JPS63274192A - 半導体発光装置 - Google Patents

半導体発光装置

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Publication number
JPS63274192A
JPS63274192A JP62107951A JP10795187A JPS63274192A JP S63274192 A JPS63274192 A JP S63274192A JP 62107951 A JP62107951 A JP 62107951A JP 10795187 A JP10795187 A JP 10795187A JP S63274192 A JPS63274192 A JP S63274192A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
external waveguide
emitting device
light emitting
active layer
semiconductor light
Prior art date
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Pending
Application number
JP62107951A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuji Kotaki
小滝 裕二
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Publication of JPS63274192A publication Critical patent/JPS63274192A/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/12Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 DFBレーザ部と、そのDFBレーザ部から出力された
レーザ光の線幅を狭くする外部導波路とを有する半導体
発光装置であって、外部導波路に活性層を有する損失補
償部を設け、該損失補償部で外部導波路の光損失を補償
することによって、長い外部導波路を使用して狭線幅化
されたレーザ光の発生を可能とする。
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体発光装置に関し、特に、DFB (D
istributed Feedback )レーザ部
と、そのDFBレーザ部から出力されたレーザ光の線幅
を狭くする外部導波路とを有する半導体発光装置に関す
る。
〔従来の技術〕
近年、例えば、コヒーレント通信用光源として、線幅が
狭く単一波長のレーザ光を発生する半導体発光装置が要
望され、そのような半導体発光装置の研究開発が盛んに
行われている。
第4図は従来の半導体発光装置の一例を示す断面図であ
る。
この第4図に示す半導体発光装置は、DFBレーザ部1
03およびDFBレーザ部103から出力されたレーザ
光の線幅を狭くする外部導波路105を備えている。D
FBレーザ部103は、レーザ共振器に波長選択性を持
たせて単一波長のレーザ光を出力するようにしたもので
ある。回折格子102が上面に設けられたN型1nP基
板108上にはN型InGaAsPより成る内部導波路
105a、 N型InPバッファ層110 、InGa
AsP活性層101およびP型InPより成るクラッド
層109がそれぞれ積層されている。ここで、参照番号
109aは分離溝である。
そして、基板108の下部に形成された電極111aお
よびクラッドN109の上部に形成された電極111b
により活性槽101に活性電流iを注入することによっ
て、DFBレーザ部103からレーザ光を出力させるよ
うにされている。ところで、半導体レーザの利得は比較
的広いスペクトル幅を持っているため、横モード制御さ
れていても軸モードは完全に単一とはならない。そこで
、DFBレーザ部103には内部導波路105aの下部
に回折格子102が設けられており、この回折格子10
2により利得スペクトル幅の範囲内で回折格子102の
ブラッグ波長に対応した1つの波長の光が選択的に反射
され、単一軸モードのレーザ光が得られるようになされ
ている。
上記したようなりFBレーザ部103で発生されたレー
ザ光は単一モードではあるものの、活性層101に注入
する活性電流iの変動や半導体発光装置を形成している
結晶の品質等のために、得られるレーザ光の線幅は、例
えば、コヒーレント通信用光源としては十分な狭線幅で
あるとはいえない。
第4図の半導体発光装置は、DFBレーザ部103から
出力されたレーザ光の線幅を狭くするために、一端に高
反射ミラー104が取付けられた外部導波路105を使
用するものである。すなわち、DFBレーザ部103か
ら出力されたレーザ光は、内部導波路105aを介して
N型1nGaAsPより成る外部導波路105中を通っ
て高反射ミラー104に到る。
そして、高反射ミラー104で反射されて再び外部導波
路105中を通過して、DFBレーザ部103の内部導
波路105aに戻る。これにより、狭線幅化されたレー
ザ光が得られることになる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上述したように、第4図に示す従来の半導体発光装置は
、一端に高反射ミラー104が取付けられた外部導波路
105を使用し、DFBレーザ部103から出力された
レーザ光を高反射ミラー104で反射することにより、
半導体発光装置から得られるレーザ光の線幅を狭くする
ことができるものである。
ところで、この従来の半導体発光装置のように外部導波
路105を使用してレーザ光を狭線幅化する場合、半導
体発光装置から得られるレーザ光の線幅は、外部導波路
105の長さく DFBレーザ部103と高反射ミラー
104との間の外部導波路105の長さ)lに応じて狭
くなることが知られている。
そして、この外部導波路の長さlと得られるレーザ光の
線幅との関係は、理論上では、外部導波路の長さlが長
ければ長い程、狭線幅化されたレーザ光が得られる。
しかし、実際には、外部導波路105はその外部導波路
に特有な値の単位長さ当たりの光損失を有しているため
、外部導波路105の長さlを長くすると、外部導波路
105中を通過するレーザ光の光損失が大きくなり、半
導体発光装置から得られるレーザ光を狭線幅化すること
が不可能となる。これは、DFBレーザ部103で出力
されたレーザ光は外部4波路105を通って高反射ミラ
ー104に反射され、再び外#導波路105を通ってD
FBレーザ部103の内部導波路105aに戻ることに
なるが、この戻って来るレーザ光の強度が外部導波路の
光損失のために減少してしまい、レーザ光の狭線幅化に
作用しなくなるからである。
このように、従来の外部導波路を使用してレーザ光を狭
線幅化する半導体発光装置は、外部導波路による狭線幅
化の作用を十分に活用することができず、例えば、コヒ
ーレント通信用光源に適した単一波長で十分に狭線幅化
されたレーザ光を発生することができなかった。
本発明は、上述した従来形の半導体発光装置の有する問
題点に鑑み、外部導波路に活性層を有する損失補償部を
設け、該損失補償部で外部導波路の光損失を補償するこ
とによって、長い外部導波路を使用してレーザ光の線幅
を狭くした半導体発光装置を提供することを目的とする
〔問題点を解決するための手段〕
第1図は本発明に係る半導体発光装置の原理を示す図で
ある。
本発明によれば、第1の活性層1に活性電流I。
を注入し、該第1の活性層1から放出されたスペクトル
幅内の光を回折格子2を用いて選択し、単一波長のレー
ザ光を出力するDFBレーザ部3と、該DFBレーザ部
3から出力されたレーザ光の線幅を狭くする一端に高反
射ミラー4が取付けられた外部導波路5とを具備する半
導体発光装置であって、前記外部導波路5に第2の活性
層6を備える損失補償部7を設け、該損失補償部7で前
記外部導波路5で生じる光損失を補償することを特徴と
する半導体発光装置が提供される。
〔作 用〕
上述した構成を有する本発明の半導体発光装置によれば
、DFBレーザ部3から放出されたレーザ光は一端に高
反射ミラー4が取付けられた外部導波路5中を伝わるが
、この外部導波路5には第2の活性層6を備える損失補
償部7が設けられていて外部導波路5で生じる光損失を
補償することができる。
これにより、長い外部導波路を使用して狭線幅化された
レーザ光を発生することができる。
〔実施例〕
以下、図面を参照して本発明に係る半導体発光装置の一
実施例を説明する。
第2図は本発明の半導体発光装置の一実施例を示す断面
図である。
この第2図に示す半導体発光装置は、DFBレーザ部3
、DFBレーザ部3から出力されたレーザ光の線幅を狭
くする外部導波路5および外部導波路5中の光損失を補
償する損失補償部7を備えている。
DFBレーザ部3は、レーザ共振器に波長選択性を持た
せて単一波長のレーザ光を出力するようにしたものであ
り、回折格子2が上面に設けられたN型1nP基板8上
にはN型1nGaAsPより成る内部導波路5a、N型
1nPバッファ層tOa、InGaAsP活性層lおよ
びP型InPより成るクラッド層9がそれぞれ積層され
ている。このDFBレーザ部3の構成は、第4図に示し
た従来の半導体発光装置におけるDFBレーザ部103
と同様である。
そして、基板8の下部に形成された電極11aおよびク
ラフトN9の上部に形成された電極11bにより活性層
lに活性電流1.を注入することによって、DFBレー
ザ部3から回折格子2のブラッグ波長に対応した波長の
単一軸モードのレーザ光が出力されるようにされている
。このDFBレーザ部3から出力されたレーザ光は、内
部導波路5aを介して基板8とクラッド層9との間に延
長されたN型1nGaAsPより成る外部導波路5に伝
えられる。
この外部導波路5の一端には高反射ミラー4が取付けら
れ、DFBレーザ部3から出力されたレーザ光を反射し
てその線幅を狭くするようになされている。すなわち、
DFBレーザ部3から出力されたレーザ光は、内部導波
路5aを介して外部導波路5中を通って高反射ミラー4
に到り、この高反射ミラー4で反射されて再び外部導波
路5中を通過してDFBレーザ部3の内部導波路5aに
戻り、狭線幅化されたレーザ光が得られることになる。
さらに、本実施例の半導体発光装置は、DFBレーザ部
3と高反射ミラー4との間の外部導波路5の途中に、こ
の外部導波路5で生じるレーザ光の光損失を補償する損
失補償部7が設けられている。この損失補償部7は、外
部導波路5上にN型InPバンファ層10bを介して形
成されたInGaAsP活性層6を備えている。そして
、基板8の下部に形成された電極11aおよびクラッド
層9の上部に形成された電極11cにより活性層6に損
失補償電流1.を注入することによって、外部導波路5
中の光を増幅するようになされている。ここで、損失補
償電流I、が注入された活性層6が放出する光は自然放
出光なので、半導体発光装置のレーザ特性に影響を及ぼ
すことはない。
ここで、光損失を補償するための活性層6の単位長さ当
たりの増幅率をg、活性層6の外部導波路方向の長さを
L2とし、また、DFBレーザ部3から活性層6のまで
の外部導波路5の長さをLl。
活性層6から高反射ミラー4までの外部導波路5の長さ
をL3とし、さらに外部導波路5における単位長さ当た
りの光損失の値をαとする。第3図は第2図の半導体発
光装置における損失補償部の損失補償電流と利得との関
係を示す波形図である。
長さL2の活性層6による利得Gは、単位長さ当たりの
増幅率がgなので、G=g−Lzで表される。この活性
層6による利得Gが、外部導波路5の長さくLI+L3
)による光損失を補償すれば、見掛は上外部導波路5に
おいて光損失が存在しないことになる。ここで、外部導
波路5中を伝わるレーザ光は高反射ミラー4で反射され
るので長さくLl +La )の2倍の長さの光損失を
考慮しなければならないが、活性層6による利得Gも高
反射ミラー4に反射される前の往路と反射された後の復
路とで2倍になるので、α(Ll +L3)−Gが成立
するように活性層6に損失補償電流11を注入すれば外
部導波路6による光損失を補償することができる。第3
図から明らかなように、α(Ll +L3 )=Gとす
るためには活性層6に対して■、。の損失補償電流を注
入すればよいことになる。
次に、第2図の半導体発光装置について、具体的な値を
示す。DFBレーザ部3から活性層6のまでの外部導波
路5の長さL r = 2 mII、活性層6の長さL
z ” 0.3m、活性層6から高反射ミラー4までの
外部導波路5の長さL3 = I Mのとき、外部導波
路5の光損失は10cm−’程度なので、g=100C
II−’となるように損失補償電流I、を注入すれば外
部導波路5の光損失を補償することができる。このとき
、得られるレーザ光の線幅減少率は0.05程度である
。比較のために、第4図に示す従来の半導体発光装置で
外部導波路105の長さ!=311m程度のものにおい
ては、得られるレーザ光の線幅減少率は0.7程度であ
る。このように、本実施例の半導体発光装置によれば、
従来の半導体発光装置で得られるレーザ光よりも遥かに
狭線幅化されたレーザ光を得ることができる。
〔発明の効果〕
以上、詳述したように、本発明に係る半導体発光装置は
、外部導波路に活性層を有する損失補償部を設け、該損
失補償部で外部導波路の光損失を補償することによって
、長い外部導波路を使用して狭線幅のレーザ光を発生す
る半導体発光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る半導体発光装置の原理を示す図、 第2図は本発明の半導体発光装置の一実施例を示す断面
図、 第3図は第2図の半導体発光装置における損失補償部の
損失補償電流と利得との関係を示す波形図、 第4図は従来の半導体発光装置の一例を示す断面図であ
る。 (符号の説明) 1・・・第1の活性層、 2・・・回折格子、 3・・・DFBレーザ、 4・・・高反射ミラー、 5・・・外部導波路、 6・・・第2の活性層、 7・・・損失補償部、 ■、・・・活性電流、 Ib・・・損失補償電流。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、第1の活性層(1)に活性電流(I_a)を注入し
    、該第1の活性層(1)から放出されたスペクトル幅内
    の光を回折格子(2)を用いて選択し、単一波長のレー
    ザ光を出力するDFBレーザ部(3)と、該DFBレー
    ザ部(3)から出力されたレーザ光の線幅を狭くする一
    端に高反射ミラー(4)が取付けられた外部導波路(5
    )とを具備する半導体発光装置であって、 前記外部導波路(5)に第2の活性層(6)を備える損
    失補償部(7)を設け、該損失補償部(7)で前記外部
    導波路(5)で生じる光損失を補償することを特徴とす
    る半導体発光装置。 2、前記損失補償部(7)は、前記第2の活性層(6)
    に損失補償電流(I_b)を注入して前記外部導波路(
    5)中の光を増幅するようになっている特許請求の範囲
    第1項に記載の装置。
JP62107951A 1987-05-02 1987-05-02 半導体発光装置 Pending JPS63274192A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0402907A2 (en) * 1989-06-14 1990-12-19 Hitachi, Ltd. Semiconductor laser device
JPH06310806A (ja) * 1993-04-21 1994-11-04 Nec Corp 半導体レーザおよびその製造方法

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EP0402907A2 (en) * 1989-06-14 1990-12-19 Hitachi, Ltd. Semiconductor laser device
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