JPS63303905A - 防黴方法 - Google Patents

防黴方法

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Publication number
JPS63303905A
JPS63303905A JP13878587A JP13878587A JPS63303905A JP S63303905 A JPS63303905 A JP S63303905A JP 13878587 A JP13878587 A JP 13878587A JP 13878587 A JP13878587 A JP 13878587A JP S63303905 A JPS63303905 A JP S63303905A
Authority
JP
Japan
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sodium chlorite
solution
chlorine dioxide
dioxide gas
treated
Prior art date
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Pending
Application number
JP13878587A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeo Asada
茂雄 麻田
Hiroshi Takatomi
廣志 高富
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Osaka Soda Co Ltd
Original Assignee
Osaka Soda Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は黴の発生しやすい室内すなわち温室。
浴場、プール、洗面所等に発生する黴の除去、あるいは
黴の発生を防止する方法に関する。
(従来の技術と問題点) 従来−”°  二 °     、例えば水耕栽培等の
温室では果物に付着発生する黴によって果実が成長けず
落ちてしまう用象が屡々見られ収穫が減少する。それ故
薬剤の散布を果樹毎に、また黴の発生時にはその度合に
よって毎日行うこととなり、非常に手間を要する。ざら
に農薬を使用するので保護用具の着用を要する。また一
般家庭の浴場に黴が発生した場合の除去方法としては次
亜塩素酸ソーダ溶液を壁面に刷毛塗り、あるいは溶液を
吹付けて数時間後に水洗し、次亜塩素酸ソーダ溶液を洗
い流す方法等がとられている。しかしながら次亜塩素酸
ソーダ溶液は強アルカリ性(p旧1〜12)であり眼に
入ると危険であり酸性の薬剤と併用すると塩素ガスが出
てさらに危険である。
(問題点を解決するための手段) 本発明者らは以上の問題点を解決するために鋭意研究を
重ねた結果、黴の発生を防止する方法として亜塩素酸ソ
ーダ溶液を揮散させて二酸化塩素ガスを簡単な操作によ
り定常的に発生させる方法についての知見を得て本発明
を完成した。
すなわち本発明は亜塩素酸ソーダ溶液に超音波を照射す
ることにより空気中に揮散する亜塩素酸ソーダ又は該揮
散物より生成する二酸化塩素ガスを被処理物と接触させ
ることを特徴とする防黴方法である。
亜塩素酸ソーダの揮散物あるいは二酸化塩素ガスの発生
源となる亜塩素酸ソーダ溶液は稀薄な方が好ましく通常
0.1〜5重量%の溶液が用いられる。溶液のl)Hは
通常の亜塩素酸ソーダ溶液を希釈した10〜11前後で
もよいが、緩衝剤を加えてpH3〜9より好ましくは4
〜8に調整するのが好ましい。この8薄溶液を超音波発
生器に充填して超音波を照射すると、亜塩素酸ソーダ溶
液は空気中に微粒子となって揮散するが、この微粒子は
空気中に含まれる炭酸ガスにより、また液中に緩衝剤が
含まれている場合はその影響と紫外線による分解促進効
果も加わり不安定な状態になり二酸化塩素ガスを生成す
る。このようにして本発明方法では二酸化塩素ガスを連
続的に発生させることができ、またタイマーを用いて揮
散時間を間欠的に調節することにより、二酸化塩素ガス
の揮散量を調整することができる。
実施例1.比較例 亜塩素酸ソーダ溶液(25重回%、 pH12)を25
倍に希釈し1重量%溶液(pH10>とする。この溶液
3fIに緩衝剤を加えてpH7に調整し、超音波発生器
(ナショナル超音波加湿機FE−05KWS、松下電器
産業社製)に充填した。これを温至(容積67F!、 
15〜25℃)内に設置し、超音波を亜塩素酸ソーダ溶
液に照射し同溶液を200m1/hrの割合で揮散させ
二酸化塩素ガスを発生させた。温室内で水耕栽培中のト
マト苗木2本にベト病の菌を培養して黴の発生を観察し
た。
その結果を第1表に示す。
第1表 実施例2 実施例1で使用した亜塩素酸ソーダ溶液を希釈して0.
5重量%とじ、この希釈溶液3.l!に緩衝剤を加えて
pH4に調整した。この溶液を実施例1で使用した超音
波発生器に充填し至温10〜20°Cの風呂場(容積1
2TIi)内に設置し超音波を照射した。
溶液揮散量の調節はタイマーを用いて間欠的に照射する
ことによりγml/hrの割合になるようにした。
溶液の補充を行いながら2ケ月間連続して試験を行った
ところ、通常では20日間で発生する黴が全く検出され
なかった。
(発明の効果) 通常二酸化塩素ガスを発生させるには亜塩素酸ソーダ溶
液に酸を加え、pHを低下しつつ行うが、亜塩素酸ソー
ダは不安定な物質であるため数ケ月間にわたって二酸化
塩素ガスを定常的に発生させるのは困難である。本発明
法によれば、超音波の照射により亜塩素酸ソーダが微細
な粒子となるため極めて分解され易い状態となり、二酸
化塩素ガスの定常的な発生が可能となる。またその濃度
管理も容易である。
また簡易な装置及び容易な操作により二酸化塩素ガスを
発生しうろことも、大きな利点である。
本発明法は一般的に黴の発生しやすい個所に適用できる
が、特に温室内の植物の防黴方法として有用である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 亜塩素酸ソーダ溶液に超音波を照射することにより、空
    気中に揮散する亜塩素酸ソーダ又は該揮散物より生成す
    る二酸化塩素ガスを被処理物と接触させることを特徴と
    する防黴方法。
JP13878587A 1987-06-02 1987-06-02 防黴方法 Pending JPS63303905A (ja)

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JP13878587A JPS63303905A (ja) 1987-06-02 1987-06-02 防黴方法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015049891A1 (ja) * 2013-10-01 2015-04-09 株式会社シリウス 屋内の空気を清浄化する方法及びそれに使用するための装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54140718A (en) * 1978-04-20 1979-11-01 Arigaa Howaado Sterilizing method and composition

Patent Citations (1)

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