JPS6328998B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6328998B2 JPS6328998B2 JP61148032A JP14803286A JPS6328998B2 JP S6328998 B2 JPS6328998 B2 JP S6328998B2 JP 61148032 A JP61148032 A JP 61148032A JP 14803286 A JP14803286 A JP 14803286A JP S6328998 B2 JPS6328998 B2 JP S6328998B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layers
- oxide
- coating
- metal
- cathode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 62
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 41
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 41
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 32
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 32
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 22
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 9
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 8
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 8
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 4
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims description 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- -1 platinum group metal oxide Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 3
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910001209 Low-carbon steel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 claims 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 claims 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 27
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 7
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007669 thermal treatment Methods 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000003487 electrochemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 2
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- NMRPBPVERJPACX-UHFFFAOYSA-N (3S)-octan-3-ol Natural products CCCCCC(O)CC NMRPBPVERJPACX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006251 ZrOCl2.8H2O Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000005595 acetylacetonate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 229910001514 alkali metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010431 corundum Substances 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- ZOMNIUBKTOKEHS-UHFFFAOYSA-L dimercury dichloride Chemical class Cl[Hg][Hg]Cl ZOMNIUBKTOKEHS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007590 electrostatic spraying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000004687 hexahydrates Chemical class 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- BSIDXUHWUKTRQL-UHFFFAOYSA-N nickel palladium Chemical compound [Ni].[Pd] BSIDXUHWUKTRQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- BIXNGBXQRRXPLM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(3+);trichloride;hydrate Chemical compound O.Cl[Ru](Cl)Cl BIXNGBXQRRXPLM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000002345 surface coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
- C25B11/091—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds
- C25B11/093—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds at least one noble metal or noble metal oxide and at least one non-noble metal oxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Inert Electrodes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は電気分解に使用する新規なカソードと
その製造方法に関するものである。特に、本発明
はハロゲン化アルカリ金属の水溶液の電気分解に
使用されるカソードに関するものであり、本願発
明のカソードは、低い稼働電位差値で、長時間安
定した電気化学的反応を行わせることができると
いう点に特徴がある。
その製造方法に関するものである。特に、本発明
はハロゲン化アルカリ金属の水溶液の電気分解に
使用されるカソードに関するものであり、本願発
明のカソードは、低い稼働電位差値で、長時間安
定した電気化学的反応を行わせることができると
いう点に特徴がある。
（従来技術）
上記の種類のカソードは、アルカリ性媒体中で
の水素過電圧を低下させる目的で、陰極基板を
種々の活性物質で被覆することにより得られる活
性化された金属カソードに属するものである。
の水素過電圧を低下させる目的で、陰極基板を
種々の活性物質で被覆することにより得られる活
性化された金属カソードに属するものである。
英国特許第1511719号には、金属基板と、コバ
ルト被覆層と、ルテニウムの第２被覆層とを有す
るカソードが記載されている。
ルト被覆層と、ルテニウムの第２被覆層とを有す
るカソードが記載されている。
米国特許第4100049号には、基板と、貴金属の
酸化物とバルブ金属の酸化物、特に酸化ジルコニ
ウムとの混合物からなる被覆層を含むカソードが
記載されている。
酸化物とバルブ金属の酸化物、特に酸化ジルコニ
ウムとの混合物からなる被覆層を含むカソードが
記載されている。
また、例えば、ニツケルより成る基板上に、ニ
ツケル―パラジウム合金を含む被覆層を堆積させ
る方法が米国特許第3216919号に記載されている。
この特許では、上記の合金層を粉末状態で基板に
被覆し、次いでこの合金粉末を焼結している。
ツケル―パラジウム合金を含む被覆層を堆積させ
る方法が米国特許第3216919号に記載されている。
この特許では、上記の合金層を粉末状態で基板に
被覆し、次いでこの合金粉末を焼結している。
特開昭54−110983号（米国特許第4465580号）
では、ニツケルまたはニツケル合金の粒子を含む
分散物と、白金、ルテニウム、イリジウム、ロジ
ウム、パラジウムもしくはオスミウムまたはこれ
ら金属の酸化物によつて構成される活性化剤とか
ら成る分散物を含む被覆層を有するカソードが記
載されている。
では、ニツケルまたはニツケル合金の粒子を含む
分散物と、白金、ルテニウム、イリジウム、ロジ
ウム、パラジウムもしくはオスミウムまたはこれ
ら金属の酸化物によつて構成される活性化剤とか
ら成る分散物を含む被覆層を有するカソードが記
載されている。
特開昭53−010036号には、バルブ金属から成る
基板と、少なくとも１つの白金族金属とバルブ金
属との合金から成る被覆層とを有するカソードが
記載されており、この場合には必要に応じて、少
なくとも１つの白金族金属を含む表面被覆層を設
けることもできる。
基板と、少なくとも１つの白金族金属とバルブ金
属との合金から成る被覆層とを有するカソードが
記載されており、この場合には必要に応じて、少
なくとも１つの白金族金属を含む表面被覆層を設
けることもできる。
（発明のが解決しようとする問題点）
本発明の目的は、特にハロゲン化アルカリ金属
の水溶液の電気分解に使用できる新規なカソード
を提供することにある。
の水溶液の電気分解に使用できる新規なカソード
を提供することにある。
（問題を解決するための手段）
本願発明によるカソードは、白金族金属酸化物
を主成分とする被覆を有する電気伝導性基板を含
み、上記被覆が複数の金属酸化物層によつて構成
されているカソードにおいて、上記の被覆の表面
層が実質的にバルブ金属の酸化物によつて構成さ
れており、且つこの被覆の少なくとも１つの中間
層が実質的に元素周期律表第族に属する貴金属
の酸化物によつて構成されているとを特徴として
いる。
を主成分とする被覆を有する電気伝導性基板を含
み、上記被覆が複数の金属酸化物層によつて構成
されているカソードにおいて、上記の被覆の表面
層が実質的にバルブ金属の酸化物によつて構成さ
れており、且つこの被覆の少なくとも１つの中間
層が実質的に元素周期律表第族に属する貴金属
の酸化物によつて構成されているとを特徴として
いる。
ここで、「実質的に」という用語は、表面層お
よび中間層が上記の各金属のみの酸化物で構成さ
れているか、上記の各金属と、それに対して低比
率、例えば1/10未満のモル比率の第２の金属との
混合酸化物によつて構成されているということを
意味する。
よび中間層が上記の各金属のみの酸化物で構成さ
れているか、上記の各金属と、それに対して低比
率、例えば1/10未満のモル比率の第２の金属との
混合酸化物によつて構成されているということを
意味する。
本発明においては、「バルブ金属」という用語
を通常使用されている意味で用いている。すなわ
ち、クロムを例外とする周期律表第4b，5bおよ
び6b族に属する金属を表わす。
を通常使用されている意味で用いている。すなわ
ち、クロムを例外とする周期律表第4b，5bおよ
び6b族に属する金属を表わす。
特に、本発明の提供するカソードは電気伝導性
基板と、１層または２層以上の酸化チタン層およ
び／または酸化ジルコニウム層と組合わせた１層
または２層以上の酸化ルテニウム（RuO2）層と
によつて構成される被覆層を含んでおり、特に、
被覆がRuO2とTiO2を含むようなカソードに関す
るものである。
基板と、１層または２層以上の酸化チタン層およ
び／または酸化ジルコニウム層と組合わせた１層
または２層以上の酸化ルテニウム（RuO2）層と
によつて構成される被覆層を含んでおり、特に、
被覆がRuO2とTiO2を含むようなカソードに関す
るものである。
上記のようなカソードの中で、電気伝導性基板
側から見て、被覆が１層または２層以上のRuO2
層と、それに次ぐ１層または２層以上のTiO2層
で構成されているか、または１層または２層以上
のTiO2層／１層または２層以上のRuO2層／１層
または２層以上のTiO2層で構成される一連の層
で構成されているようなカソードを特に挙げるこ
とができる。上記の一連の層の間に、他の貴金属
または非貴金属から成る層を介在させること、ま
たは上記のRuO2層および／またはTiO2の全てま
たは一部を（RuxTi1-x）O2で置き換えて、Ｘの
値を導電性基板から電解質と接触する表面へ向か
つて増大するようすることも本願発明の範囲に含
まれる。本発明において、「表面層」という用語
は正確には表面が電解質と直接接触している酸化
物層を示し、かつ「中間層」という表現は、電気
伝導性基板と前記表面層の間に位置する全ての層
を表わす。特に、本発明は上記酸化物の中の全部
または一部がフレーク形状であるような被覆を有
するカソードを提供する。
側から見て、被覆が１層または２層以上のRuO2
層と、それに次ぐ１層または２層以上のTiO2層
で構成されているか、または１層または２層以上
のTiO2層／１層または２層以上のRuO2層／１層
または２層以上のTiO2層で構成される一連の層
で構成されているようなカソードを特に挙げるこ
とができる。上記の一連の層の間に、他の貴金属
または非貴金属から成る層を介在させること、ま
たは上記のRuO2層および／またはTiO2の全てま
たは一部を（RuxTi1-x）O2で置き換えて、Ｘの
値を導電性基板から電解質と接触する表面へ向か
つて増大するようすることも本願発明の範囲に含
まれる。本発明において、「表面層」という用語
は正確には表面が電解質と直接接触している酸化
物層を示し、かつ「中間層」という表現は、電気
伝導性基板と前記表面層の間に位置する全ての層
を表わす。特に、本発明は上記酸化物の中の全部
または一部がフレーク形状であるような被覆を有
するカソードを提供する。
本発明において、「フレーク」という用語は平
らな薄膜、一部が円柱形もしくは球形またはこれ
ら形態の組合せのものを表わし、かつその厚さは
前記フレークが内接する四辺形の二辺の寸法の平
均の10分の１以下であり、前記寸法の平均値は、
１〜100ミクロン、更に正確には３〜30ミクロン
である。
らな薄膜、一部が円柱形もしくは球形またはこれ
ら形態の組合せのものを表わし、かつその厚さは
前記フレークが内接する四辺形の二辺の寸法の平
均の10分の１以下であり、前記寸法の平均値は、
１〜100ミクロン、更に正確には３〜30ミクロン
である。
既に説明したように、前記被覆は完全にまたは
部分的に、少なくとも１つの貴金属の酸化物、す
なわちルテニウム、ロジウム、パラジウム、オス
ミウム、イリジウムおよび白金の酸化物で構成さ
れている。本発明においては酸化ルテニウムまた
は酸化ルテニウムと１つまたはそれ以上の異なる
貴金属酸化物との組合せが有利である。
部分的に、少なくとも１つの貴金属の酸化物、す
なわちルテニウム、ロジウム、パラジウム、オス
ミウム、イリジウムおよび白金の酸化物で構成さ
れている。本発明においては酸化ルテニウムまた
は酸化ルテニウムと１つまたはそれ以上の異なる
貴金属酸化物との組合せが有利である。
本発明によるカソードの被覆においては、貴金
属酸化物とバルブ金属のモル比は一般に10／１〜
１／10、好ましくは１／５〜５／１の範囲にあ
る。
属酸化物とバルブ金属のモル比は一般に10／１〜
１／10、好ましくは１／５〜５／１の範囲にあ
る。
基板を形成する材料は、電気伝導性材料から選
択できる。前記材料は、ニツケル、ステンレス鋼
および軟鋼を含む群から選ばれることが望ましい
が、前記材料により何等限定されるものではな
い。
択できる。前記材料は、ニツケル、ステンレス鋼
および軟鋼を含む群から選ばれることが望ましい
が、前記材料により何等限定されるものではな
い。
基板は多数のオリフイスもしくは貫通孔を有す
るもしくは有していない板状またはシート、金
網、金属布もしくはエキスパンデイツドメタル、
または格子状形態を有し、前記材料は、平面形ま
たは円筒形または使用される技術によりどのよう
な形であつてもよい。
るもしくは有していない板状またはシート、金
網、金属布もしくはエキスパンデイツドメタル、
または格子状形態を有し、前記材料は、平面形ま
たは円筒形または使用される技術によりどのよう
な形であつてもよい。
本発明はさらに、前記カソードの製造方法に関
するものである。
するものである。
この方法は、本質的に、先ず必要に応じて適当
な前処理を施した基板上に金属塩の層を堆積さ
せ、次いで全体に熱処理を施して酸化物にするこ
とによつて構成される。
な前処理を施した基板上に金属塩の層を堆積さ
せ、次いで全体に熱処理を施して酸化物にするこ
とによつて構成される。
基板の前処理は脱脂処理を含むことが望まし
く、必要ならば公知の方法に従つてその後に機械
的および／または化学的洗浄を行なう。
く、必要ならば公知の方法に従つてその後に機械
的および／または化学的洗浄を行なう。
本方法は実質的に、基板上に金属塩溶液層を順
次堆積させることによつて構成される。
次堆積させることによつて構成される。
混合酸化物を堆積させる場合には、同じ方法を
繰返し使用すること、すなわち、二つの金属塩を
含む層を直接堆積させるかことが可能である。一
般に、金属塩は、溶液または懸濁液状態で堆積さ
せる。塩の種類によつては、溶媒または希釈液を
水、無機酸もしくは有機酸、または有機溶媒で構
成することができる。好ましくは、ジメチルホル
ムアミド、アルコール、特にエタノールまたは２
―エチルヘキサノールのような有機溶媒の使用が
望ましい。一般に、金属の原子濃度は３×10-2〜
３モル／、好ましくは１〜２モル／である。
繰返し使用すること、すなわち、二つの金属塩を
含む層を直接堆積させるかことが可能である。一
般に、金属塩は、溶液または懸濁液状態で堆積さ
せる。塩の種類によつては、溶媒または希釈液を
水、無機酸もしくは有機酸、または有機溶媒で構
成することができる。好ましくは、ジメチルホル
ムアミド、アルコール、特にエタノールまたは２
―エチルヘキサノールのような有機溶媒の使用が
望ましい。一般に、金属の原子濃度は３×10-2〜
３モル／、好ましくは１〜２モル／である。
本発明に使用される金属塩は、一般に例えばハ
ロゲン化物、硝酸塩、炭酸塩、硫酸塩、または酢
酸塩もしくはアセチルアセトネートで構成され
る。白金およびルテニウムの酸化物を生成する塩
の場合には、ヘキサクロロ白金酸の６水塩および
塩化ルテニウム水和物を使用することが望まし
い。
ロゲン化物、硝酸塩、炭酸塩、硫酸塩、または酢
酸塩もしくはアセチルアセトネートで構成され
る。白金およびルテニウムの酸化物を生成する塩
の場合には、ヘキサクロロ白金酸の６水塩および
塩化ルテニウム水和物を使用することが望まし
い。
上記塩から成る層の堆積は、従来の方法に従つ
て行なわれる。すなわち、溶液または懸濁液中へ
の基板の浸漬、刷毛、ブラシまたは同様の道具を
使用しての塗装および静電スプレーなどで行うこ
とができる。
て行なわれる。すなわち、溶液または懸濁液中へ
の基板の浸漬、刷毛、ブラシまたは同様の道具を
使用しての塗装および静電スプレーなどで行うこ
とができる。
溶液または懸濁液の調製および堆積は、一般に
は室温でかつ空気中で行なわれる。もちろん、塩
によつては溶解し易くするために必要に応じて温
度を高くしたりおよび／または操作を窒素雰囲気
中または塩に対して不活性な他の気体中で行つて
もよい。
は室温でかつ空気中で行なわれる。もちろん、塩
によつては溶解し易くするために必要に応じて温
度を高くしたりおよび／または操作を窒素雰囲気
中または塩に対して不活性な他の気体中で行つて
もよい。
金属塩を酸化物に転化させるには、一般に熱処
理を用いる。この熱処理の前に、溶媒または希釈
液の一部または全てを除去するために空気中で加
熱することが望ましい。
理を用いる。この熱処理の前に、溶媒または希釈
液の一部または全てを除去するために空気中で加
熱することが望ましい。
この加熱は、200℃以下の温度で行い、100〜
150℃の範囲の温度が特に好ましい。前記処理の
時間は一般に数十分である。上記の処理は一般
に、使用する塩によつて異なるが、200〜1000℃
の範囲の温度で空気中で行う。好ましくは、400
〜750℃の範囲の温度で操作する。この熱処理の
時間は一般に１層当たり15分〜１時間である。こ
の熱処理はそれぞれ上記の加熱の後または最終的
な加熱の後に行なう。
150℃の範囲の温度が特に好ましい。前記処理の
時間は一般に数十分である。上記の処理は一般
に、使用する塩によつて異なるが、200〜1000℃
の範囲の温度で空気中で行う。好ましくは、400
〜750℃の範囲の温度で操作する。この熱処理の
時間は一般に１層当たり15分〜１時間である。こ
の熱処理はそれぞれ上記の加熱の後または最終的
な加熱の後に行なう。
（発明の効果）
本発明によるカソードは電気的に活性な被覆が
基板に対して優れた接着性を有していることを特
徴としている。
基板に対して優れた接着性を有していることを特
徴としている。
さらに、本願発明のカソードは、低い稼働電位
差値で、長時間安定した電気化学的反応を行わせ
ることができるという点に特徴がある。
差値で、長時間安定した電気化学的反応を行わせ
ることができるという点に特徴がある。
本発明のカソードは、電気分解によつてカソー
ドで水素が生成する水または水溶液の電気分解を
行う電解槽で使用するのに適している。このカソ
ードは、特にアルカリ金属塩化物の水溶液、特
に、塩化ナトリウム水溶液の電気分解および水酸
化カリウム水溶液の電気分解等の水の電気分解に
適している。電解槽では、ミクロの多孔質隔膜を
セパレーターとして使用することができるが、本
発明によるカソードは、特に、メンブレン（膜）
分離法において非常に有効である。
ドで水素が生成する水または水溶液の電気分解を
行う電解槽で使用するのに適している。このカソ
ードは、特にアルカリ金属塩化物の水溶液、特
に、塩化ナトリウム水溶液の電気分解および水酸
化カリウム水溶液の電気分解等の水の電気分解に
適している。電解槽では、ミクロの多孔質隔膜を
セパレーターとして使用することができるが、本
発明によるカソードは、特に、メンブレン（膜）
分離法において非常に有効である。
実施例 １
基板は寸法200×10×0.6mmのニツケル板から成
る。表面処理はコランダム（ビーズ径が250μm）
を使用して行なう。
る。表面処理はコランダム（ビーズ径が250μm）
を使用して行なう。
ａ 約38重量％のルテニウム金属を含む２ｇの
RuCl3・xHCl・yH2Oの２cm3エタノール溶液を
23℃で調製する。ニツケル板を、この溶液を用
いて被覆する。空気中での加熱を120℃で30分
行ない、次に空気中において500℃で30分間熱
処理を行なう。冷却後被覆／加熱／熱処理の手
順をくり返す。1.4mg／cm2のRuO2の堆積物を平
均寸法３〜30μmのフレーク形状で得た。前記
堆積物はＸ線によりRuO2構造を示すことが確
かめられた。
RuCl3・xHCl・yH2Oの２cm3エタノール溶液を
23℃で調製する。ニツケル板を、この溶液を用
いて被覆する。空気中での加熱を120℃で30分
行ない、次に空気中において500℃で30分間熱
処理を行なう。冷却後被覆／加熱／熱処理の手
順をくり返す。1.4mg／cm2のRuO2の堆積物を平
均寸法３〜30μmのフレーク形状で得た。前記
堆積物はＸ線によりRuO2構造を示すことが確
かめられた。
ｂ 2.5モルTi／を含む2.6cm3TiOCl2・2HClの
２cm3エタノール溶液を23℃で調製する。同様な
被覆／加熱／熱処理（２層）をａ）と同様の条
件下で行なう。このようにして0.8mg／cm3の
TiO2が堆積した。
２cm3エタノール溶液を23℃で調製する。同様な
被覆／加熱／熱処理（２層）をａ）と同様の条
件下で行なう。このようにして0.8mg／cm3の
TiO2が堆積した。
ｃ 得られたカソードを85℃かつ50A／ｄm2の電
流密度で450ｇ／の濃度の水酸化ナトリウム
内で試験し、結果的に飽和カロメル電極（S.C.
E.）に対して−1225mVの稼動電位を得た。
流密度で450ｇ／の濃度の水酸化ナトリウム
内で試験し、結果的に飽和カロメル電極（S.C.
E.）に対して−1225mVの稼動電位を得た。
ｄ 上記方法に従つてRuO2／TiO2で被覆した網
目状のエキスパンデツドニツケルあるいは圧延
されたニツケルから成る直径80mmのデイスクを
メンブレン分離法における塩化ナトリウム水溶
液の電解槽で、カソードとして使用する。
目状のエキスパンデツドニツケルあるいは圧延
されたニツケルから成る直径80mmのデイスクを
メンブレン分離法における塩化ナトリウム水溶
液の電解槽で、カソードとして使用する。
操作条件は下記の通りである。
電流密度＝30A／ｄm2
温度＝85℃
水酸化ナトリウム 32重量％
下記のような結果が得られた。すなわち、この
電解槽の電極における電圧は、カソードが被覆さ
れていないニツケル合金のみから成る電解槽の電
極における電圧と比較すると、300mVのゲイン
を示した。
電解槽の電極における電圧は、カソードが被覆さ
れていないニツケル合金のみから成る電解槽の電
極における電圧と比較すると、300mVのゲイン
を示した。
また、このゲインは６日間の連続操作の後でも
300mVで一定であつた。
300mVで一定であつた。
実施例 ２
実施例１の条件下において、表面処理されたニ
ツケルから成る基板を使用する。
ツケルから成る基板を使用する。
二つの溶液を23℃で調製する。すなわち
溶液Ａ；実施例１における２ｇのRuCl3・
xHCl・yH2Oの２cm3エタノール溶液 溶液Ｂ；2.5モルTi／を含む1.3cm3TiOCl2・
2HClの１cm3エタノール溶液 実施例１における被覆／加熱／熱処理の手順に
従つてニツケル基板上に２層の溶液Ｂを堆積させ
る。次いで冷却後被覆／加熱／熱処理の手順に従
つて２層の溶液Ａを、それから再び２層の溶液Ｂ
を堆積させ、次いで同様な処理を行なう。金属酸
化物の総堆積量は、0.6mg／cm2のRuO2を含む1.75
mg／cm2である。
xHCl・yH2Oの２cm3エタノール溶液 溶液Ｂ；2.5モルTi／を含む1.3cm3TiOCl2・
2HClの１cm3エタノール溶液 実施例１における被覆／加熱／熱処理の手順に
従つてニツケル基板上に２層の溶液Ｂを堆積させ
る。次いで冷却後被覆／加熱／熱処理の手順に従
つて２層の溶液Ａを、それから再び２層の溶液Ｂ
を堆積させ、次いで同様な処理を行なう。金属酸
化物の総堆積量は、0.6mg／cm2のRuO2を含む1.75
mg／cm2である。
TiO2、RuO2およびTiO2を含む３層構造の被
覆を有するカソードを実施例１に示されるように
水酸化ナトリウム中において試験する。このとき
稼動電位は、S.C.Eに対し−1240mVであつた。
40時間後の電位は−1210mVであつた。
覆を有するカソードを実施例１に示されるように
水酸化ナトリウム中において試験する。このとき
稼動電位は、S.C.Eに対し−1240mVであつた。
40時間後の電位は−1210mVであつた。
実施例 ３
ａ 実施例１における条件下で表面処理された
Ni基板を使用する。
Ni基板を使用する。
ｂ 以下の２つの溶液を23℃で調製する。
溶液Ａ：実施例１の２ｇのRuCl3・xHCl・
yH2Oの２cm3エタノール溶液 溶液Ｂ：１ｇのZrOCl2・8H2Oのエタノール
（2.4cm3）／HCl（１cm3、1N）溶液 ｃ 実施例１の被覆／加熱／熱処理の手順に従つ
て２層の溶液Ｂを基板上に堆積させる。次いで
冷却後２層の溶液Ａを被覆／加熱／熱処理の手
順に従つて更に２層の溶液Ｂを堆積させ、次い
で同様の処理を行なう。
yH2Oの２cm3エタノール溶液 溶液Ｂ：１ｇのZrOCl2・8H2Oのエタノール
（2.4cm3）／HCl（１cm3、1N）溶液 ｃ 実施例１の被覆／加熱／熱処理の手順に従つ
て２層の溶液Ｂを基板上に堆積させる。次いで
冷却後２層の溶液Ａを被覆／加熱／熱処理の手
順に従つて更に２層の溶液Ｂを堆積させ、次い
で同様の処理を行なう。
ｄ 金属酸化物の総堆積量は、0.7mg／cm2のRuO2
を含む1.8mg／cm2である。
を含む1.8mg／cm2である。
ZrO2、RuO2およびZrO2から成るこの３層構造
の被覆を有するカソードを実施例１に示されるよ
うに水酸化ナトリウム中において試験する。
の被覆を有するカソードを実施例１に示されるよ
うに水酸化ナトリウム中において試験する。
稼動電位はS.C.Eに対し−1210mVであつた。
16時間後その電位は−1200mVであつた。
16時間後その電位は−1200mVであつた。
実施例 ４
ａ 実施例３で使用したニツケル基板と溶液Ａお
よびＢを使用する。
よびＢを使用する。
ｂ ２層の溶液Ａと、次に２層の溶液Ｂとを実施
例１に示される被覆／加熱／熱処理の方法およ
び条件にて基板上に堆積させる。
例１に示される被覆／加熱／熱処理の方法およ
び条件にて基板上に堆積させる。
ｃ 金属酸化物の総堆積量は0.7mg／cm2のRuO2を
含み1.2mg／cm2である。
含み1.2mg／cm2である。
RuO2／ZrO2の２層構造の被覆を有するこのカ
ソードを実施例１に示されるように、水酸化ナト
リウム中において試験する。
ソードを実施例１に示されるように、水酸化ナト
リウム中において試験する。
稼動電位はS.C.Eに対し、−1210mVであり、16
時間後でもこの電位は一定であつた。
時間後でもこの電位は一定であつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 白金族金属酸化物を主成分とする被覆を有す
る電気伝導性基板によつて構成され、上記被覆が
複数の金属酸化物層によつて構成されている電解
槽に使用されるカソードにおいて、 この被覆の表面層が実質的にバルブ金属の酸化
物によつて構成され、且つこの被覆の少なくとも
１つの中間層が実質的に元素周期律表第族に属
する貴金属の酸化物によつて構成されていること
を特徴とするカソード。 ２ 上記表面層および／または少なくとも一つの
中間層が上記の各々の金属の酸化物のみによつて
構成されていることを特徴とする特許請求の範囲
第１項に記載のカソード。 ３ 上記表面層および／または少なくとも一つの
中間層が上記の各々の金属と、それに対して低比
率の第２の金属との混合酸化物によつて構成され
ていることを特徴とする特許請求の範囲第１項に
記載のカソード。 ４ 上記被覆が、１層または２層以上の酸化チタ
ンの層および／または酸化ジルコニウムの層と組
合わされた、１層または２層以上の酸化ルテニウ
ム（RuO2）の層によつて構成されていることを
特徴とする特許請求の範囲第１〜３項のいずれか
一項に記載のカソード。 ５ 上記被覆が基板側から見た時に、 １層または２層以上のRuO2層と、この層の上
の１層または２層以上のTiO2層および／または
ZrO2層を含むか、 １層または２層以上のTiO2層および／または
ZrO2層／１層または２層以上のRuO2層／１層ま
たは２層以上のTiO2層および／またはZrO2層で
構成される一連の層を含む ことを特徴とする特許請求の範囲第１〜４項の
いずれか一項に記載のカソード。 ６ 前記被覆中の全てまたはその一部の酸化物が
フレーク形状であることを特徴とする特許請求の
範囲第１〜５項のいずれか一項に記載のカソー
ド。 ７ 前記基板がニツケル、ステンレス鋼および軟
鋼を含む群より選択されることを特徴とする特許
請求の範囲第１〜６項のいずれか一項に記載のカ
ソード。 ８ 電気伝導性基板と、白金族金属酸化物を主成
分とする被覆を有し、この被覆が複数の金属酸化
物層によつて構成されている電解槽に使用される
カソードの製造方法において、 上記基板に必要に応じて適当な前処理を施した
後、上記被覆の少なくとも１つの中間層が実質的
に元素周期律表第族に属する貴金属の酸化物に
よつて構成され、且つ上記被覆の表面層が実質的
にバルブ金属の酸化物によつて構成されるように
この基板上に上記各々の金属の金属塩の層を堆積
させ、次いで全体を熱処理して上記酸化物を生成
させることを特徴とする上記カソードの製造方
法。 ９ 上記金属塩の溶液または懸濁液の層を順次上
記基板上に堆積させることを特徴とする特許請求
の範囲第８項に記載の方法。 １０ 混合酸化物を形成するための金属塩を前記
塩の同一溶液を１層または２層以上の層の形で堆
積することを特徴とする特許請求の範囲第８項に
記載のカソードの製造方法。 １２ 前記金属塩が無機金属塩または有機金属塩
から選択されることを特徴とする特許請求の範囲
第８〜１０項のいずれか一項に記載のカソードの
製造方法。 １３ 上記無機金属塩または有機金属塩が上記各
金属のハロゲン化物、硝酸塩、炭酸塩、硫酸塩ま
たは酢酸塩もしくはアセチルアセトネートである
ことを特徴とする特許請求の範囲第１２項に記載
のカソードの製造方法。 １４ 前記熱処理を200〜1000℃の範囲の温度で
行なうことを特徴とする特許請求の範囲第８〜１
３項のいずれか一項に記載のカソードの製造方
法。 １５ 前記熱処理の前に前記金属塩から部分的に
または完全に溶媒あるいは希釈液を除去するため
の加熱を行ない、この加熱を200℃以下の温度で
行うことを特徴とする特許請求の範囲第１４項に
記載のカソードの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8509540A FR2583781A1 (fr) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | Cathode pour electrolyse et un procede de fabrication de ladite cathode |
| FR8509540 | 1985-06-24 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61295386A JPS61295386A (ja) | 1986-12-26 |
| JPS6328998B2 true JPS6328998B2 (ja) | 1988-06-10 |
Family
ID=9320572
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61148032A Granted JPS61295386A (ja) | 1985-06-24 | 1986-06-24 | 電気分解用カソ−ドおよび該カソ−ドの製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0209427A1 (ja) |
| JP (1) | JPS61295386A (ja) |
| KR (1) | KR890003514B1 (ja) |
| CN (1) | CN86104356A (ja) |
| FR (1) | FR2583781A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1012970B (zh) * | 1987-06-29 | 1991-06-26 | 耐用电极株式会社 | 用于电解的阴极及其制备方法 |
| FR2775486B1 (fr) * | 1998-03-02 | 2000-04-07 | Atochem Elf Sa | Cathode specifique, utilisable pour la preparation d'un chlorate de metal alcalin et son procede de fabrication |
| FR2852973B1 (fr) * | 2003-03-28 | 2006-05-26 | Atofina | Procede de formation d'un revetement d'oxydes metalliques sur un substrat electroconducteur; cathode activee en resultant et son utilisation pour l'electrolyse de solutions acqueuses de chorures de meteaux alcalins. |
| EP2085501A1 (en) * | 2008-01-31 | 2009-08-05 | Casale Chemicals S.A. | High performance cathodes for water electrolysers |
| JP2013166994A (ja) * | 2012-02-15 | 2013-08-29 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 電解用電極、電解槽及び電解用電極の製造方法 |
| ITMI20122030A1 (it) * | 2012-11-29 | 2014-05-30 | Industrie De Nora Spa | Catodo per evoluzione elettrolitica di idrogeno |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5375173A (en) * | 1976-12-15 | 1978-07-04 | Sanyo Electric Co Ltd | Decomposing apparatus for water using photoenergy |
| JPS5773193A (en) * | 1980-08-18 | 1982-05-07 | Diamond Shamrock Corp | Coated electrode with dimension stability for electrolysis having oxide protecting film on base of valve metal and production thereof |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3915838A (en) * | 1968-04-02 | 1975-10-28 | Ici Ltd | Electrodes for electrochemical processes |
| FR2289632A1 (fr) * | 1974-10-29 | 1976-05-28 | Marston Excelsior Ltd | Procede de realisation d'electrodes pour operations electrolytiques |
| US4300992A (en) * | 1975-05-12 | 1981-11-17 | Hodogaya Chemical Co., Ltd. | Activated cathode |
-
1985
- 1985-06-24 FR FR8509540A patent/FR2583781A1/fr active Pending
-
1986
- 1986-06-17 EP EP86401327A patent/EP0209427A1/fr not_active Ceased
- 1986-06-24 JP JP61148032A patent/JPS61295386A/ja active Granted
- 1986-06-24 KR KR1019860005037A patent/KR890003514B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1986-06-24 CN CN198686104356A patent/CN86104356A/zh active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5375173A (en) * | 1976-12-15 | 1978-07-04 | Sanyo Electric Co Ltd | Decomposing apparatus for water using photoenergy |
| JPS5773193A (en) * | 1980-08-18 | 1982-05-07 | Diamond Shamrock Corp | Coated electrode with dimension stability for electrolysis having oxide protecting film on base of valve metal and production thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2583781A1 (fr) | 1986-12-26 |
| EP0209427A1 (fr) | 1987-01-21 |
| JPS61295386A (ja) | 1986-12-26 |
| KR890003514B1 (ko) | 1989-09-23 |
| CN86104356A (zh) | 1986-12-24 |
| KR870000455A (ko) | 1987-02-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2709479C1 (ru) | Анод для электролиза водного раствора щелочи и способ изготовления анода для электролиза водного раствора щелочи | |
| EP0047595B1 (en) | Electrochemical cell | |
| US3751296A (en) | Electrode and coating therefor | |
| US4457822A (en) | Electrolysis apparatus using a diaphragm of a solid polymer electrolyte | |
| TWI247052B (en) | Electrocatalytic coating with lower platinum group metals and electrode made therefrom | |
| US4585540A (en) | Composite catalytic material particularly for electrolysis electrodes and method of manufacture | |
| US8070924B2 (en) | Electrode for generation of hydrogen | |
| US4798662A (en) | Cathode for electrolysis and a process for the manufacture of the said cathode | |
| JP5518900B2 (ja) | 水又はアルカリ金属化合物の水溶液の電気分解用の陰極、アルカリ金属塩化物の電気分解用電解槽、及び水又はアルカリ金属化合物の水溶液の電気分解用の陰極の製造方法 | |
| US7001494B2 (en) | Electrolytic cell and electrodes for use in electrochemical processes | |
| JPH0694597B2 (ja) | 電気化学的工程において使用する電極とその製造方法 | |
| US20140224667A1 (en) | Catalyst Coating and Process for Production Thereof | |
| AU583480B2 (en) | Composite catalytic material particularly for electrolysis electrodes and method of manufacture | |
| EP0014596B1 (en) | Method for producing electrodes having mixed metal oxide catalyst coatings | |
| US4456518A (en) | Noble metal-coated cathode | |
| ZA200507825B (en) | Method for the formation of a coating of metal oxides on an electrically-conducting substrate, resultant activated cathode and use thereof for the electrolysis of aqueous solutions of alkaline metal chlorides | |
| EP0027051B1 (en) | Coated metal electrode with improved barrier layer and methods of manufacture and use thereof | |
| JPH02247392A (ja) | 寸法安定性をもった陽極 | |
| JPS6328998B2 (ja) | ||
| JPH0689469B2 (ja) | 水溶液電気分解用陰極 | |
| US4900585A (en) | Cathode and process for the manufacture thereof | |
| JPH0257159B2 (ja) | ||
| EP0245201B1 (de) | Anode für Elektrolysen | |
| JP2596821B2 (ja) | 酸素発生用陽極 | |
| WO1986001839A1 (en) | Composite catalytic material particularly for electrolysis electrodes and method of manufacture |