JPS63306622A - 拡散装置 - Google Patents
拡散装置Info
- Publication number
- JPS63306622A JPS63306622A JP14147287A JP14147287A JPS63306622A JP S63306622 A JPS63306622 A JP S63306622A JP 14147287 A JP14147287 A JP 14147287A JP 14147287 A JP14147287 A JP 14147287A JP S63306622 A JPS63306622 A JP S63306622A
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- temperature
- quartz tube
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- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 title claims description 12
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 69
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 22
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 9
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 6
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 5
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 4
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
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- Radiation Pyrometers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体製造用の拡散装置に係り、特に、ウェ
ハの温度測定を的確に行うためのウェハとプリズムの位
置決めに好適な拡散装置に関するものである。
ハの温度測定を的確に行うためのウェハとプリズムの位
置決めに好適な拡散装置に関するものである。
従来、拡散装置内のウェハ温度制御技術としては、例え
ば特開昭61−279121号公報記載のものがある。
ば特開昭61−279121号公報記載のものがある。
当該技術は、隣りあうウェハとウェハのすきまに、レン
ズ、プリズム、ならびに導光体を備えた第1の輻射光ガ
イドを設け、ウェハからの輻射光をウェハの外周よりも
外側へ導びき、さらにプリズム、導光体を備えた第2の
輻射光ガイドの一方の端を拡散装置外へ導びき、コネク
タで光ファイバと接続し、ウェハからの幅射光を輻射光
一温度変換器へ導びくことによりウェハ温度を直接測定
するものである。
ズ、プリズム、ならびに導光体を備えた第1の輻射光ガ
イドを設け、ウェハからの輻射光をウェハの外周よりも
外側へ導びき、さらにプリズム、導光体を備えた第2の
輻射光ガイドの一方の端を拡散装置外へ導びき、コネク
タで光ファイバと接続し、ウェハからの幅射光を輻射光
一温度変換器へ導びくことによりウェハ温度を直接測定
するものである。
上記従来技術では、ウェハ面とプリズムの所定の面とを
平行にする配慮がなされておらず、ウェハからの輻射信
号に誤差が入る問題があった。
平行にする配慮がなされておらず、ウェハからの輻射信
号に誤差が入る問題があった。
本発明は、上記従来技術の問題点を解決するためになさ
れたもので、ウェハ面とプリズムの所定の面とを平行に
するのが容易であり、ウェハの輻射温度測定の誤差を低
減しうる拡散装置を提供することを、その目的とするも
のである。
れたもので、ウェハ面とプリズムの所定の面とを平行に
するのが容易であり、ウェハの輻射温度測定の誤差を低
減しうる拡散装置を提供することを、その目的とするも
のである。
上記目的を達成するために1本発明に係る拡散装置の構
成は、石英管内の複数枚のウェハを石英管外のヒータに
よって加熱し、隣りあうウェハとウェハとのすきまにプ
リズムを備え、ウェハからの輻射光をウェハの外周より
も外へ導びき、第2のプリズムで輻射光を石英管の軸方
向に曲げ、ウェハからの輻射光を輻射光一温度変換器へ
導びくことによりウェハ温度を測定するようにした拡散
装置において、前記プリズムを支持する支持部材と前記
ウェハを支持する支持部材とのそれぞれに、前記ウェハ
の面と前記プリズムの所定の面とを平行に調節する調節
ねじを具備したものである。
成は、石英管内の複数枚のウェハを石英管外のヒータに
よって加熱し、隣りあうウェハとウェハとのすきまにプ
リズムを備え、ウェハからの輻射光をウェハの外周より
も外へ導びき、第2のプリズムで輻射光を石英管の軸方
向に曲げ、ウェハからの輻射光を輻射光一温度変換器へ
導びくことによりウェハ温度を測定するようにした拡散
装置において、前記プリズムを支持する支持部材と前記
ウェハを支持する支持部材とのそれぞれに、前記ウェハ
の面と前記プリズムの所定の面とを平行に調節する調節
ねじを具備したものである。
プリズム支持部材の調節ねじはプリズム面の傾きを調節
する。一方、ボートから立ち上げたウェハ支持部材に取
付けた調節ねじは、温度測定すべきウェハ面の傾きを調
節する。これによって、ウェハ面とプリズムの所定の面
とは平行に保つことができるのでウェハの輻射信号を輻
射光一温度変換器へ誤差少なく導びくことができ、輻射
温度測定に必要な信号のみを取り出すことができる。
する。一方、ボートから立ち上げたウェハ支持部材に取
付けた調節ねじは、温度測定すべきウェハ面の傾きを調
節する。これによって、ウェハ面とプリズムの所定の面
とは平行に保つことができるのでウェハの輻射信号を輻
射光一温度変換器へ誤差少なく導びくことができ、輻射
温度測定に必要な信号のみを取り出すことができる。
(実施例〕
以下1本発明の一実施例を第1図ないし第3図を参照し
て説明する。
て説明する。
第1図は、本発明の一実施例に係る拡散装置の一部開被
斜視図、第2図は、第1図の温度測定プローブ部の拡大
斜視図、第3図は、その温度測定プローブ部の側面図で
ある。
斜視図、第2図は、第1図の温度測定プローブ部の拡大
斜視図、第3図は、その温度測定プローブ部の側面図で
ある。
第1図に示すように、石英管1の内部に複数枚(例えば
50〜200枚)のウェハ2がボート3上に配列されて
いる。ボート3はフォーク4により石英管1内に出し入
れされる1石英管1内のウェハ2は、石英管外のヒータ
5によって加熱される。ヒータ5と石英管1との間には
均一加熱に好適なるよう壁温分布を一様にする均熱管6
が設けられている(均熱管は使用しない場合もある)。
50〜200枚)のウェハ2がボート3上に配列されて
いる。ボート3はフォーク4により石英管1内に出し入
れされる1石英管1内のウェハ2は、石英管外のヒータ
5によって加熱される。ヒータ5と石英管1との間には
均一加熱に好適なるよう壁温分布を一様にする均熱管6
が設けられている(均熱管は使用しない場合もある)。
石英管1内のウェハ2を酸化、拡散処理する場合には、
処理ガス入ロアから処理ガスを石英管1内へ供給する。
処理ガス入ロアから処理ガスを石英管1内へ供給する。
第1図において、8は温度測定プローブ部を示し、第2
図および第3図に、その詳細を示す。
図および第3図に、その詳細を示す。
第2,3図において、15.15’は、隣りあうウェハ
2間に設けられたプリズムである。16゜16′は、第
1のプリズム支持部材に係る柱状のプリズムサポート、
17.’17’は、第2のプリズム支持部材に係るプリ
ズムサポート、18゜18′は、プリズムサポート17
.17’に具備された調節ねじ、19,19’は、ボー
ト3から立ち上げたウェハ支持部材に係る柱状のウェハ
サポート、20.20’は、ウェハサポート19゜19
′に具備された調節ねじである。
2間に設けられたプリズムである。16゜16′は、第
1のプリズム支持部材に係る柱状のプリズムサポート、
17.’17’は、第2のプリズム支持部材に係るプリ
ズムサポート、18゜18′は、プリズムサポート17
.17’に具備された調節ねじ、19,19’は、ボー
ト3から立ち上げたウェハ支持部材に係る柱状のウェハ
サポート、20.20’は、ウェハサポート19゜19
′に具備された調節ねじである。
これら部品は、すべて石英ガラス製のものである。それ
は、ウェハ2を処理する石英管1内にはウェハ2内への
不純物侵入を防止するための石英以外の材料を使用でき
るためである。
は、ウェハ2を処理する石英管1内にはウェハ2内への
不純物侵入を防止するための石英以外の材料を使用でき
るためである。
ウェハ2からの幅射光は、第2図に示すようにプリズム
15.15’により曲げられて二点鎖線のように進み、
ウェハ2外周より外側の位置を石英管1内の軸方向に進
み1石英管1の外部へ出るものである。
15.15’により曲げられて二点鎖線のように進み、
ウェハ2外周より外側の位置を石英管1内の軸方向に進
み1石英管1の外部へ出るものである。
信号(ウェハからの輻射光)は、石英管1の外へ導びか
れ、外部にて第1図に示すように対物レンズ9を経由し
て光ファイバ10により輻射光一温度変換器11へ伝え
られる6輻射光一温度変換器11からの温度信号は、拡
散装置制御部12で処理されてヒータの発熱量制御部1
3へ伝えられてヒータの発熱量を制御し、ウェハ2の温
度を所定の温度に制御する。
れ、外部にて第1図に示すように対物レンズ9を経由し
て光ファイバ10により輻射光一温度変換器11へ伝え
られる6輻射光一温度変換器11からの温度信号は、拡
散装置制御部12で処理されてヒータの発熱量制御部1
3へ伝えられてヒータの発熱量を制御し、ウェハ2の温
度を所定の温度に制御する。
以上の説明では、ボート3およびウェハ2が石英管1内
にある場合を想定して説明したが、実際にはウェハ2が
石英管1内に挿入する段階で、ボート3およびのウェハ
2が石英管1外にある場合がある。この場合には、均熱
管6の管壁あるいはその近傍に設けた熱電対14の指示
値を用いて温度制御を行う、なお、ここで均熱管壁ある
いはその近傍に熱電対を設けることは公知の技術的手段
である。
にある場合を想定して説明したが、実際にはウェハ2が
石英管1内に挿入する段階で、ボート3およびのウェハ
2が石英管1外にある場合がある。この場合には、均熱
管6の管壁あるいはその近傍に設けた熱電対14の指示
値を用いて温度制御を行う、なお、ここで均熱管壁ある
いはその近傍に熱電対を設けることは公知の技術的手段
である。
このような温度測定にあたっては、プリズム15とウェ
ハ2との面を平行にすることが温度測定誤差を小さくす
る上で重要である。プリズムサポート17.17’の調
節ねじ18.18’はボート3の両側に2個づつ具備さ
れており、これら4個の調節ねじ18.18’ を調節
することにより、プリズム15の面のうち、ウェハ2に
対向した面15aの傾きを変えることができる。
ハ2との面を平行にすることが温度測定誤差を小さくす
る上で重要である。プリズムサポート17.17’の調
節ねじ18.18’はボート3の両側に2個づつ具備さ
れており、これら4個の調節ねじ18.18’ を調節
することにより、プリズム15の面のうち、ウェハ2に
対向した面15aの傾きを変えることができる。
一方、ウェハサポート19.19’はボート3に固定し
てあり、それぞれ調節ねじ20.20’が具備されてい
る。この調節ねじ20.20’ を調節することにより
ウェハ面2aの傾きを調節できる。
てあり、それぞれ調節ねじ20.20’が具備されてい
る。この調節ねじ20.20’ を調節することにより
ウェハ面2aの傾きを調節できる。
このように、各サポートの調節ねじにより、プリズム1
5およびウェハ2の傾きを調節できるので、プリズム1
5の、ウェハ2に対向する面15aすなわち所定の面と
、ウェハ2の面2aとを平行に保持することができるの
で、ウェハ温度測定誤差を小さくすることが可能である
。
5およびウェハ2の傾きを調節できるので、プリズム1
5の、ウェハ2に対向する面15aすなわち所定の面と
、ウェハ2の面2aとを平行に保持することができるの
で、ウェハ温度測定誤差を小さくすることが可能である
。
前述のプリズムの所定の面とウェハ面とを平行にする作
業は、次のようにすると容易となる。
業は、次のようにすると容易となる。
すなわち、輻射光一温度変換器11内にレーザ光源を内
蔵しておき、そのレーザ光を光ファイバ10、対物レン
ズ9を経由してプリズム15.15’へと導びく、ウェ
ハ2の面とプリズム15の所定の面とが平行であれば、
ウェハ2で反射したレーザ光は逆方向に進み、輻射光一
温度変換器11へ戻る。このとき、レーザ光の戻ってき
た量を計測し、その量が最大になるよう、つまり戻って
きたレーザ光の強度が最も強くなるように上記調節ねじ
を調節すればよい。
蔵しておき、そのレーザ光を光ファイバ10、対物レン
ズ9を経由してプリズム15.15’へと導びく、ウェ
ハ2の面とプリズム15の所定の面とが平行であれば、
ウェハ2で反射したレーザ光は逆方向に進み、輻射光一
温度変換器11へ戻る。このとき、レーザ光の戻ってき
た量を計測し、その量が最大になるよう、つまり戻って
きたレーザ光の強度が最も強くなるように上記調節ねじ
を調節すればよい。
以上述べたように、本発明によれば、ウェハ面とプリズ
ムの所定の面とを平行にするのが容易であり、ウェハの
輻射温度測定の誤差を低減しつる拡散装置を提供するこ
とができる。
ムの所定の面とを平行にするのが容易であり、ウェハの
輻射温度測定の誤差を低減しつる拡散装置を提供するこ
とができる。
第1図は1本発明の一実施例に係る拡散装置の一部開被
斜視図、第2図は、第1図の温度測定プローブ部の拡大
斜視図、第3図は、その温度測定プローブ部の側面図で
ある。 1・・・石英管、2・・・ウェハ、3・・・ボート、5
・・・ヒータ、10・・・光ファイバ、11・・・輻射
光一温度変換器、15.15’・・・プリズム、16.
16’ 。 17.17’・・・プリズムサポート、19.19’・
・・ウェハサポート、18.18’ 、20,20’・
・・vRmねじ。
斜視図、第2図は、第1図の温度測定プローブ部の拡大
斜視図、第3図は、その温度測定プローブ部の側面図で
ある。 1・・・石英管、2・・・ウェハ、3・・・ボート、5
・・・ヒータ、10・・・光ファイバ、11・・・輻射
光一温度変換器、15.15’・・・プリズム、16.
16’ 。 17.17’・・・プリズムサポート、19.19’・
・・ウェハサポート、18.18’ 、20,20’・
・・vRmねじ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、石英管内の複数枚のウェハを石英管外のヒータによ
つて加熱し、隣りあうウェハとウェハとのすきまにプリ
ズムを備え、ウェハからの輻射光をウェハの外周よりも
外へ導びき、第2のプリズムで輻射光を石英管の軸方向
に曲げ、ウェハからの輻射光を輻射光−温度変換器へ導
びくことによりウェハ温度を測定するようにした拡散装
置において、前記プリズムを支持する支持部材と前記ウ
ェハを支持する支持部材とのそれぞれに、前記ウェハの
面と前記プリズムの所定の面とを平行に調節する調節ね
じを具備したことを特徴とする拡散装置。 2、特許請求の範囲第1項記載のものにおいて、輻射光
−温度変換器内に、ウェハの輻射光を輻射光−温度変換
器へ導びく経路と逆方向にレーザ光を進ませてウェハ表
面へ導びき、そのレーザ光の前記ウェハ表面からの反射
光を上記経路に沿つて輻射光−温度変換器へ導びき、こ
の戻つてきたレーザ光の強度が最も強くなるようにプリ
ズムおよびウェハの支持部材に具備された調節ねじを調
節するためのレーザ光源を設けたことを特徴とする拡散
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14147287A JPS63306622A (ja) | 1987-06-08 | 1987-06-08 | 拡散装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14147287A JPS63306622A (ja) | 1987-06-08 | 1987-06-08 | 拡散装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63306622A true JPS63306622A (ja) | 1988-12-14 |
Family
ID=15292680
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14147287A Pending JPS63306622A (ja) | 1987-06-08 | 1987-06-08 | 拡散装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63306622A (ja) |
-
1987
- 1987-06-08 JP JP14147287A patent/JPS63306622A/ja active Pending
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