JPS6326658A - Photosensitive body - Google Patents

Photosensitive body

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JPS6326658A
JPS6326658A JP5577287A JP5577287A JPS6326658A JP S6326658 A JPS6326658 A JP S6326658A JP 5577287 A JP5577287 A JP 5577287A JP 5577287 A JP5577287 A JP 5577287A JP S6326658 A JPS6326658 A JP S6326658A
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JP
Japan
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layer
film
photoreceptor
charge transport
charge
Prior art date
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Pending
Application number
JP5577287A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mochikiyo Osawa
大澤 以清
Shuji Iino
修司 飯野
Hideo Yasutomi
英雄 保富
Mitsutoshi Nakamura
中村 光俊
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Minolta Co Ltd
Original Assignee
Minolta Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Minolta Co Ltd filed Critical Minolta Co Ltd
Publication of JPS6326658A publication Critical patent/JPS6326658A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/07Polymeric photoconductive materials

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enhance electric charge transfer performance and electrifiability by forming a charge transfer layer through plasma polymerization of hydrocarbon, and specifying a ratio of the peak adsorption coefficient of methyl and methylene groups to that of methyl group in the infrared absorption spectra. CONSTITUTION:The functionally separated photosensitive body is provided on a conductive substrate 1 with a charge generating layer 3 and the charge transfer layer 2, and this layer 2 is formed by the plasma polymerization of hydrocarbon, and this polymer film 2 has the peak absorption coefficient alpha1 of the infrared absorption spectra due to the methyl (-CH3-) and methylene (-CH2-) groups near 1,460-1,470cm<-1> and that alpha2 due to the methyl (-CH3-) near 1,380cm<-1>, and the ratio alpha1/alpha2 is regulated to 0.5-5.0, thus permitting the polymer film 2 to be superior in light transmittance, considerably high in dark resistivity, and rich in charge transfer performance, and the film 2 to transfer carriers without producing charge traps.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は感光体、特に電子写真感光体に関する。[Detailed description of the invention] Industrial applications The present invention relates to photoreceptors, particularly electrophotographic photoreceptors.

従来技術 カールソン法の発明以来、電子写真の応用分野は著しい
発展を続け、電子写真用感光体にも様々な材料が開発さ
れ実用化されてきた。
BACKGROUND OF THE INVENTION Since the invention of the Carlson method, the application field of electrophotography has continued to make remarkable progress, and various materials have been developed and put into practical use for electrophotographic photoreceptors.

従来用いられて来た電子写真感光体材料の主なものとし
ては、非晶質セレン、セレン砒素、セレンテルル、硫化
カドミウム、酸化亜鉛、アモルファスシリコン等の無機
物質、ポリビニルカルバゾール、金属フタロシアニン、
ノスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、ペリレン顔料、トリフ
ェニルメタン化合物、トリフェニルアミン化合物、ヒド
ラゾン化合物、スチリル化合物、ピラゾリン化合物、オ
キサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、等の有機
物質が挙げられる。
The main electrophotographic photoreceptor materials conventionally used include inorganic substances such as amorphous selenium, selenium arsenide, selenium telluride, cadmium sulfide, zinc oxide, amorphous silicon, polyvinyl carbazole, metal phthalocyanine,
Examples of organic substances include nosazo pigments, trisazo pigments, perylene pigments, triphenylmethane compounds, triphenylamine compounds, hydrazone compounds, styryl compounds, pyrazoline compounds, oxazole compounds, and oxadiazole compounds.

また、その構成形態としては、これらの物質を単体で用
いる単層型構成、結着材中に分散させて用いるバンダー
型構成、機能別に電荷発生層と電荷輸送層とを設ける積
層型)3成等が挙げられる。
The configurations include a single-layer structure using these substances alone, a bander-type structure using them dispersed in a binder, and a multilayer structure in which a charge generation layer and a charge transport layer are provided for each function. etc.

しかしながら、従来用いられてきた電子写真感光体材料
にはそれぞれ欠点があった。
However, the conventionally used electrophotographic photoreceptor materials each have drawbacks.

その一つとして人体への有害性が挙げられるが、前述し
たアモルファスシリコンを除く無機物質においては、い
ずれら好ましくない性質を持つらのであった。
One of these is its toxicity to the human body, but all inorganic substances other than the aforementioned amorphous silicon have unfavorable properties.

また、電子写真感光体が実際に複写機内で用いられるた
めには、帯電、露光、現像、転写、除電、t#掃等の苛
酷な環境条件にさらされた場合においてら、常に安定な
性能を維持している必要があるが、前述した有機物質に
おいては、いずれも耐久性に乏しく、性能面での不安定
要素が多かった。
In addition, in order for an electrophotographic photoreceptor to be actually used in a copying machine, it must always have stable performance even when exposed to harsh environmental conditions such as charging, exposure, development, transfer, static elimination, and T# cleaning. However, all of the organic substances mentioned above have poor durability and many unstable factors in terms of performance.

このような問題点を解決すべく近年、感光体、特に電子
写真用感光体にプラズマ化学蒸着法(以下、プラズマC
VD法という)により作製されたアモルファスシリコン
(以下、a−Siと略す)が採用されるに至っている。
In order to solve these problems, in recent years, plasma chemical vapor deposition (hereinafter referred to as plasma chemical vapor deposition) has been applied to photoreceptors, especially electrophotographic photoreceptors.
Amorphous silicon (hereinafter abbreviated as a-Si) produced by a VD method (VD method) has come to be used.

a−9i悪感光は種々の優れた特性を有する。しかしa
−Siは比誘電率εが12程度と大きいため、感光体と
して充分な表面電位を得るためには、本質的に最低20
μm程度の膜厚が必要であるという問題がある。a −
S i感光体は、プラズマCVD法においては膜の堆積
速度が遅いため作製に長時間を要し、さらに均質な膜の
a−Siを得ることが作製時間が長くなる程難しくなる
。その結果、a−9t感光体は白斑点ノイズ等の画像欠
陥が発生する確率が高(、さらに原料費が高いという欠
点等がある。
The a-9i sensitizer has various excellent properties. But a
-Si has a large relative dielectric constant ε of about 12, so in order to obtain a sufficient surface potential as a photoreceptor, essentially a minimum of 20
There is a problem in that a film thickness of approximately μm is required. a-
In the plasma CVD method, the Si photoreceptor requires a long time to produce because the film deposition rate is slow, and the longer the production time becomes, the more difficult it becomes to obtain a homogeneous a-Si film. As a result, the a-9t photoreceptor has a high probability of generating image defects such as white spot noise (and also has drawbacks such as high raw material costs).

上記の欠点を改良するための種々の試みがなされている
が、本質的に膜厚をこれより薄くすることは好ましくな
い。
Although various attempts have been made to improve the above drawbacks, it is essentially not desirable to make the film thinner than this.

一方、a −S i感光体は基板とa−9iとの密着性
、さらに耐コロナ性、耐環境性あるいは耐薬品性が悪い
といった欠点も存在する。
On the other hand, the a-Si photoreceptor also has drawbacks such as poor adhesion between the substrate and a-9i, as well as poor corona resistance, environmental resistance, and chemical resistance.

そのような問題点を解消するため有機プラズマ重合膜を
a −S i感光体のオーバーコート層あるいはアンダ
ーコート層として設ける事が提案されている。前者の例
は、例えば特開昭60−61761号公報、特開昭59
−214859号公報、特開昭5.1−46130号公
報あるいは特開昭50−20728号公報等が知られて
おり、後者の例としては、例えば特開昭60−6354
1号公報、特開昭59−136742号公報、特開昭5
9−38753号公報、特開昭59−28161号公報
等が知られている。
In order to solve such problems, it has been proposed to provide an organic plasma polymerized film as an overcoat layer or undercoat layer of an a-Si photoreceptor. Examples of the former are, for example, JP-A-60-61761 and JP-A-59.
JP-A-214859, JP-A-5.1-46130, JP-A-50-20728, etc. are known, and examples of the latter include, for example, JP-A-60-6354.
Publication No. 1, JP-A-59-136742, JP-A-5
Publication No. 9-38753, Japanese Unexamined Patent Publication No. 59-28161, etc. are known.

有機プラズマ重合膜はエチレンガス、ベンゼン、芳香族
シラン等のあらゆる種類の有機化合物のガスから作製で
きること(例えばニー、ティ、ベル(A、T、Be1l
)、エム、ジエン(M、5hen)ら、ジャーナル オ
ブ アプライド ポリマー サイエンス(Journa
l of Applied Polymer 5cie
nce)、第17巻、885−892頁(1973年)
等)が知られているが、従来の方法で作製した有機プラ
ズマ重合膜は絶縁性を前掲とした用途に限って用いられ
ている。従って、それらの膜は通常のポリエチレン膜の
ごと<10”ΩCZ程度の電気抵抗を有する絶縁膜と考
えられ、あるいは少なくともその様な膜であるとの認識
のもとに用いられていた。
Organic plasma polymerized films can be prepared from all kinds of organic compound gases such as ethylene gas, benzene, and aromatic silanes (e.g., Ni, T, Be1l).
), M, 5hen, et al., Journal of Applied Polymer Science (Journa
l of Applied Polymer 5cie
nce), Vol. 17, pp. 885-892 (1973)
etc.), but organic plasma polymerized films produced by conventional methods are used only for the above-mentioned applications with insulating properties. Therefore, these films were considered to be insulating films having an electrical resistance of about <10'' ΩCZ like ordinary polyethylene films, or at least were used with the understanding that they were such films.

特開昭60−61761号公報記載の技術は、500人
〜2μmのダイヤモンド状炭素絶縁膜を表面保護層とし
て被覆した感光体を開示している。
The technique described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-61761 discloses a photoreceptor coated with a diamond-like carbon insulating film having a thickness of 500 to 2 μm as a surface protective layer.

この炭素薄膜はa−9i悪感光の耐コロナ放電およびl
l!減的強度を改良するためのものである。重合膜は非
常に薄く、電荷はトンネル効果により膜中を移動し、膜
自体電荷輸送能を必要としない。また、有機プラズマ重
合膜のキャリアー輸送性に関しては一切記載がないし、
a−9iの持つ前記した本質的問題を解決するものでな
い。
This carbon thin film has a-9i photocorona discharge resistance and l
l! This is to improve the loss strength. The polymer membrane is very thin, and charges move through the membrane through the tunnel effect, so the membrane itself does not require charge transport ability. Furthermore, there is no mention of the carrier transport properties of organic plasma polymerized films;
It does not solve the above-mentioned essential problems of the a-9i.

特開昭59−214859号公報には、エチレンやアセ
チレン等の有機炭化水素モノマーをプラズマ重合により
厚さ5μm程度の有機透明膜をオーバーコート層として
被膜する技術か開示されているが、その層はa−9i悪
感光の剥離、耐久性、ピンホール、生産効率を改良する
乙のである。有機プラズマ重合膜のキャリアー輸送性に
関しては一切記載がないし、a −S iの持つ前記し
た本質的問題を解決するものでない。
JP-A No. 59-214859 discloses a technique in which an organic hydrocarbon monomer such as ethylene or acetylene is coated as an overcoat layer with a thickness of about 5 μm by plasma polymerization. A-9i Improves peeling, durability, pinholes, and production efficiency. There is no description whatsoever regarding the carrier transport properties of organic plasma polymerized films, and it does not solve the above-mentioned essential problems of a-Si.

特開昭51−46130号公報には、N−ビニルカルバ
ゾールをグロー放電により、表面に厚さ3μm〜0.0
01μmの有機プラズマ重合膜を形成した感光体を開示
している。この技術は、正帯電でしか使用できなかった
ポリ−N−ビニルカルバゾール系感光体を両極性帯電で
使用可能にすることを目的とする。この膜は0.001
〜3μmと非常に薄く、オーバーコート的に使用される
JP-A No. 51-46130 discloses that N-vinylcarbazole is coated on the surface with a thickness of 3 μm to 0.0 μm by glow discharge.
A photoreceptor on which an organic plasma polymerized film of 0.01 μm is formed is disclosed. The purpose of this technology is to make it possible to use a poly-N-vinylcarbazole photoreceptor, which could only be used with positive charging, with bipolar charging. This film is 0.001
It is very thin at ~3 μm and is used as an overcoat.

重合膜は非常に薄く、電荷輸送能を必要としないらのと
考えられる。また、重合膜のキャリアー輸送性に関して
は一切記載がないし、a−9iの持つ前記した本質的問
題を解決するものでない。
It is thought that the polymer membrane is very thin and does not require charge transport ability. Furthermore, there is no description whatsoever regarding the carrier transportability of the polymeric membrane, and it does not solve the above-mentioned essential problems of a-9i.

特開昭50−20728号公報には、基板上に増感層、
何機先導電性電気絶縁体とを順次積層し、さらにその上
に厚さ0.1〜1μmのグロー放電重合膜を形成する技
術が開示されているが、この膜は湿式現像に耐えるよう
に表面を保護する目的のものであり、オーバーコート的
に使用される。
JP-A No. 50-20728 discloses a sensitizing layer on a substrate,
A technique has been disclosed in which a number of conductive electrical insulators are sequentially laminated and a glow discharge polymer film with a thickness of 0.1 to 1 μm is formed on top of the film. It is intended to protect the surface and is used as an overcoat.

重合膜は非常に薄く、電荷輸送能を必要としない。Polymerized membranes are very thin and do not require charge transport capabilities.

また、重合膜のキャリアー輸送性に関しては一切記載が
ないし、a−Siの持つ前記した本質的問題を解決する
ものでない。
Furthermore, there is no description whatsoever regarding the carrier transport properties of the polymeric membrane, and it does not solve the above-mentioned essential problems of a-Si.

特開昭60−63541号公報は、a−Siのアンダー
コート層に200人〜2μmのダイヤモンド状有機プラ
ズマ重合膜を使用した感光体について開示しているが、
その有機プラズマ重合膜は基板とa−Stの密着性を改
善する目的のものである。
JP-A-60-63541 discloses a photoreceptor using a diamond-like organic plasma polymerized film of 200 to 2 μm as an a-Si undercoat layer.
The purpose of this organic plasma polymerized film is to improve the adhesion between the substrate and a-St.

重合膜は非常に薄くてよく、電荷はトンネル効果により
膜中を移動し、膜自体は電荷輸送能を必要としない。ま
た、G機プラズマ重合膜のキャリアー輸送性に関しては
一切記載がないし、a−8iの持つ前記した本質的問題
を解決するしのでない。
Polymerized membranes can be very thin, charges move through the membrane by tunneling, and the membrane itself does not require charge transport capabilities. Further, there is no description whatsoever regarding the carrier transport properties of the G-machine plasma polymerized film, and there is no solution to the above-mentioned essential problems of a-8i.

特開昭59−28161号公報には、基板上に有機プラ
ズマ重合膜、a−3iを順次形成した感光体が開示され
ている。有機プラズマ重合膜は、その絶縁性を利用した
アンダーコート層でありブロッキング層、接着層あるい
は剥離防止層として機能するものである。重合膜は非常
に薄くてよく、電荷はトンネル効果により膜中を移動し
、膜自体は電荷輸送能を必要としない。また、有機プラ
ズマ重合膜のキャリアー輸送性に関しては一切記載がな
いし、a−Stの持つ前記した本質的問題を解決するも
のでない。
JP-A-59-28161 discloses a photoreceptor in which an organic plasma polymerized film and a-3i are sequentially formed on a substrate. The organic plasma polymerized film is an undercoat layer that takes advantage of its insulating properties and functions as a blocking layer, adhesive layer, or peel prevention layer. Polymerized membranes can be very thin, charges move through the membrane by tunneling, and the membrane itself does not require charge transport capabilities. Further, there is no description whatsoever regarding the carrier transport properties of the organic plasma polymerized film, and it does not solve the above-mentioned essential problems of a-St.

特開昭59−38753号公報には酸素、窒素および炭
化水素の混合ガスからプラズマ重合により10〜100
人の有機プラズマ重合薄膜を形成し、その上にa−9i
層を成膜する技術が開示されている。有機プラズマ重合
膜は、その絶縁性を利用したアンダーコート層でありブ
ロッキング層あるいは剥離防止層として機能するもので
ある。重合膜は非常に薄くてよく、電荷はトンネル効果
により膜中を移動し、膜自体は電荷輸送能を必要としな
い。また、何機プラズマ重合膜のキャリアー輸送性に関
しては一切記載がないし、a−Siの持つ前記した本質
的問題を解決するものでない。
JP-A No. 59-38753 discloses that 10 to 100
Form an organic plasma polymerized thin film on top of the a-9i
Techniques for depositing layers are disclosed. The organic plasma polymerized film is an undercoat layer that takes advantage of its insulating properties, and functions as a blocking layer or a peel-preventing layer. Polymerized membranes can be very thin, charges move through the membrane by tunneling, and the membrane itself does not require charge transport capabilities. Further, there is no description whatsoever regarding the carrier transport properties of plasma polymerized membranes, and the above-mentioned essential problems of a-Si are not solved.

特開昭59−136742号公報には、基板上に約5μ
mの有機プラズマ重合膜、シリコン膜を順次形成する半
導体装置が開示されている。しかし、その有機プラズマ
重合膜は、基板であるアルミニウムのa−5iへの拡散
を防止する目的のものであるが、その作製法、膜質等に
関しては一切記載がない。また、有機プラズマ重合膜の
キャリアー輸送性に関しても一切記載がないし、a−9
iの持つ前記した本質的問題を解決するものでない。
Japanese Patent Application Laid-open No. 59-136742 discloses that about 5μ
A semiconductor device is disclosed in which an organic plasma polymerized film and a silicon film of m are sequentially formed. However, although the purpose of this organic plasma polymerized film is to prevent the diffusion of aluminum, which is a substrate, into the a-5i, there is no description of its preparation method, film quality, etc. Furthermore, there is no description whatsoever regarding the carrier transport properties of organic plasma polymerized films, and a-9
It does not solve the above-mentioned essential problem of i.

発明が解決しようとする問題点 以上のように、従来、感光体に用いられている有機重合
膜はアンダーコート層あるいはオーバーコート層として
使用されていたが、それらはキャリアの輸送機能を必要
としない膜であって、何機重合膜が絶縁性であるとの判
断にたって用いられている。従ってその厚さも高々5μ
肩程度の極めて薄い膜としてしか用いられず、キャリア
はトンネル効果で膜中を通過するか、トンネル効果が期
待できない場合には、実用上の残留電位としては問題に
ならないですむ程度の薄い膜でしか用いられていない。
Problems to be Solved by the Invention As mentioned above, organic polymer films conventionally used in photoreceptors have been used as undercoat layers or overcoat layers, but these do not require a carrier transport function. It is a membrane, and some polymeric membranes are used based on the judgment that they are insulating. Therefore, its thickness is at most 5μ
It is used only as an extremely thin film, about the size of a shoulder, and the carriers pass through the film through the tunnel effect, or if a tunnel effect cannot be expected, the film is thin enough that there is no problem with the residual potential in practical use. only used.

本発明者らは、有機重合膜の感光体への応用を検討して
いるうちに、本来絶縁性であると考えられていた有機重
合膜がメチル基含量を増加させることにより、電気抵抗
が低下し、電荷輸送性を示し始める事を見い出した。
While considering the application of organic polymer films to photoreceptors, we found that organic polymer films, which were originally thought to be insulating, decreased electrical resistance by increasing the content of methyl groups. It was discovered that the material began to exhibit charge transport properties.

本発明はその新たな知見を利用することにより、従来の
a −S i感光体の持つ問題点、すなわちa−9iの
膜厚、製造時間、製造コスト等における問題点等をすべ
て解消し、また従来とは全く使用目的も、特性も異なる
有機重合膜、特に有機プラズマ重合膜を使用した感光体
およびその製造方法を提供することを目的とする。
By utilizing this new knowledge, the present invention solves all the problems of conventional a-Si photoreceptors, such as problems in the film thickness of a-9i, manufacturing time, manufacturing cost, etc. It is an object of the present invention to provide a photoreceptor using an organic polymer film, particularly an organic plasma polymer film, which has completely different purposes and characteristics from conventional ones, and a method for manufacturing the same.

間厘点を解決するための 段 即ち、本発明は電荷発生層(3)と電荷輸送層(2)と
を有する機能分離型感光体において、電荷輸送層(2)
として炭化水素のプラズマ重合膜を設け、該重合膜の赤
外吸収スペクトルのメチル基<−CH5−)およびメチ
レン基(−CH,−)による1460ないし1470C
JI−’付近のピーク吸収係数α、とメチル基による1
380cN−’付近のピーク吸収係数α、との比α1/
α、が0.5及至5.0であることを特徴とする電子写
真感光体に関する。
In other words, the present invention provides a function-separated photoreceptor having a charge generation layer (3) and a charge transport layer (2).
A hydrocarbon plasma polymerized film is provided as a plasma polymerized film, and the infrared absorption spectrum of the polymerized film is 1460 to 1470 C due to methyl groups <-CH5-) and methylene groups (-CH,-).
The peak absorption coefficient α near JI-' and 1 due to the methyl group
The ratio of the peak absorption coefficient α around 380 cN-' to α1/
The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor characterized in that α is 0.5 to 5.0.

本発明感光体は少なくとも電荷発生層と電荷輸送層から
構成される。
The photoreceptor of the present invention is composed of at least a charge generation layer and a charge transport layer.

本発明感光体の特徴は、電荷輸送層として炭化水素の重
合膜を設け、さらにその重合膜中に形成されたメチル基
とメチレン基が赤外吸収スペクトルのメチル基およびメ
チレン基による1460ないし1470CI−″1付近
のピーク吸収係数α、とメチル基による1380cx−
’付近のピーク吸収係数α!との比α1/α2が0.5
ないし5.0であることにある(以下、本発明の重合膜
をa−C膜という)。
The photoreceptor of the present invention is characterized in that a hydrocarbon polymer film is provided as a charge transport layer, and the methyl and methylene groups formed in the polymer film have an infrared absorption spectrum of 1460 to 1470 CI- 1380cx- due to the peak absorption coefficient α near 1 and the methyl group
'Peak absorption coefficient α near ! The ratio α1/α2 is 0.5
(Hereinafter, the polymer film of the present invention will be referred to as an a-C film).

本発明におけろ赤外吸収スペクトルの吸収係数は透過率
と膜厚から下式[r] [式中、αは吸収係数、dは膜厚、T / T oは透
過率を表す。] で表わされる。
In the present invention, the absorption coefficient of the infrared absorption spectrum is calculated from the transmittance and film thickness using the following formula [r] [where α represents the absorption coefficient, d represents the film thickness, and T/T o represents the transmittance. ] It is expressed as .

本発明のa−C膜は赤外吸収スペクトルのメチル基およ
びメチレン基による1460ないし1470cm−’付
近のピーク吸収係数α、とメチル基による1380cm
−’付近のピーク吸収係数α、との比αl/α、が0.
5ないし5.Olより好ましくは0.7〜3,5、特に
0.9〜2.5であるとき適しており、5.0より大き
いと好適な輸送性が得られず電子写真感光体としては使
用できず、0.5より小さいと帯電能の低下と膜質の劣
化、成膜性の低下をきたす。
The a-C film of the present invention has an infrared absorption spectrum with a peak absorption coefficient α around 1460 to 1470 cm due to methyl groups and methylene groups, and a peak absorption coefficient α around 1380 cm due to methyl groups.
The ratio αl/α to the peak absorption coefficient α near -' is 0.
5 to 5. It is suitable when it is more preferably 0.7 to 3.5, especially 0.9 to 2.5, and if it is larger than 5.0, suitable transport properties cannot be obtained and it cannot be used as an electrophotographic photoreceptor. , if it is smaller than 0.5, the charging ability will be lowered, the film quality will be deteriorated, and the film formability will be lowered.

一般にメチル基およびメチレン基に由来するピーク吸収
係数が式[I]に従い、α1/α、の値が5゜0より小
さいときはじめて比抵抗がIQIIΩCX程度以下とな
り、キャリアの易動度が10− ’cx”V・sec以
上となる。
In general, the peak absorption coefficient derived from methyl groups and methylene groups follows formula [I], and only when the value of α1/α is smaller than 5°0 does the resistivity become less than about IQIIΩCX, and the carrier mobility becomes 10-' cx”V・sec or more.

本発明のa−C膜中には、炭素原子に由来する種々の基
、例えばメチル基、メチレン基あるいはメチン基または
種々の結合様式をした炭素原子、例えば単結合、二重結
合あるいは三重結合等が存在するが、式[+]に従いα
1/α2の値が0.5〜5.0となることが本発明にお
いては重要である。
The a-C film of the present invention contains various groups derived from carbon atoms, such as methyl groups, methylene groups, or methine groups, or carbon atoms with various bonding modes, such as single bonds, double bonds, triple bonds, etc. exists, but according to the formula [+] α
In the present invention, it is important that the value of 1/α2 is 0.5 to 5.0.

a−C層の厚さは5〜50μm、特に7〜20μmが適
当であり、5μmより薄いと表面電位が低く充分な複写
画像濃度を得ることができない。50μmより厚いと生
産性の点で好ましくない。このa−C層は透光性に優れ
比較的高暗抵抗を有するとともに電荷輸送性に富み、膜
厚を上記のように5μm以上としても電荷トラップを生
じることなくキャリアを輸送する。
The thickness of the a-C layer is suitably 5 to 50 .mu.m, particularly 7 to 20 .mu.m; if it is thinner than 5 .mu.m, the surface potential is low and sufficient density of the copied image cannot be obtained. If it is thicker than 50 μm, it is not preferable in terms of productivity. This a-C layer has excellent light transmittance, relatively high dark resistance, and is rich in charge transport properties, and transports carriers without causing charge traps even when the film thickness is 5 μm or more as described above.

本発明のプラズマ重合層は、電荷輸送性のあるオーバー
コート層として用いてもよい。本発明のプラズマ重合層
を単にオーバーコート層として用いた場合でも、残留電
位をあげることなく、良好な耐久性が得られることは言
うまでもない。
The plasma polymerized layer of the present invention may be used as an overcoat layer with charge transport properties. It goes without saying that even when the plasma polymerized layer of the present invention is simply used as an overcoat layer, good durability can be obtained without increasing the residual potential.

a−C層を形成するための有機ガスとしては、炭化水素
が用いられる。
Hydrocarbons are used as the organic gas for forming the a-C layer.

該炭化水素における相状態は常温常圧において必ずしも
気相である必要はなく、加熱或いは減圧等により溶融、
蒸発、昇華等を経て気化しうるちのであれば、液相でら
固相でら使用可能である。
The phase state of the hydrocarbon does not necessarily have to be a gas phase at room temperature and normal pressure, but it can be melted by heating or reduced pressure, etc.
As long as it can be vaporized through evaporation, sublimation, etc., it can be used in either a liquid phase or a solid phase.

該炭化水素としては、例えば、メタン列炭化水素、エチ
レン列炭化水素、アセチレン列炭化水素、脂環式炭化水
素、芳香族炭化水素等が用いられろ。
As the hydrocarbon, for example, methane series hydrocarbons, ethylene series hydrocarbons, acetylene series hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, etc. may be used.

メタン列炭化水素としては、例えば、メタン、エタン、
プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オ
クタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリ
デカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカン、
ヘプタデカン、オクタデカン、ノナデカン、エイコサン
、ヘンエイコサン、トコサン、トリコサン、テトラコサ
ン、ペンタコサン、ヘキサコサン、ヘプタコサン、オク
タコサン、ノナコサン、トリアコンタン、トドリアコン
クン、ペンタトリアコンタン、等のノルマルパラフィン
並びに、イソブタン、イソペンタン、ネオペンタン、イ
ソヘキサン、ネオヘキサン、2゜3−ジメチルブタン、
2−メチルヘキサン、3−エチルペンタン、2.2−ジ
メチルペンタン、2゜4−ジメチルベンクン、3.3−
ツメチルペンタン、トリブタン、2−メチルへブタン、
3−メチルへブタン、2.2−ジメチルヘキサン、2,
2゜5−ジメチルヘキサン、2,2.3−トリメチルペ
ンタン、2,2.4−トリメチルペンタン、2.3゜3
−トリメチルペンタン、2,3.4−トリメチルペンタ
ン、イソナノン、等のイソパラフィン、等が用いられる
Examples of methane series hydrocarbons include methane, ethane,
Propane, butane, pentane, hexane, heptane, octane, nonane, decane, undecane, dodecane, tridecane, tetradecane, pentadecane, hexadecane,
Normal paraffins such as heptadecane, octadecane, nonadecane, eicosane, heneicosane, tocosane, tricosane, tetracosane, pentacosane, hexacosane, heptacosane, octacosane, nonacosane, triacontane, todoriaconcune, pentatriacontane, isobutane, isopentane, neopentane, isohexane, neo hexane, 2゜3-dimethylbutane,
2-Methylhexane, 3-ethylpentane, 2.2-dimethylpentane, 2゜4-dimethylbencune, 3.3-
trimethylpentane, tributane, 2-methylhebutane,
3-methylhebutane, 2,2-dimethylhexane, 2,
2゜5-dimethylhexane, 2,2.3-trimethylpentane, 2,2.4-trimethylpentane, 2.3゜3
Isoparaffins such as -trimethylpentane, 2,3,4-trimethylpentane, isonanone, etc. are used.

エチレン列炭化水素としては、例えば、エチレン、プロ
ピレン、イソブチレン、l−ブテン、2−ブテン、l−
ペンテン、2−ペンテン、2−メチル−1−ブテン、3
−メチル−■−ブテン、2−メチル−2−ブテン、1−
ヘキセン、テトラメチルエチレン、1−ヘプテン、1−
オクテン、■−ノネン、1−デセン、等のオレフィン並
びに、アレン、メチルアレン、ブタジェン、ペンタジェ
ン、ヘキサジエン、シクロペンタノエン、等のノオレフ
ィン並びに、オシメン、アロオンメン、ミルセン、ヘキ
サトリエン、等のトリオレフイン、等が用いられる。
Examples of ethylene series hydrocarbons include ethylene, propylene, isobutylene, l-butene, 2-butene, l-
Pentene, 2-pentene, 2-methyl-1-butene, 3
-Methyl-■-butene, 2-methyl-2-butene, 1-
hexene, tetramethylethylene, 1-heptene, 1-
Olefins such as octene, ■-nonene, 1-decene, olefins such as allene, methylalene, butadiene, pentadiene, hexadiene, cyclopentanoene, etc., and triolefins such as ocimene, alloonemene, myrcene, hexatriene, etc. , etc. are used.

アセヂレン列炭化水素としては、例えば、アセチレン、
メチルアセチレン、1−ブチン、2−ブチン、l−ペン
チン、l−ヘキシン、l−ヘプチン、1−オクチン、l
−ノニン、!−デシン、等が用いられる。
Examples of acetylene series hydrocarbons include acetylene,
Methylacetylene, 1-butyne, 2-butyne, l-pentyne, l-hexyne, l-heptyne, 1-octyne, l
-Nonin! -decine, etc. are used.

脂環式炭化水素としては、例えば、シクロプロパン、シ
クロブタン、シクロペンクン、シクロヘキサン、シクロ
へブタン、シクロオクタン、シクロノナン、シクロデカ
ン、シクロウンデカン、シクロドデカン、シクロトリデ
カン、シクロテトラデカン、シクロペンタデカン、シク
ロヘキサデカン、等のシクロパラフィン並びに、シクロ
プロペン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキ
サン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロノネン
、シクロデセン、等のシクロオレフィン並びに、リモネ
ン、テルビルン、フエランドレン、シルベストレン、ツ
エン、カレン、ピネン、ボルニレン、カンフエン、フェ
ンチェン、シクロウンデカン、トリシクレン、ビサボレ
ン、ジンギベレン、クルクメン、フムレン、カジネンセ
スキベニヘン、セリネン、カリオフィレン、サンタレン
、セドレン、カンホレン、フィロクラテン、ボドカルブ
レン、ミレン、等のテルペン並びに、ステロイド等が用
いられる。
Examples of alicyclic hydrocarbons include cyclopropane, cyclobutane, cyclopencune, cyclohexane, cyclohebutane, cyclooctane, cyclononane, cyclodecane, cycloundecane, cyclododecane, cyclotridecane, cyclotetradecane, cyclopentadecane, cyclohexadecane, and the like. and cycloolefins such as cyclopropene, cyclobutene, cyclopentene, cyclohexane, cycloheptene, cyclooctene, cyclononene, cyclodecene, and limonene, tervirune, phelandrene, sylvestrene, thuene, carene, pinene, bornylene, camphen, and fenchen. , cycloundecane, tricyclene, bisabolene, zingiberene, curcumene, humulene, kajinensesesquivenichen, selinene, caryophyllene, santarene, cedrene, campholene, phylloclatene, bodocarbrene, mirene, and other terpenes, steroids, and the like are used.

芳香族炭化水素としては、例えば、ベンゼン、トルエン
、キシレン、ヘミメリテン、プソイドクメン、メシチレ
ン、プレニテン、イソジュレン、ジュレン、ペンタメチ
ルベンゼン、ヘキサメチルベンゼン、エチルベンゼン、
プロピルベンゼン、クメン、スチレン、ビフェニル、テ
ルフェニル、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、
ジベンジル、スチルベン、インデン、ナフタリン、テト
ラリン、アントラセン、フェナントレン、等が用いられ
る。
Examples of aromatic hydrocarbons include benzene, toluene, xylene, hemimelithene, pseudocumene, mesitylene, prenitene, isodurene, durene, pentamethylbenzene, hexamethylbenzene, ethylbenzene,
Propylbenzene, cumene, styrene, biphenyl, terphenyl, diphenylmethane, triphenylmethane,
Dibenzyl, stilbene, indene, naphthalene, tetralin, anthracene, phenanthrene, etc. are used.

キャリアガスとしてはHl、Ar 、 Ne 、 He
等が適当である。
As carrier gas, Hl, Ar, Ne, He
etc. are appropriate.

本発明においては、a−C有機重合膜は、直流、高周波
、マイクロ波プラズマ法等のプラズマ状態を経て形成す
るのが最も好ましいか、その他イオン化蒸着、イオンビ
ーム蒸着等のイオン状態を経て形成してもよいし、真空
蒸着法、スパッタリング法等の中性の粒子から形成して
もよいし、あるいはこれらの組み合わせにより形成して
もよい。
In the present invention, it is most preferable to form the a-C organic polymer film through a plasma state such as direct current, high frequency, or microwave plasma method, or through an ion state such as ionization vapor deposition or ion beam vapor deposition. Alternatively, it may be formed from neutral particles using a vacuum evaporation method, a sputtering method, or a combination thereof.

その際重要なことは、有機重合膜中のメヂル基とメチレ
ン基に基づく赤外吸収ピーク比α1/α2が前述したご
とく0.5〜5.0になるように形成することである。
What is important in this case is to form the organic polymer film so that the infrared absorption peak ratio α1/α2 based on methyl groups and methylene groups is 0.5 to 5.0 as described above.

また、電荷発生層は、a−C膜と同様の方法で成膜した
ほうが、製造装置コスト、工程の省力化につながり好ま
しい。
Further, it is preferable that the charge generation layer is formed by the same method as the a-C film, as this leads to reductions in manufacturing equipment costs and process labor.

本発明感光体の電荷発生層は特に限定的ではなく、アモ
ルファスシリコン(a−3i)膜(特性を変えるため種
々の異種元素、例えばH,C,OlS、N、P、B、ハ
ロゲン、Ge等を含んでいてもよく、また多層構造であ
ってもよい)、Se膜、5e−As膜、5e−Te膜、
CdS膜、銅フタロノアニン、酸化亜鉛等の無機物質お
よび/またはビスアゾ系顔料、トリアリールメタン系染
料、チアジン系染料、オキサノン系染料、キサンチン系
染料、ンアニン系色素、スチリル系色素、ピリリウム系
染料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、インジゴ系顔
料、ペリレン系顔料、多環キノン系顔料、ビスベンズイ
ミダゾール系顔料、インダスロン系顔料、スクアリリウ
ム系顔料、フタロシアニン系顔料等の有機物質を含有す
る樹脂膜等が例示される。
The charge generation layer of the photoreceptor of the present invention is not particularly limited, and may be an amorphous silicon (a-3i) film (with various different elements such as H, C, OlS, N, P, B, halogen, Ge, etc. to change the characteristics). or may have a multilayer structure), Se film, 5e-As film, 5e-Te film,
CdS film, copper phthalonoanine, inorganic substances such as zinc oxide and/or bisazo pigments, triarylmethane dyes, thiazine dyes, oxanone dyes, xanthine dyes, anine dyes, styryl dyes, pyrylium dyes, azo Resin films containing organic substances such as pigments, quinacridone pigments, indigo pigments, perylene pigments, polycyclic quinone pigments, bisbenzimidazole pigments, induthrone pigments, squarylium pigments, phthalocyanine pigments, etc. Illustrated.

これ以外にも、光を吸収し極めて高い効率で電荷担体を
発生する材料であれば、いずれの材料であっても使用す
ることができる。
In addition, any material that absorbs light and generates charge carriers with extremely high efficiency can be used.

電荷発生層は、感光体のどの位置に設けてらよく、たと
えば最上層、最下層、中間層いずれに設けてらよい。膜
厚は素材の種類、特にその分光吸収特性、露光光源、目
的等にらよるが、一般に550no+の光に対して90
%以上の吸収が得られるように設定される。a−9iの
場合で0.1〜3μmである。
The charge generation layer may be provided at any position on the photoreceptor, for example, the top layer, the bottom layer, or the middle layer. The film thickness depends on the type of material, especially its spectral absorption characteristics, exposure light source, purpose, etc., but it is generally 90% for 550no+ light.
It is set so that absorption of % or more can be obtained. In the case of a-9i, it is 0.1 to 3 μm.

本発明においては、a−C電荷輸送層の帯電特性を調節
rるために、炭素または水素以外のへテロ原子を混入さ
せてもよい。例えば、正孔の輸送特性をさらに向上させ
るために、周期律表第■族原子あるいはハロゲン原子を
混入してもよい。電子の輸送特性をさらに向上させるた
めに周期律表第■族原子あるいはアルカリ金属原子を混
入してらよい。これらの原子はa−C1liをオーバー
コート層、アンダーコート層として用いる場合には、表
面あるいは基板からの電荷の注入を阻止すべく、帯電極
性に対し逆バイアス化するように添加してもよい。正負
両キャリアの輸送特性をさらに向上させるために、Si
、 Ge、 Sn、アルカリ土類金属、カルコゲン原子
、各種金属を混入してもよい。
In the present invention, heteroatoms other than carbon or hydrogen may be mixed in order to adjust the charging characteristics of the a-C charge transport layer. For example, in order to further improve the hole transport properties, atoms of Group I of the periodic table or halogen atoms may be mixed. In order to further improve the electron transport properties, atoms of Group I of the periodic table or alkali metal atoms may be mixed. When a-C1li is used as an overcoat layer or an undercoat layer, these atoms may be added so as to reverse bias the charge polarity in order to prevent charge injection from the surface or substrate. In order to further improve the transport properties of both positive and negative carriers, Si
, Ge, Sn, alkaline earth metals, chalcogen atoms, and various metals may be mixed.

これらの原子は複数用いてもよいし、目的により電荷輸
送層内で特定の位置だけに混入してもよいし、濃度分布
等を有してもよいが、いずれの場合においてら重要なこ
とは、該重合膜中のメチル基とメチレン基に基づく赤外
吸収ピークの比α1/α、が前述したごとく0.5〜5
.0になるように形成することである。
A plurality of these atoms may be used, or they may be mixed only at specific positions in the charge transport layer depending on the purpose, or they may have a concentration distribution, etc., but in any case, the important thing is , the ratio α1/α of infrared absorption peaks based on methyl groups and methylene groups in the polymer film is 0.5 to 5 as described above.
.. It is to form it so that it becomes 0.

第1図から第12図は本発明感光体の一態様を示す模式
的断面図である。図中、(1)は基板、(2)は電荷輸
送層としてのa−C電荷輸送層、(3)は電荷発生層を
示している。第1図に示す態様の感光体において、例え
ば十帯電し続いて画像露光すると、電荷発生層(3)で
チャージキャリアが発生し電子は表面電荷を中和する。
1 to 12 are schematic cross-sectional views showing one embodiment of the photoreceptor of the present invention. In the figure, (1) indicates a substrate, (2) an a-C charge transport layer as a charge transport layer, and (3) a charge generation layer. In the photoreceptor of the embodiment shown in FIG. 1, when the photoreceptor is charged, for example, ten times and then imaged, charge carriers are generated in the charge generation layer (3) and electrons neutralize the surface charges.

一方、正孔はa −C1X荷輸送層(2)の優れた電荷
輸送性に保証されて基板(1)側へ輸送される。本発明
は、この十帯電時にはaCiiC電荷輸送層律表第1A
族元素を含有してP型に調整してもよい。こうすると、
正孔は基板側により容易に移動でき感度向上となり、ま
た基板からの電子の注入が確実に防止される。電荷発生
層(3)はN型のものを用いるのが好ましく、例えば、
a−9iはそれ自体弱いN型であるから好適である。尤
も、周期律表第VA族元素を含めてらよい。これにより
表面電荷の注入防止と電子の移動に宵効である。
On the other hand, holes are transported to the substrate (1) side, guaranteed by the excellent charge transport properties of the a-C1X charge transport layer (2). In the present invention, when this electrification is performed, the aCiiC charge transport layer table 1A
It may be adjusted to P type by containing group elements. In this way,
Holes can move more easily to the substrate side, improving sensitivity, and injection of electrons from the substrate can be reliably prevented. It is preferable to use an N-type charge generation layer (3), for example,
a-9i is suitable because it is itself a weak N type. Of course, Group VA elements of the periodic table may be included. This is effective in preventing surface charge injection and electron movement.

P型調整のために使用する[IA族元素としては、BS
AQ、Ga、In等か例示されるが、Bが特に好ましい
。a−Si2[i荷発生層にVA族元素、例えばりんを
混入させて、表面層を相対的に更に強いN型としてらよ
い。この場合らa−C電荷輸送層の極性をP型に調整す
る。第1図の感光体を一帯電で用いるときは、上記と反
対にa−CM電荷輸送層2)にりんを含有してN型に調
整すればよく、電荷発生層(3)としてa−3iを用い
るときはBを含有してもよい。
Used for P-type adjustment [as a group IA element, BS
Examples include AQ, Ga, In, etc., but B is particularly preferred. It is preferable to mix a VA group element, such as phosphorus, into the a-Si2[i charge generation layer to make the surface layer a relatively stronger N type. In this case, the polarity of the a-C charge transport layer is adjusted to P type. When the photoreceptor shown in FIG. 1 is used with one charge, contrary to the above, the a-CM charge transport layer 2) may be adjusted to N type by containing phosphorus, and the charge generation layer (3) may be used as the a-CM charge transport layer 2). When using B, B may be contained.

第2図の感光体はa−C電荷輸送層(2)を最上層とし
て用いた例で、十帯電で用いるときは、a−C電荷輸送
層(2)の極性は第VA族元素等を用い電荷発生層(3
)に対し、相対的にN型として電子の移動を容易として
もよい。−帯電で用いるときはB等を含有してその逆に
調整すればよい。
The photoreceptor shown in Figure 2 is an example in which the a-C charge transport layer (2) is used as the uppermost layer. Charge generation layer (3
), it may be relatively N-type to facilitate the movement of electrons. - When used for charging, B or the like may be contained and adjusted in the opposite manner.

第3図に示す感光体は、a−C電荷輸送層(2)を電荷
発生層(3)の上下に用いた例で、十帯電で使用する時
は、上層のa−C電荷輸送層(2)は電荷発生層(3)
に対してよりN型になるようにして電子の(多動を容易
とするととらに、下層のa−C電荷輸送層(2)はP型
に調整するのが好ましい。
The photoreceptor shown in FIG. 3 is an example in which the a-C charge transport layer (2) is used above and below the charge generation layer (3). When used with ten charges, the upper a-C charge transport layer ( 2) is a charge generation layer (3)
It is preferable that the lower a-C charge transport layer (2) is adjusted to be P-type in order to facilitate electron hyperactivity by making it more N-type.

第4〜6図に示す感光体は、第1図から第3図において
示した感光体においてさらにオーバーコート層(4)と
して厚さ0.01〜5μmの表面保護層を設けた例で、
電荷発生層(3)、あるいはa−C電荷輸送層(2)の
保護と初期表面電位の向上を図ったものである。表面保
護層は公知の物質を用いてもよく、本発明a−C電荷輸
送層を使用してもよい。この保護層(4)にも必要によ
り第1I[A、第VA族元素をドープしてもよい。
The photoreceptors shown in FIGS. 4 to 6 are examples of the photoreceptors shown in FIGS. 1 to 3 in which a surface protective layer with a thickness of 0.01 to 5 μm is further provided as an overcoat layer (4).
This is intended to protect the charge generation layer (3) or the a-C charge transport layer (2) and improve the initial surface potential. For the surface protective layer, a known substance may be used, and the aC charge transport layer of the present invention may be used. This protective layer (4) may also be doped with Group 1 I[A and Group VA elements, if necessary.

第7〜9図に示す感光体は、基板(1)上に電荷輸送層
に用いるa−C電荷輸送層をアンダーコート層(5)と
してバリアー層あるいは接着層としても用いた例である
。もちろん、その他アンダーコート層として公知の材料
を用いてもよい。バリアー層は基板(+)からの電荷の
注入を有効に阻止するとともに電荷発生層(3)で発生
した電荷を基板側に輸送する整流機能を有する。この意
味において、バリアー層には十帯電時は第1IIA族元
素、−帯電時には第VA族元素を含有するのが望ましい
The photoreceptors shown in FIGS. 7 to 9 are examples in which an a-C charge transport layer used as a charge transport layer is used as an undercoat layer (5) on a substrate (1) as a barrier layer or an adhesive layer. Of course, other known materials may be used for the undercoat layer. The barrier layer has a rectifying function of effectively blocking charge injection from the substrate (+) and transporting the charge generated in the charge generation layer (3) to the substrate side. In this sense, it is preferable that the barrier layer contains a Group IIA element when charged, and a Group VA element when charged.

また、バリアー層の膜厚は0.01〜5μmであるのが
好ましい。更に第7〜9図の感光体は第11〜6図で示
したオーバーコート層(4)を基板上に設けてもよい(
第1O図〜第12図)。
Further, the thickness of the barrier layer is preferably 0.01 to 5 μm. Furthermore, the photoreceptor shown in FIGS. 7 to 9 may be provided with an overcoat layer (4) shown in FIGS. 11 to 6 on the substrate (
Figures 1O to 12).

第mA族元索をa−C電荷輸送層に混入させるには、こ
れらの元素を含む適当なガス状化合物を炭化水素ガスと
共に、イオン化状態またはプラズマ状態にして成膜すれ
ばよい。また、形成されたa−C電荷輸送層をIIIA
族元素を含む化合物ガスに曝してドープしてもよい。
In order to mix the mA group element into the a-C charge transport layer, a suitable gaseous compound containing these elements may be formed in an ionized state or a plasma state together with a hydrocarbon gas to form a film. In addition, the formed a-C charge transport layer was
It may be doped by exposing it to a compound gas containing a group element.

本発明に使用し得るBを含む化合物としては、B(QC
,H3)、、B t He、B(4,、BBrs、BP
B-containing compounds that can be used in the present invention include B (QC
,H3),,B t He,B(4,,BBrs,BP
.

等が例示される。etc. are exemplified.

A4を含む化合物としてはA克(Of−C3H9)s、
(CHs)sAJ!s (CtH6)sAfll(i−
CtHs)tA見、Alcl、、等が例示される。
Compounds containing A4 include Ak(Of-C3H9)s,
(CHs)sAJ! s(CtH6)sAflll(i-
CtHs)tA, Alcl, etc. are exemplified.

Gaを含む化合物としてはG a(Ot−CsHt)3
、(CH3)1Ga−(CyHs)iGa、GaC15
、G aB ra等がある。
As a compound containing Ga, Ga(Ot-CsHt)3
, (CH3)1Ga-(CyHs)iGa, GaC15
, G aB ra, etc.

Inを含む化合物としてはI n(Ot−c s H?
)3、(CtHs)alll等がある。
A compound containing In is In(Ot-cs H?
)3, (CtHs)all, etc.

■A族元素の導入量は、その導入原子量と炭素原子量と
の和に対し、20000atm、 ppm以下、より好
ましくは3〜1000 atm、’ ppmである。
(2) The amount of the group A element introduced is 20,000 atm, ppm or less, more preferably 3 to 1,000 atm, ppm, based on the sum of the introduced atomic weight and the carbon atomic weight.

極性調整に用いられるVA族元素としては、PlAs、
Sbがあるが、Pが特に好ましい。このVA族元素もI
IIA族元素と同様にしてa−C電荷輸送層に導入する
ことができる。
VA group elements used for polarity adjustment include PlAs,
Although Sb is included, P is particularly preferred. This VA group element is also I
It can be introduced into the a-C charge transport layer in the same manner as Group IIA elements.

本発明に用い得るVA族元素を含む化合物としては、以
下のものがある。
Compounds containing group VA elements that can be used in the present invention include the following.

Pを含む化合物としては、P O(OCHJ3、(C,
1(、)、P、PH3、poc克、等;Asを含む化合
物としてA s Hi、ASC+!3、AsBr1等、
sbを含む化合物としてS b(OCxHs)3、Sb
C克5.5bHa等が例示される。
Examples of compounds containing P include P O(OCHJ3, (C,
1 (,), P, PH3, poc, etc.; As a compound containing As, As Hi, ASC+! 3.AsBr1 etc.
Sb(OCxHs)3, Sb as a compound containing sb
Examples include C-5.5bHa.

VA族元素の導入量は、その導入原子量と炭素原子量と
の和に対し、20000atm、 ppm以下、より好
ましくは1〜I OOOatm、 ppm程度である。
The amount of the VA group element introduced is about 20,000 atm, ppm or less, more preferably about 1 to IOOatm, ppm, based on the sum of the introduced atomic weight and the carbon atomic weight.

本発明感光体の電荷発生層には、更に別の元素を導入し
てその特性を調整してもよい。
Further, other elements may be introduced into the charge generation layer of the photoreceptor of the present invention to adjust its characteristics.

電荷輸送層(2)に含有してらよい異種元素の例として
、Si、Geおよび/またはSnをその添加量と炭素原
子量との和に対してl Oatomic%(以下atm
、%と記す)以下の量で、これらの元素を混入さけるこ
とにより、電荷発生層からの電荷の注入が容易となり、
残留電位の低下、感度の上昇、メモリー低減等の効果が
得られる。また、AL基板との接着性、電荷発生層等と
の接着性が改良される。
As an example of a different element that may be contained in the charge transport layer (2), Si, Ge and/or Sn may be added at l Oatomic% (hereinafter referred to as atm
By avoiding mixing these elements in the following amounts (denoted as , %), charge injection from the charge generation layer becomes easy,
Effects such as a reduction in residual potential, an increase in sensitivity, and a reduction in memory can be obtained. Furthermore, the adhesion to the AL substrate, the charge generation layer, etc. is improved.

これらの元素を導入させるには、I[[A族元素の導入
において述べたと同様の方法を採用すればよい。
In order to introduce these elements, a method similar to that described in the introduction of group I[[A elements may be employed.

Si導入にはSiH4,5ttHs、(CtHs)* 
S 1H1SiFい 5iHtC見1、SiC克い 5
i(OCI−[z)−1S !(OCzH5)a、 S
 t(OC5H7)i等を、Ge導入には G e )
I 4、  c e CZ a、  Ge(OCtH4
)4%   Ge(CtHs)a等、およびSn導入に
は(CH3)4 S nl(C2HS)4 S n1S
 nCC10を使用すればよい。
For Si introduction, SiH4,5ttHs, (CtHs)*
S 1H1SiF 5iHtC 1, SiC 5
i(OCI-[z)-1S! (OCzH5)a, S
t(OC5H7)i, etc., to introduce Ge)
I 4, ce CZ a, Ge(OCtH4
) 4% Ge(CtHs)a etc., and for Sn introduction (CH3)4S nl(C2HS)4S n1S
nCC10 may be used.

電荷輸送層にSi、Geを添加してバンドギャップの調
整を行ない電荷発生層との界面障壁を小さくすることも
可能である。第1図で、多fi(>t。
It is also possible to adjust the band gap by adding Si or Ge to the charge transport layer to reduce the interface barrier with the charge generation layer. In FIG. 1, polyfi(>t.

atomic%)のGe添加した部分を基体側に偏在さ
せることにより、余剰光の反射防止を行ない、干渉縞・
ボケの発生を防ぐことも可能である。また、St%Ge
を入れることにより耐摩耗性や撥水性のある硬い膜を形
成することができる。
By unevenly distributing the Ge-added portion (%) on the substrate side, the reflection of excess light is prevented, and interference fringes and
It is also possible to prevent the occurrence of blur. Also, St%Ge
By adding , a hard film with wear resistance and water repellency can be formed.

本発明の感光体のa−C電荷輸送層にはさらに窒素、酸
素、硫黄および/または各種金属類を混入させてもよく
、あるいは水素の一部をハロゲンまたはアルカリ金属で
置換してもよい。
Nitrogen, oxygen, sulfur and/or various metals may be further mixed into the a-C charge transport layer of the photoreceptor of the present invention, or a portion of hydrogen may be replaced with halogen or alkali metal.

一般に窒素源としてはN、、NH,、N、O,N01N
o、、C,H3NH,、HCN、 (CHa)sN。
Generally, the nitrogen sources are N,,NH,,N,O,N01N
o,,C,H3NH,,HCN, (CHa)sN.

CH3N II *等が用いられ、これを混入すること
により電荷発生層との界面障壁を小さくすることができ
る。
CH3N II * or the like is used, and by mixing it, the interface barrier with the charge generation layer can be reduced.

酸素源としては、01.01、N、O,No、CO,C
O,、CHa COCH3、CH,CHO等が例示され
るが、これを混入することによって帯電能が向上する。
As an oxygen source, 01.01, N, O, No, CO, C
Examples include O,, CHa, COCH3, CH, CHO, etc., and by mixing these, the charging ability is improved.

また、プラズマCVD法の場合酸素(0)を導入するこ
とで成膜スピードを上げられるという副次的な効果もあ
るっ 硫tIt源としてはCS、、(CtHs)tS、HvS
In addition, in the case of plasma CVD method, introducing oxygen (0) has the side effect of increasing the film formation speed. As a sulfur tIt source, CS, (CtHs)tS, HvS
.

SF、、SO7等が例示される。硫黄の混入は光の吸収
、干渉防止に宵効である。また硫黄(S)を導入するこ
とで成膜スピードを上げられるという副次的な効果もあ
る。
Examples include SF, SO7, etc. Mixing sulfur is effective in absorbing light and preventing interference. Additionally, the introduction of sulfur (S) has the secondary effect of increasing the film formation speed.

混入し得る金属としては、例えば以下のものがある(二
以下は、混入し使用し得るガスの例)二Ba: Ba(
OCtHs)+、 Ca: Ca(OCtHS)3、F
e: Pa(Of−CiH7)*、(CtHs)tFe
、Fe(CO)2、 [−1f: Hf(Oi−CaH
2)i、  K: KOi−CaH7、Li: Li(
Oi−CsHt)、L a: L a(Oi−CxH3
)い Mg: Mg(OCtHs)t、(CzHs)t
Mg−Na: Na(Of−CaH2)、 Nb: N
b(OCtHs)s、Sr: 5r(OCHs)*、T
l: T t(O1−CsHJasT t(OCaHJ
イT I CL、 T e : Hs T es (C
Hs)tTe、 Se:H*Se、  Ta: Ta(
OCtHs)s、V: VO(OC*Hs)s、Y: 
Y(Oj−CaH2)*、Zn: Zn(OCtHs)
t、(CHs)tZJ (CtH+t)sZns  Z
r: Zr(Of−CsHt)a、 Cd: (CHs
)*Cd、  Co:  Cow(CO)s、Cr: 
 Cr(Co)s、Mn: Mn(CO)+o、Mo:
 Mo(Co)、、Mob、、MoCえ6、 W: w
(co)a、WF6、WCl、、。
Examples of metals that can be mixed include the following (2 and below are examples of gases that can be mixed and used).
OCtHS)+, Ca: Ca(OCtHS)3, F
e: Pa(Of-CiH7)*, (CtHs)tFe
, Fe(CO)2, [-1f: Hf(Oi-CaH
2) i, K: KOi-CaH7, Li: Li(
Oi-CsHt), La: La (Oi-CxH3
) Mg: Mg(OCtHs)t, (CzHs)t
Mg-Na: Na(Of-CaH2), Nb: N
b(OCtHs)s, Sr: 5r(OCHs)*, T
l: T t(O1-CsHJasT t(OCaHJ
ITI CL, T e : Hs T es (C
Hs)tTe, Se:H*Se, Ta: Ta(
OCtHs)s, V: VO(OC*Hs)s, Y:
Y(Oj-CaH2)*, Zn: Zn(OCtHs)
t, (CHs)tZJ (CtH+t)sZns Z
r: Zr(Of-CsHt)a, Cd: (CHs
)*Cd, Co: Cow(CO)s, Cr:
Cr(Co)s, Mn: Mn(CO)+o, Mo:
Mo(Co),, Mob,, MoCe6, W: w
(co)a, WF6, WCl, .

またa−C電荷輸送層中の水素の一部をハロゲンまたは
アルカリ金属に代えることにより、撥水性、摩耗性、透
光性が向上し、特にフッ素では−CF1−cFt、−C
F、等が形成されて、屈折率nが小さくなり(1,39
)、反射防止効果が現れろ。
In addition, by replacing some of the hydrogen in the a-C charge transport layer with halogen or alkali metal, water repellency, abrasion resistance, and light transmission properties are improved.
F, etc. are formed, and the refractive index n becomes small (1,39
), the anti-reflection effect appears.

さらに本発明により得られたa−C電荷輸送層をアルゴ
ンで後処理した後、大気と接触させると、カルボニル基
が導入され表面が活性化され、また−CF’、−はCF
となる。
Further, when the a-C charge transport layer obtained according to the present invention is post-treated with argon and then brought into contact with the atmosphere, carbonyl groups are introduced and the surface is activated, and -CF', - is CF
becomes.

炭素およびハロゲン源としては、C* Hs Cl、C
1H,+4、CH,C4、CH,Elr%C0CfL2
、CCi、 t F t、CHC克F!、CF、、Cs
 F s、H(4,C1,、、F3等が挙げられる。
Carbon and halogen sources include C* Hs Cl, C
1H, +4, CH, C4, CH, Elr%C0CfL2
, CCi, t F t, CHC Katsu F! ,CF,,Cs
Examples include F s, H(4, C1, , F3, etc.).

炭素およびアルカリ金属源としては、リチウムターンヤ
リ−ブチラード、アクリル酸カリウム等が挙げられる。
Examples of carbon and alkali metal sources include lithium ternary butyralate, potassium acrylate, and the like.

本発明感光体は電荷発生層と電荷輸送層とを有する。従
ってこれを製造するには少なくとも二工程を必要とする
。電荷発生層として、例えばグロー放電分解装置を用い
て形成したa−5i層を用いるときは、同一の真空装置
を用いてプラズマ重合を行なうことが可能であり、従っ
てa−C電荷輸送層や表面保護層、バリアー層等はプラ
ズマ重合法により行なうのが特に好ましい。
The photoreceptor of the present invention has a charge generation layer and a charge transport layer. Therefore, at least two steps are required to manufacture it. When using, for example, an a-5i layer formed using a glow discharge decomposition device as the charge generation layer, it is possible to perform plasma polymerization using the same vacuum device, so that the a-C charge transport layer and the surface It is particularly preferable to form the protective layer, barrier layer, etc. by plasma polymerization.

本発明による電子写真感光体の電荷輸送層は、例えば、
気相状態の分子を減圧下で放電分解し、発生したプラズ
マ雰囲気中に含まれる活性中性種あるいは荷電極を基板
上に拡散、電気力、あるいは磁気力等により誘導し、基
板上での再結合反応により固相として堆積させる、所謂
プラズマ重合反応から生成されることが好ましい。
The charge transport layer of the electrophotographic photoreceptor according to the present invention includes, for example,
Molecules in the gas phase are decomposed by discharge under reduced pressure, and active neutral species or charged electrodes contained in the generated plasma atmosphere are diffused onto the substrate, induced by electric force, magnetic force, etc., and regenerated on the substrate. It is preferably produced from a so-called plasma polymerization reaction, in which it is deposited as a solid phase by a bonding reaction.

第13図および第14図は本発明に係る感光体の製造装
置で容量結合型プラズマCVD装置を示す。第13図は
平行平板型プラズマCVD装置、第14図は円筒型プラ
ズマCVD装置を示す。
FIGS. 13 and 14 show a capacitively coupled plasma CVD apparatus which is a photoreceptor manufacturing apparatus according to the present invention. FIG. 13 shows a parallel plate plasma CVD apparatus, and FIG. 14 shows a cylindrical plasma CVD apparatus.

まず、第13図を用いて説明する。First, explanation will be given using FIG. 13.

第13図中、(701)〜(706)は常温において気
相状態にある原料化合物及びキャリアガスを密封した第
1乃至第6タンクで、各々のタンクは第1乃至第6:A
節弁(707)〜(712)と第1乃至第6流量制御器
(713)〜(718)に接続されている。キャリアガ
スとしてはH,He、Ar等が用いられる。
In FIG. 13, (701) to (706) are the first to sixth tanks in which the raw material compound and carrier gas, which are in a gaseous state at room temperature, are sealed, and each tank is a first to sixth tank.
It is connected to moderation valves (707) to (712) and first to sixth flow rate controllers (713) to (718). H, He, Ar, etc. are used as the carrier gas.

図中、(719)〜(721)は常温において液相また
は固相状態にある原料化合物を封入した第1乃至第3容
器で、各々の容器は気化のため第1乃至第3加熱器(7
22)〜(724)により与熱可能であり、さらに各々
の容器は第7乃至第9調節弁(725)〜(727)と
第7乃至第9流量制御器(728)〜(730)に接続
されている。
In the figure, (719) to (721) are first to third containers filled with raw material compounds that are in a liquid or solid phase at room temperature, and each container is connected to a first to third heater (721) for vaporization.
22) to (724), and each container is further connected to seventh to ninth control valves (725) to (727) and seventh to ninth flow rate controllers (728) to (730). has been done.

これらのガスは混合器(731)で混合された後、主管
(732)を介して反応室(733)に送り込まれる。
These gases are mixed in a mixer (731) and then sent into a reaction chamber (733) via a main pipe (732).

途中の配管は、常温において液相または固相状態にあっ
た原料化合物が気化したガスが、途中で凝結しないよう
に、適宜配置された配管加熱器(734)により、与熱
可能とされている。
The pipes along the way can be heated by appropriately placed pipe heaters (734) so that the gas, which is the vaporized raw material compound that is in a liquid or solid state at room temperature, does not condense on the way. .

反応室内には接地電極(735)と電力印加電極(73
6)が対向して設置され、各々の電極は電極加熱器(7
37)により与熱可能とされている。
Inside the reaction chamber, there is a ground electrode (735) and a power application electrode (73).
6) are installed facing each other, and each electrode is connected to an electrode heater (7).
37) allows for heating.

電力印加電極には、高周波電力用整合器(73!l)を
介して高周波電源(739)、低周波電力用整合機(7
40)を介して低周波電源(741)、ローパスフィル
タ(742)を介して直流電源(743)が接続されて
おり、接続選択スイッチ(744)により周波数の異な
る電力が印加可能とされている。
The power application electrode is connected to a high frequency power source (739) and a low frequency power matching device (73!l) via a high frequency power matching device (73!l).
A low frequency power source (741) is connected through a low-frequency power source (741) and a DC power source (743) is connected through a low-pass filter (742), and power with different frequencies can be applied by a connection selection switch (744).

反応室内の圧力は圧力制御弁(745)により調整可能
であり、反応室内の減圧は、排気系選択弁(746)を
介して、拡散ポンプ(747)、油回転ポンプ(748
)、或いは冷却除外装置(749)、メカニカルブース
ターポンプ(750)、油回転ポンプにより行われる。
The pressure inside the reaction chamber can be adjusted by a pressure control valve (745), and the pressure inside the reaction chamber can be reduced by using a diffusion pump (747) and an oil rotary pump (748) through an exhaust system selection valve (746).
), or by a cooling exclusion device (749), mechanical booster pump (750), or oil rotary pump.

排ガスについては、さらに適当な除外装置(753)に
より安全無害化した後、大気中に排気される。
The exhaust gas is further rendered safe and harmless by an appropriate exclusion device (753) before being exhausted into the atmosphere.

これら排気系配管についても、常温において液相または
固相状態にあった原料化合物が気化したガスが、途中で
凝結しないように、適宜配置された配管加熱器により、
与熱可能とされている。
These exhaust system pipings are also heated by appropriately placed piping heaters to prevent the vaporized gas from the raw material compounds, which are in a liquid or solid phase at room temperature, from condensing on the way.
It is said that heating is possible.

反応室も同様の理由から反応室加熱器(751)により
与熱可能とされ、内部に配された電極上に導電性基板(
752)が設置される。
For the same reason, the reaction chamber can also be heated by a reaction chamber heater (751), and a conductive substrate (
752) is installed.

第13図において導電性基板(752)は接地電極(7
35)に固定して配されているが、電力印加1!極(7
36)に固定して配されてもよく、更に双方に配されて
いてもよい。
In FIG. 13, the conductive substrate (752) is the ground electrode (752).
35), but when power is applied 1! pole (7
36), or may be arranged on both sides.

第14図に示した装置ら基本的には第13図に示した装
置と同様であり、反応室(733)内の形態が基板(7
52)が円筒形であることに応じて、変更されているも
のである。基板は接地電極(735’)を兼ね、電力印
加電極(736)及び電極加熱器(737)共に円筒形
態をなしている。
The apparatus shown in FIG. 14 is basically the same as the apparatus shown in FIG. 13, and the shape inside the reaction chamber (733) is
52) is changed in accordance with the fact that it is cylindrical. The substrate also serves as a ground electrode (735'), and both the power application electrode (736) and electrode heater (737) have a cylindrical shape.

以上の構成において、反応室は、拡散ポンプ(747)
により予め1O−4乃至10−@程度にまで減圧し、真
空度の確認と装置内部に吸着したガスの脱着を行う。
In the above configuration, the reaction chamber includes a diffusion pump (747)
The pressure is reduced to about 10-4 to 10-1 in advance, and the degree of vacuum is checked and the gas adsorbed inside the device is desorbed.

同時に電極加熱器(,737)により、電1ffi(7
36)並びに電極に固定して配された導電性基板(75
2)を所定の温度まで昇温する。
At the same time, the electrode heater (,737)
36) and a conductive substrate fixedly arranged on the electrode (75)
2) is heated to a predetermined temperature.

次いで、第1乃至第6タンク(701)〜(706)及
び第1乃至第3容器(719)〜(721)から原料ガ
スを第1乃至第9流量制御器(713)〜(718)、
(728)〜(730)を用いて定流m化しながら反応
室(733)に導入し、圧力調節弁により反応寥(73
3)内を一定の減圧状態に保つ。
Next, the raw material gas is transferred from the first to sixth tanks (701) to (706) and the first to third containers (719) to (721) to the first to ninth flow rate controllers (713) to (718),
(728) to (730) are used to introduce the reaction volume (733) into the reaction chamber (733) while maintaining a constant flow rate.
3) Maintain a constant reduced pressure inside.

ガス流量が安定化した後、接続選択スイッチ(744)
により、たとえば高周波電源(739)を選択し、電力
印加電極(736)に高周波電力を投入する。
After the gas flow rate has stabilized, press the connection selection switch (744)
For example, a high frequency power source (739) is selected, and high frequency power is applied to the power application electrode (736).

両電極間には放電が開始され、時間と共に基板(752
)上に固相のa−C膜が形成される。
A discharge starts between both electrodes, and as time passes, the substrate (752
) a solid-phase a-C film is formed on the top.

この電荷輸送層は本発明により生成した前述のα1/α
2比が0.5〜5.0であることを特徴とする。このα
1/α2比は製造条件、例えば、電力、電源周波数、電
極間隔、圧力、基板温度、原料ガス、ガス濃度、ガス流
量等により制御することができる。例えば、電力を上げ
ることでメヂル基の敗を減らしα1/α、比の値を大き
くすることができる。同様の制御は、電極間隔を狭くす
る、基板温度を高くする、圧力を高くする、原料ガスの
分子量を低くする、ガス流量を多くすること等で可能で
ある。また、直流電源(743)から50V〜IKVの
バイアス電圧を重畳印加しても開枠の制御が可能である
。勿論、制御の方向を逆にすれば、逆の効果が得られる
。これらの制御手法は、該電荷輸送層に、さらなる特性
、例えば、硬度、透光性等を付与する目的から、あるい
は製造上の安定性を確保する目的から、複数の手法を適
宜採用すればよい。
This charge transport layer is the above-mentioned α1/α produced by the present invention.
2 ratio is 0.5 to 5.0. This α
The 1/α2 ratio can be controlled by manufacturing conditions, such as electric power, power supply frequency, electrode spacing, pressure, substrate temperature, source gas, gas concentration, gas flow rate, etc. For example, by increasing the electric power, it is possible to reduce the loss of Medyl groups and increase the value of α1/α, the ratio. Similar control can be achieved by narrowing the electrode spacing, increasing the substrate temperature, increasing the pressure, decreasing the molecular weight of the source gas, increasing the gas flow rate, etc. Further, opening of the frame can also be controlled by superimposing a bias voltage of 50 V to IKV from a DC power source (743). Of course, the opposite effect can be obtained by reversing the direction of control. A plurality of these control methods may be appropriately adopted for the purpose of imparting additional properties such as hardness and translucency to the charge transport layer, or for the purpose of ensuring manufacturing stability. .

以下、実施例を挙げて本発明を説明する。The present invention will be explained below with reference to Examples.

実施例1 (1)(a−C層の形成) 第13図に示すグロー放電分解装置において、まず、反
応室(733)の内部をI O−” Torr程度の高
真空にした後、第1および第2F4整弁(707)およ
び(708)を開放し、第1タンク(701)よすCs
H4ガス、第2タンク(702)よりH,ガスを出力圧
ゲージ1Kg/cm”の下でマスフローコントローラ(
713)および(714)内へ流入させた。そして、各
マスフローコントローラの目盛を調整して、C!H4の
流量を30sec+a、 Hzを40secmとなるよ
うに設定して反応室(733>内へ流入した。夫々の流
量が安定した後に、反応室(733)の内圧が0 、5
 Torrとなるように′J61整した。一方、導電性
基板(752)としては、3X50X50mmのアルミ
ニウム坂を用いて250℃に予じめ加熱しておき、各ガ
ス流量が安定し、内圧が安定した状態て高周波電源(7
39)を投入し電力印加電極(736)に100 wa
ttsの電力(周波数13.56Ml1z)を印加して
約4時間プラズマ重合を行ない、導電性基11iE(7
52)上に、厚さ約7μmの電荷輸送層を形成した。
Example 1 (1) (Formation of a-C layer) In the glow discharge decomposition apparatus shown in FIG. And open the 2nd F4 regulating valves (707) and (708), and open the 1st tank (701).
H4 gas is supplied from the second tank (702) to the mass flow controller (
713) and (714). Then, adjust the scale of each mass flow controller, and C! The flow rate of H4 was set to 30 sec+a and the Hz was set to 40 sec, and it flowed into the reaction chamber (733). After each flow rate became stable, the internal pressure of the reaction chamber (733) decreased to 0.
I adjusted 'J61 so that Torr. On the other hand, as a conductive substrate (752), use an aluminum slope of 3 x 50 x 50 mm, heat it in advance to 250 ° C, and use a high frequency power source (752) with the flow rate of each gas stabilized and the internal pressure stabilized.
39) and apply 100 wa to the power application electrode (736).
tts power (frequency 13.56 Ml1z) was applied for about 4 hours to perform plasma polymerization to form a conductive group 11iE (7
52) A charge transport layer with a thickness of about 7 μm was formed on top.

以上のようにして得られたa−C膜をフーリエ変換赤外
吸収分光装置(パーキン・ニルマー製)で測定したスペ
クトルチャートを第15図に示す。測定は、a−C膜を
KBr上に載置し、解像度2cm−’で測定した。第1
5図中、aは1380cm−区の、bは1460cx−
’の透過率ピークである。式[1]よりa−C膜の赤外
吸収ピーク比α、(1460)/αt(+380)は1
.41であった。
FIG. 15 shows a spectrum chart obtained by measuring the a-C film obtained as described above using a Fourier transform infrared absorption spectrometer (manufactured by Perkin-Nilmer). The measurement was performed by placing the a-C film on KBr and measuring at a resolution of 2 cm-'. 1st
In Figure 5, a is for the 1380cm- section and b is for the 1460cx- section.
' is the transmittance peak. From formula [1], the infrared absorption peak ratio α, (1460)/αt(+380) of the a-C film is 1
.. It was 41.

(■)(電荷発生層の形成) 高周波電源(739)からの電力印加を一次停止し、反
応室の内部を真空にした。
(■) (Formation of charge generation layer) The application of power from the high frequency power source (739) was temporarily stopped, and the inside of the reaction chamber was evacuated.

第4および第2調整弁(710)および(708)を開
放し、第4タンク(704)よりS i H4ガス、第
2タン・り(702)からH,ガスを出力圧ゲージtK
g/cがの下でマスフローコントローラ(716)およ
び(714)内へ流入さけた。各マスフローコントロー
ラの目盛を調整して、SiH,の流量を90sec+m
、 Htの流量を210secmに設定し、反応室に流
入させた。
Open the fourth and second regulating valves (710) and (708), and output Si H4 gas from the fourth tank (704) and H gas from the second tank (702) to the output pressure gauge tK.
g/c into the mass flow controllers (716) and (714). Adjust the scale of each mass flow controller to set the SiH flow rate to 90 sec + m.
, The flow rate of Ht was set at 210 sec, and was allowed to flow into the reaction chamber.

夫々の流量が安定した後に、反応室(733)の内圧か
1.0Torrとなるよう調整した。
After each flow rate became stable, the internal pressure of the reaction chamber (733) was adjusted to 1.0 Torr.

ガス流量が安定し、内圧が安定した状態で高周波電源(
739)を投入し、電力印加電極(736)に150W
の電力(周波数13.56MHz)を印加してグロー放
電を発生させた。このグロー放電を40分間行ない厚さ
1μmのa−8i:H電荷発生層を形成させた。
When the gas flow rate is stable and the internal pressure is stable, turn on the high frequency power supply (
739) and apply 150W to the power application electrode (736).
electric power (frequency: 13.56 MHz) was applied to generate glow discharge. This glow discharge was performed for 40 minutes to form a 1 μm thick a-8i:H charge generation layer.

得られた感光体は初期表面電位(Vo)=−600vo
ltのときの半減露光”l/2は0.2512ux・s
ecであった。また、この感光体に対して作像して転写
したところ、鮮明な画像が得られた。
The obtained photoreceptor had an initial surface potential (Vo) = -600vo
Half-exposure "l/2" at lt is 0.2512ux・s
It was ec. Furthermore, when an image was formed and transferred onto this photoreceptor, a clear image was obtained.

成膜条件および得られた感光体の特性を表1に示す。表
中、Voは初期表面電位、E l/2は半減露光量、V
rは残留電位、Dcotsは初期帯電電位から5秒間で
暗減衰する比率を示す。
Table 1 shows the film forming conditions and the characteristics of the photoreceptor obtained. In the table, Vo is the initial surface potential, E l/2 is the half-decreased exposure amount, and V
r is the residual potential, and Dcots is the ratio of dark decay in 5 seconds from the initial charging potential.

なお、繰り返し安定性の評価において、◎は初期静電特
性が1万回の帯電・露光後ら殆ど変化しなかったことを
、高湿性の評価において、1塁)は温度35℃、相対湿
度85%の環境下で鮮明な画像が得られたことを示す。
In addition, in the evaluation of repeated stability, ◎ indicates that the initial electrostatic properties hardly changed after 10,000 times of charging and exposure. % environment, clear images were obtained.

寒嵐鯉l二1L 実施例1に準じて表2〜17に示す条件で第1図に示す
構成の感光体を得た。得られた感光体の特性を同じく表
2〜17に示した。
Cold Storm Carp 121L According to Example 1, a photoreceptor having the structure shown in FIG. 1 was obtained under the conditions shown in Tables 2 to 17. The characteristics of the obtained photoreceptors are also shown in Tables 2 to 17.

表 1 (実施例1) 表 2 (実施例2) 表 3 (実施例3) 表 4 (実施例4) 表 5 (実施例5) *1 加熱器により50℃に加熱 表 6 (実施例6) 表 7 (実施例7) *1 感度は実施例1〜6に比較してやや低かった。Table 1 (Example 1) Table 2 (Example 2) Table 3 (Example 3) Table 4 (Example 4) Table 5 (Example 5) *1 Heated to 50℃ using a heater Table 6 (Example 6) Table 7 (Example 7) *1 Sensitivity was slightly lower than in Examples 1 to 6.

表 8 (実施例8) *1実施例1〜6と比較して膜厚の割に帯電能が低かっ
た。
Table 8 (Example 8) *1 Compared to Examples 1 to 6, the charging ability was lower in relation to the film thickness.

表 9 (実施例9) *1直鎖ヘキサン:加熱器で約70℃に加熱した。Table 9 (Example 9) *1 Straight-chain hexane: Heated to about 70°C with a heater.

*2実施例1〜8と比べ、単位膜厚当たりの帯電能は低
かった。
*2 Compared to Examples 1 to 8, the charging ability per unit film thickness was lower.

表 10  (実施例10) *1実施例1〜8と比べて感度は低かった。Table 10 (Example 10) *1 Sensitivity was lower than in Examples 1 to 8.

表 11  (実施例11) *’  1.3−ブタジェン(以下、同様)表 12 
 (実施例12) 表 13  (実施例13) 表 14 (実施例+4) 表 15  (実施例15) 表 16 (実施例16) 表 17 (実施例!7) 実施例!8 本実施例においゼは、3X50X50mmのアルミニウ
ム堰板を使用し、第4図で示すオーバーコート層を存す
る積層タイプの感光体を作製した。
Table 11 (Example 11) *' 1,3-butadiene (the same applies hereinafter) Table 12
(Example 12) Table 13 (Example 13) Table 14 (Example + 4) Table 15 (Example 15) Table 16 (Example 16) Table 17 (Example! 7) Example! 8 In this example, a laminate type photoreceptor having an overcoat layer as shown in FIG. 4 was prepared using an aluminum dam plate of 3 x 50 x 50 mm.

なお、電荷輸送層およびオーバーコート層は表18に示
した条件で作製した。電荷発生層としては、モノクロロ
アルミニウムモノクロロフタロノアニン(AQCi!P
c(CQ))を真空蒸着法の常法に従い、ボート温度4
80℃、圧力5 x 10− ’Torrの条件下、1
0分間蒸着を行い、厚さ1000人に形成した。
Note that the charge transport layer and overcoat layer were produced under the conditions shown in Table 18. As the charge generation layer, monochloroaluminum monochlorophthalonoanine (AQCi!P
c(CQ)) according to the conventional vacuum evaporation method at a boat temperature of 4.
Under conditions of 80°C and a pressure of 5 x 10-'Torr, 1
Vapor deposition was performed for 0 minutes to form a film with a thickness of 1000 mm.

表 18 (実施例+8) 実施例19 本実施例においては、3x50xb ミニウム板を使用し、第8図に示すアンダーコート層を
有する積層タイプの感光体を作製した。
Table 18 (Example + 8) Example 19 In this example, a 3x50xb aluminum plate was used to produce a laminated type photoreceptor having an undercoat layer as shown in FIG. 8.

なお、アンダーコート層および電荷輸送層は表19に示
す条件で作製した。電荷発生層は実施例18と同様に設
けた。
Note that the undercoat layer and charge transport layer were produced under the conditions shown in Table 19. The charge generation layer was provided in the same manner as in Example 18.

表 19 (実施例19) 比較例1 実施例1において工程(IXa−0層の形成)を省略し
、工程(■)と同一条件で膜厚6μmのa−9i:I−
1層を形成せしめ、a−Si:H感光体を得た。
Table 19 (Example 19) Comparative Example 1 The step (formation of IXa-0 layer) in Example 1 was omitted, and a-9i:I- with a film thickness of 6 μm was prepared under the same conditions as step (■).
One layer was formed to obtain an a-Si:H photoreceptor.

得られた感光体は初期表面電位(Vo)−−100■で
半減露光” El/2は0.7 1ux−secであり
、十極性では充分な帯電能を示さず、良好な作像は行え
なかった。
The obtained photoreceptor had an initial surface potential (Vo) of -100μ and a half-exposure "El/2" of 0.7 1ux-sec, and did not exhibit sufficient charging ability with ten polarity, and good image formation could not be performed. There wasn't.

本発明による電荷輸送層が帯電能の向上に著しく寄与し
、かつ好適な輸送性を有する事が理解された。
It was understood that the charge transport layer according to the present invention significantly contributes to improving charging ability and has suitable transport properties.

比較例2 実施例1の工程(1)で作製された本発明による電荷輸
送層の代わりに、α、(1460)/α、(+380)
の比が7.06なるポリエチレン膜を有機重合の常法に
より作製し、その上に工程(n)を施した。得られた積
層膜は、本発明と赤外吸収ピーク比が異なるだけである
。帯電能は実施例1と同等であるものの、感度はa −
S i層に起因するわずかの電位減衰を有する程度で、
半減値には至らないものであった。本発明の電荷輸送層
の優位性が認められた。
Comparative Example 2 Instead of the charge transport layer according to the invention prepared in step (1) of Example 1, α, (1460)/α, (+380)
A polyethylene film having a ratio of 7.06 was prepared by a conventional method of organic polymerization, and step (n) was performed thereon. The obtained laminated film differs from the present invention only in the infrared absorption peak ratio. Although the charging ability is the same as in Example 1, the sensitivity is a −
With a slight potential attenuation due to the Si layer,
This did not reach the half-reduced value. The superiority of the charge transport layer of the present invention was recognized.

比較例3および4 実施例1に準じて表20(比較例3)および表21(比
較例4)に示す条件で、第1図に示す構成の感光体を得
た。但し、電荷輸送層としては、a−C@のα1/α、
が本発明の範囲外の値である。得られた感光体の特性を
同じく表20および表21に示した。
Comparative Examples 3 and 4 According to Example 1, photoreceptors having the configuration shown in FIG. 1 were obtained under the conditions shown in Table 20 (Comparative Example 3) and Table 21 (Comparative Example 4). However, as the charge transport layer, α1/α of a-C@,
is a value outside the scope of the present invention. The characteristics of the obtained photoreceptor are also shown in Table 20 and Table 21.

表 20  (、比較例3) 表 21 (比較例4) *1加熱器により、約50℃に加熱した。Table 20 (, Comparative Example 3) Table 21 (Comparative example 4) *1 Heated to approximately 50°C using a heater.

*2部分的に剥離が発生した。*2 Partial peeling occurred.

発明の効果 本発明による有機プラズマ重合膜を電荷輸送層に有する
感光体は電荷輸送性、帯電能に優れ、膜厚が薄くても充
分な表面電位を得ることができ、かつ良好な画像をiす
ることができる。本発明に従えば、電荷発生層にa−5
iを使用する場合、従来のa−1i感先体では達成する
ことのできなかった薄膜の感光体を得ることができる。
Effects of the Invention The photoreceptor having the organic plasma polymerized film according to the present invention in its charge transport layer has excellent charge transport properties and charging ability, can obtain a sufficient surface potential even with a thin film thickness, and can produce good images. can do. According to the present invention, the charge generation layer has a-5
When using i, it is possible to obtain a thin film photoreceptor, which could not be achieved with the conventional a-1i photoreceptor.

本発明感光体はその原料が安価であり、必要な各層が同
一の槽内で成膜できるとともに、膜厚が薄くてよいので
、製造コストが安く、かつ製造時間が短くて済む。 本
発明による有機プラズマ重合膜は、薄膜に形成してもピ
ンホールが生じにくく、均質に形成することができるの
で、薄膜化が容易である。さらに耐コロナ性、耐酸性、
耐湿性、耐熱性および剛直性にも優れているので、表面
保護層として使用すると感光体の耐久性が向上する。
In the photoreceptor of the present invention, the raw materials thereof are inexpensive, each necessary layer can be formed in the same tank, and the film thickness may be thin, so that the manufacturing cost is low and the manufacturing time is short. The organic plasma polymerized film according to the present invention is difficult to form pinholes even when formed into a thin film, and can be formed homogeneously, so that it can be easily made into a thin film. Furthermore, corona resistance, acid resistance,
It also has excellent moisture resistance, heat resistance, and rigidity, so when used as a surface protective layer, it improves the durability of the photoreceptor.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図から第12図は本発明感光体の模式的断面図を示
す。 第13図および第14図は感光体製造用装置の一例を示
す図である。 第15図はa−C膜の赤外吸収スペクトルを示す図であ
る。 図中の記号は以下の通りである。 (1)・・・基板    (2)・・・電荷輸送層(a
−C層)(3)・・・電荷発生Ji!  (4)・・・
オーバーコート層(5)・・・アンダーコート層 (701)〜(706)・・・タンク (707)〜(712)及び(725)〜(727)・
・・調節弁(7H)〜(718)及び(728)〜(7
30)・・・流量制御器(マスフローコントローラー)
(719)〜(721)・・・容器(722)〜(72
4)・・・加熱器(731)・・・混合器   (73
2)・・・主管(733)・・・反応室   (734
)・・・配管加熱器(735)・・・接地電極  (7
38)・・・電力印加電極(737)・・・電力加熱器
 (’738)・・・高周波電力整合器(739)・・
・高周波電源 (740)・・・低周波電力用整合器 (741)・・・低周波型11  (742)・・・ロ
ーパスフィルタ(743)・・・直流電源  (744
)・・・接続選択スイッチ(745)・・・圧力制御弁
 (746)・・排気系選択弁(747)・・拡散ポン
プ (74g)・・油回転ポンプ(749)・・・冷却
除外装置 (75G)・・・メカニカルブースタポンプ(751)
・・・反応加熱器 (752)・・・導電性基板(75
3)・・・除外装置 特許出願人 ミノルタカメラ株式会社 代 理 人 弁理士 青白 葆ほか2名IIIの   
 第2図    第3図第4図    第5図    
fs6図第図面7図  第8図    第9図 第10!!i!I      第11図    第12
図@15図 +600       1200 壕数(cm”)
1 to 12 show schematic cross-sectional views of the photoreceptor of the present invention. FIG. 13 and FIG. 14 are diagrams showing an example of an apparatus for manufacturing a photoreceptor. FIG. 15 is a diagram showing an infrared absorption spectrum of the a-C film. The symbols in the figure are as follows. (1)...Substrate (2)...Charge transport layer (a
-C layer) (3)...Charge generation Ji! (4)...
Overcoat layer (5)... Undercoat layer (701) to (706)... Tank (707) to (712) and (725) to (727).
...Control valves (7H) to (718) and (728) to (7
30)...Flow rate controller (mass flow controller)
(719) ~ (721) ... Container (722) ~ (72
4)... Heater (731)... Mixer (73
2) Main pipe (733) Reaction chamber (734
)...Pipe heater (735)...Ground electrode (7
38)...Power application electrode (737)...Power heater ('738)...High frequency power matching device (739)...
・High frequency power supply (740)...Low frequency power matching box (741)...Low frequency type 11 (742)...Low pass filter (743)...DC power supply (744)
)...Connection selection switch (745)...Pressure control valve (746)...Exhaust system selection valve (747)...Diffusion pump (74g)...Oil rotary pump (749)...Cooling exclusion device ( 75G)...Mechanical booster pump (751)
... Reaction heater (752) ... Conductive substrate (75
3)... Excluded device patent applicant Representative of Minolta Camera Co., Ltd. Patent attorney Aobai Ao and two others III
Figure 2 Figure 3 Figure 4 Figure 5
fs6 drawing drawing 7 drawing 8 drawing 9 drawing 10! ! i! I Fig. 11 Fig. 12
Figure @15 Figure +600 1200 Number of trenches (cm”)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1、電荷発生層(3)と電荷輸送層(2)とを有する機
能分離型感光体において、電荷輸送層(2)として炭化
水素のプラズマ重合膜を設け、該重合膜の赤外吸収スペ
クトルのメチル(−CH_3)基およびメチレン(−C
H_2−)基による1460ないし1470cm^−^
1付近のピーク吸収係数α_1とメチル基による138
0cm^−^1付近のピーク吸収係数α_2との比α_
1/α_2が0.5ないし5.0であることを特徴とす
る感光体。
1. In a functionally separated photoreceptor having a charge generation layer (3) and a charge transport layer (2), a hydrocarbon plasma polymerized film is provided as the charge transport layer (2), and the infrared absorption spectrum of the polymerized film is Methyl (-CH_3) group and methylene (-C
1460 to 1470 cm^-^ depending on the H_2-) group
138 due to peak absorption coefficient α_1 near 1 and methyl group
Ratio α_ to peak absorption coefficient α_2 near 0cm^-^1
A photoreceptor characterized in that 1/α_2 is 0.5 to 5.0.
JP5577287A 1986-03-20 1987-03-10 Photosensitive body Pending JPS6326658A (en)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61-63743 1986-03-20
JP6374386 1986-03-20

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