JPS63303905A - 防黴方法 - Google Patents
防黴方法Info
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- JPS63303905A JPS63303905A JP13878587A JP13878587A JPS63303905A JP S63303905 A JPS63303905 A JP S63303905A JP 13878587 A JP13878587 A JP 13878587A JP 13878587 A JP13878587 A JP 13878587A JP S63303905 A JPS63303905 A JP S63303905A
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- sodium chlorite
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- chlorine dioxide
- dioxide gas
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Links
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は黴の発生しやすい室内すなわち温室。
浴場、プール、洗面所等に発生する黴の除去、あるいは
黴の発生を防止する方法に関する。
黴の発生を防止する方法に関する。
（従来の技術と問題点）
従来−”° 二 ° 、例えば水耕栽培等の
温室では果物に付着発生する黴によって果実が成長けず
落ちてしまう用象が屡々見られ収穫が減少する。それ故
薬剤の散布を果樹毎に、また黴の発生時にはその度合に
よって毎日行うこととなり、非常に手間を要する。ざら
に農薬を使用するので保護用具の着用を要する。また一
般家庭の浴場に黴が発生した場合の除去方法としては次
亜塩素酸ソーダ溶液を壁面に刷毛塗り、あるいは溶液を
吹付けて数時間後に水洗し、次亜塩素酸ソーダ溶液を洗
い流す方法等がとられている。しかしながら次亜塩素酸
ソーダ溶液は強アルカリ性（ｐ旧１〜１２）であり眼に
入ると危険であり酸性の薬剤と併用すると塩素ガスが出
てさらに危険である。
温室では果物に付着発生する黴によって果実が成長けず
落ちてしまう用象が屡々見られ収穫が減少する。それ故
薬剤の散布を果樹毎に、また黴の発生時にはその度合に
よって毎日行うこととなり、非常に手間を要する。ざら
に農薬を使用するので保護用具の着用を要する。また一
般家庭の浴場に黴が発生した場合の除去方法としては次
亜塩素酸ソーダ溶液を壁面に刷毛塗り、あるいは溶液を
吹付けて数時間後に水洗し、次亜塩素酸ソーダ溶液を洗
い流す方法等がとられている。しかしながら次亜塩素酸
ソーダ溶液は強アルカリ性（ｐ旧１〜１２）であり眼に
入ると危険であり酸性の薬剤と併用すると塩素ガスが出
てさらに危険である。
（問題点を解決するための手段）
本発明者らは以上の問題点を解決するために鋭意研究を
重ねた結果、黴の発生を防止する方法として亜塩素酸ソ
ーダ溶液を揮散させて二酸化塩素ガスを簡単な操作によ
り定常的に発生させる方法についての知見を得て本発明
を完成した。
重ねた結果、黴の発生を防止する方法として亜塩素酸ソ
ーダ溶液を揮散させて二酸化塩素ガスを簡単な操作によ
り定常的に発生させる方法についての知見を得て本発明
を完成した。
すなわち本発明は亜塩素酸ソーダ溶液に超音波を照射す
ることにより空気中に揮散する亜塩素酸ソーダ又は該揮
散物より生成する二酸化塩素ガスを被処理物と接触させ
ることを特徴とする防黴方法である。
ることにより空気中に揮散する亜塩素酸ソーダ又は該揮
散物より生成する二酸化塩素ガスを被処理物と接触させ
ることを特徴とする防黴方法である。
亜塩素酸ソーダの揮散物あるいは二酸化塩素ガスの発生
源となる亜塩素酸ソーダ溶液は稀薄な方が好ましく通常
０．１〜５重量％の溶液が用いられる。溶液のｌ）Ｈは
通常の亜塩素酸ソーダ溶液を希釈した１０〜１１前後で
もよいが、緩衝剤を加えてｐＨ３〜９より好ましくは４
〜８に調整するのが好ましい。この８薄溶液を超音波発
生器に充填して超音波を照射すると、亜塩素酸ソーダ溶
液は空気中に微粒子となって揮散するが、この微粒子は
空気中に含まれる炭酸ガスにより、また液中に緩衝剤が
含まれている場合はその影響と紫外線による分解促進効
果も加わり不安定な状態になり二酸化塩素ガスを生成す
る。このようにして本発明方法では二酸化塩素ガスを連
続的に発生させることができ、またタイマーを用いて揮
散時間を間欠的に調節することにより、二酸化塩素ガス
の揮散量を調整することができる。
源となる亜塩素酸ソーダ溶液は稀薄な方が好ましく通常
０．１〜５重量％の溶液が用いられる。溶液のｌ）Ｈは
通常の亜塩素酸ソーダ溶液を希釈した１０〜１１前後で
もよいが、緩衝剤を加えてｐＨ３〜９より好ましくは４
〜８に調整するのが好ましい。この８薄溶液を超音波発
生器に充填して超音波を照射すると、亜塩素酸ソーダ溶
液は空気中に微粒子となって揮散するが、この微粒子は
空気中に含まれる炭酸ガスにより、また液中に緩衝剤が
含まれている場合はその影響と紫外線による分解促進効
果も加わり不安定な状態になり二酸化塩素ガスを生成す
る。このようにして本発明方法では二酸化塩素ガスを連
続的に発生させることができ、またタイマーを用いて揮
散時間を間欠的に調節することにより、二酸化塩素ガス
の揮散量を調整することができる。
実施例１．比較例
亜塩素酸ソーダ溶液（２５重回％、 ｐＨ１２）を２５
倍に希釈し１重量％溶液（ｐＨ１０＞とする。この溶液
３ｆＩに緩衝剤を加えてｐＨ７に調整し、超音波発生器
（ナショナル超音波加湿機ＦＥ−０５ＫＷＳ、松下電器
産業社製）に充填した。これを温至（容積６７Ｆ！、
１５〜２５℃）内に設置し、超音波を亜塩素酸ソーダ溶
液に照射し同溶液を２００ｍ１／ｈｒの割合で揮散させ
二酸化塩素ガスを発生させた。温室内で水耕栽培中のト
マト苗木２本にベト病の菌を培養して黴の発生を観察し
た。
倍に希釈し１重量％溶液（ｐＨ１０＞とする。この溶液
３ｆＩに緩衝剤を加えてｐＨ７に調整し、超音波発生器
（ナショナル超音波加湿機ＦＥ−０５ＫＷＳ、松下電器
産業社製）に充填した。これを温至（容積６７Ｆ！、
１５〜２５℃）内に設置し、超音波を亜塩素酸ソーダ溶
液に照射し同溶液を２００ｍ１／ｈｒの割合で揮散させ
二酸化塩素ガスを発生させた。温室内で水耕栽培中のト
マト苗木２本にベト病の菌を培養して黴の発生を観察し
た。
その結果を第１表に示す。
第１表
実施例２
実施例１で使用した亜塩素酸ソーダ溶液を希釈して０．
５重量％とじ、この希釈溶液３．ｌ！に緩衝剤を加えて
ｐＨ４に調整した。この溶液を実施例１で使用した超音
波発生器に充填し至温１０〜２０°Ｃの風呂場（容積１
２ＴＩｉ）内に設置し超音波を照射した。
５重量％とじ、この希釈溶液３．ｌ！に緩衝剤を加えて
ｐＨ４に調整した。この溶液を実施例１で使用した超音
波発生器に充填し至温１０〜２０°Ｃの風呂場（容積１
２ＴＩｉ）内に設置し超音波を照射した。
溶液揮散量の調節はタイマーを用いて間欠的に照射する
ことによりγｍｌ／ｈｒの割合になるようにした。
ことによりγｍｌ／ｈｒの割合になるようにした。
溶液の補充を行いながら２ケ月間連続して試験を行った
ところ、通常では２０日間で発生する黴が全く検出され
なかった。
ところ、通常では２０日間で発生する黴が全く検出され
なかった。
（発明の効果）
通常二酸化塩素ガスを発生させるには亜塩素酸ソーダ溶
液に酸を加え、ｐＨを低下しつつ行うが、亜塩素酸ソー
ダは不安定な物質であるため数ケ月間にわたって二酸化
塩素ガスを定常的に発生させるのは困難である。本発明
法によれば、超音波の照射により亜塩素酸ソーダが微細
な粒子となるため極めて分解され易い状態となり、二酸
化塩素ガスの定常的な発生が可能となる。またその濃度
管理も容易である。
液に酸を加え、ｐＨを低下しつつ行うが、亜塩素酸ソー
ダは不安定な物質であるため数ケ月間にわたって二酸化
塩素ガスを定常的に発生させるのは困難である。本発明
法によれば、超音波の照射により亜塩素酸ソーダが微細
な粒子となるため極めて分解され易い状態となり、二酸
化塩素ガスの定常的な発生が可能となる。またその濃度
管理も容易である。
また簡易な装置及び容易な操作により二酸化塩素ガスを
発生しうろことも、大きな利点である。
発生しうろことも、大きな利点である。
本発明法は一般的に黴の発生しやすい個所に適用できる
が、特に温室内の植物の防黴方法として有用である。
が、特に温室内の植物の防黴方法として有用である。
Claims (1)
- 亜塩素酸ソーダ溶液に超音波を照射することにより、空
気中に揮散する亜塩素酸ソーダ又は該揮散物より生成す
る二酸化塩素ガスを被処理物と接触させることを特徴と
する防黴方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13878587A JPS63303905A (ja) | 1987-06-02 | 1987-06-02 | 防黴方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13878587A JPS63303905A (ja) | 1987-06-02 | 1987-06-02 | 防黴方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63303905A true JPS63303905A (ja) | 1988-12-12 |
Family
ID=15230150
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13878587A Pending JPS63303905A (ja) | 1987-06-02 | 1987-06-02 | 防黴方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63303905A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015049891A1 (ja) * | 2013-10-01 | 2015-04-09 | 株式会社シリウス | 屋内の空気を清浄化する方法及びそれに使用するための装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54140718A (en) * | 1978-04-20 | 1979-11-01 | Arigaa Howaado | Sterilizing method and composition |
-
1987
- 1987-06-02 JP JP13878587A patent/JPS63303905A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54140718A (en) * | 1978-04-20 | 1979-11-01 | Arigaa Howaado | Sterilizing method and composition |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015049891A1 (ja) * | 2013-10-01 | 2015-04-09 | 株式会社シリウス | 屋内の空気を清浄化する方法及びそれに使用するための装置 |
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