JPS63308037A - 耐熱性樹脂の製造方法 - Google Patents

耐熱性樹脂の製造方法

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JPS63308037A
JPS63308037A JP13534288A JP13534288A JPS63308037A JP S63308037 A JPS63308037 A JP S63308037A JP 13534288 A JP13534288 A JP 13534288A JP 13534288 A JP13534288 A JP 13534288A JP S63308037 A JPS63308037 A JP S63308037A
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meth
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Kazuya Yonezawa
米沢 和弥
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吉良 一明
Hiroshi Wakabayashi
宏 若林
Kosaku Nagano
広作 永野
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Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、耐熱性が改善されたポリアミドイミド樹脂の
製造方法に関するものであり、その目的とするところは
ポリアミドイミド樹脂の耐熱性を向上させることにある
〔従来の技術と問題点〕
これまでよく知られているポリアミドイミド樹脂は、そ
の電気特性、耐熱性、機械物性が優れているため電気絶
縁用フェスをはじめとし、耐熱用フィルムとして使用さ
れている。しかし、例えばプリント配線基板用のフィル
ムとしては260〜280℃のハンダ浴にも耐えるもの
が望まれているが、現在市販されているポリアミド樹脂
には、このハンダ浴中における耐熱性に問題がある。
〔課題解決するための手段と作用効果〕本発明者らは、
カルボキシル基を有するポリアミドイミド樹脂溶液に、
N−メチロール化(メタ)アクリルアミド又はその誘導
体を、カルボキシル基1モル当量に対して、1.0〜5
.0モル当量添加し、反応させた系に、更にビスマレイ
ミド化合物を、ポリアミドイミド樹脂に対して、5〜5
0重量%添加して変性することにより、他の電気的特性
を損なうことなく耐熱性が向上することを見い出し、本
発明に到達した。即ち、カルボキシル基含有ポリアミド
イミド樹脂の耐熱性を改良するために、キュア温度を更
に厳しくする方法も考えられるが、この際には分子間の
アミド結合の窒素上の水素原子とカルボキシル基が縮合
してしまう為に架橋点間分子量が小さくなり耐折性を著
しく低下させるということが見い出された。しかし、該
カルボキシル基をN−メチロール化(メタ)アクリルア
ミド類と縮合させることにより、前記のような架橋点間
分子量を低下させることなく、反応性の高いアクリロイ
ル基同志による架橋をより容易進行させられる。この為
に、耐折性を損なうことなく耐熱性を改良することがで
きる。
本発明に用いるポリアミドイミド樹脂としては、カルボ
キシル基を有するものが好ましく、このカルボキシル基
を有するポリアミドイミド樹脂は種々の方法で合成する
ことができる。多塩基酸無水物とジイソシアナートより
合成されるポリアミドイミドの中でも、特に耐熱性を改
善する為に芳香族多塩基酸無水物と芳香族ジイソシアナ
ートより製造されるポリアミドイミド樹脂が好ましい。
例えば、過剰のトリメリット酸無水物と芳香族ジイソシ
アナートを50〜200℃で数時間反応させる。この場
合、トリメリット酸無水物は、ジイソシアナート1モル
に対し1.0〜1.2モルの使用が好ましい。これ以上
の量での酸無水物の使用を妨げるものではないが、あま
り酸無水物の量が多いと低分子量のポリアミドイミド樹
脂しか得られず、フィルムとして使用する場合、強度的
に不充分となることがある。又、特公昭42−1608
0にあるような方法で、末端にイソシアナート基を有す
るポリアミドイミドを合成し、これに過剰のトリメリッ
ト酸無水物やピロメリット酸無水物を反応させてポリア
ミドイミド樹脂にカルボキシル基を導入することもでき
る。
一般に、カルボキシル基を有するポリアミドイミド樹脂
は芳香族ジイソシアナート類と芳香族三塩基酸無水物及
び場合により芳香族四塩基酸無水物を混合物として用い
るのが便利であり、生成した樹脂の耐熱性に関しても良
好なものが得られる。
芳香族ジイソシアナート類としては、トルイレンジイソ
シアナート、ジフェニルメタンジイソシアナート、ジフ
ェニルエーテルジイソシアナート等が単独あるいは、こ
れらの混合物として用いられる。芳香族多塩基酸化合物
としては、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸無水
物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物等が挙げら
れる。
少くとも50モル%以上のトリメリット酸無水物の使用
が溶解性の点で良好な結果を与えるのでピロメリット酸
無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物の使用
は、トリメリット酸無水物に対して50モル%以下、好
ましくは0〜40モル%の範囲が好ましい。この重縮合
反応の際には、溶媒を用いる方が便利であり、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホ
キシド、ヘキサメチルホスホリックアミド、N−メチル
ピロリドン等の非プロトン性極性溶媒が単独あるいは混
合物として使用できる。更に、ポリアミドイミド樹脂が
析出しない範囲での芳香族炭化水素類やケトン類の添加
も可能である。
上記の重縮合反応は50〜200℃、より好ましくは1
00〜180℃の温度で行なうのがよく、得られたポリ
アミドイミド樹脂中のカルボキシル基はナトリウムメチ
ラートを用いて電位差滴定により定量される。
このようにして得られるカルボキシル基を有するポリア
ミドイミド樹脂は、少くとも一分子中に4個以上のカル
ボキシル基の存在するものが好ましい。これよりカルボ
キシル基の数が少ない樹脂の使用を妨げるものではない
が、N−メチロール化(メタ)アクリルアミド類の添加
による改質効果が少ない。
用いるN−メチロール化(メタ)アクリルアミド及びそ
の誘導体の添加量は、カルボキシル基1モル当量に対し
て約1.0〜5.0モル当量の使用が好ましく、約1.
0〜2.0モル当量が更に好ましい。
N−メチロール化(メタ)アクリルアミド及びその誘導
体としては、N−メチロール化アクリルアミド、N−メ
トキシアクリルアミド、N−ブトキシアクリルアミド、
N−メチロール化メタクリルアミド、N−ブトキシメタ
クリルアミドなどが挙げられる。これらの化合物を単独
で、あるいは混合物で用いることができるが、それらの
全量はカルボキシル基1モル当量に対して5モル当量を
超えることは好ましくない。又、これ以上のN−メチロ
ール化アクリルアミド類の使用は、得られるフィルムの
耐折性を悪化させる。
カルボキシル基を有するポリアミドイミドとN−メチロ
ール化(メタ)アクリルアミド類との反応は50〜20
0℃、好ましくは100〜150℃の温度で0.5〜3
時間が適当である。温度が高くなると反応中にN−メチ
ロール化(メタ)アクリルアミド類が重合してしまうこ
とがあるので、BHTのような重合禁止剤を5〜200
 ppmの範囲で存在させておくと好ましい結果を得る
ことができる。
得られたポリアミドイミド樹脂は、ラジカル硬化性とい
う特徴を有し、もとの樹脂に較べると耐熱性が改善でき
るばかりでなく、フィルムの耐折性も改良できる。
本発明は、上記の如く、耐熱性が改善されたポリアミド
イミド樹脂に、更にビスマレイミド化合物を添加するこ
とにより、耐熱性を一層向上することができたものであ
る。
このビスマレイミド化合物としては、下記一般式で示さ
れる。
〔式中、XはCH2,0、SO2,8,0(OHs)2
を示す〕 ビスマレイミドの炭素−炭素二重結合とN−メチロール
化(メタ)アクリルアミド類の炭素−炭素二重結合が共
重合する為に、得られたフィルムは透明であり、耐熱性
が一層優れたものである。
ビスマレイミドの添加量は、ポリアミドイミド樹脂に対
して5〜50重量%の範囲である。5重量%より少ない
場合、耐熱性に対する改良効果は少なく、一方50重量
%を超える場合は、フィルムの耐折性を悪くさせてしま
う。
フィルムを作製する場合には、アゾビスイソブチロニト
リルやアゾビスバレロニトリルのようなアゾ化合物、ジ
−t−ブチルパーオキシドやベンゾイルパーオキシドの
ような過酸化物を添加してフィルム形成を速進すること
もできるが、150℃以上の温度でフィルムを形成する
場合には、これらのラジカル開始剤が存在しなくても加
熱だけにより目的とするポリアミドイミド樹脂のフィル
ムが得られる。
以下、実施例、参考例により本発明を具体的に説明する
が、本発明は、これら実施例のみに限定されるものでは
ない。
ポリアミドイミド樹脂Iの合成 ジフェニルメタンジイソシアナート0.95モルとトリ
メリット酸無水物1.00モルを窒素置換した21の三
ツロフラスコに仕込み、N−メチル−2−ピロリドン1
2007M’を加えた。撹拌しながら、反応混合物を1
00℃テ1.5時間、180℃で2時間更に180℃で
6時間反応を行なった。
このポリアミドイミド樹脂のN−メチル−2−ピロリド
ン溶液の粘度は室温で2,000センチポイズであった
ポリアミドイミド樹脂Iの合成 ジフェニルメタンジイソシアナート1.02モルとトリ
メリット酸無水物1.00モルを窒素置換した21の三
ツロフラスコに仕込み、N−メチル−2−ピロリドン1
2001M加えた。反応混合物を100℃で1時間、1
80℃で2時間、更に180℃で4時間反応させ、その
後、ピロメリット酸無水物0.04モル加え、110’
Cで2時間反応させた。この樹脂のN−メチル−2−ピ
ロリドン溶液の粘度は室温で14,000センチポイズ
であった。
参考例1〜8 上記のポリアミド樹脂1.I及び市販のポリアミドイミ
ド樹脂(HI−400日立化成製)の溶[にN−メチロ
ール化アクリルアミドを添加し、BHT  10ppm
の存在下、120℃で1時間処理をした。室温に冷却後
、2重量%のベンゾイルパーオキシドを加えた。
得られた樹脂溶液をガラス板上に塗布し、180〜28
0℃に30分間で昇温し、相当するフィルムを作製した
結果をまとめて表−1に示す。
表−1 フィルムの厚さは全て50μ。
註: (1)  ポリアミドイミドの1単位当り含まれ
るカルボキシル基量 (2)ポリアミドイミド樹脂のカルボキシル基1モル当
量に対するモル当量 (8)260℃、280℃のハンダ浴中に、作製したフ
ィルムを3秒間浸漬し、全く変化のないものを○、一部
分まだら模様の生じたものを△、まだら模様が全体に生
じているものを×と表示する。
(4)耐折性については、ASTM−D−2176に準
じ、荷重1.5 kgで測定した。
実施例1〜5 参考例2の樹脂及び参考例8の樹脂に、ビスマレイミド
を添加してフィルムを同様に作製し、耐熱性を検討した
結果を表−2にまとめて示す。
表−2 註(5) : Aは O 註(6) : Bは

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)少なくとも一分子中に4個以上のカルボキシル基
    を有するポリアミドイミド樹脂溶液に、N−メチロール
    化(メタ)アクリルアミド又はその誘導体を、カルボキ
    シル基1モル当量に対して、1.0〜5.0モル当量添
    加して反応させ、次いで、その反応系にビスマレイミド
    化合物を、ポリアミドイミド樹脂に対して5〜50重量
    %添加し、変性させることを特徴とする耐熱性樹脂の製
    造方法。
  2. (2)ビスマレイミド化合物が、下記一般式で示される
    特許請求の範囲第1項記載の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、XはCH_2、O、SO_2、S、C(CH_
    3)_2を示す〕
JP13534288A 1988-06-01 1988-06-01 耐熱性樹脂の製造方法 Granted JPS63308037A (ja)

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JPH0156090B2 JPH0156090B2 (ja) 1989-11-28

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2674860A1 (fr) * 1991-04-04 1992-10-09 Rhone Poulenc Chimie Solutions d'impregnation a base d'au moins un oligomere poly(imide-amide) thermoplastique reactif et d'un co-reactif, utilisables notamment pour la realisation d'articles intermediaires pre-impregnes.
US6261741B1 (en) 1998-05-20 2001-07-17 Fujitsu Limited Photosensitive heat-resistant resin composition, method of patterning insulating film made of the same, and patterned insulating film obtained thereby

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2674860A1 (fr) * 1991-04-04 1992-10-09 Rhone Poulenc Chimie Solutions d'impregnation a base d'au moins un oligomere poly(imide-amide) thermoplastique reactif et d'un co-reactif, utilisables notamment pour la realisation d'articles intermediaires pre-impregnes.
US6261741B1 (en) 1998-05-20 2001-07-17 Fujitsu Limited Photosensitive heat-resistant resin composition, method of patterning insulating film made of the same, and patterned insulating film obtained thereby

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JPH0156090B2 (ja) 1989-11-28

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