JPS63283742A - 撹拌流動槽 - Google Patents
撹拌流動槽Info
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- JPS63283742A JPS63283742A JP11626687A JP11626687A JPS63283742A JP S63283742 A JPS63283742 A JP S63283742A JP 11626687 A JP11626687 A JP 11626687A JP 11626687 A JP11626687 A JP 11626687A JP S63283742 A JPS63283742 A JP S63283742A
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- stirring
- agitating
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
- B01J8/24—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique
- B01J8/38—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with fluidised bed containing a rotatable device or being subject to rotation or to a circulatory movement, i.e. leaving a vessel and subsequently re-entering it
- B01J8/382—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with fluidised bed containing a rotatable device or being subject to rotation or to a circulatory movement, i.e. leaving a vessel and subsequently re-entering it with a rotatable device only
-
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- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/19—Details relating to the geometry of the reactor
- B01J2219/194—Details relating to the geometry of the reactor round
- B01J2219/1941—Details relating to the geometry of the reactor round circular or disk-shaped
- B01J2219/1946—Details relating to the geometry of the reactor round circular or disk-shaped conical
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は粉体の撹拌槽に関し、更に詳しくは粉体を撹拌
機と気流を併用して撹拌する縦型撹拌流動槽に関する。
機と気流を併用して撹拌する縦型撹拌流動槽に関する。
粉体を撹拌する装置として、パドル型あるいはリボン型
の撹拌機を設けた撹拌槽や槽の下部から供給される気流
で粉体を流動化する流動槽が広く知られている。また、
撹拌機による撹拌と気流による流動化を併用する撹拌流
動槽は、所用撹拌動力および流動化のガス量が比較的少
く、かつ、粉体に4友る衝撃も小さいという特徴を有す
るため、固体触媒を用いるオレフィンの気相重合の反応
槽あるいは崩壊性や凝集性のある粉体の乾燥機等として
好ましく用いられており、撹拌軸が水平に設けられた横
減槽および撹拌軸が垂直に設けられた縦型槽のいずれも
公知である。
の撹拌機を設けた撹拌槽や槽の下部から供給される気流
で粉体を流動化する流動槽が広く知られている。また、
撹拌機による撹拌と気流による流動化を併用する撹拌流
動槽は、所用撹拌動力および流動化のガス量が比較的少
く、かつ、粉体に4友る衝撃も小さいという特徴を有す
るため、固体触媒を用いるオレフィンの気相重合の反応
槽あるいは崩壊性や凝集性のある粉体の乾燥機等として
好ましく用いられており、撹拌軸が水平に設けられた横
減槽および撹拌軸が垂直に設けられた縦型槽のいずれも
公知である。
垂直な撹拌軸を有する縦型の撹拌流動槽は、横型の撹拌
流動槽と比較して据付面積が小さいという利点を有する
が、分散板の通気孔よシ落下した粉体がガス供給室に蓄
積し易く、蓄積した粉体が撹拌軸との摩擦熱とか、粉体
が反応性のものであれば反応熱などによシ溶融し、撹拌
軸の軸受は部分を損傷し易いという問題点を有する。
流動槽と比較して据付面積が小さいという利点を有する
が、分散板の通気孔よシ落下した粉体がガス供給室に蓄
積し易く、蓄積した粉体が撹拌軸との摩擦熱とか、粉体
が反応性のものであれば反応熱などによシ溶融し、撹拌
軸の軸受は部分を損傷し易いという問題点を有する。
本発明者は縦型の流動撹拌槽の上記問題点を解決すべく
鋭意研究の結果、ガス供給室内に撹拌翼を設けることに
より所期の目的が達せられることを知シ本発明を完成す
るに至った。
鋭意研究の結果、ガス供給室内に撹拌翼を設けることに
より所期の目的が達せられることを知シ本発明を完成す
るに至った。
以下に図面によって本発明を説明する。第1図は本発明
の縦型の撹拌流動槽の断面を示す模式図である。撹拌槽
1は分散板3によシ上下に仕切られておシ、上部の撹拌
室には撹拌機2が設けられ、下部のガス供給室5にはガ
ス供給口4が設けられている。撹拌機2の撹拌軸はガス
供給室5および軸受7を経てモーター10に達しており
、そのガス供給室部分において撹拌翼6が取付けられて
いる。また、ガス供給室50下部には抜出口8が設けら
れている。なお、第1図では撹拌槽の上部には粉体等の
供給や排出あるいはガスの排出のために何個かのノズル
9が設けられておシ、ガス供給室5はガス整流板が設け
られている。ノズル9の位置、大きさおよび数ならびに
ガス整流板の有無は撹拌流動槽の使用目的によシ適宜選
択することができる。
の縦型の撹拌流動槽の断面を示す模式図である。撹拌槽
1は分散板3によシ上下に仕切られておシ、上部の撹拌
室には撹拌機2が設けられ、下部のガス供給室5にはガ
ス供給口4が設けられている。撹拌機2の撹拌軸はガス
供給室5および軸受7を経てモーター10に達しており
、そのガス供給室部分において撹拌翼6が取付けられて
いる。また、ガス供給室50下部には抜出口8が設けら
れている。なお、第1図では撹拌槽の上部には粉体等の
供給や排出あるいはガスの排出のために何個かのノズル
9が設けられておシ、ガス供給室5はガス整流板が設け
られている。ノズル9の位置、大きさおよび数ならびに
ガス整流板の有無は撹拌流動槽の使用目的によシ適宜選
択することができる。
撹拌翼6は撹拌装置の撹拌軸に固定されておシ、撹拌軸
の回転につれて回転しガス供給室5内の気体を撹拌し、
分散板3よシ落下する粉体を浮遊させる。撹拌翼6の大
きざ中形には特別な制限はなく、ガス供給室5内の気体
に粉体を浮遊させるに充分な循環流を起させるものであ
ればよく、パドル型、タービン型あるいはプロペラ型な
どがいずれも使用できるが、翼面への粉体の沈着が少い
ことから第1図に示したようなパドル型が最も好ましい
。撹拌翼6がパドル型である場合には、撹拌翼6とガス
供給室6の内壁とのクリアランスが10mm以下とする
ことは、ガス供給室の内壁に沈降した粉体を該クリアラ
ンスを通過する気流によシ気相中に舞い上らせることが
できるため、好ましい実施態様の一つである。また、上
記パドル型撹拌翼と撹拌軸との間に少くとも5鱈のクリ
アランスを設けることは、該クリアランスを通る気流を
撹拌軸周辺の比較的流速の遅い空間に導入することとな
シ、撹拌軸やその近傍へ粉体の沈降や付着を防ぐ効果が
大きいので好ましい実施態様の一つである。さらに、ガ
ス供給室5に抜出口8を設けた場合には、ガス供給室内
に落下し浮遊している粉体を連続的にあるいは間欠的に
該抜出口から抜き出すことができ、ガス供給室内への粉
体の蓄積や付着を防止することができるので好ましい実
施態様の一つである。
の回転につれて回転しガス供給室5内の気体を撹拌し、
分散板3よシ落下する粉体を浮遊させる。撹拌翼6の大
きざ中形には特別な制限はなく、ガス供給室5内の気体
に粉体を浮遊させるに充分な循環流を起させるものであ
ればよく、パドル型、タービン型あるいはプロペラ型な
どがいずれも使用できるが、翼面への粉体の沈着が少い
ことから第1図に示したようなパドル型が最も好ましい
。撹拌翼6がパドル型である場合には、撹拌翼6とガス
供給室6の内壁とのクリアランスが10mm以下とする
ことは、ガス供給室の内壁に沈降した粉体を該クリアラ
ンスを通過する気流によシ気相中に舞い上らせることが
できるため、好ましい実施態様の一つである。また、上
記パドル型撹拌翼と撹拌軸との間に少くとも5鱈のクリ
アランスを設けることは、該クリアランスを通る気流を
撹拌軸周辺の比較的流速の遅い空間に導入することとな
シ、撹拌軸やその近傍へ粉体の沈降や付着を防ぐ効果が
大きいので好ましい実施態様の一つである。さらに、ガ
ス供給室5に抜出口8を設けた場合には、ガス供給室内
に落下し浮遊している粉体を連続的にあるいは間欠的に
該抜出口から抜き出すことができ、ガス供給室内への粉
体の蓄積や付着を防止することができるので好ましい実
施態様の一つである。
以下、立体規則性触媒を用いた気相法によるプロピレン
の連続重合を行った実施例および比較例によシ本発明を
さらに説明する。
の連続重合を行った実施例および比較例によシ本発明を
さらに説明する。
実施例1
本例で用いた撹拌流動槽は、槽上部にダブルヘリカル撹
拌機を備え、 撹拌室下部 直径 : 400m 撹拌室 円錐角 : 5゜ 撹拌槽 高さ : 2100龍 ガス供給室 高さ : 500m 触媒注入口の位置 二 分散板よ?) 190m上方重
合体抜出口 二 分散板より(”)mt)J(2晒)ク
エンチ剤注入口 : 分散板よJ)190mg上方より
1501111間隔で4個所 ガス抜出口:槽の頂部 ガス 供給口 : 分散板よシ下方250鶴整 流
板 : 分散板より下方200mである。
拌機を備え、 撹拌室下部 直径 : 400m 撹拌室 円錐角 : 5゜ 撹拌槽 高さ : 2100龍 ガス供給室 高さ : 500m 触媒注入口の位置 二 分散板よ?) 190m上方重
合体抜出口 二 分散板より(”)mt)J(2晒)ク
エンチ剤注入口 : 分散板よJ)190mg上方より
1501111間隔で4個所 ガス抜出口:槽の頂部 ガス 供給口 : 分散板よシ下方250鶴整 流
板 : 分散板より下方200mである。
また、分散板はノズル径1.0 m 、開口率0.62
係であり、整流板はノズル径15.0龍、開口率7.0
%であシ、ガス供給室内の撹拌翼は第1図に示されたも
のと同様なパドル翼2枚からなり、ガス供給室の内壁と
のクリアランスは10.0+m。
係であり、整流板はノズル径15.0龍、開口率7.0
%であシ、ガス供給室内の撹拌翼は第1図に示されたも
のと同様なパドル翼2枚からなり、ガス供給室の内壁と
のクリアランスは10.0+m。
撹拌軸とのクリアランスは5. Ovtwである。
上記撹拌槽上部に予め準備したメジアン径540ミクロ
ンのポリプロピレン粉末59kg(1211)を充填し
、撹拌翼を10 orpm(1奸曵下部でのフルード数
Fr=2.24)で回転させ、次いでガス供給口よ?)
6 mol ’04の水素ガスを含有するプロピレン
ガスを110 Nrr?/hr (分散板上の空塔速度
1.5 cIIL/see )で供給した。上記撹拌状
態を保ちながら、触媒懸濁液を4311/hr (Ti
(J、は1.251/hr)およびクエンチ剤としての
液化プロピレンを55に9/hrの割合で連続供給し、
反応温度を70℃に、圧力を20ゆ/crIGに保ち1
4日間連続運転した。この間に、重合体抜出口から生成
ポリプロピレンが10に9/h rの割合で得られ、槽
内の粉体保有量はほぼ駆動 1201であシ、撹拌機の()動力は8.4消費 ±0.1アンペアであった。
ンのポリプロピレン粉末59kg(1211)を充填し
、撹拌翼を10 orpm(1奸曵下部でのフルード数
Fr=2.24)で回転させ、次いでガス供給口よ?)
6 mol ’04の水素ガスを含有するプロピレン
ガスを110 Nrr?/hr (分散板上の空塔速度
1.5 cIIL/see )で供給した。上記撹拌状
態を保ちながら、触媒懸濁液を4311/hr (Ti
(J、は1.251/hr)およびクエンチ剤としての
液化プロピレンを55に9/hrの割合で連続供給し、
反応温度を70℃に、圧力を20ゆ/crIGに保ち1
4日間連続運転した。この間に、重合体抜出口から生成
ポリプロピレンが10に9/h rの割合で得られ、槽
内の粉体保有量はほぼ駆動 1201であシ、撹拌機の()動力は8.4消費 ±0.1アンペアであった。
運転終了後、ガス供給室内を検査したところ、重合体等
の微粒子95.9存在し九が、撹拌軸や壁への固着は観
察されなかった。
の微粒子95.9存在し九が、撹拌軸や壁への固着は観
察されなかった。
比較例1
ガス供給室内の撹拌翼を撹拌軸に直接域シ付け(クリア
ランスを無くシ)、かつ、ガス供給室の内壁とのクリア
ランスを12mとした以外は実施例1と同様にしてプロ
ピレンの重合を336時間連続して行った。運転中の槽
内の粉体保有量は120ノでほぼ一定であったが、運転
開始当初8.4±0.1アンペアであった撹拌機の消費
動力は120時間経過後には8.4±0.5アンペアと
増加するとともに変動幅も大きくなった。運転終了後ガ
ス供給室を検査したところ、979の微粒子が存在し、
そのうち23.9は撹拌軸表面やガス供給室内壁に固着
していた。
ランスを無くシ)、かつ、ガス供給室の内壁とのクリア
ランスを12mとした以外は実施例1と同様にしてプロ
ピレンの重合を336時間連続して行った。運転中の槽
内の粉体保有量は120ノでほぼ一定であったが、運転
開始当初8.4±0.1アンペアであった撹拌機の消費
動力は120時間経過後には8.4±0.5アンペアと
増加するとともに変動幅も大きくなった。運転終了後ガ
ス供給室を検査したところ、979の微粒子が存在し、
そのうち23.9は撹拌軸表面やガス供給室内壁に固着
していた。
比較例2
ガス供給室内の撹拌翼を取シ除いた以外は実施例1と同
様にしてプロピレンの重合を192時間連続して行った
。運転中の槽内の粉体保有量は120ノでほぼ一定であ
ったが、運転開始当初8.4±0.1アンペアであった
撹拌機の消費動力、70時間経過時から徐々に上昇し、
192時間経過後には8.4±1.2アンペアに上昇し
、変動幅も大きくなった。運転終了後ガス供給室を検査
したところ、59gの微粒子が存在し、そのうち42N
は内壁等に固着しておシ、一部は軸受部で融着している
ことが観察された。
様にしてプロピレンの重合を192時間連続して行った
。運転中の槽内の粉体保有量は120ノでほぼ一定であ
ったが、運転開始当初8.4±0.1アンペアであった
撹拌機の消費動力、70時間経過時から徐々に上昇し、
192時間経過後には8.4±1.2アンペアに上昇し
、変動幅も大きくなった。運転終了後ガス供給室を検査
したところ、59gの微粒子が存在し、そのうち42N
は内壁等に固着しておシ、一部は軸受部で融着している
ことが観察された。
実施例2
分散板をノズル径2.5 m、開口率3.9sのものと
した点およびガス供給室の下部に設けた抜出口よシ8時
間当り1回、各回数秒間のガスパージを行ったこと以外
は実施例1と同様にしてプロピレンの重合を336時間
連続して行った。
した点およびガス供給室の下部に設けた抜出口よシ8時
間当り1回、各回数秒間のガスパージを行ったこと以外
は実施例1と同様にしてプロピレンの重合を336時間
連続して行った。
運転中の槽内の粉体保有量は1201でほぼ一定であシ
、撹拌機の消費動力も8.4±0.2アンペアで安定し
ていた。ガス供給室からパージガスに同伴して抜出され
た微粒子は合計7.560.9であった。運転終了後ガ
ス供給室を検査したところ、粉体は全く存在せず、壁面
や撹拌軸にも粉体の付着した形跡もなかった。
、撹拌機の消費動力も8.4±0.2アンペアで安定し
ていた。ガス供給室からパージガスに同伴して抜出され
た微粒子は合計7.560.9であった。運転終了後ガ
ス供給室を検査したところ、粉体は全く存在せず、壁面
や撹拌軸にも粉体の付着した形跡もなかった。
槽内に設けられた撹拌機による撹拌と槽底部に設けられ
た分散板を経て供給される気流による流動化を併用する
縦型、?LfP&東槽において、分散板の下側のガス供
給室内に撹拌翼を設けるととKより、分散板からガス供
給室に落下してくる粉体を該室内に堆積させたり、壁面
等へ付着することを防止することも可能とした。このよ
うな@伴f、、拗循久は粉体の混合や乾燥の他、気相法
による重合体の製造に利用することができ、と<Kjl
!i!!り扱う粉体が低融点のものであったシ、あるい
はその自身発熱し溶融するようなもの、例えば活性な触
媒を内蔵する重合体粒子の場合でも長時間の安定した運
転を可能とする。
た分散板を経て供給される気流による流動化を併用する
縦型、?LfP&東槽において、分散板の下側のガス供
給室内に撹拌翼を設けるととKより、分散板からガス供
給室に落下してくる粉体を該室内に堆積させたり、壁面
等へ付着することを防止することも可能とした。このよ
うな@伴f、、拗循久は粉体の混合や乾燥の他、気相法
による重合体の製造に利用することができ、と<Kjl
!i!!り扱う粉体が低融点のものであったシ、あるい
はその自身発熱し溶融するようなもの、例えば活性な触
媒を内蔵する重合体粒子の場合でも長時間の安定した運
転を可能とする。
第1図は本発明の縦型の撹拌流動槽の断面を示す模式図
。 1:撹拌槽、2:撹拌機、3:分散板、4:ガス供給口
、5:ガス供給室、6:撹拌翼、7:軸受、8:抜出口
、9:ノズル、10:モーター。 以上
。 1:撹拌槽、2:撹拌機、3:分散板、4:ガス供給口
、5:ガス供給室、6:撹拌翼、7:軸受、8:抜出口
、9:ノズル、10:モーター。 以上
Claims (3)
- (1)槽内に設けられた撹拌機による撹拌と、槽底部に
設けられた分散板を経て槽内に供給される気流による撹
拌とを併用する縦型撹拌流動槽であつて、分散板の下側
のガス供給室内に撹拌翼を設けたことを特徴とする縦型
撹拌流動槽。 - (2)ガス供給室内に設けられた撹拌翼が、ガス供給室
壁とのクリアランスが10mm以下で、撹拌軸とのクリ
アランスが5mm以上のパドル型撹拌翼である特許請求
の範囲第1項記載の撹拌流動槽。 - (3)ガス供給室に粉体抜出口を設けた特許請求の範囲
第1項もしくは第2項記載の撹拌流動槽。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11626687A JPH0777607B2 (ja) | 1987-05-13 | 1987-05-13 | 撹拌流動槽 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11626687A JPH0777607B2 (ja) | 1987-05-13 | 1987-05-13 | 撹拌流動槽 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63283742A true JPS63283742A (ja) | 1988-11-21 |
JPH0777607B2 JPH0777607B2 (ja) | 1995-08-23 |
Family
ID=14682833
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11626687A Expired - Lifetime JPH0777607B2 (ja) | 1987-05-13 | 1987-05-13 | 撹拌流動槽 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0777607B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0523897U (ja) * | 1991-06-05 | 1993-03-30 | 株式会社横山エンジニアリング | 酒造米液化もろみの醗酵装置 |
US5972695A (en) * | 1994-07-26 | 1999-10-26 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Apparatus and method for the production of xanthan gum |
-
1987
- 1987-05-13 JP JP11626687A patent/JPH0777607B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0523897U (ja) * | 1991-06-05 | 1993-03-30 | 株式会社横山エンジニアリング | 酒造米液化もろみの醗酵装置 |
US5972695A (en) * | 1994-07-26 | 1999-10-26 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Apparatus and method for the production of xanthan gum |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0777607B2 (ja) | 1995-08-23 |
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