JPS63280686A - 受容体シート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、熱転写プリントに関し、特に供与体シート
とともに用いるための熱転写プリント用受容体シートに
関する。

伽）　伎直■λ景 現在用いられている熱転写プリン）　（ＴＴＰ）技術は
、一般に、組合わされた供与体シートからの像形成媒体
の熱転写による受容体シート上の像の生成を含む。供与
体シートは、典型的には、通学はワックスおよび／また
は高分子樹脂バインダーを含む、インク媒体中に配合さ
れた昇華性染料を含む転写層がコートされた、紙、合成
紙、または高分子フィルム材料からなる支持基材を含む
。

組合わされた受容体シートは、通常、その表面上に染料
受容性の高分子受容層を有する、同様な材料の支持基材
を含む。それぞれの転写層および受容層が接触配置され
た供与体シートおよび受容体シートを含むアセンブリー
が、例えばテレビジョン信号の如き情報信号から引き出
された図柄領域において選択的に加熱されると、染料が
供与体シートから受容体シートの染料受容性層に転写さ
れて、そこに特定の図柄の単色像を形成する。大なる単
色染料を用いてプロセスを繰り返すことより、受容体シ
ート上にフルカラー像が生成される。

加熱アセンブリーからの像形成シートの剥離を促進する
ために、転写層および受容層の少なくとも一方は、シリ
コーン油の如き離型剤といっしょにされる。

ＴＴＰシステムの商業的な成功は、特に、十分な濃度、
コントラストおよび鮮明度を有する像の発現による。像
の光学濃度は、従って、重要な基準である。しかし、転
写プロセスの間ともに熔融状態にある、転写層の受容層
への粘着を防止するのが好ましいけれども、離型剤の存
在は、あいにく染料の受容層へのマイグレーションを制
限し、これによって得られる像の光学濃度が減少される
ことがある。不十分な光学濃度の問題は、実質的に架橋
された離型剤が存在する場合に、特に重要である。

鮮鋭な像を発現させるために、必要な強い局所加熱がレ
ーザービーム像形成を含む種々の技術により通用され得
るけれども、通常の、広く用いられている、熱プリント
技術は、例えば、各ドツトが独立の加熱要素（所望なら
ば電子的にコントロールされたもの）により表されるよ
うなドツトマトリックス装置の熱プリントヘッドを含む
。そのような接触プリントヘッドに付随する問題は、加
熱され、軟化されたアセンブリー上の各要素の圧力によ
り生ずる受容体シートの変形である。この変形は、受容
体シートの表面光沢の減少として現れ、初期に平滑で光
沢のある表面を有する受容体シート、即ち高品質の芸術
品の製造に必要とされる種類の受容体シートにおいて特
に顕著である。

圧力変形に伴う他の問題は、像の影響が受容体シートの
裏面、即ち、基材の受容体層から遠い側の自由表面上に
認められるような、「裏抜け」の現象である。

（Ｃ）　　従米肢血 種々の受容体シートが、ＴＴＰプロセスに用いるために
提案されている。例えば、ＢＰ−Ａ−０１３３０１２は
、基材とその上の像受容層を有し、シリコーン油の如き
染料透過性の剥離剤が像受容層中にまたは像受容層の少
なくとも一部の上の剥離層として存在する、熱転写回部
なシートを開示している。基材中に用いられる材料は、
コンデンサー紙、グラシンペーパー、羊皮紙、または高
いサイズ度を有する紙またはプラスチックフィルム（ポ
リエチレンテレフタレートを含む）の柔軟な薄いシート
を含む、但し、例示した基材材料は、主として、プロピ
レンポリマーに基づくと思われる合成紙である。基材の
厚さは、通常、３〜５０ミクロン（μｍ）のオーダーで
ある。像受容層はエステル、ウレタン、アミド、尿素ま
たは高い極性の結合を有する樹脂に基づくものであって
もよい。

関連するヨーロッパ特許出１１ＥＰ−Ａ−０１３３０１
１は、受容性層の露出表面が、それぞれ、（ａ）−１０
０〜２０℃のガラス転移温度を有し、極性基を有する合
成樹脂および（ｂ）４０℃またはそれ以上のガラス転移
温度を有する合成樹脂を含む第１の領域と第２の領域と
を含むことを除き、同様の基材および像形成層材料に基
づ（熱転写回部なシートを開示している。受容性層は基
材層とともに用いる場合には３〜５０μｍの厚さを有し
、または独立に用いられる場合には６０〜２００μｍの
厚さを有する。

前述したように、商業的に利用可部なＴＴＰ受容体シー
トに伴う問題は、発現した像の不十分な濃度およびコン
トラスト、像形成されたシートの光沢の減少、および像
のシートの裏面への裏抜けを含む。

今や、我々は、前述した欠点を克服しまたは実質的に除
去する、ＴＴＰプロセスに用いるための受容体シートを
見出したのである。

発刊ｇ既要 従って、本発明は適合し得る供与体シートとともに用い
るための熱転写プリント用受容体シートを提供し、この
受容体シートは、少なくとも一方の表面上に供与体シー
トから熱転写された染料を受容するための染料受容性の
受容層を含み、ａ）基材は合成線状ポリエステルの、不
透明な分子配向フィルムを含み、 ｂ）少なくとも１の受容層が７．５μｍを超えない厚さ
を有し、染料受容性の、本質的に非晶質の合成熱可塑性
ポリマーを含む。

本発明は、また、適合し得る供与体シートとともに用い
るための熱転写プリント用受容体シートの製造方法を提
供し、この方法は、支持基材を形。

成し、その少な（とも一方の表面上に供与体シートから
熱転写された染料を受容するための染料受容性の受容層
を与えることを含み、 ａ）基材は合成線状ポリエステルの、不透明な分子配向
フィルムを含み、 ｂ）少なくとも１の受容層が７−５μｍを超えない厚さ
を有し、染料受容性の、本質的に非晶質の合成熱可塑性
ポリマーを含む。

発朋−＠好−［しへ惺Ｗ９税所 本発明の説明において、下記の用語は次のような意味を
有するものと理解されたい。

シート：単一の個々のシートだけでなく、複数の個々の
シートにさらに分けることのできる連続ウェブまたはリ
ボン状の構造体をも含む。

適合し得る：供与体シートに関し、供与体シートが熱の
影響下に、これと接触されている受容体シートの受容層
中にマイグレーションすることができ、像を形成するこ
とのできる染料で含浸されていることを意味する。

不透明：受容体シートの基材が実質的に可視光に不透過
性であることを意味する。

ボイドを有する：受容体シートの基材が離散した閉じた
気泡の少なくとも一部を含む気泡構造を含むということ
を示す。

フィルム：支持体の介在なしに独立に存在することので
きる自己支持性構造体である。

本発明に係る受容体シートのための基材の形成に用いる
のに適する合成線状ポリエステルは、１種またはそれ以
上のジカルボン酸またはそれらの低級アルキル（炭素原
子６（１１まで）ジエステル、例えば、テレフタル酸、
イソフタル酸、フタル酸、２．５−１２，６−または２
，７−ナフタレンジカルボン酸、コハク酸、セバシン酸
、アジピン酸、アゼライン酸、４．４′−ジフェニルジ
カルン酸、ヘキサヒドロテレフタル酸またはｌ、２−ビ
スーＰ−カルボキシフェノキシエタン（所望ならばピバ
ル酸の如きモノカルボン酸とともに）と１種またはそれ
以上のグリコール、例えば、エチレングリコール、１，
３−プロパンジオール、１．　４−ブタンジオール、ネ
オペンチルグリコールおよび１．４−シクロヘキサンジ
メタツールとの縮合することによって得ることができる
。ポリエチレンテレフタレートフィルム、特に、例７Ｌ
　ハ、英国特許８３８７０８に記載されたようにして、
２つの互いに直角の方向に、典型的には７０〜１２５℃
の温度において、順次に延伸することにより二軸延伸さ
れ、好ましくは、典型的には１５０〜２５０℃の範囲の
温度においてヒートセットされたようなフィルムが特に
好ましい。

本発明に係る受容体シートのためのフィルム塞材は一軸
延伸されていてもよいけれども、フィルムの平面内の互
いに直角な２つの方向に延伸することにより二軸延伸さ
れていて、十分な機械的および物理的特性の組合わせを
達成するのが好ましい、フィルムの形成は、延伸された
ポリマーフィルムを製造するための当業者に公知のプロ
セス、例えば、チヱーブラーまたはフラットフィルムプ
ロセスにより行うことができる。

チューブラ−プロセスにおいては、熱可塑性ポリマーチ
ューブを押出し、これを次いで急冷し、再加熱し、次い
で内部ガス圧力によって膨張させて、横方向の延伸をな
さしめ、長さ方向の延伸を生じるような速度で引き取る
ことによって行うことができる。

好ましいフラットフィルムプロセスにおいては、フィル
ム形成性ポリマーは、スロット台から押し出され、冷却
されたキャスティングドラム上で急速に冷却されて、ポ
リマーが年品質状態で急冷され、るようにする。次いで
、急冷された押出し物をポリマーのガラス転移温度より
高い温度において少なくとも１つの方向に延伸すること
により延伸が行われる。平坦な急冷された押出し物をま
ず１つの方向、通常は長手方向、即ちフィルム延伸機の
前進方向に延伸し、次いで横方向に延伸することにより
逐次延伸を行うこともできる。押出し物の前進延伸は、
回転する１対のロール上または２対のニップロール間で
行われるのがよく、横方向延伸は、次いで、テンター装
置で行われる。延伸は、フィルム形成性ポリマーの性質
によって決められる程度に行われる。例えば、ポリエス
テルは通常、配向されたポリエステルフィルムの寸法が
その延伸方向のもとの寸法の２．５〜４．５倍であるよ
うに延伸される。

延伸されたフィルムは、寸法的に拘束された状態で、フ
ィルム形成性ポリマーのガラス転移温度よりも高く、但
しその融点よりも低い温度においてヒートセットして、
ポリエステルの結晶化を起こさせることにより、寸法的
に安定化されるのがよい。

受容体シート基材は、フィルム形成性合成線状ポリエス
テル中に有効量の不透明剤を配合することにより不透明
にされるのがよい。不透明度は、特に、フィルムの厚さ
およびフィラーの含有量によって決まるけれども、不透
明基材フィルムは、好ましくは、０．７５〜１．７５、
特に１．２〜１．５の透過光学濃度（Ｓａｋｕｒａ　Ｄ
ｅｎｓｉｔｏｍｅｔｅｒ；　ｔｙｐｅ　ＰＤＡ６５；透
過モード）を示すのが好ましいであろう。

本発明の好ましい態様においては、前述したように、不
透明基材はボイドを有する。従って、ポリエステル中に
有効量の、ボイドを有する基材構造を生成することので
きる剤を配合するのが好ましい。不透明をも与える、適
当なボイド形成剤は非相容性樹脂フィラー、粒状無機フ
ィラーまたはそのようなフィラーの２種またはそれ以上
の混合物を含む。

「重相容性樹脂」なる語は、ポリエステルフィルムの押
出しおよび形成の間に与えられる最も高い温度において
、溶融しないかまたは実質的に線状ポリエステルと混和
しない樹脂を意味する。そのような樹脂は−ボリアミド
およびオレフィンポリマー、特に分子中に６個までの炭
素原子を含むモノアルファオレフィンのホモ−またはコ
ーポリマーを含む。

不透明な、ボイドを有するポリエステル基材を生成させ
るために通する特定の無機フィラーは、通常の無機ピグ
メントおよびフィラー、特にアルミナ、シリカおよびチ
タニアの如き金属または半金属酸化物、およびカルシウ
ムおよびバリウムの炭酸塩および硫酸塩の如きアルカリ
土類金属塩を含む。硫酸バリウムは特に好ましいフィラ
ーであり、これはまたボイド形成剤としても機能する。

適当なフィラーは均質であってよ（、単一のフィラー材
料または化合物、例えば、二酸化チタンまたは硫酸カリ
ウムだけから本質的になる。あるいは、フィラーの少な
くとも一部が均質であってよく、大部分のフィラー材料
が追加の変成用成分といっしょにされている。例えば、
大部分のフィラー粒子は表面変成剤、例えば、ピグメン
ト、ソープ、界面活性剤カンプリング剤またはフィラー
の基材ポリエステルとの相客度を促進するかまたは変え
るための他の変成剤で処理されていてもよい。

十分な透明度、ボイド、および白変を有する基材の製造
は、フィラーが微粉砕されており、その平均粒度が望ま
しくは０．１〜１０μｍであり、但し数で９９．９％の
粒子の実際の精度が３０μｍを超えないことを必要とす
る。好ましくは、フィラーは０．１−１．　Ｏｔｔ　ｍ
、特に好ましくは０．２〜０．７５μｍの平均粒度を有
する。粒度が低下すると基材の光沢が改善される。

粒度は、電子顕微鏡、クルターカウンターまたは沈降分
析により測定することができ、平均粒度は選ばれた粒度
より小さい粒子の百分率を表す累積度数曲線をプロット
することにより測定することができる。

この発明に係るフィルム支持体中に配合されたフィラー
粒子は３０μｍを超える実際の粒度を持たないのが好ま
しい。そのような粒度を超える粒子は当業者に知られて
いるふるい分はプロセスによって除くことができる。し
かしながら、ふるい分は操作は、全体として常に、選ば
れた粒度よりも大きい粒子のすべてを除去することを可
能にするわけではない。従って、実際には、数で９９．
９％の粒子の粒度が３０μｍを超えないものであるべき
である。最も好ましくは、粒子の９９．９％の粒度が２
０μｍを超えない。

ポリエステル基材中への不透明／ボイド形成剤の配合は
、通常の技術、例えば、ポリエステルが誘導されるモノ
マー反応体と混合することにより、またはフィルムの形
成前に粒子状またはチップ状のポリエステルとトライブ
レンドすることにより行うことができる。

線状ポリエステル中に配合されるフィラー、特に硫酸バ
リウムの量は、線状ポリエステルの重量に対して５重量
％より少なくな”（、あるいは５０重量％を超えるべき
ではない。フィラーの濃度が線状ポリエステルの重量に
対して約８〜３０重量％、特に１５〜２０重量％である
場合に、特に十分なレベルの透明度および光沢が達成さ
れる。

一般には、比較的少峻の他の添加剤がフィルム基材中に
必要により配合されていてもよい。例えば、２５％まで
の量のチャイナクレイがボイド形成を促進するために配
合されていてもよく、１５００ｐｐｍまでの量の光学的
増白剤が白瓜を向上させるために配合されていてもよく
、ｌｏｐｐｍまでの量の染料が色を変えるために配合さ
れていてもよい。これらの濃度は、線状ポリエステルの
重量に対する重９％である。

基材の厚さは、受容体シートの予定された通用によって
変わるけれども、一般には２５０μｍを超えず、好まし
くは５０〜１９０μｍ、特に１４５〜１８０μｍの範囲
内にあろう。

前述した種類の基材を有する受容体シートは多くの利点
を与える。これらの利点は、（１）高品質の芸術品の濃
度、コントラストおよび感覚を有するプリントの製造に
必須である白瓜および透明度、（２）プリントヘッドと
の接触に伴う表面の変形および像の裏抜けに対する改良
された耐性につながる曲げ剛性度および戻り剛性度、お
よび（３）寸法安定性および耐カール性を与える熱的お
よび化学的安定度を含む。

前述した種類の基材の表面に対して直接的にＴＴＰを行
う場合、発現された像の光学濃度は低くなりがちであり
、得られるプリントの品質は一般に劣るものである。従
って、基材の少なくとも一方の表面りに受容層が必要と
なり、この受容層は、（１）供与体シートから熱転写さ
れた染料に対する高い受容性、（２）許容可焼な光沢の
プリントの製造を確実にするための熱プリントヘッドと
の接触による表面変形に対する耐性、および（３）安定
な像を与える能力を示すのが望ましい。

上記の基準を満足する受容層は、７．５μｍを超えない
層厚を有する、本質的に結晶質の、染料受容性の合成熱
可塑性ポリマーを含む。

受容層の乾燥厚さは、特に特定の受容ポリマー中に発現
される像の光学濃度を支配し、好ましくは０．５〜５．
０μｍの範囲内にある。また、受容層の厚さを、前述し
た種類の透明／ボイドを有するポリエステル基材ととも
に、注意探り７．５より小さくコントロールすることに
より、表面変形に対する耐性の驚くべき程に顕著な改善
が達成されるということが見出された。

受容層中に用いられ、基材層に対する十分な接着性を与
える非晶質染料受容性ポリマーは、非晶質ポリエステル
樹脂、特に１種またはそれ以上のテレフタル酸、イソフ
タル酸およびヘキサヒドロテレフタル酸の如き二塩基性
芳香族カルボン酸とｔｉまたはそれ以上のエチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ルおよびネオペンチルグリコールの如きグリコールから
誘導されたコポリエステル樹脂を含むのが適当である。

非晶質状態において十分な染料受容性および変形抵抗を
有する典型的なコポリエステルは、エチレンテレフタレ
ートとエチレンイソフタレートとの、特に５０〜９０モ
ル％のエチレンテレフタレートと対応する５０〜１０モ
ル％のエチレンイソフタレートのモル比におけるコポリ
エステルである。好ましいコポリエステルは６５〜８５
モル％のエチレンテレフタレートと３５〜１５モル％の
エチレンイソフタレート、特に約８２モル％のエチレン
テレフタレートと約１８モル％のエチレンイソフタレー
トとのコポリエステルを含む。

基材層上での非晶質受容層の形成は、通常の技術、例え
ば、予備形成された基材層上への非晶質ポリマーのキャ
スティングにより行うことができる。しかしながら、複
合シート（基材および受容層）の形成は、それぞれのフ
ィルム形成性層の多重オリフィスダイの独立のオリフィ
スから同時に押出し、次いでまだ溶融している層をいっ
しょにすること、または好ましくはそれぞれのポリマー
の溶融流れをまずダイマニホールドにつながる溝内でい
っしょにし、次いでこれらをいっしょに相互に混合する
ことなく流線型流れの条件下にダイオリフイスから押し
出して複合シートを製造する弔−溝間時押出しをするこ
とのいずれかによる、同時押し出しにより行われるのが
よい。

同時押出しシートは、基材の分子配向をさせるために延
伸され、好ましくは前述したようにしてヒートセットさ
れる。一般に、基材層の延伸のために通用される条件は
、受容ポリエステルの部分的な結晶化を生ぜしめること
があり、そのような場合、受容ポリマーの結晶融点より
高い温度において寸法的な拘束下にヒートセットし、複
合体を冷却せしめて受容ポリマーが本質的に非晶質であ
るようにするのが好ましい。ポリエステル基材およびコ
ポリエステル受容層を含む受容体シートのヒートセット
は、実質的に結晶質の受容層を与えるためには２００〜
２５０℃の範囲内の温度で行われるのがよい。

本発明の好ましい態様においては、受容体シートは紫外
線安定剤の配合により紫外線（ＵＶ）耐性とされる。安
定剤が受容体シートの層のいずれかに存在することがあ
るけれども、これは好ましくは受容層中に存在する。安
定剤は、独立の添加剤を含んでいてもよ（、あるいは、
好ましくは、受容ポリマーの鎖中の共重合された残基で
あってよい。特に、受容ポリマーがポリエステルである
場合、ポリマー鎖は芳香族カルボニル安定剤の共重合さ
れたエステル化残基を含むのがよい。そのようなエステ
ル化残基は、適当には、ヨーロッパ特許公開ＥＰ−Ａ−
３１２０２に記載されているようなジ（ヒドロキシ）ク
マリンの残基、ＥＰ−Ａ−３１２０３に開示されている
ような２−ヒドロキシ−ジ（ヒドロキシアルコキシ）ベ
ンゾフェノンの残基、ＥＰ−Ａ−６６８６に開示されて
いるようなビス（ヒドロキシアルコキシ）キサント−９
−オンの残基、および特に好ましくは、ＥＰ−Ａ−７６
５８２に開示されているようなヒドロキシ−ビス（ヒド
ロキシアルコキシ）−キサント−９−オンの残基を含む
。上記安定剤中のアルコキシ機は、通常１〜１０、好ま
しくは２〜４個の炭素原子を含む０例えば、このアルコ
キシ基はエトキシ基である。エステル化残基の含有量は
通常合計受容ポリマーの重量の０．０１〜３０％、好ま
しくは０．０５〜１０％である。特に好ましい残基は１
−ヒドロキシ−３，６−ビス（ヒドロキシアルコキシ）
キサント−９−オンの残基である。

離型剤は供与体シートから転写された染料を透過させ得
るものでなければならず、オルガノポリシロキサン樹脂
を含むのが適当であり、好ましい讐射脂はダウコーニン
グ社から商標５ＹＬ−ＯＦＦ２２として得られるもので
ある。

離型剤は、その約５０市量％までの量で受容ポリエステ
ル中にブレンドされるか、または適当な溶剤または分散
媒中でその露出表面に適用され、次いで、例えば、１０
０〜１６０℃、好ましくは１００〜１２０℃の温度にお
いて乾燥されて、約５μｍまで、好ましくは０．０２５
〜２．０μｍの乾燥厚さを有する硬化剥離層を与える。

所望ならば、離型剤は、さらに、剤の広がりを促進し、
供与体シートから転写された染料に対する透過性を向上
させるための界面活性剤を含んでいてもよい。

上記の種類の離型剤は、優れた光学的特性を有し、表面
欠陥および欠点がなく、種々の染料に対する透過性を有
する受容体シートを生成し、多重の連続的な離型特性を
与え、これによって受容体シートは異なる用色染料によ
って順次に像形成されてフルカラー像を与えることがで
きる。

本発明を添付の図面を参照しながらさらに説明する。特
に第４図を参照するに、ＴＴＰプロセスは供与体シート
および受容体シートを、それぞれの転写層７および剥離
層４と接触させて組み合わせることにより行われる。複
数のプリント要素１．０　（それらの１つのみが示され
ている）を含む電気的に活性化された熱プリントへフド
９が、次いで、供与体シートの保護層と接触される。プ
リントヘッドに電気を通じると、選ばれた個々のプリン
トｉ素ｔｏが熱くなり、これによって転写層の下にある
領域から染料が染料透過性の剥離層４から受容層３中に
昇華させられ、そこで加熱された要素の像１１を形成す
る。供与体シートから分離された、得られた像形成受容
体シートを第５図に示す。

供与体シートを受容体シートに対して前進させ、このプ
ロセスを繰り返すことにより、所望の形の多色像が受容
層中に生成される。

下記の例を参照しながら本発明をさらに説明する。

拠土 受容体シートを製造するために、ポリマーの重量に対し
て１８重量％の、０．７μｍの平均粒度を有する微細割
された粒状硫酸バリウムフィラーを含むポリエチレンテ
レフタレートを含む第１のポリマーおよび８２モル％の
エチレンテレフタレートと１８モル％のエチレンイソフ
タレートからなる未充填コポリエステルを含む第２のポ
リマーの別々の流れを別々の押出し機から単一溝同時押
出しアセンブリーに供給し、フィルム形成用ダイから水
冷された回転急冷ドラム上に押し出して、非晶質キャス
ト複合押出し体を得た。キャスト押出し体を約８０℃の
温度に加熱し、次いで３．２：１の前進延伸比において
長手方向に延伸した。長手方向に延伸されたフィルムを
、次いで、約８６℃の温度に加熱し、３．４：１の延伸
比においてテンターで横方向に延伸した。延伸したフィ
ルムを、最後に、テンター中で寸法的に拘束しながら、
約２２５℃の温度でヒートセントした。

得られたシートは、一方の表面上に約７μｍの厚さのイ
ソフタレート−テレフタレートコポリマーの受容層を有
する、約１５０μｍの厚さの充填ポリエチレンテレフタ
レートの、不透明なボイドを有する一次層を含んでいた
。用いられたヒートセット温度のために、この受容層は
、本質的に非晶質のものであった。

この受容体シートのプリント特性を、その一方の表面上
に約２μｍの厚さの、セルロース系樹脂バインダー中に
マゼンタ染料を含む転写層を有する、約６μｍの厚さの
二輪延伸ポリエチレンテレフタレート基材を含む供与体
シートを用いて確認した。

それぞれの転写層および受容層が接触されている供与体
シートと受容体シートとのサンプルを含むサンドイッチ
を、熱転写プリント機のゴムで被覆されたドラム上に置
き、６　／　ｍ　ｍの線密度で間隔を置かれた画素の直
線的な列を含むプリントヘッドと接触させた。図柄情報
信号に従って画素を約３５０℃の温度（供給電力０．３
２Ｗ／画素）に、ｌＯミリ秒（ｍｓ）の間選択的に加熱
すると、マゼンタ染料が供与体シートの転写層から転写
されて、受容体シートの受容層中に加熱された画素に対
応する像を形成した。

転写シートを受容体シートから剥離後、受容体シート上
のバンド像、緑色のフィルターを用いて反射モードで操
作されている、５ａｋｕｒａ　Ｄｅｎｓｉｔｏｓｅｔｅ
ｒ、　ｔｙｐｅ　ＰＤＡ　６５を用いて確認した。イン
ク付けされた像の測定された反射光学濃度（ＲＯＤ）は
２．５２であった。

同一の条件下に像形成した場合、硫酸バリウム充填ポリ
エチレンテレフタレートポリマーの単−屓を含む（即ち
コポリエステルの同時押出し層を持たない）受容体シー
トは、１．４の測定ＲＯＤを有する像を形成した。

透過光鏡検法により像形成複合シートの断面を検査する
と、約２．７μｍの深さの凹みが加熱された画素によっ
て受容層の表面中に生じた、即ち２゜７の表面変形を生
じたことがわかった。

例じし 例１の操作を繰り返した。但し、非晶質受容層は６５モ
ル％のエチレンテレフタレートと３５モル％のエチレン
イソフタレートとの未充填コポリエステルを含んでいた
。

（４られたマゼンタ像の測定ＲＯＤはれ２．７であり、
像形成シートの表面変形は２．７のオーダーであった。

分は 例１の操作を繰り返した。但し、非晶質受容層は１０ニ
ア：２：１のモル比のテレフタル酸、エチレングリコー
ル、トリエチレングリコールおよびネオペンチルグリコ
ールから誘導された未充填ポリエステル樹脂から形成さ
れた。

得られたマゼンタ像の測定ＲＯＤは２．８であり、測定
された表面変形は２．７であった。

例（ 例１に述べたと同じ配向受容体シートを、さらに、１重
量％（分散液の重量に対して）のオルガノポリシロキサ
ン樹脂（ＳＹＬ−ＯＦＦ　２２　：　Ｄｏｗ　Ｃｏｒｎ
ｉｎｇ社）および０．３７５重量％のポリアルキレンオ
キシド変成ジメチルポリシロキサン湿潤剤（ＳＩＬＷＥ
ＴＬ７７　　：　Ｕｎｉｏｎ　Ｃａｒｂｉｄｅ社）を含
む水性分散液によりコートし、空気オーブン中１００℃
の温度で６０秒間乾燥して、受容層の露出表面上に約０
．１μＩｎの厚さを有する硬化剥離層を与えた。

例１に述べたようにして画像形成および試験を行ったと
ころ、シートの画像形成領域は２．４の測定ＲＯＤおよ
び２．７の表面変形を有することが認めされた。

供与体シートの像形成受容体シートからの剥離は、剥離
層の存在によって容易となった。

桝ｊ二１ 例１の操作を繰り返した。但し、テレフタレート−イソ
フタレート（８２：１Ｂ）コポリマー受容層の厚さを変
えて、一連の受容体シートを与えた。それらの特性を下
記の表に示す。

表 ＊例１に述べたようにして像形成したサンプルに対する
測定。即ち、マゼンタ染料；　０．３２ワット／画素；
１０ｍ５ 例−■ これは本発明に従わない比較例である。

例１の操作を繰り返した。但し、ヒートセットを約１８
０℃の温度で行って、本質的に結晶質である、７μｍの
厚さを有するコポリマー受容層を得た。

像形成した複合シートは、２．３の反射光学濃度および
１．３５の表面変形を示した。

例９１Ｆ、帆上」− 例３の操作を繰り返した。但し、非晶質受容層は下記の
表に特定する厚さを有していた。また、−次支持層は６
重量％の、メルトフローインデックス４．　Ｏｄ　ｇ　
７分のポリプロピレンを含むポリエチレンテレフタレー
トを含んでいた。

受容体シートを、マゼンタ染料供与体シートを用いて像
形成した。熱プリンターの接触時間は約３５０℃の温度
においてそれぞれ７．５および３ミリ秒であった。

反射光学濃度を下記の表に示す。

表 前述したように、本発明に係る受容体シートは独立にま
たは組合わせにおいて下記の好ましい特徴を示す。

１、基材は不透明な分子配向ポリエステルフィルムを含
み、非晶質受容層は７．５μｍを超えない厚さを有する
。

２、　基材はボイドを有する。

３、基材は有効量の、非相容性の樹脂フィラーまたは粒
状の無機フィラーを含むボイド形成剤を含む。

４、無機フィラーの平均粒度は０．１〜１０．０μｍで
あり、数で９９．９％の粒子の実際の粒度は３０μｍを
超えない。

５、　フィラーは硫酸バリウムを含む。

６、受容層の厚さは０．５〜５．０μｍである。

７、受容層はコポリエステルを含む。

８、受容層はエチレンテレフタレートとエチレンイソフ
タレートとのコポリマーを含む。

９、離型剤は受容層といっしょにされている。

１０、　　受容体シートは、不透明な分子配向ポリエス
テル基材を形成し、その表面上に、７．５μｍを超えな
い厚さを有する、染料受容性の、非晶質の受容層を与え
ることにより製造される。

１１、有効量の、非相容性樹脂フィラーまたは粒状無機
フィラーを含むボイド形成剤が、ボイドを有する基材を
形成するために配合され葛。

１２、受容体シートは、基材および染料受容性ポリマー
を同時押出しして複合シートを形成し、次いで複合シー
トを延伸して少なくとも基材ポリマーの分子配向を行わ
せることにより形成される。

１３、延伸シートが、寸法的な拘束下に染料受容性ポリ
マーの結晶融点より高い温度でヒートセットされる。

【図面の簡単な説明】

第１図は一方の表面上に離型剤を配合した染料受容性受
容層３を有する高分子支持基材２を含むＴＴＰ受容体シ
ート１の一部の模式図である。 第２図は独立の剥離層４を含む受容体シートの同様な模
式図である。 第３図は一方の表面上に樹脂バインダー中に昇華性染料
を含む転写層７を有し、他方の表面（裏面）上に高分子
保護層８を有する高分子基材６を含む適合し得るＴＴＰ
供与体シートの部分模式図である。 第４図はＴＴＰプロセスの模式図である。 第５ｒｙＪは像形成受容体シートの模式図である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、少なくとも一方の表面上に供与体シートから熱転写
   された染料を受容するための染料受容性の受容層を含む
   、適合し得る供与体シートとともに用いるための熱転写
   プリント用受容体シートであって、 ａ）基材が合成線状ポリエステルの、不透明な分子配向
   フィルムを含むこと、および ｂ）少なくとも１の受容層が７．５μｍを超えない厚さ
   を有し、染料受容性の、本質的に非晶質の合成熱可塑性
   ポリマーを含むこと、 を特徴とする受容体シート。 ２、支持基材を形成し、その少なくとも一方の表面上に
   供与体シートから熱転写された染料を受容するための染
   料受容性の受容層を与えることを含む、適合し得る供与
   体シートとともに用いるための熱転写プリント用受容体
   シートの製造方法であって、 ａ）基材が合成線状ポリエステルの、不透明な分子配向
   フィルムを含むこと、および ｂ）少なくとも１の受容層が７．５μｍを超えない厚さ
   を有し、染料受容性の、本質的に非晶質の合成熱可塑性
   ポリマーを含むこと、 を特徴とする方法。