
℃で2時間析出させた後、基板の表面をSEM観察した
所、平均粒径3.5μmの粒状のダイヤモンドが析出密
度的105個/C麿?で生成していた。
比較として、熱電子放射材にWを用いて、他は上述と同
一条件でダイヤモンドを析出させた所、全く、ダイヤモ
ンドの生成が見られなかった。
一条件でダイヤモンドを析出させた所、全く、ダイヤモ
ンドの生成が見られなかった。
ここで用いた装置は、基板と熱電子放射材との距離を1
0膳膳とし、基板には10%)INO3で表面処理した
WC−5%Co超硬合金を用いて行なったものである。
0膳膳とし、基板には10%)INO3で表面処理した
WC−5%Co超硬合金を用いて行なったものである。
また、Wからなる熱電子放射材は、3X15X2 (麿
■)の板状で、炭化タングステンからなる熱電子放射材
は、平均粒径5μmのWC粉末をホットプレスによって
焼結した3×15X2(am)の板状のものである。
■)の板状で、炭化タングステンからなる熱電子放射材
は、平均粒径5μmのWC粉末をホットプレスによって
焼結した3×15X2(am)の板状のものである。
実施例3
表面から100μm厚さがTaCで、芯部がTaでなる
φ1.Ommのコイル状に作成した熱電子放射材を備え
た実施例1と略同様な装置を用いて、97voi%H2
−3voJ1%CHsガス、圧力30torr、熱電子
放射材を2200℃に加熱、WC−5%Co超硬合金の
基板上に、1時間反応させてダイヤモンドの析出を行な
った所、基板上に2.2μm厚さのダイヤモンドが被覆
されていた。比較として、Taからなる熱電子放射材を
備えた装置を用いて、上述と略同条件でダイヤモンドの
析出を行なった所、基板の表面には、0.7μm厚さに
粒状のダイヤモンドが生成されていた。
φ1.Ommのコイル状に作成した熱電子放射材を備え
た実施例1と略同様な装置を用いて、97voi%H2
−3voJ1%CHsガス、圧力30torr、熱電子
放射材を2200℃に加熱、WC−5%Co超硬合金の
基板上に、1時間反応させてダイヤモンドの析出を行な
った所、基板上に2.2μm厚さのダイヤモンドが被覆
されていた。比較として、Taからなる熱電子放射材を
備えた装置を用いて、上述と略同条件でダイヤモンドの
析出を行なった所、基板の表面には、0.7μm厚さに
粒状のダイヤモンドが生成されていた。
尚、表面からlooμm厚さがTaCで、芯部がTaで
なる熱電子放射材は、φ1.ommのコイル状Taを8
5vo文%H2−15vou%CHa中で、圧力30t
orr、温度2200℃、1時間保持によって処理した
ものである。
なる熱電子放射材は、φ1.ommのコイル状Taを8
5vo文%H2−15vou%CHa中で、圧力30t
orr、温度2200℃、1時間保持によって処理した
ものである。
(発明の効果)
以上の結果から、本発明の高効率ダイヤモンド気相合成
袋とは、反応容器内でのガスの微量調整が容易に行なえ
て、励起されたガスが無駄なくダイヤモンドの析出に使
われるためにダイヤモンドの合成が著しく速くなり、効
率の高い装とである。また、反応容器内で励起されたガ
スと熱電子放射材との反応が殆んど生じないために結晶
性の高い良質なダイヤモンドの析出が0Tfffiな装
置である。
袋とは、反応容器内でのガスの微量調整が容易に行なえ
て、励起されたガスが無駄なくダイヤモンドの析出に使
われるためにダイヤモンドの合成が著しく速くなり、効
率の高い装とである。また、反応容器内で励起されたガ
スと熱電子放射材との反応が殆んど生じないために結晶
性の高い良質なダイヤモンドの析出が0Tfffiな装
置である。
このために、本発明の高効率ダイヤモンド気相合成装置
は、合成される膜状又は粒状ダイヤモンドの品質管理が
容易であり、膜状又は粒状ダイヤモンドとして応用でき
る各種の部品材料の作成用として有用なダイヤモンド合
成装置である。
は、合成される膜状又は粒状ダイヤモンドの品質管理が
容易であり、膜状又は粒状ダイヤモンドとして応用でき
る各種の部品材料の作成用として有用なダイヤモンド合
成装置である。
第1図は、実施例1で用いた本発明の高効率ダイヤモン
ド気相合成装置の概略図である。 第1図中、lは反応容器、2はガス供給口、3は熱電子
放射材、4は基板支持体、5は基板、6はガス排気口を
示す。
ド気相合成装置の概略図である。 第1図中、lは反応容器、2はガス供給口、3は熱電子
放射材、4は基板支持体、5は基板、6はガス排気口を
示す。
Claims (3)
- (1)ガス供給口とガス排気口とを設けた反応容器と該
反応容器の中に設置された熱電子放射材と該熱電子放射
材からの幅射熱領域内に配設された基板支持体とを具備
したダイヤモンド気相合成装置において、前記熱電子放
射材は、該熱電子放射材の表面から少なくとも50μm
厚さが周期律表の4a、5a、6a族元素の炭化物及び
これらの相互固溶体から選ばれた少なくとも1種からな
ることを特徴とする高効率ダイヤモンド気相合成装置。 - (2)上記熱電子放射材は、少なくとも50μm厚さが
炭化タンタルからなる表面層とW、Mo又はTaからな
る芯部との複合部材で形成されていることを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の高効率ダイヤモンド気相合
成装置。 - (3)上記熱電子放射材は、炭化タンタルで形成されて
いることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の高効
率ダイヤモンド気相合成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17540586A JPS6335495A (ja) | 1986-07-25 | 1986-07-25 | 高効率ダイヤモンド気相合成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17540586A JPS6335495A (ja) | 1986-07-25 | 1986-07-25 | 高効率ダイヤモンド気相合成装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6335495A true JPS6335495A (ja) | 1988-02-16 |
Family
ID=15995518
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17540586A Pending JPS6335495A (ja) | 1986-07-25 | 1986-07-25 | 高効率ダイヤモンド気相合成装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6335495A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5580380A (en) * | 1991-12-20 | 1996-12-03 | North Carolina State University | Method for forming a diamond coated field emitter and device produced thereby |
JP2012227380A (ja) * | 2011-04-20 | 2012-11-15 | Ulvac Japan Ltd | 通電加熱線、通電加熱線の製造方法および真空処理装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62202896A (ja) * | 1986-02-28 | 1987-09-07 | Toshiba Corp | ダイヤモンド製造用加熱体 |
-
1986
- 1986-07-25 JP JP17540586A patent/JPS6335495A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62202896A (ja) * | 1986-02-28 | 1987-09-07 | Toshiba Corp | ダイヤモンド製造用加熱体 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5580380A (en) * | 1991-12-20 | 1996-12-03 | North Carolina State University | Method for forming a diamond coated field emitter and device produced thereby |
JP2012227380A (ja) * | 2011-04-20 | 2012-11-15 | Ulvac Japan Ltd | 通電加熱線、通電加熱線の製造方法および真空処理装置 |
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