JPS63293174A - 多孔型焼成盤 - Google Patents

多孔型焼成盤

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Publication number
JPS63293174A
JPS63293174A JP12785587A JP12785587A JPS63293174A JP S63293174 A JPS63293174 A JP S63293174A JP 12785587 A JP12785587 A JP 12785587A JP 12785587 A JP12785587 A JP 12785587A JP S63293174 A JPS63293174 A JP S63293174A
Authority
JP
Japan
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tube plate
disk
lining
holes
film
Prior art date
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Pending
Application number
JP12785587A
Other languages
English (en)
Inventor
Taichi Ito
太一 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ITO HORO KOGYO KK
Original Assignee
ITO HORO KOGYO KK
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Filing date
Publication date
Application filed by ITO HORO KOGYO KK filed Critical ITO HORO KOGYO KK
Priority to JP12785587A priority Critical patent/JPS63293174A/ja
Publication of JPS63293174A publication Critical patent/JPS63293174A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/02Apparatus characterised by being constructed of material selected for its chemically-resistant properties
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/02Apparatus characterised by their chemically-resistant properties
    • B01J2219/0204Apparatus characterised by their chemically-resistant properties comprising coatings on the surfaces in direct contact with the reactive components
    • B01J2219/0209Apparatus characterised by their chemically-resistant properties comprising coatings on the surfaces in direct contact with the reactive components of glass
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
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    • B01J2219/0213Apparatus characterised by their chemically-resistant properties comprising coatings on the surfaces in direct contact with the reactive components of enamel
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は化学・薬品の生産プロセスに用いられる熱交換
機におけるグラスライニング製の管板、口過板、タワー
目皿などの多孔型焼成盤に関する。
〔従来の技術〕
此種の多孔型焼成盤の孔はます目状に配列される構成が
一般的である。 ゛ 〔発明が解決しようとする問題点〕 その場合、盤の外周からの外側の孔の距離が孔ごとに異
なってしまいこのことが盤にライニング膜を形成すると
き、盤の外周部近傍のライニング膜に膨張力と収縮力が
不均一に作用することになる原因となっている。そのた
め、盤のライニング膜が剥離、ひびわれしてしまう欠陥
が存した0本発明は上記欠陥を除去することを目的とす
るものである。
〔問題点を解決する手段〕
上記目的を達成するため、本発明は複数の孔を有し、ラ
イニング膜等を焼き付けた盤において。
前記盤の中心を中心とする円線上に前記孔を配列したも
のである。
〔作用〕
上記した構成において、盤に透設形成された外側の孔は
、盤の中心に対して等距離にあり、そのため、ライニン
グ膜等を焼き付け、冷却するときに生じる膨張力と収縮
力がライニング膜等に均一に作用し、そのため、ライニ
ング膜等が盤に対して剥離することがない。
〔実施例〕
2は化学・薬品の生産プロセスに用いられる多管式熱交
換器の管板であり1円盤状の鋼板から構成されている。
管板2には、鋼製のチューブ4を取り付けるための孔6
が複数透設されている。前記管板2の裏側には、前記孔
6の周囲にわん曲面6aが形成され、管板2の裏側には
前記チューブ4の内径面と前記孔6の最小内径面とが一
致するように前記チューブ4の一端が孔6に嵌合してい
る。前記チューブ4は溶接によって、前記管板2に垂直
に固定されている。前記孔6は管板2の中心点を中心と
する各同心円8.10.12線上にそれぞれ等間隔で配
列されている。
次に、管板2及びチューブ4へのグラスライニング製造
工程について説明する。
ガラス即ちフリットに粘度、電解質、水等を調合して入
れ、ボールミルで湿式粉砕すると泥状のスリップが得ら
れる。このスリップを高圧空気で通常のペンキの吹付塗
装と同じ様に管板2及びチューブ4に吹き付けた施釉後
乾燥する。フリットには下釉用と上釉用の二種類があり
、下釉には鋼板とグラスの密着性を良くするするための
コバルト。
ニッケル、マンガン等の酸化物が入っており、焼成工程
で約900℃で焼かれて鋼−ガラスが強固に結ばれる。
上釉は耐食性を目的とした成分を主としたガラスで、8
00℃内外で焼かれる。焼成後は冷却される。上釉焼成
後は毎回高周波によるスパークテストを行いピンホール
、ブロホール等の欠陥の発見につとめ、欠陥がなくなる
まで数回この工程を繰返す、上記焼成工程において、各
同心円線上の多孔6と管板2の周縁との距離は同一であ
り、従って、円線上の多孔6と管板2の外周縁間のグラ
スライニング即ち被膜の収縮力及び膨張力は被膜に均等
に作用することになり、被膜に収縮力及び膨張力が異な
る部分が形成されることがなく、被膜の管板2からの剥
離が防止される。
尚、本発明は、多管式熱交換器の管仮に特に限定される
ものでなく、多数の孔が透設された盤状の鋼板にグラス
ライニング等のライニングが施されたろ過板、目皿その
他にも応用することができ、また、ライニングは特にグ
ラスライニングに限定されるものではなく、ホーロー、
セラミック、樹脂等を焼きつけたものにも応用すること
ができる。
[効果] 本発明は上述の如く構成したので、多孔型焼成盤及び焼
き付はライニング盤の剥離割れ現象を防止することがで
きる効果が存する。
【図面の簡単な説明】
第1図は正面図、第2図は断面図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)複数の孔を有し、焼き付けた盤において、前記盤
    の中心を中心とする円線上に前記孔を配列したことを特
    徴とする多孔型焼成盤。
JP12785587A 1987-05-25 1987-05-25 多孔型焼成盤 Pending JPS63293174A (ja)

Priority Applications (1)

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JP12785587A JPS63293174A (ja) 1987-05-25 1987-05-25 多孔型焼成盤

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JP12785587A JPS63293174A (ja) 1987-05-25 1987-05-25 多孔型焼成盤

Publications (1)

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JPS63293174A true JPS63293174A (ja) 1988-11-30

Family

ID=14970334

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12785587A Pending JPS63293174A (ja) 1987-05-25 1987-05-25 多孔型焼成盤

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100478879B1 (ko) * 2000-03-14 2005-03-28 주식회사 하이소닉 컴팩트 디스크의 파열 방지구조
JP2009524004A (ja) * 2006-01-23 2009-06-25 アルストーム・テクノロジー・リミテッド 多管式熱交換器

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5441154A (en) * 1977-09-07 1979-04-02 Seiko Epson Corp Liquid crystal display panel
JPS6162788A (ja) * 1984-08-31 1986-03-31 Mitsubishi Electric Corp 空気予熱器

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5441154A (en) * 1977-09-07 1979-04-02 Seiko Epson Corp Liquid crystal display panel
JPS6162788A (ja) * 1984-08-31 1986-03-31 Mitsubishi Electric Corp 空気予熱器

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100478879B1 (ko) * 2000-03-14 2005-03-28 주식회사 하이소닉 컴팩트 디스크의 파열 방지구조
JP2009524004A (ja) * 2006-01-23 2009-06-25 アルストーム・テクノロジー・リミテッド 多管式熱交換器

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