JPS63282915A - Magnetic recording medium - Google Patents

Magnetic recording medium

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JPS63282915A
JPS63282915A JP11939087A JP11939087A JPS63282915A JP S63282915 A JPS63282915 A JP S63282915A JP 11939087 A JP11939087 A JP 11939087A JP 11939087 A JP11939087 A JP 11939087A JP S63282915 A JPS63282915 A JP S63282915A
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JP
Japan
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film
base
recording medium
magnetic
magnetic recording
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Application number
JP11939087A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaaki Otsu
正明 大津
Shingo Yoshioka
愼悟 吉岡
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To provide the title magnetic recording medium with a plastic substrate and having excellent durability by forming the plastic substrate film with plural thin substrate films, and using a material highly adhesive to the respective adjacent materials to laminate and form the thin substrate film. CONSTITUTION:A plated substrate film 2, a nonmagnetic metal plated layer 3, a magnetic substance layer 4, and a lubricating and protecting layer 5 are laminated in this order on both sides of a plastic substrate 1 to form the magnetic recording medium. The plated substrate film 2 is formed by laminating plural thin substrate films, namely a first thin substrate film 2a and a second thin substrate layer 2b, a material highly adhesive to the plastic substrate 1 is selected as the first thin substrate film 2a, and a material highly adhesive to the nonmagnetic metal plated layer 3 is selected as the second thin substrate film 2a. The nonmagnetic metal plated layer 3 is used as the substrate for the magnetic substance film 4, and is used for enhancing the surface hardness of the plastic substrate 1. By this method, a lightweight magnetic recording medium having excellent durability can be produced at a low cost.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、磁気記録媒体に関する。[Detailed description of the invention] 〔Technical field〕 The present invention relates to magnetic recording media.

〔背景技術〕[Background technology]

近年、磁気記録再生装置は、小型軽量化、高密度化の傾
向にある。このため、高密度で記録可能な媒体の必要性
が高まっている。
In recent years, magnetic recording and reproducing devices are becoming smaller, lighter, and more dense. For this reason, there is an increasing need for media that can record at high density.

通常、この媒体の基体としては、アルミニウム合金盤が
用いられている。しかし、アルミニウム合金の場合、そ
の表面を満足のゆく平滑度にするためには、機械加工、
ラッピング等の鏡面加工が必要である。したがって、得
られる基体が非常に高価になるという問題がある。
Usually, an aluminum alloy disk is used as the substrate of this medium. However, in the case of aluminum alloys, machining,
Mirror finishing such as wrapping is required. Therefore, there is a problem that the obtained substrate is very expensive.

このアルミニウム合金基体に代わるものとして、ガラス
基体やセラミック基体も提案されている。しかし、いず
れの場合も表面を十分な平滑面とするためには、表面研
磨に多大な工数を要すると言う問題があった。しかも、
ガラス基体の場合には、割れやすいと言う問題もあった
Glass substrates and ceramic substrates have also been proposed as alternatives to this aluminum alloy substrate. However, in either case, there is a problem in that a large number of man-hours are required for surface polishing in order to make the surface sufficiently smooth. Moreover,
In the case of glass substrates, there was also the problem that they were easily broken.

これらに対して、容易に平滑な表面を形成することがで
きるものとして、プラスチック基体が提案されている。
In contrast, plastic substrates have been proposed as materials that can easily form smooth surfaces.

プラスチックを基体として用いることによって軽量化で
き、しかも、製造コストが低減できる。しかし、プラス
チックを基体として用いたものの場合、磁気記録媒体と
しての耐久性の点を満足できるものがなかった。
By using plastic as the base material, weight can be reduced and manufacturing costs can be reduced. However, in the case of those using plastic as a base, there has been no one that satisfies the durability as a magnetic recording medium.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

この発明は、このような事情に鑑みて、プラスチック基
体で、かつ、耐久性に優れた磁気記録媒 。
In view of these circumstances, the present invention provides a magnetic recording medium that has a plastic base and has excellent durability.

体を提供することを目的としている。The purpose is to provide the body.

〔発明の開示〕[Disclosure of the invention]

この発明は、このような目的を達成するために、プラス
チック基体の表面にめっき下地膜、非磁性金属めっき層
、磁性体膜、潤滑保護膜がこの順で積層形成されている
磁気記録媒体であって、前記めっき下地膜が複数の下地
薄膜が積層されて形成されていて、これらの下地薄膜の
うち前記プラスチック基体に接する薄膜が前記プラスチ
・7り基体と密着性がよい材料で形成され、前記非磁性
金属めっき層に接する薄膜が前記非磁性金属めっき層と
密着性がよい材料で形成されていることを特徴とする磁
気記録媒体を要旨としている。
In order to achieve such an object, the present invention provides a magnetic recording medium in which a plating base film, a nonmagnetic metal plating layer, a magnetic material film, and a lubricating protective film are laminated in this order on the surface of a plastic substrate. The plating base film is formed by laminating a plurality of base thin films, and among these base thin films, the thin film in contact with the plastic base is formed of a material that has good adhesion to the plastic base, and The gist of the present invention is a magnetic recording medium characterized in that a thin film in contact with a non-magnetic metal plating layer is formed of a material that has good adhesion to the non-magnetic metal plating layer.

以下に、この発明を、その実施例をあられす図面を参照
しつつ詳しく説明する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be explained in detail with reference to the accompanying drawings.

第1図はこの発明にかかる磁気記録媒体の1実施例を横
から見た断面であられしている。図にみるように、この
磁気記録媒体は、プラスチック基体1の両面にめっき下
地膜2.非磁性金属めっきPt3.磁性体膜4.潤滑保
護膜5がこの順で積層形成されている。
FIG. 1 is a cross-sectional side view of one embodiment of the magnetic recording medium according to the present invention. As shown in the figure, this magnetic recording medium has a plating base film 2 on both sides of a plastic substrate 1. Non-magnetic metal plating Pt3. Magnetic film 4. The lubricating protective film 5 is laminated in this order.

プラスチック基体1を形成する材料としては、非晶質ポ
リマーが望ましく、たとえば、ポリメチルメタクリレー
ト樹脂、ポリカーボネート樹脂。
The material forming the plastic base 1 is preferably an amorphous polymer, such as polymethyl methacrylate resin or polycarbonate resin.

ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂。Polysulfone resin, polyethersulfone resin.

ポリスチレン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリフェ
ニレンオキサイド樹脂等が挙げられ、これらが単独であ
るいは混合して用いられる。これらの樹脂の成形時の温
度において軟化する無機物。
Examples include polystyrene resin, polyetherimide resin, polyphenylene oxide resin, etc., and these may be used alone or in combination. An inorganic substance that softens at the temperature during molding of these resins.

金属等の化合物が、必要に応じて含まれていても構わな
い。上記無機物としては、たとえば、チオシアン酸ナト
リウム等が、金属としては半田等が挙げられる。
Compounds such as metals may be included as necessary. Examples of the inorganic substance include sodium thiocyanate, and examples of the metal include solder.

これらの樹脂または樹脂混合物からプラスチック基体1
を得る方法としては、とくに限定されないが、たとえば
、押し出し成形によって得られたシート状物を所定の大
きさに打ち抜く方法や鏡面加工を施した金型を用いて射
出成形を行う方法等が挙げられる。
Plastic substrate 1 from these resins or resin mixtures
Methods for obtaining this include, but are not particularly limited to, a method of punching a sheet-like product obtained by extrusion molding into a predetermined size, a method of performing injection molding using a mirror-finished mold, etc. .

めっき下地膜2は、非磁性金属めっき層をめっきによっ
て形成する場合の下地となる非磁性膜であって、プラス
チック基体1および非磁性金属めっき層3の双方に対し
て密着性がよいものでなくてはならない。
The plating base film 2 is a non-magnetic film that serves as a base when a non-magnetic metal plating layer is formed by plating, and does not have good adhesion to both the plastic substrate 1 and the non-magnetic metal plating layer 3. must not.

そのため、この実施例の磁気記録媒体は、めっき下地膜
2が、プラスチック基体1に接する側に配置されプラス
チック基体1と密着性がよい第1下地薄1!J2aと、
非磁性金属めっき層3に接する側に配置され非磁性金泥
めっき層3と密着性がよい第2下地薄膜2bの2つの薄
膜が積層されて形成されている。すなわち、上記のよう
に、めっき下地膜2を複数の薄膜で形成するようにする
のは、一種類の材質によってプラスチック基体1および
非磁性金属めっき層3の双方に対して密着性がよいめっ
き下地膜2を形成することができないためである。
Therefore, in the magnetic recording medium of this embodiment, the plating base film 2 is disposed on the side in contact with the plastic base 1, and the first base thin film 1 has good adhesion to the plastic base 1! J2a and
It is formed by laminating two thin films, the non-magnetic gold mud plating layer 3 which is placed on the side in contact with the non-magnetic metal plating layer 3, and the second base thin film 2b which has good adhesion. In other words, the reason why the plating base film 2 is formed of a plurality of thin films as described above is because the plating base film 2 is made of one type of material and has good adhesion to both the plastic substrate 1 and the non-magnetic metal plating layer 3. This is because the geological membrane 2 cannot be formed.

第1下地薄膜2aとしては、プラスチック基体1と密着
性がよいものが選択され、たとえば、Zn、Cr、Ti
等の金属やA I N、  S i N、 T iN等
の窒化物系セラミックなど薄膜が挙げられる。第2下地
薄膜2bとしては、非磁性金属めっき層3と密着性がよ
いものであれば、とくに限定されないが、たとえば、A
u、A’g、Pt、Cu。
The first base thin film 2a is selected from a film that has good adhesion to the plastic substrate 1, such as Zn, Cr, Ti, etc.
Examples include thin films such as metals such as AlN, SiN, TiN, and nitride ceramics. The second base thin film 2b is not particularly limited as long as it has good adhesion to the nonmagnetic metal plating layer 3, but for example, A
u, A'g, Pt, Cu.

At、Pd、Pb等の非磁性金属の薄膜が挙げられる。Examples include thin films of nonmagnetic metals such as At, Pd, and Pb.

これらのうち、Cu、Pdが、とくに非磁性金属めっき
層3との密着性がよく好ましい。
Among these, Cu and Pd are preferred because they have particularly good adhesion to the nonmagnetic metal plating layer 3.

上記の第1下地薄膜2aおよび第2下地薄膜2bは、金
属の場合には、蒸着、イオンブレーティング、スパッタ
リング等の方法で、窒化物系セラミックの場合には、イ
オンブレーティング、スパッタリング、プラズマCVD
等の方法で形成される。また、第1下地薄膜2a形成前
にプラスチック基体1の表面をプラズマエツチング、逆
スパツタリング等を行うようにしても構わない。このよ
うにすれば、プラスチック基体1との密着性をさらに高
めることができる。
The above-mentioned first base thin film 2a and second base thin film 2b are formed by methods such as vapor deposition, ion blasting, and sputtering in the case of metal, and by ion blasting, sputtering, and plasma CVD in the case of nitride ceramic.
It is formed by the following methods. Further, the surface of the plastic substrate 1 may be subjected to plasma etching, reverse sputtering, etc. before forming the first base thin film 2a. In this way, the adhesion to the plastic substrate 1 can be further improved.

第2下地薄膜2bとしてCuを用いた場合の膜の厚みは
、0,1〜2.0μm程度にすることが好ましい。0.
1μm未満では、次工程でのめっきの密着性が悪くなる
。2.0μmを越えると、膜中にクラックが生じ、耐ヘ
ンドクラソシュ性(以下、「耐C8S性」と記す)が向
上しない。Pdを用いた場合の膜の厚みは、50〜20
00人程度が好ましい。50人未満では、膜中にピンホ
ールが多数発生し、次工程でのめっきの密着性が悪くな
る。2000人を越えると、膜中にクラックが生じ、耐
CSS性が向上しない。
When Cu is used as the second base thin film 2b, the thickness of the film is preferably about 0.1 to 2.0 μm. 0.
If it is less than 1 μm, the adhesion of plating in the next step will be poor. If it exceeds 2.0 μm, cracks will occur in the film, and the hendoklassochastic resistance (hereinafter referred to as "C8S resistance") will not improve. The thickness of the film when using Pd is 50 to 20
00 people is preferable. If there are fewer than 50 people, many pinholes will occur in the film, resulting in poor plating adhesion in the next step. If the number exceeds 2000, cracks will occur in the film and CSS resistance will not improve.

非磁性金属めっき層3は、磁性体膜4の下地となるとと
もに、プラスチック基体1の表面硬度を高めるために形
成される。表面硬度を高めることによって、使用中に磁
気ヘッドが磁気記録媒体に接触してもプラスチック基体
1が変形しないようにしている。つまり、非磁性金属め
っき層3は、耐C8S性を向上させるために設けられる
The nonmagnetic metal plating layer 3 serves as a base for the magnetic film 4 and is formed to increase the surface hardness of the plastic substrate 1. By increasing the surface hardness, the plastic base 1 is prevented from being deformed even if the magnetic head comes into contact with a magnetic recording medium during use. In other words, the nonmagnetic metal plating layer 3 is provided to improve C8S resistance.

非磁性金属めっき層3としては、耐蝕性があり、表面硬
度)(vが300以上になるめっき層であれば、とくに
限定されないが、非磁性の無電解ニッケル系めっき層が
好ましい。無電解ニッケル系めっき層の組成としては、
非磁性安定性の観点からN1−P、N1−Cu−P等が
好ましい。めっき層の厚みとしては、10〜30μm程
度が好ましい。10.am未満では、基体が弾性を有し
ているので、表面硬度がそれほど高くならない。したが
って、耐C8S性が悪い。30μmを越えると、めっき
層の内部応力によりプラスチツク基体1自体に反りが発
生するため、耐C8S性が向上しない。
The non-magnetic metal plating layer 3 is not particularly limited as long as it has corrosion resistance and has a surface hardness (v) of 300 or more, but a non-magnetic electroless nickel-based plating layer is preferable. Electroless nickel The composition of the system plating layer is:
From the viewpoint of non-magnetic stability, N1-P, N1-Cu-P, etc. are preferred. The thickness of the plating layer is preferably about 10 to 30 μm. 10. If the temperature is less than am, the surface hardness does not become so high because the base body has elasticity. Therefore, C8S resistance is poor. If it exceeds 30 μm, the plastic substrate 1 itself will warp due to the internal stress of the plating layer, so that the C8S resistance will not improve.

磁性体膜4の材質としては、T−Fe、Q、。The material of the magnetic film 4 is T-Fe, Q, etc.

バリウム・フェライト磁性粉、Co−N1−P。Barium ferrite magnetic powder, Co-N1-P.

Co−Ni−Cr系合金、Co−Cr系合金、酸化鉄系
合金などが挙げられる。これらの磁性体膜4の形成方法
は、とくに限定されない。たとえば、γ−Fezes、
バリウム・フェライト磁性粉を用いて磁性体膜4を形成
する場合には、これらの粉末をバインダーに分散させ、
スピンコードによって行うようにする。Co  Ni 
PFiを形成する場合には、無電解メッキにより行うよ
うにする。Co−Ni−Cr系合金、Co−Cr系合金
および酸化鉄系合金のうちのいずれかの層の場合には、
スパッタリング等により行うようにする。
Examples include Co-Ni-Cr alloy, Co-Cr alloy, and iron oxide alloy. The method of forming these magnetic films 4 is not particularly limited. For example, γ-Fezes,
When forming the magnetic film 4 using barium ferrite magnetic powder, these powders are dispersed in a binder,
Do it by spin code. Co Ni
When forming PFi, electroless plating is used. In the case of any layer of Co-Ni-Cr alloy, Co-Cr alloy, and iron oxide alloy,
This is done by sputtering or the like.

磁性体膜4は、必要に応じて単層でも複層でも構わない
。なお、磁性体膜4を形成する前に必要に応じて非磁性
金属めっき層3の表面をラッピングおよびボリシング等
によって鏡面加工またはテクスチャー仕上げしておくよ
うにしても構わない。
The magnetic film 4 may be a single layer or a multilayer, if necessary. Note that before forming the magnetic film 4, the surface of the non-magnetic metal plating layer 3 may be mirror-finished or texture-finished by lapping, boring, etc., if necessary.

潤滑保護膜5としては、とくに限定されないが、たとえ
ば、カーボンなどで形成される。潤滑保護膜5の形成法
としては、とくに限定されないが、スパッタリング等が
挙げられる。
The lubricating protective film 5 is not particularly limited, but may be formed of carbon or the like, for example. The method for forming the lubricating protective film 5 is not particularly limited, and examples include sputtering and the like.

つぎに、実施例を比較例と併せて詳しく説明する。Next, examples will be described in detail together with comparative examples.

(実施例1) 射出成形用の高精度な平滑面を有する金型を用意し、こ
の金型でポリエーテルイミド樹脂(商品名:ウルテム1
000−1000)からなる円盤状基体を得た。この基
体の両面にめっき下地膜を第1下地薄膜としての300
0人の厚みのAI膜と、第2下地薄膜としての4000
人の厚みのAg膜を高周波スパッタリング装置を用いて
積層させて形成した。なお、ターゲットとしてそれぞれ
純度99.9%のAI、99.5%のAgを用いた。
(Example 1) A mold with a highly precise smooth surface for injection molding is prepared, and this mold is used to inject polyetherimide resin (product name: Ultem 1).
000-1000) was obtained. A plating base film of 300% was applied as the first base thin film on both sides of this substrate.
AI film with a thickness of 0 and 4000 as the second base thin film
A human-thick Ag film was laminated using a high-frequency sputtering device. Note that AI with a purity of 99.9% and Ag with a purity of 99.5% were used as targets, respectively.

つぎに、これを90℃の無電解N1−Pめっき浴(上材
工業@製の商品名:ニムデンHDX)に60分間浸漬し
、非磁性金属めっき層として厚み28μmのN1−Pめ
っき層を形成した。これを両面ポリシング加工機にかけ
て、めっき層の表面粗さを0.004μmに仕上げた。
Next, this is immersed in an electroless N1-P plating bath (product name: Nimden HDX manufactured by Kamiza Kogyo@) at 90°C for 60 minutes to form a 28 μm thick N1-P plating layer as a non-magnetic metal plating layer. did. This was subjected to a double-sided polishing machine to finish the surface roughness of the plating layer to 0.004 μm.

仕上げ後のめっき層の厚みは、25μmであった。その
のち、高周波スパッタリング装置を用いて磁気特性向上
膜としてCr膜を2500人の厚みで形成した。ターゲ
ットとして用いたCrはその純度が99.5%のもので
あった。このCr膜上にさらに強磁性金属膜としてCo
−Ni−Cr合金膜を700人の厚みで形成した。ター
ゲットとして用いたCo−Ni−Cr合金は、その純度
が99.9%のもので、そのうちNi分が30−t%、
Crが7.54%のものであった。さらに、その上に、
潤滑保護膜としてカーボン膜を350人の厚みで形成し
て磁気記録媒体を得た。ターゲットとして用いたカーボ
ンは、その純度が99.99%のものであった。
The thickness of the plated layer after finishing was 25 μm. Thereafter, a Cr film with a thickness of 2500 mm was formed as a magnetic property improving film using a high frequency sputtering device. The purity of Cr used as a target was 99.5%. A further ferromagnetic metal film of Co is formed on this Cr film.
-A Ni-Cr alloy film was formed to a thickness of 700 mm. The Co-Ni-Cr alloy used as the target had a purity of 99.9%, of which the Ni content was 30-t%,
The Cr content was 7.54%. Furthermore, on top of that,
A magnetic recording medium was obtained by forming a carbon film with a thickness of 350 mm as a lubricating protective film. The carbon used as a target had a purity of 99.99%.

(実施例2) 基体をポリサルホン樹脂によって形成し、第1下地薄膜
として2000人のTi膜を、第2下地薄膜として30
00人のAu膜を形成し、かつ、Ni’−Pめっき層の
厚み(ポリシング後の厚み)を30μmとした以外は、
実施例1と同様にして磁気記録媒体を得た。
(Example 2) The substrate was formed of polysulfone resin, and a 2000 Ti film was used as the first underlayer thin film, and a 3000 nm Ti film was used as the second underlayer thin film.
Except that an Au film of 0.0000 was formed and the thickness of the Ni'-P plating layer (thickness after polishing) was 30 μm.
A magnetic recording medium was obtained in the same manner as in Example 1.

(実施例3) 基体をポリカーボネート樹脂によって形成し、第1下地
薄膜として1000人のCr膜を、第2下地薄膜として
5000人のCu膜を形成し、かつ、N1−Pめっき層
の厚み(ポリシング後の厚み)を20μmとした以外は
、実施例1と同様にして磁気記録媒体を得た。
(Example 3) The base was formed of polycarbonate resin, a 1000-layer Cr film was formed as the first underlayer thin film, a 5000-layer Cu film was formed as the second underlayer thin film, and the thickness of the N1-P plating layer (polishing A magnetic recording medium was obtained in the same manner as in Example 1, except that the thickness (later thickness) was 20 μm.

(実施例4) 基体をポリエーテルサルホン樹脂によって形成し、第1
下地薄膜として1200人のSiN膜を、第2下地薄膜
として2000人のAg膜を形成し、かつ、N1−Pめ
っき層の厚み(ポリシング後の厚み)を22μmとした
以外は、実施例1と同様にして磁気記録媒体を得た。
(Example 4) The base was formed of polyether sulfone resin, and the first
Example 1 except that a 1,200-layer SiN film was formed as the base thin film, a 2,000-layer Ag film was formed as the second base thin film, and the thickness of the N1-P plating layer (thickness after polishing) was 22 μm. A magnetic recording medium was obtained in the same manner.

(実施例5) 基体をポリカーボネート樹脂によって形成し、第1下地
薄膜として2000人のTiN膜を、第2下地薄膜とし
て1000へのPd膜を形成し、かつ、N1−Pめっき
層の厚み(ポリシング後の厚み)を18μmとした以外
は、実施例1と同様にして磁気記録媒体を得た。
(Example 5) The base was formed of polycarbonate resin, a TiN film of 2000 nm was formed as the first underlayer thin film, a Pd film of 1000 nm was formed as the second underlayer thin film, and the thickness of the N1-P plating layer (polishing A magnetic recording medium was obtained in the same manner as in Example 1, except that the thickness (later thickness) was 18 μm.

(実施例6) 基体をポリエーテルイミド樹脂によって形成し、第1下
地薄膜として1500人のAIN膜を、第2下地薄膜と
して3000人のCu膜を形成し、かつ、N1−Pめっ
き層の厚み(ポリシング後の厚み)を25μmとした以
外は、実施例1と同様にして磁気記録媒体を得た。
(Example 6) The base was formed of polyetherimide resin, a 1500-layer AIN film was formed as the first base thin film, a 3000-layer Cu film was formed as the second base thin film, and the thickness of the N1-P plating layer was A magnetic recording medium was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness (thickness after polishing) was 25 μm.

(実施例7) 基体をポリカーボネート樹脂によって形成し、第1下地
薄膜として2000人のCr膜を、第2下地薄膜として
1000人のPd膜を形成し、かつ、N1−Pめっき層
の厚み(ポリシング後の厚み)を20μmとした以外は
、実施例1と同様にして磁気記録媒体を得た。
(Example 7) The base was formed of polycarbonate resin, a Cr film of 2,000 yen was formed as the first underlayer thin film, a Pd film of 1,000 yen was formed as the second underlayer thin film, and the thickness of the N1-P plating layer (polishing A magnetic recording medium was obtained in the same manner as in Example 1, except that the thickness (later thickness) was 20 μm.

(実施例8) 基体をポリサルホン樹脂によって形成し、第1下地薄膜
として2000へのTi膜を、第2下地薄膜として30
00人のAu膜を形成し、かつ、N1−Pめっき層の厚
み(ポリシング後の厚み)を30μmとした以外は、実
施例1と同様にして磁気記録媒体を得た。
(Example 8) The substrate was formed of polysulfone resin, the first base thin film was a Ti film of 2,000 mm, and the second base thin film was a Ti film of 30 mm.
A magnetic recording medium was obtained in the same manner as in Example 1, except that an Au film of 0.000 mm was formed and the thickness of the N1-P plating layer (thickness after polishing) was set to 30 μm.

(比較例1) 基体をポリエーテルイミド樹脂によって形成し、めっき
下地膜として3000人のCu膜のみを形成し、かつ、
N1−Pめっき層の厚み(ボリシング後の厚み)を35
μmとした以外は、実施例1と同様にして磁気記録媒体
を得た。
(Comparative Example 1) The substrate was formed of polyetherimide resin, only a 3000 Cu film was formed as a plating base film, and
The thickness of the N1-P plating layer (thickness after boring) is 35
A magnetic recording medium was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness was μm.

(比較例2) 基体をポリカーボネート樹脂によって形成し、めっき下
地膜として1000へのPd膜のみを形成し、かつ、N
1−Pめっき層の厚み(ポリシング後の厚み)を18μ
mとした以外は、実施例1と同様にして磁気記録媒体を
得た。
(Comparative Example 2) The substrate was formed of polycarbonate resin, only a Pd film of 1000 was formed as a plating base film, and N
1-The thickness of the P plating layer (thickness after polishing) is 18μ
A magnetic recording medium was obtained in the same manner as in Example 1 except that m was used.

(比較例3) 基体をポリエーテルサルホンで形成し、下地膜および金
属めっき層を形成せずに、直接磁性体膜を形成した以外
は、実施例1と同様にして磁気記録媒体を得た。
(Comparative Example 3) A magnetic recording medium was obtained in the same manner as in Example 1, except that the substrate was formed of polyether sulfone and a magnetic film was directly formed without forming a base film or a metal plating layer. .

上記の実施例1〜8および比較例1〜3で得られた磁気
記録媒体に磁気ヘッドを装着し、耐CSS性を調べた。
A magnetic head was attached to the magnetic recording media obtained in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3 above, and CSS resistance was examined.

その結果を第1表に示した。なお、耐CSS性とは、通
常、3600rpmで高速回転している磁気記録媒体の
面に磁気ヘッドが接触した時の媒体もしくはヘッドの損
傷に至るまでの媒体と磁気ヘッドの接触回数であられし
ている。
The results are shown in Table 1. Note that CSS resistance refers to the number of times a magnetic head contacts the surface of a magnetic recording medium rotating at a high speed of 3600 rpm until the medium or head is damaged. There is.

第1表にみるように、実施例1〜8のものは、比較例1
〜3のものに比べて、いずれも耐CSS性に優れている
。すなわち、耐久性に優れているこの発明にかかる磁気
記録媒体は、上記の実施例に限定されない。たとえば、
上記実施例では、めっき下地膜が第1下地薄膜と第2下
地薄膜の2層から形成されていたが、プラスチック基体
1側にこれと密着性がよい下地薄膜を配置し、非磁性金
属めっきN3側にこれと密着性がよい下地薄膜を配置す
るようにするならば、これらの下地薄膜の間に別の薄膜
を形成するようにしても構わない。すなわち、めっき下
地膜2を形成する下地薄膜は、必要に応じて3層以上に
しても構わない。上記実施例では、基体の両面に各膜お
よび層が形成されていたが、片面でも構わない。非磁性
金属めっき層および磁性体膜の形成は、電気めっきによ
って行うようにしても構わない。
As shown in Table 1, those of Examples 1 to 8 are the same as those of Comparative Example 1.
All of them have excellent CSS resistance compared to those of Nos. 3 to 3. That is, the magnetic recording medium according to the present invention, which has excellent durability, is not limited to the above embodiments. for example,
In the above embodiment, the plating base film was formed of two layers, the first base thin film and the second base thin film, but a base thin film with good adhesion to the base thin film was placed on the plastic base 1 side, and the non-magnetic metal plating N3 If a base thin film with good adhesion is placed on the side, another thin film may be formed between these base thin films. That is, the base thin film forming the plating base film 2 may have three or more layers as necessary. In the above embodiments, the films and layers were formed on both sides of the substrate, but they may be formed on one side. The nonmagnetic metal plating layer and the magnetic film may be formed by electroplating.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

この発明にかかる磁気記録媒体は、以上のように、プラ
スチック基体の表面にめっき下地膜、非磁性金属めっき
層、磁性体膜、潤滑保護膜がこの順で積層形成されてい
る磁気記録媒体であって、前記めっき下地膜が複数の下
地薄膜が積層されて形成されていて、これらの下地薄膜
のうち前記プラスチック基体に接する薄膜が前記プラス
チック基体と密着性がよい材料で形成され、前記非磁性
金属めっき層に接する薄膜が前記非磁性金属めっき層と
密着性がよい材料で形成されているので、軽量でかつ耐
久性に優れている。しかも、安価で製造できる。
As described above, the magnetic recording medium according to the present invention is a magnetic recording medium in which a plating base film, a nonmagnetic metal plating layer, a magnetic film, and a lubricating protective film are laminated in this order on the surface of a plastic substrate. The plating base film is formed by laminating a plurality of base thin films, and among these base thin films, the thin film in contact with the plastic base is formed of a material that has good adhesion to the plastic base, and the non-magnetic metal Since the thin film in contact with the plating layer is made of a material that has good adhesion to the non-magnetic metal plating layer, it is lightweight and has excellent durability. Moreover, it can be manufactured at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明にかかる磁気記録媒体の1実施例をあ
られす横断面図である。 1・・・プラスチック基体 2・・・めっき下地膜 3
・・・非磁性金属めっき層 4・・・磁性体膜 5・・
・潤滑保護膜 2a・・・第1下地薄膜 2b・・・第
2下地薄膜 代理人 弁理士  松 本 武 彦 手U幹甫正書(自発 昭和62年 9月14日 昭和62年特許願第119390号 2、発明の名称 石f支ゴ栗χi己1ピm 3、補正をする者 事件との関係    特許出願人 住   所     大阪府門真市大字門真1048番
地名 称(583)松下電工株式会社 代表者  4懐騰帝役藤井貞夫 4、代理人 な   し 6、補正の対象 明細書 7、補正の内容 (1)明細書第10頁第6行ないし同頁第7行に「60
分」とあるを、「4時間」と訂正する。 (2)明細書第11頁第12行に「ポリカーボネート」
とあるを、「ポリエーテルイミド」と訂正する。 (3)明細書第13頁第8行にr2000人」とあるを
、rlo00人」と訂正する。
FIG. 1 is a cross-sectional view of one embodiment of a magnetic recording medium according to the present invention. 1...Plastic base 2...Plating base film 3
...Nonmagnetic metal plating layer 4...Magnetic film 5...
- Lubricating protective film 2a...First base thin film 2b...Second base thin film Agent Patent attorney Takeshi Matsumoto Hikote U Mikiho (Sponsored by September 14, 1988 Patent Application No. 119390) 2. Name of the invention 3. Relationship with the person making the amendment Patent applicant Address 1048 Kadoma, Kadoma City, Osaka Name (583) Representative of Matsushita Electric Works Co., Ltd. 4 Sadao Fujii, the role of Kaiteng 4, No agent 6, Specification subject to amendment 7, Contents of amendment (1) From page 10, line 6 to line 7 of the specification, “60
Correct the text "minutes" to "4 hours." (2) “Polycarbonate” on page 11, line 12 of the specification
Correct the statement to "polyetherimide". (3) On page 13, line 8 of the specification, the statement "r2,000 people" should be corrected to "rlo00 people."

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)プラスチック基体の表面にめっき下地膜、非磁性
金属めっき層、磁性体膜、潤滑保護膜がこの順で積層形
成されている磁気記録媒体であって、前記めっき下地膜
が複数の下地薄膜が積層されて形成されていて、これら
の下地薄膜のうち前記プラスチック基体に接する薄膜が
前記プラスチック基体と密着性がよい材料で形成され、
前記非磁性金属めっき層に接する薄膜が前記非磁性金属
めっき層と密着性がよい材料で形成されていることを特
徴とする磁気記録媒体。
(1) A magnetic recording medium in which a plating base film, a nonmagnetic metal plating layer, a magnetic film, and a lubricating protective film are laminated in this order on the surface of a plastic substrate, wherein the plating base film is a plurality of base thin films. are formed by laminating them, and among these underlying thin films, the thin film in contact with the plastic base is formed of a material that has good adhesion to the plastic base,
A magnetic recording medium characterized in that a thin film in contact with the non-magnetic metal plating layer is formed of a material that has good adhesion to the non-magnetic metal plating layer.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20110192279A1 (en) * 2010-02-09 2011-08-11 Honda Motor Co., Ltd. Multilayer lubrication coating film and internal combustion engine piston using the coating film

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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US8960072B2 (en) * 2010-02-09 2015-02-24 Honda Motor Co., Ltd Multilayer lubrication coating film and internal combustion engine piston using the coating film

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