JPS6328517Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6328517Y2 JPS6328517Y2 JP1982112610U JP11261082U JPS6328517Y2 JP S6328517 Y2 JPS6328517 Y2 JP S6328517Y2 JP 1982112610 U JP1982112610 U JP 1982112610U JP 11261082 U JP11261082 U JP 11261082U JP S6328517 Y2 JPS6328517 Y2 JP S6328517Y2
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- JP
- Japan
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- insulator
- vacuum container
- container
- voltage
- high vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 43
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 5
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Particle Accelerators (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案はイオンビーム加速装置等の高真空容器
内に正極性の直流高電圧を導入する場合のイオン
ビーム装置等における高圧導入碍子に関する。
内に正極性の直流高電圧を導入する場合のイオン
ビーム装置等における高圧導入碍子に関する。
一般にイオンビーム加速装置等の高真空容器内
に正極性の高電圧を導入する場合には、第1図の
様な構造とする場合が多い。図において、1は芯
線1a及び絶縁被覆1bで構成された高圧導入用
ケーブルで、該ケーブル1はナツト2及びOリン
グ3により気密を保持されて押え金具4及び絶縁
体5を貫通して、例えば、接地電位に保たれた高
真空容器6内に導入されている。7は絶縁碍子
で、該絶縁碍子7を高圧ケーブル1内の芯線1a
に接続された高圧端子8が貫通しており、その先
端は絶縁碍子7より僅かに突出している。9は例
えば静電型対物レンズ用の高圧受電端子であり、
該高圧端子8は本図では図示しない内部に設けら
れたスプリングによつて常に高圧受電端子9を押
圧して接触している。10は押え金具4を高真空
容器6に取り付けるための締付けネジであり、1
1は押え金具4を高真空容器6に取り付けた場合
に真空を保持するためのOリングである。
に正極性の高電圧を導入する場合には、第1図の
様な構造とする場合が多い。図において、1は芯
線1a及び絶縁被覆1bで構成された高圧導入用
ケーブルで、該ケーブル1はナツト2及びOリン
グ3により気密を保持されて押え金具4及び絶縁
体5を貫通して、例えば、接地電位に保たれた高
真空容器6内に導入されている。7は絶縁碍子
で、該絶縁碍子7を高圧ケーブル1内の芯線1a
に接続された高圧端子8が貫通しており、その先
端は絶縁碍子7より僅かに突出している。9は例
えば静電型対物レンズ用の高圧受電端子であり、
該高圧端子8は本図では図示しない内部に設けら
れたスプリングによつて常に高圧受電端子9を押
圧して接触している。10は押え金具4を高真空
容器6に取り付けるための締付けネジであり、1
1は押え金具4を高真空容器6に取り付けた場合
に真空を保持するためのOリングである。
ところで、この様に構成された従来の高圧導入
碍子では高真空容器6と絶縁碍子7との真空側接
触面に微小間隙が形成されている。このため、高
真空容器〜微小間隙〜絶縁碍子面が所謂トリプル
ジヤンクシヨン(Triple Junction)を構成し、
この微小間隙に電界が集中し、負電位である高真
空容器6と絶縁碍子7との接触面より電界放出電
子にもとずく微少放電が発生し真空絶縁を悪くす
る。第2図は従来装置の電位分布の概略を示した
もので、図に示す様に高真空容器6と絶縁碍子7
の接触面近傍の電界集中度が高く、従つてトリプ
ルジヤンクシヨンの微小間隙の電界強度も高くな
り、電界放出電子による微少放電の発生率が非常
に高くなる。ところで、この電位分布は、絶縁物
の絶縁抵抗にもとずく抵抗回路網により電位の分
布が決定されるが、いま第2図のA部分について
のみ考案すると、正極の高電圧が印加された芯線
1aから絶縁被覆1b、絶縁体5、絶縁碍子7、
高真空容器6へと有限の固有抵抗を有する絶縁物
を流れる漏洩電流i1〜i6は第3図の様に流れる。
ここで、絶縁碍子7の容器6の対向する面は第3
図の様にミクロ的にみると凹凸が無数にあり、容
器6に直接接触している部分や、微小間隙によつ
て容器6に接触していない部分がある。このた
め、高真空容器6への漏洩電流i1〜i6は芯線側に
最も近い接触点を通じて流れる。この為、第3図
の微小間隙Gには高真空容器6が陰極となる通常
数1000Å以下の大小の微小突起が無数にあるた
め、微小突起により電界放出電子が発生する。こ
の電界放出電子は絶縁碍子7の近傍の電界で加速
され微少放電から沿面放電へと移向する。ところ
で、この様なトリプルジヤンクシヨンがあつても
微小間隙Gに電界を集中しない様にするには、絶
縁碍子の形状を変えて、該絶絶縁碍子と接地電位
である高真空容器6との接触部分での電位差をな
くすことによつて防止することができる。
碍子では高真空容器6と絶縁碍子7との真空側接
触面に微小間隙が形成されている。このため、高
真空容器〜微小間隙〜絶縁碍子面が所謂トリプル
ジヤンクシヨン(Triple Junction)を構成し、
この微小間隙に電界が集中し、負電位である高真
空容器6と絶縁碍子7との接触面より電界放出電
子にもとずく微少放電が発生し真空絶縁を悪くす
る。第2図は従来装置の電位分布の概略を示した
もので、図に示す様に高真空容器6と絶縁碍子7
の接触面近傍の電界集中度が高く、従つてトリプ
ルジヤンクシヨンの微小間隙の電界強度も高くな
り、電界放出電子による微少放電の発生率が非常
に高くなる。ところで、この電位分布は、絶縁物
の絶縁抵抗にもとずく抵抗回路網により電位の分
布が決定されるが、いま第2図のA部分について
のみ考案すると、正極の高電圧が印加された芯線
1aから絶縁被覆1b、絶縁体5、絶縁碍子7、
高真空容器6へと有限の固有抵抗を有する絶縁物
を流れる漏洩電流i1〜i6は第3図の様に流れる。
ここで、絶縁碍子7の容器6の対向する面は第3
図の様にミクロ的にみると凹凸が無数にあり、容
器6に直接接触している部分や、微小間隙によつ
て容器6に接触していない部分がある。このた
め、高真空容器6への漏洩電流i1〜i6は芯線側に
最も近い接触点を通じて流れる。この為、第3図
の微小間隙Gには高真空容器6が陰極となる通常
数1000Å以下の大小の微小突起が無数にあるた
め、微小突起により電界放出電子が発生する。こ
の電界放出電子は絶縁碍子7の近傍の電界で加速
され微少放電から沿面放電へと移向する。ところ
で、この様なトリプルジヤンクシヨンがあつても
微小間隙Gに電界を集中しない様にするには、絶
縁碍子の形状を変えて、該絶絶縁碍子と接地電位
である高真空容器6との接触部分での電位差をな
くすことによつて防止することができる。
本考案は以上の点に鑑みてなされたもので、導
電性真空容器の壁を貫通する絶縁碍子の中心部に
設けられた導線によつて、該絶縁碍子端部の真空
側の端子に、上記導電性容器に対して正の電位が
与えられる装置において、上記絶縁碍子の一部を
折り返し、該折り返し部と上記導電性容器壁が真
空側で接合される様に成したことを特徴としてい
る。
電性真空容器の壁を貫通する絶縁碍子の中心部に
設けられた導線によつて、該絶縁碍子端部の真空
側の端子に、上記導電性容器に対して正の電位が
与えられる装置において、上記絶縁碍子の一部を
折り返し、該折り返し部と上記導電性容器壁が真
空側で接合される様に成したことを特徴としてい
る。
以下本考案の一実施例を添付図面に基づき詳述
する。
する。
第4図は本考案の一実施例を示す断面図であ
る。第1図と同一部分には同一符号を付してその
説明を省略する。図中20として本考案に基づく
絶縁碍子の形状の一実施例を示す。第4図に示す
ように、高真空容器6と該絶縁碍子20の接合部
が電位差の発生しない個所になる様に絶縁碍子2
0の高真空容器6に接触する部分を折り返し屈曲
させた構造としてある。つまり、第5図に示す様
に芯線1aの表面から絶縁被覆1b、絶縁体5、
絶縁碍子7を流れる漏洩電流は、例えば第5図に
示す如くi1〜i8の様になる。これらの漏洩電流は
高真空容器6と絶縁碍子7の接合面Bには流れ
ず、又この様な形状とした場合には、第6図に示
す如く接合面B近傍の電位分布は比較的に疎の分
布となつているため、接合面Bがたとえトリプル
ジヤンクシヨンを構成していても、微小間隙Gに
は電位差が生ずることはなく、従つて電界放出電
子が発生せず微少放電を起こすことはない。その
ため、真空絶縁破壊による沿面放電の発生を防止
することができる。
る。第1図と同一部分には同一符号を付してその
説明を省略する。図中20として本考案に基づく
絶縁碍子の形状の一実施例を示す。第4図に示す
ように、高真空容器6と該絶縁碍子20の接合部
が電位差の発生しない個所になる様に絶縁碍子2
0の高真空容器6に接触する部分を折り返し屈曲
させた構造としてある。つまり、第5図に示す様
に芯線1aの表面から絶縁被覆1b、絶縁体5、
絶縁碍子7を流れる漏洩電流は、例えば第5図に
示す如くi1〜i8の様になる。これらの漏洩電流は
高真空容器6と絶縁碍子7の接合面Bには流れ
ず、又この様な形状とした場合には、第6図に示
す如く接合面B近傍の電位分布は比較的に疎の分
布となつているため、接合面Bがたとえトリプル
ジヤンクシヨンを構成していても、微小間隙Gに
は電位差が生ずることはなく、従つて電界放出電
子が発生せず微少放電を起こすことはない。その
ため、真空絶縁破壊による沿面放電の発生を防止
することができる。
以上本考案を詳述したが、本考案に基づく高圧
導入碍子は所謂トリプルジヤンクシヨンによる微
小放電及び沿面放電を防止すると共に、斯種装置
におけるこれらに起因する故障を大幅に減少させ
ることができる。尚本考案は上述した実施例に限
定されるものではなく、本実施例においては絶縁
碍子と高真空容器との接合部を逆U溝状としたが
ヘアピン状又は傘状としてもよい。
導入碍子は所謂トリプルジヤンクシヨンによる微
小放電及び沿面放電を防止すると共に、斯種装置
におけるこれらに起因する故障を大幅に減少させ
ることができる。尚本考案は上述した実施例に限
定されるものではなく、本実施例においては絶縁
碍子と高真空容器との接合部を逆U溝状としたが
ヘアピン状又は傘状としてもよい。
第1図は従来装置の高圧導入碍子の断面図、第
2図は従来装置の電位分布の概略図、第3図は従
来装置の高圧導入碍子と真空容器との接合部の拡
大図、第4図は本考案による高圧導入碍子の一実
施例を示す図、第5図は本考案による高圧導入碍
子の漏洩電流を説明するための図、第6図は本考
案よる高圧導入碍子の一実施例の電位分布の概略
図である。 1……高圧ケーブル、2……ナツト、3……O
リング、4……押え金具、5……絶縁体、6……
高真空容器、7……絶縁碍子、8……高圧端子、
9……高圧受電端子、10……締付けネジ、11
……Oリング、20……絶縁碍子。
2図は従来装置の電位分布の概略図、第3図は従
来装置の高圧導入碍子と真空容器との接合部の拡
大図、第4図は本考案による高圧導入碍子の一実
施例を示す図、第5図は本考案による高圧導入碍
子の漏洩電流を説明するための図、第6図は本考
案よる高圧導入碍子の一実施例の電位分布の概略
図である。 1……高圧ケーブル、2……ナツト、3……O
リング、4……押え金具、5……絶縁体、6……
高真空容器、7……絶縁碍子、8……高圧端子、
9……高圧受電端子、10……締付けネジ、11
……Oリング、20……絶縁碍子。
Claims (1)
- 導電性真空容器6の壁を貫通する絶縁碍子20
の中心部に設けられた導線1aによつて、該絶縁
碍子端部の真空側の端子に、上記導電性真空容器
6に対して正の電位が与えられる装置において、
上記絶縁碍子20の一部を空間を開けて折り返
し、該折り返した先端部が上記導電性真空容器6
の真空側の壁の一部と接合される様に成したこと
を特徴とするイオンビーム装置等における高圧導
入碍子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11261082U JPS5917552U (ja) | 1982-07-23 | 1982-07-23 | イオンビ−ム装置等における高圧導入碍子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11261082U JPS5917552U (ja) | 1982-07-23 | 1982-07-23 | イオンビ−ム装置等における高圧導入碍子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5917552U JPS5917552U (ja) | 1984-02-02 |
JPS6328517Y2 true JPS6328517Y2 (ja) | 1988-08-01 |
Family
ID=30260996
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11261082U Granted JPS5917552U (ja) | 1982-07-23 | 1982-07-23 | イオンビ−ム装置等における高圧導入碍子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5917552U (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022244054A1 (ja) * | 2021-05-17 | 2022-11-24 | 株式会社日立ハイテク | 高電圧絶縁構造体、荷電粒子銃および荷電粒子ビーム装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5439974U (ja) * | 1977-08-24 | 1979-03-16 |
-
1982
- 1982-07-23 JP JP11261082U patent/JPS5917552U/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5439974U (ja) * | 1977-08-24 | 1979-03-16 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5917552U (ja) | 1984-02-02 |
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