JPS63266689A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPS63266689A
JPS63266689A JP62099774A JP9977487A JPS63266689A JP S63266689 A JPS63266689 A JP S63266689A JP 62099774 A JP62099774 A JP 62099774A JP 9977487 A JP9977487 A JP 9977487A JP S63266689 A JPS63266689 A JP S63266689A
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JP
Japan
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circuit
signal
address
semiconductor memory
memory
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Application number
JP62099774A
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Japanese (ja)
Inventor
Makio Uchida
内田 万亀夫
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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Abstract

PURPOSE:To speed up an operation by overlapping the operation period of a charge circuit and the operation period of a selection circuit at least by a part of them. CONSTITUTION:A semiconductor memory is provided with plural memory cells MC, provided at the intersection points of data lines D0, the inverse of D0, and plural word lines W0, W1-Wn respectively, and the charge circuit PC for giving a prescribed potential to the data lines D0, the inverse of D0 as synchronizing with a timing signal, and the selection circuit DS for selecting the prescribed word line out of the plural word lines W0, W1-Wn as synchronizing with a select signal to select the semiconductor memory. Then, the operation period of the charge circuit PC and the operation period of the selection circuit DS are made to overlap each other at least by a part of them. Thus, because the memory cell can be accessed without providing any special precharging period, a memory cycle can be shortened, and the speed up of the operation can be realized.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体記憶回路に関するもので、例えはス
タティック型RAM(ランダム・アクセス・メモリ)に
利用して有効な技術に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor memory circuit, and for example, to a technique that is effective when used in a static RAM (random access memory).

〔従来の技術〕[Conventional technology]

MOS (metal oxide semicond
uctor :金属酸化膜半導体)スタティック型RA
Mにおけるメモリセルは、例えばゲート・ドレインが交
差結合された一対の駆動MO8FETとその負荷素子と
からなるスタテイック型7リツプフロツプ回路と一対の
伝送グー)MOSFETとから構成される。メモリプレ
イは、マトリックス配置される複数のメモリセルととも
に複数対の相補データ線を含み、それぞれの相補データ
線には、それと対応されるべきメモリセルの入出力端子
が結合される。
MOS (metal oxide semiconductor)
uctor: metal oxide film semiconductor) static type RA
The memory cell in M is composed of, for example, a static type 7 lip-flop circuit consisting of a pair of drive MOSFETs whose gates and drains are cross-coupled and their load elements, and a pair of transmission MOSFETs. The memory play includes a plurality of memory cells arranged in a matrix and a plurality of pairs of complementary data lines, and each complementary data line is coupled to an input/output terminal of a memory cell to be associated with it.

相補データ線の電位は少なくともメモリセル情報読出前
に所定の電圧に設定しておく必要がある。
It is necessary to set the potential of the complementary data line to a predetermined voltage at least before reading memory cell information.

相補データ線を所定の定圧に設定する方法には、電源電
圧間に設けられた抵抗手段に定常電流を供給することに
より得た分圧電圧を用いる方法と、データ組の寄生容量
に電荷をプリチャージする方法とがある。後者のプリチ
ャージ方式は、定常電融を選択状態にすると、相補デー
タ線の自然放電によるロウレベルによって、メモリセル
の記憶情報が破壊されてしまうおそれがある。
There are two methods for setting the complementary data line to a predetermined constant voltage: one is to use a divided voltage obtained by supplying a steady current to a resistor provided between the power supply voltages, and the other is to pre-charge the parasitic capacitance of the data set. There is a way to charge. In the latter precharge method, when steady state electrolysis is selected, there is a risk that the information stored in the memory cell may be destroyed by the low level caused by the natural discharge of the complementary data line.

なお、スタティック型RAMに関しては、例えば特開昭
57−198594  号公報参照。
Regarding the static type RAM, see, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 198594/1983.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

この発シ]の一つの目的は、高速動作化を実現したスタ
ティックffiRAMを提供することにある。
One purpose of this proposal is to provide a static ffiRAM that achieves high-speed operation.

この発明の他の目的は、簡単な構成によりワード線の全
非選択状態を作り出すことのできる半導体記憶装置を提
供することにある。
Another object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can create all word lines in a non-selected state with a simple configuration.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本願において開示される発明の5ち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
A brief summary of the five representative inventions disclosed in this application is as follows.

半導体メモリは、データ線と複数のワード線との交差点
にそれぞれ設けられる複数のメモリセルと、タイミング
信号に同期して上記データ線に所定の電位を与えるため
のチャージ回路と、半導体メモリを選択する選択信号に
同期して上記複数のワード線の中から所定のワード線を
選択するための選択回路とを備え、上記チャージ回路の
動作期間と上記選択回路の動作期間とが少なくとも一部
において重なる様にされる。
The semiconductor memory includes a plurality of memory cells each provided at the intersection of a data line and a plurality of word lines, a charge circuit for applying a predetermined potential to the data line in synchronization with a timing signal, and a semiconductor memory. a selection circuit for selecting a predetermined word line from among the plurality of word lines in synchronization with a selection signal, such that an operating period of the charging circuit and an operating period of the selection circuit overlap at least in part. be made into

〔作用〕[Effect]

上記した手段によれば、特別なプリチャージ期間を設け
ることなく、メモリセルのアクセスを行うことができる
から、メモリサイクルを短かくできる。言い換えるなら
ば、動作の高速化を図ることができる。
According to the above-described means, memory cells can be accessed without providing a special precharge period, so the memory cycle can be shortened. In other words, it is possible to speed up the operation.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は、この発明が適用されるスタティック型RAM
(、SRAM’)がその内部に形成される1つの半導体
集積回路(IC)チップの平面図である。ICチップ内
の周辺領域には、ワイヤボンディング用のパッドBPと
、これに対応したI10バッファが設けられる。I10
バッファは、IC’デッグ外部からICチップの内部領
域に印加される信号の取込みと、ICチップの内部領域
からI10チップの外部に供給される信号の送出を行う
。特に限定されないが、このICチップの内部領域は、
演算回路部EU、命令・メモリアクセス制御部IU、オ
ペランド制御部0U11割込み制御部SU及びマイクロ
命令・スキャン制御部QUによって形成される。SRA
Mは、上記演算回路部内に設けられ、主に演算用レジス
タとして用いられる。
FIG. 1 shows a static RAM to which this invention is applied.
1 is a plan view of one semiconductor integrated circuit (IC) chip in which ( , SRAM') is formed; FIG. A wire bonding pad BP and a corresponding I10 buffer are provided in the peripheral area within the IC chip. I10
The buffer takes in a signal applied to the internal area of the IC chip from outside the IC'Deg, and sends a signal supplied from the internal area of the IC chip to the outside of the I10 chip. Although not particularly limited, the internal area of this IC chip is
It is formed by an arithmetic circuit unit EU, an instruction/memory access control unit IU, an operand control unit 0U11, an interrupt control unit SU, and a microinstruction/scan control unit QU. S.R.A.
M is provided in the arithmetic circuit section and is mainly used as a register for arithmetic operations.

第2図は、第1図に示すSRAMのレイアウト図である
。アドレス信号Ao〜Amを受けてデコーダDCRに相
補アドレス信号を送出するためのアドレスバッファAB
、内部制御回路C0NT及び入出力制御回路I10%の
周辺回路の人出端子は一辺に集中させている。ICチッ
プ内での配線の容易さを考慮したものである。内部制御
回路C0NTは、チップイネーブル信号CE、制御傷号
ロール信号を受けてデータ線、ワード線等の制御に必賛
な内部クロック信号形成する。ここでテシプイネーブル
信号CEは、このSRAMを動作させるか否かを選択す
るための選択信号である。メモリアレイM−ARYI、
M−ARY2内のワ−ド線は、デコーダDCHの出力に
基づいて動作するワード線駆動回路WDI、WD2によ
って駆動される。特に限定されないが入力信号Dinl
 〜Din36の同時書込及び出力信号Do u t 
1〜Dout36の同時読出が可能とされる。
FIG. 2 is a layout diagram of the SRAM shown in FIG. 1. Address buffer AB for receiving address signals Ao to Am and sending complementary address signals to decoder DCR
, the output terminals of the peripheral circuits of the internal control circuit C0NT and the input/output control circuit I10% are concentrated on one side. This takes into consideration the ease of wiring within the IC chip. The internal control circuit C0NT receives the chip enable signal CE and the control signal roll signal and generates an internal clock signal necessary for controlling the data line, word line, etc. Here, the technology enable signal CE is a selection signal for selecting whether or not to operate this SRAM. Memory array M-ARYI,
The word lines in M-ARY2 are driven by word line drive circuits WDI and WD2 that operate based on the output of decoder DCH. Although not particularly limited, the input signal Dinl
~Din36 simultaneous write and output signal Do u t
1 to Dout36 can be read simultaneously.

第3図には、この発明が適用されたSRAMの一実施例
の回路図が示されている。特に制限されないが、同図の
RAMは、公知の0MO8(相補ff1M08)集積回
路技術によりて単結晶シリコンからなるような1個の半
導体基板ICチップ上に形成される。
FIG. 3 shows a circuit diagram of an embodiment of an SRAM to which the present invention is applied. Although not particularly limited, the RAM shown in the figure is formed on a single semiconductor substrate IC chip made of single crystal silicon by the well-known 0MO8 (complementary ff1M08) integrated circuit technology.

各MO8FETは、ポリシリコンからなるようなゲート
電極を一鴇の不純物導入マスクとするいわゆるセル7ア
ライン技術によって製造される。
Each MO8FET is manufactured by a so-called cell 7 alignment technique using a gate electrode made of polysilicon as a mask for introducing impurities.

メモリセルを構成するMOSFETは、Nチャンネル型
とされ、N型半導体基板上に形成されたP型つェル領域
上に形成される。PチャンネルMO8FETは、Nff
1半導体基板上に形成される。Nチャンネル屋MO8F
ETの基板ゲートとしてのPaウェル領域は、回路の接
地端子に結合され、Pチャンネル型MO8FETの共通
の基板ゲートとしてのNW半導体基板は、回路の電源端
子に結合される。なお、メモリセルを構成するMOSF
ETをウェル領域に形成する構成は、α線等によりて引
き起こされるメモリセルの蓄積情報の誤った反転を防止
する上で効果的である。
The MOSFET constituting the memory cell is of an N-channel type and is formed on a P-type well region formed on an N-type semiconductor substrate. P channel MO8FET is Nff
1 formed on a semiconductor substrate. N channel shop MO8F
The Pa well region as the substrate gate of the ET is coupled to the ground terminal of the circuit, and the NW semiconductor substrate as the common substrate gate of the P-channel type MO8FET is coupled to the power supply terminal of the circuit. Note that the MOSF constituting the memory cell
The configuration in which the ET is formed in the well region is effective in preventing erroneous inversion of stored information in the memory cell caused by α rays or the like.

メモリアレイM−ARYは、代表として例示的に示され
ているマトリックス配置された複数のメモリセルMC1
ポリシリコン層からなるワード線WO,WlないしWn
及び相補データ線Do、DOから構成されている。
The memory array M-ARY includes a plurality of memory cells MC1 arranged in a matrix, which is illustrated as a representative example.
Word lines WO, Wl to Wn made of polysilicon layer
and complementary data lines Do, DO.

メモリセルMeのそれぞれは、互いに同じ構成にされ、
その1つの具体的回路が代表として示されているように
、ゲートとドレインが互いに交差結線されかつソースが
回路の接地点に結合された記憶MO8FETQI、Q2
と、上記MO8FETQI、Q2のドレインと電源端子
VCCとの間に設けられたポリ(多結晶)シリコン層か
らなる高抵抗R1,R2とを含んでいる。そして、上記
MO8FETQI、Q2の共通接続点と相補データ線D
O,Doとの間に伝送ゲートMO8FETQ3、Q4が
設けられている。同じ行に配置されたメモリセルの伝送
グー)MO8FETQ3.Q4等のゲート11、それぞ
れ例示的に示された対応するワード線WO,Wl及びW
n等に共通に接続され、同じ列に配置されたメモリセル
の入出力端子は、それぞれ例示的に示された対応する一
対の相補データ線(ビット線又はディジットIt)Do
tDOに接続される。
Each of the memory cells Me has the same configuration as each other,
One specific circuit is shown as a representative of a memory MO8FET QI, Q2 with its gate and drain cross-wired together and its source coupled to circuit ground.
and high resistance R1, R2 made of a polysilicon layer provided between the drains of the MO8FETs QI, Q2 and the power supply terminal VCC. Then, the common connection point of MO8FETQI, Q2 and the complementary data line D
Transmission gates MO8FETQ3 and Q4 are provided between O and Do. Transmission of memory cells arranged in the same row) MO8FETQ3. gates 11 such as Q4 and corresponding word lines WO, Wl and W, respectively shown by way of example.
The input/output terminals of the memory cells arranged in the same column and commonly connected to the terminals 1 and 2 are connected to a corresponding pair of complementary data lines (bit lines or digits It) Do
Connected to tDO.

メモリセルにおいて、MO8FETQI、Q2及び抵抗
R1,R2は、−mのフリップフロップ回路を構成して
いるが、情報保持状態における動作点は、普通の意味で
のフリップフロップ回路のそれと随分異なる。すなわち
、上記メモリセルMCにおいて、それを低消費電力にさ
せるため、その抵抗R1は、MO8FETQIがオフ状
態にされているときのMO8FETQ2のゲート電圧を
そのしきい値電圧よりも若干高い電圧に維持させること
ができる程度の著しく高い抵抗値にされ°る。
In the memory cell, MO8FETs QI and Q2 and resistors R1 and R2 constitute a -m flip-flop circuit, but the operating point in the information retention state is quite different from that of a flip-flop circuit in the ordinary sense. That is, in the memory cell MC, in order to reduce power consumption, the resistor R1 maintains the gate voltage of MO8FETQ2 at a voltage slightly higher than its threshold voltage when MO8FETQI is turned off. It is made to have a significantly high resistance value.

同様に抵抗R2も高抵抗値にされる。言い換えると、上
記抵抗R1,R2は、MO8FETQI。
Similarly, the resistor R2 is also made to have a high resistance value. In other words, the resistors R1 and R2 are MO8FETQI.

Q2のドレインリーク電流を補償できる程度の高抵抗に
される。抵抗R1,R2は、MO8FETQ2のゲート
容量(図示しない)に著積されている情報電荷か放電さ
せられてしまうのを防ぐ程度の電流供給能力を持つ。
The resistance is made high enough to compensate for the drain leakage current of Q2. The resistors R1 and R2 have enough current supply capability to prevent information charges accumulated in the gate capacitance (not shown) of the MO8FET Q2 from being discharged.

この実施例に従うと、RAMが0MO8−IC技術によ
って製造されるにもかかわらず、上記のようにメモリセ
ルMCはNチャンネルMO8FETとポリシリコン抵抗
素子とから構成される。
According to this embodiment, although the RAM is manufactured by OMO8-IC technology, the memory cell MC is composed of an N-channel MO8FET and a polysilicon resistance element as described above.

この実施例のメモリセル及びメモリアレイは、上記ポリ
シリコン抵抗素子に代えてPチャンネルMO8FE’l
用いる場合に比べ、その大きさを小さくできる。すなわ
ち、ポリシリコン抵抗を用いた場合、駆動MO8FET
QI又はQ2のゲート電極と積み重ねて形成できるとと
もに、それ自体のサイズを小型化できる。そして、Pチ
ャンネルMO8FETを用いたときのように、駆動MO
8FETQI、Q2から比較的大きな距離を持って離さ
なければならないことがないので無駄な空白部分が生じ
ない。
In the memory cell and memory array of this embodiment, a P-channel MO8FE'l is used instead of the polysilicon resistance element.
Its size can be made smaller compared to when it is used. That is, when using a polysilicon resistor, the driving MO8FET
It can be formed stacked with the gate electrode of QI or Q2, and its size can be reduced. Then, as when using a P-channel MO8FET, the driving MO
Since it is not necessary to separate it from 8FETQI and Q2 by a relatively large distance, no wasted blank space is generated.

同図において、ワードiwo、wtないしWnは、全非
選択状態を作り出すために、次のアドレス選択回路が用
いられる。この実施例では、全ワード線の非選択状態を
作り出すために、アドレス信号AOを受けるアドレス選
択回路AIC’が利用される。すなわち、アドレス信号
AOは、PチャンネルMO8FETQI 2とNチャン
ネルMO8FETQ13からなるC’MOSインバータ
回路の入力端子に供給される。このCMOSインバータ
回路(Q12.Q13)の出力信号は、PチャンネルM
O8FETQ14とNチャンネルMO8FETQ15か
らなるCMOSインバータ回路に入力される。上記2つ
のCMOSイ/パータ回路の出力信号は、それぞれCM
OSインバータ回路N3とN2に供給され、それぞれの
出力端子から非反転の内部アドレス信号aOと反転の内
部アドレス信号aOが出力される。
In the figure, the following address selection circuits are used for words iwo, wt to Wn to create an all-unselected state. In this embodiment, an address selection circuit AIC' receiving an address signal AO is used to create a non-selected state for all word lines. That is, the address signal AO is supplied to the input terminal of a C'MOS inverter circuit consisting of a P-channel MO8FETQI2 and an N-channel MO8FETQ13. The output signal of this CMOS inverter circuit (Q12, Q13) is the P channel M
It is input to a CMOS inverter circuit consisting of an O8FETQ14 and an N-channel MO8FETQ15. The output signals of the above two CMOS i/part circuits are CM
It is supplied to OS inverter circuits N3 and N2, and a non-inverted internal address signal aO and an inverted internal address signal aO are output from their respective output terminals.

上記非反転のアドレス信号aOと反転のアドレス信号a
Oからなる相補アドレス信号を共に非選択レベルにする
ため、上記CMOSインバータ回路を構成するNチャン
ネルMO8FETQ13及びQ15には、通常のCMO
Sインバータ回路N2、N3等とは異なり、制御信号D
UMを受けるCMOSインバータ回路Nlの出力信号が
供給される。すなわち、通常の動作状態においてソース
電極として作用する上記NチャンネルMO8FETQ1
3及びQ15の電極には、上記制御信号DUMを受ける
CMOSインバータ回路NIKよって形成されろ電源電
圧VCCのようなハイレベル又は回路の接地電位のよう
なロウレベルの信号dum が供給される。
The non-inverted address signal aO and the inverted address signal a
In order to set both the complementary address signals consisting of
Unlike the S inverter circuits N2, N3, etc., the control signal D
An output signal of a CMOS inverter circuit Nl receiving UM is supplied. That is, the N-channel MO8FETQ1 acts as a source electrode in normal operating conditions.
The electrodes 3 and Q15 are supplied with a high level signal dum such as a power supply voltage VCC formed by a CMOS inverter circuit NIK receiving the control signal DUM or a low level signal dum such as the ground potential of the circuit.

上記インバータ回路N2出力から得られる反転のアドレ
ス信号aOは、PチャンネルMO8FETQ16とNチ
ャンネルMO8FETQ17とからなるCMOSインバ
ータ回路の動作電圧端子に供給される。このCMOSイ
ンバータ回路の出力端子は、ワード線WOに結合される
。また、上記インバータ回路N3出力から得られる非反
転のアドレス信号aOは、PチャンネルMO8FETQ
18とNチャンネルMO8FETQ19とからなるCM
OSインバータ回路の動作電圧端子に供給される。この
CMOSインバータ回路の出力端子は、ワード線W1に
結合される。これらのCMOSインバータ回路の入力に
は、轡りのアドレス信号AIないしAmを受けるアドレ
スデコーダ回路DCIIにより形成された1つの選択信
号diが共通に供給される。
The inverted address signal aO obtained from the output of the inverter circuit N2 is supplied to the operating voltage terminal of a CMOS inverter circuit consisting of a P-channel MO8FETQ16 and an N-channel MO8FETQ17. The output terminal of this CMOS inverter circuit is coupled to word line WO. In addition, the non-inverted address signal aO obtained from the output of the inverter circuit N3 is transmitted to the P-channel MO8FETQ.
CM consisting of 18 and N-channel MO8FETQ19
It is supplied to the operating voltage terminal of the OS inverter circuit. The output terminal of this CMOS inverter circuit is coupled to word line W1. One selection signal di formed by an address decoder circuit DCII receiving alternate address signals AI to Am is commonly supplied to the inputs of these CMOS inverter circuits.

他のワード線例えばWnt、Wnに対しても、上記イン
バータ回路N2.N3と同様なインバータ回路N4.N
5等によりて形成される相補アドレス信号aO,aOを
動作電圧とし、その入力にアドレスデコーダ回路DCH
の出力信号dl郷を受けるPチャンネルMO8FETQ
22とNチャンネルMO8FETQ23及びPチャンネ
ルMO8FETQ20とNチャンネルMO8FETQ2
1等からなる選択駆動回路が設けられる。
The inverter circuit N2. Inverter circuit N4 similar to N3. N
Complementary address signals aO, aO formed by
P-channel MO8FETQ receiving the output signal dl
22 and N-channel MO8FETQ23 and P-channel MO8FETQ20 and N-channel MO8FETQ2
A selection drive circuit consisting of 1, etc. is provided.

上記メモリアレイにおける一対の相補データ線Do、D
Oは、特に制限されないが、差動鳳のセンスアンプの入
力端子に直接結合される。すなわち、相補データ線DO
,DOは、Nチャンネル型の差動増幅MO8FETQ7
.Q8のゲートにそれぞれ結合される。これらの差動M
O8FETQ7、Q8のドレインには、電流ミラー形態
にされたPチャンネル型のMO8FETQ9.QIOか
らなるアクティブ負荷回路が設けられる。上記差動増幅
MO8FETQ7.Q8は、その共通ソースと回路の接
地電位点との間に設けられ、センスアンプ動作タイミン
グ信号SaCによってオン状態にされるNチャンネル型
のパワースイッチM08FETQ11によりて動作状態
にされる。図示しない他の相補データ線にも上記同様な
センスアンプが設けられる。上記センスアンプの増幅出
力信号は、制御I傷信号によりてその増幅出力信号Do
utを出力する読み出し回路RAOに伝えられる。この
読み出し回路RAOは、メモリ保持状態又は畳き込み状
態のときにその一対の出力端子を高インピーダンス状態
もしくはフローティング状態にする。
A pair of complementary data lines Do, D in the memory array
Although not particularly limited, O is directly coupled to the input terminal of the differential amplifier sense amplifier. That is, the complementary data line DO
, DO are N-channel differential amplifier MO8FETQ7
.. Each is coupled to the gate of Q8. These differential M
The drains of O8FETQ7 and Q8 are connected to P-channel type MO8FETQ9. An active load circuit consisting of QIO is provided. The above differential amplification MO8FETQ7. Q8 is placed between its common source and the ground potential point of the circuit, and is activated by an N-channel power switch M08FETQ11 that is turned on by the sense amplifier operation timing signal SaC. Sense amplifiers similar to those described above are also provided on other complementary data lines (not shown). The amplified output signal of the sense amplifier is controlled by the control I signal.
It is transmitted to the readout circuit RAO which outputs ut. This readout circuit RAO puts its pair of output terminals into a high impedance state or a floating state when in a memory holding state or a convolution state.

また、上記相補データ線Do、DOには、書き込み回路
WAOの出力端子が結合される。この書き込み回路WA
Oは、制御信号Wによりてその動作が制御され、動作状
態にされているとき、言い換えるならば、書き込み動作
のときにその書き込み信号D1nと対応する相補データ
信号を相補データ線DO,Doに出力する。書き込み回
路WAOは、それが非動作状態、言い換えれば、メモリ
保持状態又は読み出し状態にされているときにその一対
の出力端子を高インピーダンス状態もしくはフローティ
ング状態にする。
Further, an output terminal of a write circuit WAO is coupled to the complementary data lines Do and DO. This write circuit WA
O outputs a complementary data signal corresponding to the write signal D1n to the complementary data lines DO when the operation is controlled by the control signal W and it is in the operating state, in other words, during a write operation. do. The write circuit WAO puts its pair of output terminals into a high impedance state or a floating state when it is in an inactive state, in other words, in a memory holding state or a reading state.

この実施例においては、相補データ線Do、DOには、
次のようなプリチャージ回路が設けられる。一対の相補
データiDoとDOは、特に制限されないが、プリチャ
ージ信号φpによって制御されるNチャンネルMO8F
ETQ5とQ6を介してそれぞれ電源電圧VCCが供給
される。すなわち、プリチャージMO8FETQ5.Q
6がオン状態にされると、相補データ線DO,Do等が
ハイレベル<Vcc−Vth)にプリチャージされる。
In this embodiment, complementary data lines Do, DO include:
The following precharge circuit is provided. A pair of complementary data iDo and DO is an N-channel MO8F controlled by a precharge signal φp, although it is not particularly limited.
Power supply voltage VCC is supplied via ETQ5 and Q6, respectively. That is, precharge MO8FETQ5. Q
6 is turned on, complementary data lines DO, Do, etc. are precharged to a high level <Vcc-Vth).

ここで、VthはMO8FETQ5.Q6等のしきい値
電圧である。図示しない他の相補データ線にも上記同様
のプリチャージMO8FETが設けられる。なお、プリ
チャージMO8FETは、上記NチャンネルMO8FE
TQ5.Q6等に代えて、PチャンネルMO8FETを
用いるものとしてもよい。この場合には、反転のプリチ
ャージ信号φpを供給するものとすればよい。
Here, Vth is MO8FETQ5. This is the threshold voltage of Q6, etc. Precharge MO8FETs similar to those described above are also provided on other complementary data lines (not shown). Note that the precharge MO8FET is the N-channel MO8FE mentioned above.
TQ5. Instead of Q6 etc., a P-channel MO8FET may be used. In this case, an inverted precharge signal φp may be supplied.

制御回路C0NTlは、チップ選択信号CE。The control circuit C0NTl receives a chip selection signal CE.

読み出し/書き込み制御信号R/W、及び上記インバー
タ回路N1の出力信号dumを受けて、上記プリチャー
ジ信号φp、センスアンプ動作タイミング信号sac、
書き込み信号W、読み出し信号R及びアドレスデコーダ
DCHの動作タイミング信号φ等を形成する。なお、ア
ドレスバッファABはアドレス信号A、〜Amを受けて
デコーダDCRK相補アドレス信号を送出する。
In response to the read/write control signal R/W and the output signal dum of the inverter circuit N1, the precharge signal φp, the sense amplifier operation timing signal sac,
A write signal W, a read signal R, an operation timing signal φ of the address decoder DCH, etc. are formed. Note that address buffer AB receives address signals A, -Am and sends out a complementary address signal to decoder DCRK.

次に、第4図に示したタイミング図を参照して、上記ス
タティック型RAMの動作の一例を説明する。このタイ
ミング図はリードサイクルを示している。
Next, an example of the operation of the static RAM will be described with reference to the timing chart shown in FIG. This timing diagram shows a read cycle.

図示しないが、チップ選択信号CEがロウレベル状態に
されている間、タイミング信号φがロウレベルにされる
。その結果、アドレスデコーダDCRは全出力をハイレ
ベルにして全ワード線WO。
Although not shown, the timing signal φ is set to a low level while the chip selection signal CE is set to a low level. As a result, address decoder DCR sets all outputs to high level and all word lines WO.

Wl、・・・、Wnをローレベルの非選択状態にする。Wl, . . . , Wn are set to a low level non-selected state.

また、チップ選択信号CEがハイレベル状態にされると
、タイミング傷゛号φがハイレベルにされ、これに応じ
て、デコーダDCRは動作を開始する。
Furthermore, when the chip selection signal CE is brought to a high level, the timing signal φ is brought to a high level, and in response to this, the decoder DCR starts operating.

デコーダDCRは、アドレスバッファABから印加され
ているアドレス相補信号に応じて、出力信号d1〜dl
の中のいずれか1つの出力信号を選択的にロウレベルに
する。
Decoder DCR outputs output signals d1 to dl according to the address complementary signal applied from address buffer AB.
Selectively set one of the output signals to a low level.

ところで、上記チップ選択信号CEが比較的長時間にわ
たりてロウレベルのままにされると、言い換えるならば
、メモリ保持状態が比較的長時間にわたって継続させら
れると、上記相補データ&DO。
By the way, if the chip selection signal CE is kept at a low level for a relatively long period of time, in other words, if the memory retention state is continued for a relatively long period of time, the complementary data &DO will not be processed.

DO等のプリチャージ電位が、その自然放電によって徐
々に低下してしまう。
The precharge potential of DO etc. gradually decreases due to its natural discharge.

このような比較的長時間にわたるメモリ保持状態の後の
メモリアクセスにあたっては、チップ選択信号CEのハ
イレベルへの立ち上がりとほぼ同期して、制御信号DU
Mをロウレベルにする。これによりて、インバータ回路
N1の出力信号dumがハイレベルにされるため、アド
レス信号AOがハイレベルなら、それを受ける初段回路
は、そのNチャンネルMO8FETQI aを介したイ
ンバータ回路N1の出力信号dunのハイレベルがその
出力ノードに伝えられる。この出力ノードのハイレベル
によりて次段回路のNチャンネルMO8FETQ15が
オン状態にされるため、上記出力信号dumのハイレベ
ルによりその出力ノードもハイレベルにされる。また、
アドレス信号AOがロウレベルなら、初段回路のPチャ
ンネルMO8FETQ12を介してその出力ノードがハ
イレベルにされる。この出力ノードのハイレベルによっ
て次段回路のNチャンネルMO3FETQI 5がオン
状態にされるため、上記信号dunのハイレベルにより
その出力ノードもハイレベルにされる。この結果、イン
バータ回路N2.N3の出力信号、言い換えるならば、
内部相補アドレス信号aO,a。
When accessing the memory after such a relatively long memory retention state, the control signal DU is activated almost in synchronization with the rise of the chip selection signal CE to a high level.
Set M to low level. As a result, the output signal dum of the inverter circuit N1 is set to a high level, so if the address signal AO is at a high level, the first stage circuit receiving it will output the output signal dun of the inverter circuit N1 via its N-channel MO8FETQIa. A high level is passed to its output node. Since the high level of this output node turns on the N-channel MO8FETQ15 of the next stage circuit, the high level of the output signal dum also brings the output node to the high level. Also,
When the address signal AO is at a low level, its output node is set at a high level via the P-channel MO8FETQ12 of the first stage circuit. Since the high level of this output node turns on the N-channel MO3FET QI 5 of the next stage circuit, the high level of the signal dun also brings the output node to the high level. As a result, inverter circuit N2. The output signal of N3, in other words,
Internal complementary address signal aO,a.

は、アドレス信号AOのレベルに無関係に上記制御信号
DUMのロウレベルに従って共にロウレベルの非選択レ
ベルにされる。
are set to a low non-selection level in accordance with the low level of the control signal DUM, regardless of the level of the address signal AO.

このため、ワード線駆動用のCMOSインバータ回路に
は、動作電圧が供給されないため、全てのワード線WO
ないしWnはロウレベルの非選択レベルとされる。
Therefore, since no operating voltage is supplied to the CMOS inverter circuit for driving word lines, all word lines WO
to Wn are set to a low non-selection level.

制御回路C0NTlは、上記内部制御信号dumのハイ
レベルに従って、ハイレベルのプリチャージ信号φpを
形成する。これにより、上記リーク電流によりて自然放
電された相補データ線Do。
The control circuit C0NTl forms a high-level precharge signal φp in accordance with the high level of the internal control signal dum. As a result, the complementary data line Do is naturally discharged due to the leakage current.

Dθ等は、上記ハイレベルにプリチャージにされる。Dθ and the like are precharged to the above-mentioned high level.

以上のプリチャージ動作と並行して、言い換えるならば
、チップ選択信号CEのハイレベルによって形成される
動作タイミング信号φによりアドレスデコーダ回路DC
Rは、その時に入力されたアドレス信号AIないしAm
の解読を行い、その動作時間Tdの後に例えば1つの選
択信号d1をロウレベルにする。これらのアドレス信号
AIないしAmの解読に要する動作時間Tdの経過の前
に、上記制御信号DUMはハイレベルにされる。
In parallel with the above precharge operation, in other words, the address decoder circuit DC is activated by the operation timing signal φ generated by the high level of the chip selection signal CE.
R is the address signal AI or Am input at that time.
is decoded, and after the operation time Td, for example, one selection signal d1 is set to low level. Before the operating time Td required for decoding these address signals AI to Am has elapsed, the control signal DUM is set to a high level.

これによって、アドレス信号AOを受ける2つのCMO
Sインバータ回路には、内部信号dunのロウレベルが
与えられるため、内部相補アドレス信号aO,aOは、
上記アドレス信号AOのレベルに従ったハイレベルとロ
ウレベルにされる。上記アドレス信号AOがハイレベル
なら、非反転の内部アドレス信号aOがハイレベルにさ
れ、上記アドレスデコーダ回路DCHの出力信号d1の
ロウレベルによってオン状態にされるPチャンネルMO
8FETQI8を通してワード線Wlがハイレベルの選
択レベルにされる。なお、ワード線w。
As a result, two CMOs receiving the address signal AO
Since the S inverter circuit is given the low level of the internal signal dun, the internal complementary address signals aO, aO are
It is set to high level and low level according to the level of the address signal AO. When the address signal AO is at a high level, the non-inverted internal address signal aO is set at a high level, and the P-channel MO is turned on by the low level of the output signal d1 of the address decoder circuit DCH.
The word line Wl is set to a high selection level through the 8FET QI8. In addition, the word line w.

は、上記デコード出力信号d1のロウレベルによりてP
チャンネルMO8FETQ16がオン状態にされるが、
反転の内部アドレス信号aOのロウレベルによってロウ
レベルの非選択レベルのままに維持される。
is P due to the low level of the decoded output signal d1.
Channel MO8FETQ16 is turned on, but
The low level of the inverted internal address signal aO maintains the low non-selection level.

上記実施例から明らかな様に、この発明によれば、デコ
ーダDCHによるアドレス信号解読動作と並行して、デ
ータ線DO,DOのプリチャージ動作が行なわれる。従
って、データ!!Do、DOをプリチャージするための
専用期間を設ける必要がない。特に上記実施例によれば
、デコーダDCRの出力信号diが形成される直前に、
プリチャージ動作が終了する。従って、チップ選択信号
CEがハイレベルにされてから出力データDoutが送
出されるまでのメモリアクセス時間が、上記プリチャー
ジ動作によりて延長されることがない。
As is clear from the embodiments described above, according to the present invention, the precharge operation of the data lines DO, DO is performed in parallel with the address signal decoding operation by the decoder DCH. Therefore, data! ! There is no need to provide a dedicated period for precharging Do and DO. In particular, according to the above embodiment, immediately before the output signal di of the decoder DCR is formed,
Precharge operation ends. Therefore, the memory access time from when the chip selection signal CE is set to high level until the output data Dout is sent out is not extended by the precharge operation.

なお、デコーダDCHの動作時間がTd’の様に短い場
合でありても、メモリセル情報の破壊等の誤動作は生じ
ない。少なくともプリチャージ信号φpがハイレベルの
期間は、制御信号DUMに従って、内部アドレス信号a
o、ioが、共にロウレベルにされているからである。
Note that even if the operating time of the decoder DCH is as short as Td', malfunctions such as destruction of memory cell information do not occur. At least during the period when precharge signal φp is at high level, internal address signal a is
This is because o and io are both set to low level.

上記実施例では、制御信号DUMt−8RAMの外部か
ら供給しているが、これに限定されず、チップ選択信号
CEを受ける内部回路によって形成してもよい。特に、
SRAM専用のICチップの場合には、ポンディングパ
ッド数又はICパック−ジの外部リードの数の制約を受
ける場合がある。
In the above embodiment, the control signal DUMt-8RAM is supplied from outside, but the control signal is not limited to this, and may be formed by an internal circuit that receives the chip selection signal CE. especially,
In the case of an IC chip dedicated to SRAM, there may be restrictions on the number of bonding pads or the number of external leads of the IC package.

従りて、この場合には、制御信号DUM発生発生円内内
部回路ければよい。
Therefore, in this case, it is sufficient to use the internal circuit within the circle for generating the control signal DUM.

第4図の波形図では、チップ選択信号CEをロウレベル
にすると、これに同期してlシ璽ットのプリチャージ信
号φpが形成され、相補データ線DO,DO等のプリチ
ャージ動作が再び行われる。
In the waveform diagram of FIG. 4, when the chip selection signal CE is set to a low level, an l switch precharge signal φp is generated in synchronization with this, and the precharge operation of the complementary data lines DO, DO, etc. is performed again. be exposed.

しかし、この本発明に従えば、上記再度のプリチャージ
動作を省略することもできろ。メモリサイクル開始時点
でデータ線Do、Doがプリチャージされていれば十分
だからである。
However, according to the present invention, the above-mentioned re-precharge operation can be omitted. This is because it is sufficient if the data lines Do, Do are precharged at the start of the memory cycle.

第4図の波形図は、読出しのためのメモリサイクルを示
しているが、この動作サイクルをダミーサイクルとする
場合には、センスアンプの動作タイミング信号11Le
等の発生が停止される。この場合、ダミーサイクル期間
を短く設定できる。また、ダミーサイクルに入る前のデ
ータ&lDO,Doの電位が、自然放電によりてロウレ
ベル状態であっても、上述した様に、メモリセルの記憶
情報が破壊されてしまうことがない。
The waveform diagram in FIG. 4 shows a memory cycle for reading, but when this operation cycle is used as a dummy cycle, the sense amplifier operation timing signal 11Le
etc. will be stopped from occurring. In this case, the dummy cycle period can be set short. Further, even if the potential of the data &lDO, Do before entering the dummy cycle is at a low level due to natural discharge, the information stored in the memory cell will not be destroyed as described above.

第5図は、内部相補アドレス信号を共に非選択レベルに
する回路の他の実施例である。アドレス信号AOを受け
る縦列形態の2つのインバータ回路N6.N7の出力に
、ノアゲート回路Gl、G2が設けられ、その制御端子
に前記内部ダミーサイクル制御信号dumが供給される
。また、ワード線駆動回路は、アンドゲート回路G3.
G4を用いるものであってよい。
FIG. 5 shows another embodiment of a circuit which sets both internal complementary address signals to a non-select level. Two cascade-type inverter circuits N6 receiving address signal AO. NOR gate circuits Gl and G2 are provided at the output of N7, and the internal dummy cycle control signal dum is supplied to their control terminals. Further, the word line drive circuit includes an AND gate circuit G3.
G4 may be used.

また、スタティック型RAMとしてのメモリセルは、P
チャンネルMO8FETとNチャンネルMO8FETと
を組合せて構成されたスタテイック型クリップ70ツブ
回路を用いるものであってもよい。また、相補データ線
には、カラム選択回路を設けて、複数の相補データ線の
中から一対の相補データ線を選んでセンスアンプや書き
込み回路に結合させるものでありてもよい。
In addition, the memory cell as a static type RAM is P
A static type clip 70 tube circuit configured by combining a channel MO8FET and an N-channel MO8FET may be used. Further, a column selection circuit may be provided in the complementary data lines to select a pair of complementary data lines from among a plurality of complementary data lines and couple them to a sense amplifier or a write circuit.

また、メモリセルは記憶情報に従りてワード線の選択レ
ベルより高いしきい値電圧か低いしきい値電圧を持つよ
うにされた記憶素子、いわゆるマスクROM(リード・
オンリー・メモリ)又はEFROM(エレクトリカリ・
プログラムROM)により構成されてもよい。このよう
なROMにおいて、データ線をプリチャージしてその読
み出し信号を得る場合、同様なアドレス選択回路を用い
ることによりて、低消費電力化と高速読み出しが可能に
される。
The memory cell is also a so-called mask ROM (read read memory), which is a memory element that has a threshold voltage higher or lower than the selected level of the word line according to stored information.
only memory) or EFROM (electronic memory)
(program ROM). In such a ROM, when a data line is precharged to obtain a readout signal, a similar address selection circuit is used to achieve low power consumption and high-speed readout.

第6図はこの発明が適用されるSRAMの他の実施例を
示す回路図である。第3図に示すSRAMとの主な相違
点は、データ線Do、Doのプリチャージ電圧の値及び
プリチャージ用回路の構成である。第6図に示すSRA
Mは、データ線対電源電圧VCCの1/2の電圧にプリ
チャージするため、プリチャージ回路PC及びハーププ
リチャージ回路HPCを有している。プリチャージ回路
pcは、各データ線対(Do、 Do )、 (D 1
.DI)のうちの一方のデータ線DO,°D・1に電源
電圧VCCを供給するためのPチャンネル型MO8FE
TQ36゜G38と、他方のデータ線Do、DIに回路
の接地電圧GNDを供給するためのNチャンネル型MO
8FETQ37.G39を含む、MO8FETQ37.
G39のゲートと、MO8FETQ36゜G38のゲー
トには、それぞれ逆相の信号φp1゜φp1が供給され
ることにより、一方のデータ線Do、DIにほぼ電源電
圧VCCに勢しいハイレベルの電圧がグリチャージされ
、他方のデータ線Do、Diにほぼ接地電圧GNDに等
しい四−レベルの電圧がプリチャージされる。ハーフプ
リチャージ回路RPCは、各データ線対(DO,Do)
FIG. 6 is a circuit diagram showing another embodiment of an SRAM to which the present invention is applied. The main differences from the SRAM shown in FIG. 3 are the values of the precharge voltages of the data lines Do and Do and the configuration of the precharge circuit. SRA shown in Figure 6
M has a precharge circuit PC and a harp precharge circuit HPC for precharging to a voltage 1/2 of the data line pair power supply voltage VCC. The precharge circuit pc connects each data line pair (Do, Do), (D 1
.. P-channel type MO8FE for supplying power supply voltage VCC to one data line DO, °D・1 of DI)
N-channel MO for supplying circuit ground voltage GND to TQ36°G38 and the other data lines Do and DI.
8FETQ37. MO8FETQ37. including G39.
The gate of G39 and the gate of MO8FETQ36゜G38 are supplied with signals φp1゜φp1 of opposite phases, respectively, so that one data line Do, DI is charged with a high-level voltage that is almost equal to the power supply voltage VCC. The other data lines Do and Di are precharged with a four-level voltage approximately equal to the ground voltage GND. The half precharge circuit RPC connects each data line pair (DO, Do)
.

(DI、DI)について一対のデータ線間を短絡するた
めのMOSFET対(G40.G41)。
MOSFET pair (G40.G41) for shorting between a pair of data lines for (DI, DI).

(G42.G43)を有する。各MOSFET対はPチ
ャンネルMO8FETとNチャンネルMO8FETとか
らなり、逆相のゲート信号φp2゜φp2を受けてスイ
ッチング回路を形成する。プリチャージ回路PCによっ
てデータ線対(DO2Do)、(DI、DI)が上記の
レベルにプリチャージされた後、ハーフプリチャージ回
路RPCを動作させることにより、各データ@DO,D
o。
(G42.G43). Each MOSFET pair consists of a P-channel MO8FET and an N-channel MO8FET, and forms a switching circuit in response to gate signals φp2°φp2 of opposite phase. After the data line pair (DO2Do), (DI, DI) is precharged to the above level by the precharge circuit PC, each data @DO,D is operated by operating the half precharge circuit RPC.
o.

DI、 DI、は電源電圧VCCのほぼ1/2の電圧に
プリチャージされることになる。プリチャージレベルを
1 / 2 VCCとすることにより、メモリセルMC
の情報読出しの際の動作を高速化できる。
DI, DI, will be precharged to a voltage approximately 1/2 of the power supply voltage VCC. By setting the precharge level to 1/2 VCC, the memory cell MC
It is possible to speed up the operation when reading information.

情報読出し時に生じるデータ線の電圧変化の幅は、電源
電圧Vccの1/2に制限されるからである。
This is because the width of the voltage change on the data line that occurs when reading information is limited to 1/2 of the power supply voltage Vcc.

メモリセルMCはフリップフロップ回路を構成する一対
の相補型MO8FET(G30.G32)。
Memory cell MC is a pair of complementary MO8FETs (G30, G32) forming a flip-flop circuit.

(G31.G33)と、伝送用MO8FET G34、
G35とから構成されている。7リツプ70ツブ回路を
相補WMO8FETによって構成することにより、メモ
リセルMCの消費電力を小さくすることができる。メモ
リセルMCはマトリクス状に配置され、メそリアレイM
−ARYを構成する。メモリアレイM−ARYの中の1
つの行を選択するために、各行に対応してワード、Hw
o。
(G31.G33) and MO8FET G34 for transmission,
G35. By constructing the 7-rip, 70-tube circuit using complementary WMO8FETs, the power consumption of the memory cell MC can be reduced. Memory cells MC are arranged in a matrix, and a mesori array M
- Configure ARY. 1 in memory array M-ARY
To select one row, the word, Hw, corresponds to each row.
o.

Wl、・・・が設けられている。各ワード線は、同一行
に配置されたメモリセルMCの各伝送ゲートMO8FE
Tのゲートに共通に接続されている。ワード線WO又は
Wlのうちのいずれか1つを選択的にハイレベルに駆動
ためにワード腺ドライバWDが設けられる。ワードiw
oを駆動するための相補型MO8FET(Q72.Q7
3)と、ワード線Wlを駆動するための相補量MO8F
ET(Q74.Q75)は、第3図の実施例に示す相補
型MO8FET(Q16jQ17)及び(Q18゜Q1
9)と同一構成である。第6図の実施例においても、図
示しないが、第3図に示すアドレス入力回路AICと同
様の回路が設けられる。ワード線ドライバーWD内に設
けられたMO8FETQ76、Q77は、それぞれ内部
アドレス信号aO。
Wl, . . . are provided. Each word line is connected to each transmission gate MO8FE of memory cells MC arranged in the same row.
Commonly connected to the gates of T. A word line driver WD is provided to selectively drive either word line WO or Wl to a high level. word iw
Complementary MO8FET (Q72.Q7
3) and a complementary amount MO8F for driving the word line Wl.
ET (Q74.Q75) are complementary MO8FETs (Q16jQ17) and (Q18°Q1
It has the same configuration as 9). Although not shown in the embodiment of FIG. 6, a circuit similar to the address input circuit AIC shown in FIG. 3 is provided. MO8FETQ76 and Q77 provided in the word line driver WD each receive an internal address signal aO.

aOをゲートに受けて、ワード線WO,Wlのいずれか
一方を強制的にローレベルに固定する。
By receiving aO at the gate, one of the word lines WO and Wl is forcibly fixed to a low level.

デコーダDCRは、その出力線(dl)に対するプリチ
ャージ動作又はディスチャージ動作をタイミング信号φ
に応じて制御するためのMO8FETQ68及びQ71
と、アドレスバッファABの出力信号に基づいて上記出
力!(di)のディスチャージを選択的に行うためのM
O8EETQ69、Q70とを含む、タイミング信号φ
がローレベルからハイレベルにされることにより、M0
SFETQ68がOFF状態、MO8FETQ71がオ
ン状態に移行する。その結果、その時のアドレスバッフ
ァABの出力信号に応じて、デコーダDCRが動作し、
所定期間後出力信号d1のレベルが決定される。
The decoder DCR performs a precharge operation or a discharge operation on its output line (dl) using a timing signal φ.
MO8FET Q68 and Q71 to control according to
and the above output based on the output signal of address buffer AB! M for selectively discharging (di)
Timing signal φ including O8EETQ69 and Q70
By changing from low level to high level, M0
SFETQ68 transitions to the OFF state, and MO8FETQ71 transitions to the ON state. As a result, decoder DCR operates according to the output signal of address buffer AB at that time.
After a predetermined period, the level of the output signal d1 is determined.

データ線対に現れる信号を増幅するためのセンスアンプ
SAは、2つのデータ線対に対して1つの割合で設けら
れている。従って、センスアンプに接続される1つのデ
ータ線対を選択するために、データ線選択回路DSが設
けられている。すなわち、各データ線DO,Do、DI
、DIに対応して、MOSFET(Q44.Q45)、
(Q46゜Q47)、(Q48.Q49)、(Q50.
Q51)が設けられ、スイッチング回路として働(。こ
のスイッチング回路の制御信号として、内部アドレス信
号(ai、ai)が用いられる。センスアンプSAは、
Nチャンネル量の差動増@MOS F ETQ55.Q
56と、これらの差動MO8FETQ55.Q56のド
レインに電流ミラー形態にされたPチャンネル型のMO
8FETQ53.Q54からなるアクティブ負荷回路が
設けられる。上記差動増幅MO8FETQ55.Q56
は、その共通ソースと回路の接地電位点との間に設けら
れ、センスアンプ動作タイミング信号aaeによりてオ
ン状態にされるNチャンネル量のパワースイッチMO8
FETQ57によりて動作状態にされる。
One sense amplifier SA for amplifying signals appearing on the data line pairs is provided for every two data line pairs. Therefore, a data line selection circuit DS is provided to select one data line pair connected to the sense amplifier. That is, each data line DO, Do, DI
, corresponding to DI, MOSFET (Q44.Q45),
(Q46°Q47), (Q48.Q49), (Q50.
Q51) is provided and acts as a switching circuit (internal address signals (ai, ai) are used as control signals for this switching circuit.The sense amplifier SA is
Differential increase in N channel amount @MOS FETQ55. Q
56 and these differential MO8FETQ55. P-channel type MO configured as a current mirror to the drain of Q56
8FETQ53. An active load circuit consisting of Q54 is provided. The above differential amplification MO8FETQ55. Q56
is an N-channel power switch MO8 provided between its common source and the ground potential point of the circuit and turned on by the sense amplifier operation timing signal aae.
It is activated by FETQ57.

なお、タイミング信号1aeによって駆動されるPチャ
ンネル型トランジスタQ52は、上記タイミンクM 号
s a cがローレベルのとキ、センスアンプSAの出
力線!Sが70−ティング状態となることを防止するた
めに設けられる。
Note that the P-channel transistor Q52 driven by the timing signal 1ae is connected to the output line of the sense amplifier SA when the timing signal M is at a low level. This is provided to prevent S from being in a 70-ting state.

出力回路DCは、センスアンプの出力信号をインバータ
N8を介して、タイミング信号φR9φRに同期して取
り込むためのMOSFET(Q62゜Q63)と、この
取り込み信号を保持するためのラッチ回路を構成するイ
ンバータN9.NIOと、タイきング信号φ0.φOに
同期してSRAMの外部に出力信号Doutを送出する
ための出力バッ7アを構成するMO8FETQ64.Q
65.Q66、Q67とを含む、書込み回路WCは、タ
イミング信号φW、φWに同期して書込み信号din’
1.dialを取り込むためのMO8FETQ58゜Q
59.Q60.Q61を含む。コントロール回路C0N
T2は、SRAMの外部から印加されるチップイネーブ
ル信号CE、読み出し/Vき込みル侶号OEを受けて、
各株内部制御信号を形成する。
The output circuit DC includes a MOSFET (Q62°Q63) for capturing the output signal of the sense amplifier via an inverter N8 in synchronization with the timing signal φR9φR, and an inverter N9 forming a latch circuit for holding this captured signal. .. NIO and timing signal φ0. MO8FETQ64.COM constitutes an output buffer for sending an output signal Dout to the outside of the SRAM in synchronization with φO. Q
65. The write circuit WC including Q66 and Q67 outputs a write signal din' in synchronization with the timing signals φW and φW.
1. MO8FETQ58゜Q to take in dial
59. Q60. Including Q61. Control circuit C0N
T2 receives a chip enable signal CE and a read/V input signal OE applied from outside the SRAM.
Each strain forms internal control signals.

第7図は、第6図に示すSRAMの動作波形図である。FIG. 7 is an operational waveform diagram of the SRAM shown in FIG. 6.

期間T1はライトサイクル、期間T2゜T4はリードサ
イクルを示す。期間T3は読出しも書き込みも行なわれ
ない状態すなわちウェイト期間を示す。期間TI、T2
及びT4はいずれもメモリサイクルであり、基本的な動
作は同じなので、期間T2のリードサイクルについて説
明する。
Period T1 represents a write cycle, and periods T2 to T4 represent a read cycle. Period T3 indicates a state in which neither reading nor writing is performed, that is, a wait period. Period TI, T2
and T4 are memory cycles, and the basic operations are the same, so the read cycle of period T2 will be explained.

読み出すべき情報が記憶された1つ又は複数のメモリセ
ルMCを指定するためのアドレス信号A。
Address signal A for specifying one or more memory cells MC in which information to be read is stored.

〜AmがアドレスバッファABに供給される。また、リ
ードサイクルであることを指定するために、読み出し/
書き込み制御信号R/Wがハイレベルにされる、チップ
イネーブル信号CEがハイレベルにされると、これに同
期してタイミング信号φがハイレベルにされ、デコーダ
DCRが動作を開始する。デコーダDCHの動作が終了
するまでは、その出力線d1の電位はノ・イレベルを維
持する。
~Am is supplied to address buffer AB. Also, to specify that it is a read cycle, read/write
When the write control signal R/W is set to high level and the chip enable signal CE is set to high level, the timing signal φ is set to high level in synchronization with this, and the decoder DCR starts operating. Until the operation of decoder DCH is completed, the potential of its output line d1 maintains the no level.

出力i!i15!diの電位は予めハイレベルにプリチ
ャージされているからである。制御信号DUMがローレ
ベルの期間、内部アドレス信号aO,aoはともにロー
レベルにされる。従ってデコーダDCHの出力にかかわ
らずワードiWo、Wlはいずれもロウレベルに固定さ
れる。なお、制御信号DUMのローレベルへの立下がり
応じて無条件に内部アドレス信号ao、aOがローレベ
ルにされると誤動作を生じる場合がある。メモリセルM
Cの情報が、データ線対に伝達されている最中に、誤り
て制御信号DUMがローレベルにされると、全ワード線
がローレベルにされ、その後データ線対に情報が伝達さ
れなくなるからである。そこで制御信号DUMがローレ
ベルにされたとき、チップイネーブル信号CEがローレ
ベル状態ならば内部アドレス信号ao、、aOをローレ
ベルにし、チップイネーブル信号CEがハイレベル状態
ならば内部アドレス信号ao、+aOをアドレス信号A
Oに応じた相補信号レベルに維持する様に制御される。
Output i! i15! This is because the potential of di is precharged to a high level. While the control signal DUM is at a low level, both internal address signals aO and ao are at a low level. Therefore, words iWo and Wl are both fixed at low level regardless of the output of decoder DCH. Note that if the internal address signals ao and aO are unconditionally set to a low level in response to the fall of the control signal DUM to a low level, a malfunction may occur. Memory cell M
If the control signal DUM is erroneously set to low level while the information of C is being transmitted to the data line pair, all word lines will be set to low level and no information will be transmitted to the data line pair thereafter. It is. Therefore, when the control signal DUM is set to a low level, if the chip enable signal CE is at a low level, the internal address signals ao, , aO are set to a low level, and if the chip enable signal CE is at a high level, the internal address signals ao, +aO are set to a low level. address signal A
It is controlled so as to maintain the complementary signal level according to O.

制御信号DUMのローレベルへの立下がりに同期して、
タイミング信号φp1が立 がる。その結果データ線D
Oがハイレベルにプリチャージされ、データ線DOがロ
ーレベルにされる。その後タイミング信号φp2の立上
がりによって、ハーフプリチャージ回路HPCが動作し
、データ&DO2DOがともに電源電圧VCCの1/2
の電圧にプリチャージされる。
In synchronization with the fall of the control signal DUM to low level,
Timing signal φp1 rises. As a result, data line D
O is precharged to high level, and data line DO is set to low level. After that, the half precharge circuit HPC is activated by the rise of the timing signal φp2, and both data &DO2DO are 1/2 of the power supply voltage VCC.
is precharged to the voltage of

以上のプリチャージ動作と並行して、言い換えるならば
、チップ選択信号CEのハイレベルによりて形成される
動作タイミング信号φによりアドレスデコーダ回路DC
Rは、その時に入力されたアドレス信号解読を行い、そ
の動作時間Tdの後に例えば1つの選択信号d1をロウ
レベルにする。
In parallel with the above precharge operation, in other words, the address decoder circuit DC is activated by the operation timing signal φ generated by the high level of the chip selection signal CE.
R decodes the address signal input at that time and sets, for example, one selection signal d1 to a low level after the operation time Td.

これらのアドレス信号AIないしAmの解読に要する動
作時間Tdの経過の前に、上記制御信号DUMはハイレ
ベルにされる。これによやて、内部相補アドレス信号a
o、ioは、アドレス信号AOのレベルに従ったハイレ
ベルとロウレベルにされる。上記アドレス信号AOがハ
イレベルなら、非反転の内部アドレス信号aOがハイレ
ベルにされ、上記アドレスデコーダ回路DCHの出力信
号diのロウレベルによってオン状態にされるPチャン
ネルMO8FETQ74を通してワード線Wlがハイレ
ベルの選択レベルにされる。なお、ワード線WOは、上
記デコード出力信号d1のはウレベルによりてPチャン
ネルMO8FETQ73がオン状態にされるが、反転の
内部アドレス信号aOのロウレベルによってロウレベル
の非選択レベルのままに維持される。
Before the operating time Td required for decoding these address signals AI to Am has elapsed, the control signal DUM is set to a high level. As a result, internal complementary address signal a
o and io are set to high and low levels according to the level of address signal AO. When the address signal AO is at a high level, the non-inverted internal address signal aO is set at a high level, and the word line Wl is set at a high level through the P-channel MO8FETQ74, which is turned on by the low level of the output signal di of the address decoder circuit DCH. be brought to a selective level. Note that the P-channel MO8FET Q73 of the word line WO is turned on by the high level of the decoded output signal d1, but is maintained at the low non-selection level by the low level of the inverted internal address signal aO.

上記実施例から明らかな様に、この発明によれば、デコ
ーダDCHによるアドレス信号解読動作と並行して、デ
ータ線DO,Doのプリチャージ動作が行なわれる。従
りて、データ線DO,D。
As is clear from the embodiments described above, according to the present invention, the precharge operation of the data lines DO, Do is performed in parallel with the address signal decoding operation by the decoder DCH. Therefore, data lines DO, D.

をプリチャージするための専用期間を設ける必要がない
。特に上記実施例によれば、デコーダDCRの出力信号
diが形成される直前に、プリチャージ動作が終了する
。従って、チップ選択信号CEがハイレベルにされてか
ら出力データDoutが送出されるまでのメモリアクセ
ス時間が、上記プリチャージ動作によって延長されるこ
とがない。
There is no need to set up a dedicated period for precharging. In particular, according to the above embodiment, the precharge operation ends immediately before the output signal di of the decoder DCR is formed. Therefore, the memory access time from when the chip selection signal CE is set to high level until the output data Dout is sent out is not extended by the precharge operation.

リードサイクルの後のウェイト期間T3が長い場合、デ
ータiDO,Doの電位は、リーク電流等によって不定
な電位Vdとなる。しかし、この発明に従えば、期間T
4のリードサイクルにおいて、まずデータ線DO,DO
のプリチャージ動作が行なわれるので、ウェイト期間T
3が長くても問題ない。
If the wait period T3 after the read cycle is long, the potential of the data iDO, Do becomes an unstable potential Vd due to leakage current or the like. However, according to this invention, the period T
In the read cycle No. 4, data lines DO and DO are first read.
Since the precharge operation is performed, the wait period T
There is no problem even if 3 is long.

なお、デコーダDCHの動作時間が短い場合でありても
、メモリセル情報の破壊等の誤動作は生じない。少なく
ともプリチャージ信号φp1又はφp2がハイレベルの
期間は、制御111信号DUMに従りて、内部アドレス
信号io、aOが共にロウレベルにされているからであ
る。
Note that even if the operating time of the decoder DCH is short, malfunctions such as destruction of memory cell information do not occur. This is because, at least during the period when precharge signal φp1 or φp2 is at high level, internal address signals io and aO are both at low level according to control 111 signal DUM.

上記実施例では、制御信号DUMをSRAMの外部から
供給しているが、これに限定されず、チツブ選択信号C
Eを受ける内部回路によりて形成し【もよい。特に、S
RAM専用のICチップの場合には、ポンディングパッ
ド数又はICパッケージの外部リードの数の制約を受け
る場合がある。
In the above embodiment, the control signal DUM is supplied from outside the SRAM, but the chip selection signal C
It may be formed by an internal circuit that receives E. In particular, S
In the case of an IC chip dedicated to RAM, there may be restrictions on the number of bonding pads or the number of external leads of the IC package.

従って、この場合には、制御信号DUM発生用内部回路
を設げればよい。
Therefore, in this case, an internal circuit for generating the control signal DUM may be provided.

〔効果〕〔effect〕

本発明に従った上記実施例によれば、以下の効果を得る
ことができる。
According to the above embodiment according to the present invention, the following effects can be obtained.

(1)  %別なプリチャージ期間を設けることなく、
メモリセルのアクセスを行うことができるから、メモリ
サイクルを短くできる、言い換えるならば、動作の高速
化を図ることができる。
(1) Without setting a pre-charge period for each percentage,
Since the memory cells can be accessed, the memory cycle can be shortened, or in other words, the operation speed can be increased.

(2)特定の1ないし複数ビットの相補アドレス信号を
共に非選択レベル圧するという簡単な構成によりて、全
ワード線を非選択状態にすることができる。
(2) All word lines can be brought into a non-selected state by a simple configuration in which complementary address signals of one or more specific bits are both applied to a non-selecting level.

(3)  アドレス信号を受ける縦列形態のCMOSイ
ンバータ回路の一方の動作電圧端子に、制御信号に従っ
たレベルの電圧を供給するという簡単な構成によって、
内部相補アドレス信号を共に同じレベルの信号とするこ
とができる。これによって、全メモリセルの非選択状態
を作り出すことができる。
(3) With a simple configuration in which a voltage at a level according to the control signal is supplied to one operating voltage terminal of a cascade-type CMOS inverter circuit that receives an address signal,
Both internal complementary address signals can be at the same level. This makes it possible to create a non-selected state for all memory cells.

以上の説明では主として、本願発明者によってなされた
発明をその背景となった技術分野であるディジタル集積
回路に内蔵されるスタティック型RAMに適用した場合
を例にして説明したが、これに限定されるものではなく
、例えばlチップマイクロコンビーータに内蔵されるス
タティック型RAM、プリチャージ/ディスチャージに
よる読み出しが行われるROM或いは外部記憶装置とし
ての同様な半導体記憶装置にも利用できるものである。
In the above explanation, the invention made by the inventor of the present application has been mainly explained using as an example the case where it is applied to a static RAM built in a digital integrated circuit, which is the technical field that is the background of the invention, but the present invention is not limited to this. It can also be used, for example, in a static RAM built into an l-chip microconverter, a ROM read by precharge/discharge, or a similar semiconductor storage device as an external storage device.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、この発明が適用されるSRAMが内翼された
ICチップの平面図、 第2図は、上記SRAMのレイアウト図、第3図は、こ
の発明が適用されたSRAMの一実施例を示す回路図、 第4図は、第3図に示す回路の動作を示すタイミング図
、 第5図は、第3図に示す回路の一部の他の実施例を示す
回路図、 第6図は、この発明が適用されたSRAMの他の実施例
を示す回路図、 第7図は、第6図に示す回路の動作を示すタイミング図
である。 工10バッファ・・・入出力バッ7ア、BP・・・ワイ
ヤボンディング用パッド、EU・・・演算回路部、工U
・・・命令、メモリアクセス制御部、OU・・・オペラ
ンド制御部、SU・・・割込み制御部、QU・・・マイ
クロ命令、スキャン制御部、M−ARY、M−ARYl
、2・・・メモリアレイ、DCR・・・アドレスデコー
ダ、WD、WDI、2・・・ワード線駆動回路、AB/
C0NT・・・アドレスバッファ/内部制御回路、MC
・・・メモリセル、AIC・・・アドレス入力回路、W
AO・・・誓込み回路、RAO・・・読み出し回路、O
C・・・出力回路、DS・・・データ線選択回路、PC
・・・プリチャージ回路、RPC・・・ハーフプリチャ
ージ回路、Ilo・・・入出力制゛御回路、SA・・・
センスアンプ。 代理人 弁理士  小 川 勝 男′ 第 1  図 sp          ap 第2図 j!’f5図 第  3   図 第4図 第  6   図
FIG. 1 is a plan view of an IC chip to which an SRAM to which the present invention is applied has an inner wing, FIG. 2 is a layout diagram of the above-mentioned SRAM, and FIG. 3 is an example of an SRAM to which the present invention is applied. FIG. 4 is a timing diagram showing the operation of the circuit shown in FIG. 3; FIG. 5 is a circuit diagram showing another embodiment of a part of the circuit shown in FIG. 3; FIG. 7 is a circuit diagram showing another embodiment of the SRAM to which the present invention is applied. FIG. 7 is a timing diagram showing the operation of the circuit shown in FIG. 6. Engineering 10 buffer...Input/output buffer 7 buffer, BP...Wire bonding pad, EU...Arithmetic circuit section, Engineering U
...instruction, memory access control unit, OU...operand control unit, SU...interrupt control unit, QU...microinstruction, scan control unit, M-ARY, M-ARYl
, 2...Memory array, DCR...Address decoder, WD, WDI, 2...Word line drive circuit, AB/
C0NT...address buffer/internal control circuit, MC
...Memory cell, AIC...Address input circuit, W
AO: Commitment circuit, RAO: Readout circuit, O
C...Output circuit, DS...Data line selection circuit, PC
...Precharge circuit, RPC... Half precharge circuit, Ilo... Input/output control circuit, SA...
sense amplifier. Agent Patent Attorney Katsuo Ogawa' Figure 1 sp ap Figure 2 j! 'f5 Figure 3 Figure 4 Figure 6

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、データ線と複数のワード線との交差点にそれぞれ設
けられる複数のメモリセルと、 タイミング信号に同期して上記データ線に所定の電位を
与えるためのチャージ回路と、 半導体メモリを選択する選択信号に同期して上記複数の
ワード線の中から所定のワード線を選択するための選択
回路とを備え、 上記チャージ回路の動作期間と上記選択回路の動作期間
とが少なくとも一部において重なる様にされることを特
徴とする半導体メモリ。 2、上記データ線は一対のデータ線によって構成される
スタティック型RAMであることを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載の半導体メモリ。 3、上記選択回路はアドレス信号を解読するデコーダを
含むことを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の半導
体メモリ。 4、上記チャージ回路の動作時に上記複数のワード線の
電位を非選択レベルとする手段を有するワード線駆動回
路を含むことを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の
半導体メモリ。 5、上記チャージ回路は、一対のデータ線の電位を電源
電圧の1/2の電圧に設定するための手段を有すること
を特徴とする特許請求の範囲第4項記載の半導体メモリ
。 6、1つのアドレス信号から形成される相補アドレス信
号を共に非選択レベルとする手段を有するアドレス入力
回路を含み、他のアドレス信号を解読するデコーダの出
力信号と上記アドレス入力回路の出力信号により上記ワ
ード線駆動回路が制御されることを特徴とする特許請求
の範囲第4項記載の半導体メモリ。
[Claims] 1. A plurality of memory cells each provided at the intersection of a data line and a plurality of word lines, a charge circuit for applying a predetermined potential to the data line in synchronization with a timing signal, and a semiconductor. a selection circuit for selecting a predetermined word line from the plurality of word lines in synchronization with a selection signal for selecting a memory, and an operation period of the charge circuit and an operation period of the selection circuit are at least the same. 1. A semiconductor memory characterized in that parts of the semiconductor memory overlap each other. 2. The semiconductor memory according to claim 1, wherein the data line is a static type RAM constituted by a pair of data lines. 3. The semiconductor memory according to claim 2, wherein the selection circuit includes a decoder for decoding the address signal. 4. The semiconductor memory according to claim 3, further comprising a word line drive circuit having means for setting the potentials of the plurality of word lines to a non-select level during operation of the charge circuit. 5. The semiconductor memory according to claim 4, wherein the charge circuit has means for setting the potential of the pair of data lines to 1/2 of the power supply voltage. 6. includes an address input circuit having means for setting complementary address signals formed from one address signal to a non-select level; 5. The semiconductor memory according to claim 4, wherein a word line drive circuit is controlled.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008152919A (en) * 2004-07-30 2008-07-03 United Memories Inc Integrated circuit device including at least one random access memory array, and method for operation thereof
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