JPS63265155A - イオンセンサ - Google Patents

イオンセンサ

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Publication number
JPS63265155A
JPS63265155A JP62101050A JP10105087A JPS63265155A JP S63265155 A JPS63265155 A JP S63265155A JP 62101050 A JP62101050 A JP 62101050A JP 10105087 A JP10105087 A JP 10105087A JP S63265155 A JPS63265155 A JP S63265155A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ions
ion
potential
concentration
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62101050A
Other languages
English (en)
Inventor
Kaoru Kato
馨 加藤
Masao Arakawa
雅夫 荒川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Works Ltd
Priority to JP62101050A priority Critical patent/JPS63265155A/ja
Publication of JPS63265155A publication Critical patent/JPS63265155A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [技術分野] 本発明は、溶解液中のイオン濃度またはイオンが可動状
態の物質中のイオン濃度を検出するセンサに関する。
[背景技術] イオン選択性電極は、臨床検査に広く用いられているが
、小型化しようとすると電極抵抗が極めて大きくなるた
め、イオン濃度を測る場合、種々の制限が存在する。そ
こで、近年注目を集めてきたのがI S F E T 
(ion 5ensitive field effe
cttransistor )と呼ばれるセンサである
l5FETは、IC技術を用いて作られるため超小型で
あり、また、電圧電流変換機能、増幅器を内蔵しており
、さらに、種々の回路との集積化が可能であり、多種の
イオンを同時に検出できる構造をもつことが可能である
という特徴を有している。
第2図に代表的なl5FET型素子を示す0図中、20
は保護膜、21はソース電極、22はドレイン電極、2
3は絶縁膜、24はイオン感応膜、25はゲート酸化膜
、26はソース拡散層、27はドレイン拡散層、28は
基板、29は基板電極、30は比較電極である。
かかる素子の使用法は、イオン感応H24およびゲート
酸化膜25の部分を溶解液に浸すと共に、カロメル電極
の如き比較電極30で溶解液の電位を定める。イオン感
応F!24がpHガラス電極のように、溶解液中のH+
イオン濃度に対応して表面に界面電位を発生すれば、F
ETのゲート電位として作用し、その電位に応じて■。
が変化するといった素子である。
しかしながら、かかるl5FET型素子においても、電
流増幅率の小さい場合や、イオン感応膜24とゲート酸
化膜25の界面で得られる電位が、しきい値程度と低い
場合、リーク電流の存在により、イオンが所定の濃度以
上存在するか否かの判断が困難な場合が生じるといった
欠点を有している。
[発明の目的] 本発明は上記欠点に鑑みなされたもので、その目的とす
るところは、イオンが所定の濃度以上存在するか否かを
確実に知ることができるイオンセンサを提供するにある
[発明の開示] 本発明は、ゲート酸化股上に形成したイオン感応膜の部
分を溶解液若しくはイオンが可動状態の物質中に浸すと
共に、比較電極で溶解液の電位を定め、前記イオン感応
膜が溶解液中のイオン濃度に対応して表面に発生する界
面電位をゲート電圧として作用せしめることにより、電
極間に電流を生ぜしめ、溶解液中の若しくはイオンが可
動状態の物質中のイオン濃度を検出するイオンセンサに
おいて、前記電圧・電流変換部をサイリスタ構造とした
ことを特徴とする。
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。第1図は本
発明の一実施例を示すもので、図中、1は比較電極、2
はカソード電極、3はアノード電極、4はイオン感応膜
、5は絶縁膜、6はカソード拡散層、7はアノード拡散
層、8はゲート酸化膜である。
ところで、イオン感応膜4が金属電極で、外部から電位
が与えられるものであるならば、通常のIGT型サイリ
スタであるが、ゲート酸化膜8上の電位は、イオン感応
膜4を介して比較電極1の電位の一部がイオン濃度に応
じて与えられる。
イオン感応膜4が選択するイオンの濃度が、ある濃度(
本実施例ではイオン検出値)以上であれば、ゲート酸化
膜8とイオン感応膜4との界面での電位V、が、GTO
型サイリスタのしきい値電圧以上となり、カソード電極
2とアノード電極3の間に電流が流れる。
前記従来例の場合、ソース電極21とドレイン電極22
の間の電流値は、しきい値電圧をv7とすると、 vns>ves  vt ならば、 と普通表せるが、Vcs#Vyのときは、!。、は0式
では表せず、 のように、リーク電流I DSLとゲート・ソース間電
圧■。、に対し指数関数的に増加する電流の和となり、
■、が■7より大であるか小であるかの判定は難しいも
のとなる。しかし、実施例のようにサイリスタ構造とす
れば、vGが■、を超えれば、電流は急激に増加するた
め、オンかオフかの2値判断が可能となる。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものでないのは
勿論であり、例えば、本発明はイオンが可動状態の物質
中のイオン濃度を検出する場合にも有効である。
[発明の効果] 本発明は上記のように、電圧・電流変換部をサイリスタ
構造としたことにより、ゲート酸化膜とイオン感応膜と
の界面での電位がサイリスタのしきい値電圧を超えた時
に初めて電極間電流をオンと検出できるため、比較電極
の電位および前記しきい値電圧を適当に定めることによ
り、センシングすべき物質中のイオン濃度が、所定の濃
度より濃いものか薄いものかの検出が容易となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す模式図、第2図は従来
例の模式図である。 1・・・比較電極、2・・・カソード電極、3・・・ア
ノード電極、4・・・イオン感応膜、5・・・絶縁膜、
6・・・カソード拡散層、7・・・アノード拡散層、8
・・・ゲート酸化膜。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ゲート酸化膜上に形成したイオン感応膜の部分を
    溶解液若しくはイオンが可動状態の物質中に浸すと共に
    、比較電極で溶解液の電位を定め、前記イオン感応膜が
    溶解液中のイオン濃度に対応して表面に発生する界面電
    位をゲート電圧として作用せしめることにより、電極間
    に電流を生ぜしめ、溶解液中の若しくはイオンが可動状
    態の物質中のイオン濃度を検出するイオンセンサにおい
    て、前記電圧・電流変換部をサイリスタ構造としたこと
    を特徴とするイオンセンサ。
JP62101050A 1987-04-23 1987-04-23 イオンセンサ Pending JPS63265155A (ja)

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JP62101050A JPS63265155A (ja) 1987-04-23 1987-04-23 イオンセンサ

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JP62101050A JPS63265155A (ja) 1987-04-23 1987-04-23 イオンセンサ

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JPS63265155A true JPS63265155A (ja) 1988-11-01

Family

ID=14290292

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JP62101050A Pending JPS63265155A (ja) 1987-04-23 1987-04-23 イオンセンサ

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103575787A (zh) * 2012-08-01 2014-02-12 罗伯特·博世有限公司 半导体构件和用于确定半导体构件的半导体材料的状态的方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103575787A (zh) * 2012-08-01 2014-02-12 罗伯特·博世有限公司 半导体构件和用于确定半导体构件的半导体材料的状态的方法

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