JPS63257286A - 光電子装置 - Google Patents
光電子装置Info
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- JPS63257286A JPS63257286A JP62090874A JP9087487A JPS63257286A JP S63257286 A JPS63257286 A JP S63257286A JP 62090874 A JP62090874 A JP 62090874A JP 9087487 A JP9087487 A JP 9087487A JP S63257286 A JPS63257286 A JP S63257286A
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- semiconductor laser
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- laser device
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- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 title description 9
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
- H01S5/065—Mode locking; Mode suppression; Mode selection ; Self pulsating
- H01S5/0658—Self-pulsating
Landscapes
- Optical Head (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体レーザ素子、特に、戻り光による雑音を
低減できる半導体レーザ素子に関する。
低減できる半導体レーザ素子に関する。
半導体レーザは、光フアイバ通信を中心にした通信分野
、あるいは光デイスクファイル、ディジタルオーディオ
ディスク、ビデオディスク、レーザビームプリンタ等を
中心とする情報端末分野等に使用されている。前者は、
発振波長が1.3μm、1.5μmの長波長帯レーザダ
イオード(LD)であり、後者は発振波長が0.78μ
m、0゜83μmの可視・赤外帯レーザダイオードであ
る。
、あるいは光デイスクファイル、ディジタルオーディオ
ディスク、ビデオディスク、レーザビームプリンタ等を
中心とする情報端末分野等に使用されている。前者は、
発振波長が1.3μm、1.5μmの長波長帯レーザダ
イオード(LD)であり、後者は発振波長が0.78μ
m、0゜83μmの可視・赤外帯レーザダイオードであ
る。
ところで、コパクトディスク(CD)やビデオディスク
(VD)、特にVDにおいては、徂み込む半導体レーザ
における低雑音化は重要である。
(VD)、特にVDにおいては、徂み込む半導体レーザ
における低雑音化は重要である。
レーザダイオードの戻り光ノイズによるS / Nが劣
化すると、ビデオディスクにあっては画質が劣化する。
化すると、ビデオディスクにあっては画質が劣化する。
レーザ光の戻り光による雑音を許容値以下に抑えた半導
体レーザとしては、たとえば、日経マグロウヒル社発行
「日経エレクトロニクス」1983年10月10日号、
P173〜P193に記載されたものがある。
体レーザとしては、たとえば、日経マグロウヒル社発行
「日経エレクトロニクス」1983年10月10日号、
P173〜P193に記載されたものがある。
この文献には、屈折率導波型の単一モードで発振する半
導体レーザの駆動電流(直流バイアス電流)に、I G
Hz前後の高周波電流を重畳して、多モード発振させ
ることによって、戻り光による雑音を許容値に抑える技
術が開示されている。また、この文献には、共振周波数
付近で自助発振(パルセーション)を起こさせることが
できる旨記載されている。また、このパルセーションを
生じている素子では、上記の高周波重畳方式のレーザと
同じく、比較的低雑音で戻り光に対して安定な特性が得
られていることも記載されている。
導体レーザの駆動電流(直流バイアス電流)に、I G
Hz前後の高周波電流を重畳して、多モード発振させ
ることによって、戻り光による雑音を許容値に抑える技
術が開示されている。また、この文献には、共振周波数
付近で自助発振(パルセーション)を起こさせることが
できる旨記載されている。また、このパルセーションを
生じている素子では、上記の高周波重畳方式のレーザと
同じく、比較的低雑音で戻り光に対して安定な特性が得
られていることも記載されている。
上記のように、パルセーションが生じている素子では比
較的低雑音で戻り光に対して安定な特性が得られる。本
出願人にあっては、コンパクトディスクやビデオディス
ク用光源として、自助発振する半導体レーザ素子を開発
しているが、このような半導体レーザ素子において、よ
り−5の特性の安定化を図ることが要請されている。
較的低雑音で戻り光に対して安定な特性が得られる。本
出願人にあっては、コンパクトディスクやビデオディス
ク用光源として、自助発振する半導体レーザ素子を開発
しているが、このような半導体レーザ素子において、よ
り−5の特性の安定化を図ることが要請されている。
本発明の目的は、戻り光による雑音の発生が少ない自励
発振性が高い半導体レーザ素子を提供することにある。
発振性が高い半導体レーザ素子を提供することにある。
本発明の他の目的は戻り光による雑音の発生が起き難い
光電子装置を提供することにある。
光電子装置を提供することにある。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細どの記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。
本明細どの記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。
本朝において開示される発明のうち代表的なものの概要
を節単に説明すれば、下記のとおりである。
を節単に説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、本発明の光電子装置は、半導体レーザ素子か
ら発光されたレーザ光をディスク面に照射する構造とな
っている。また、この半導体レーザ素子は自助発振する
が、その活性層には自助発振周波数を増大させるように
Mgが添加されている。また、この半導体レーザ素子の
自励発振周波数と、前記ディスク面までの光路長(外部
共振器)の往復周期の逆数とが一致した構造となってい
〔作用〕 上記のように、本発明の光電子装置は、半導体レーザ素
子の自励発振周波数と外部共振器の光往復周期の逆数が
一敗する構造となっているため、両者の相乗効果によっ
て自助発振は増大され、縦モードはより深いパルセーシ
ョンとなり、戻り光との干渉性は低くなるため、戻り光
による雑音の発生が抑止される。
ら発光されたレーザ光をディスク面に照射する構造とな
っている。また、この半導体レーザ素子は自助発振する
が、その活性層には自助発振周波数を増大させるように
Mgが添加されている。また、この半導体レーザ素子の
自励発振周波数と、前記ディスク面までの光路長(外部
共振器)の往復周期の逆数とが一致した構造となってい
〔作用〕 上記のように、本発明の光電子装置は、半導体レーザ素
子の自励発振周波数と外部共振器の光往復周期の逆数が
一敗する構造となっているため、両者の相乗効果によっ
て自助発振は増大され、縦モードはより深いパルセーシ
ョンとなり、戻り光との干渉性は低くなるため、戻り光
による雑音の発生が抑止される。
以下図面を参照して本発明の一実施例について説明する
。
。
第1図は本発明の一実施例による半導体レーザ素子の要
部を示す断面図、第2図は同じく光電子装置の要部を示
す模式図、第3[XJはシングル縦モードを示すグラフ
、第4図はマルチ縦モードを示すグラフ、第5図はパル
セーション縦モードを示すグラフ、第6図は本発明によ
るMgをドープした半導体レーザ素子とドープしない半
導体レーザ素子の自励発振周波数特性を示すグラフであ
る。
部を示す断面図、第2図は同じく光電子装置の要部を示
す模式図、第3[XJはシングル縦モードを示すグラフ
、第4図はマルチ縦モードを示すグラフ、第5図はパル
セーション縦モードを示すグラフ、第6図は本発明によ
るMgをドープした半導体レーザ素子とドープしない半
導体レーザ素子の自励発振周波数特性を示すグラフであ
る。
この実施例による半導体レーザ素子は、第1図に示され
るようなp−C3P (p−channe−1ed−3
ubstra’te−planar)構造となっている
。この半導体レーザ素子は、p形のGaAsからなる基
板1を有している。また、この基Fi1の主面ムこはn
形GaAsからなる電流狭窄層2が設けられている。こ
の電流狭窄層2はその中央をストライプ状の溝3で区画
されている。
るようなp−C3P (p−channe−1ed−3
ubstra’te−planar)構造となっている
。この半導体レーザ素子は、p形のGaAsからなる基
板1を有している。また、この基Fi1の主面ムこはn
形GaAsからなる電流狭窄層2が設けられている。こ
の電流狭窄層2はその中央をストライプ状の溝3で区画
されている。
この溝3は、下層の基板1に迄入り込むように形成され
ている。なお、この溝3は、前記基板1の主面全域にM
OCVDによってn形GaAs層を形成した後、部分的
エツチングによって形成される。
ている。なお、この溝3は、前記基板1の主面全域にM
OCVDによってn形GaAs層を形成した後、部分的
エツチングによって形成される。
一方、前記電流狭窄層2および露出する基板1上にはp
形GaAlAsからなるp形りラッド層4と、このp形
りラッド層4の上面に形成されたGaAuAsからなる
活性層5と、この活性層5の上面に形成されたn形Ga
AJIAsからなるn形りラッド層6と、このn形りラ
ッド層6の上面に形成されたn形Gafi、sからなる
キャップ層7とが、液層エビクキシャル成長によって形
成されている。また、前記キャップ層7上にはカソード
電極8が設けられているとともに、基板1の裏面にはア
ノード電極9が設けられている。
形GaAlAsからなるp形りラッド層4と、このp形
りラッド層4の上面に形成されたGaAuAsからなる
活性層5と、この活性層5の上面に形成されたn形Ga
AJIAsからなるn形りラッド層6と、このn形りラ
ッド層6の上面に形成されたn形Gafi、sからなる
キャップ層7とが、液層エビクキシャル成長によって形
成されている。また、前記キャップ層7上にはカソード
電極8が設けられているとともに、基板1の裏面にはア
ノード電極9が設けられている。
この半導体レーザ素子10にあっては、前記電流狭窄層
2がTL流の流れる領域を狭窄している。
2がTL流の流れる領域を狭窄している。
また、この半導体レーザ素子10は、前記p形クラッド
層4の厚さと活性層5の厚さを変えることによって、屈
折率導波の度合を変えることができる。これにより、縦
モードを、第3図に示されるような単一モード11から
、第4図に示されるようなマルチモード12に変えるこ
とができる。したがって、自励発振(パルセーション)
は、シングルとマルチの間で発生することから、前記p
形りラ・2ド層4および活性層5の厚さを選択すること
によって、第5図に示されるようなパルセーション(自
励発振)13を起こす半導体レーザ素子とすることがで
きる。このパルセーションを起こす半導体レーザ素子の
縦モードは、第5図に示されるように、スペクトルの一
本一本の幅が太(、発振するレーザ光の干1歩性が弱い
。したがって、戻り光雑音に対しては、通常のマルチモ
ード半導体レーザよりも有利である。
層4の厚さと活性層5の厚さを変えることによって、屈
折率導波の度合を変えることができる。これにより、縦
モードを、第3図に示されるような単一モード11から
、第4図に示されるようなマルチモード12に変えるこ
とができる。したがって、自励発振(パルセーション)
は、シングルとマルチの間で発生することから、前記p
形りラ・2ド層4および活性層5の厚さを選択すること
によって、第5図に示されるようなパルセーション(自
励発振)13を起こす半導体レーザ素子とすることがで
きる。このパルセーションを起こす半導体レーザ素子の
縦モードは、第5図に示されるように、スペクトルの一
本一本の幅が太(、発振するレーザ光の干1歩性が弱い
。したがって、戻り光雑音に対しては、通常のマルチモ
ード半導体レーザよりも有利である。
ここで、半導体レーザ素子10の各部の寸法について説
明する。前記基板1の厚さは、たとえば、100μm、
電流狭窄層2の厚さは0.8μm、溝3の幅は3〜5μ
mで深さは1.2μmに形成されている。また、前記p
形りラッド肋4はパルセーションが発生するように、0
.35μmと厚く形成されている。n;1記活性層5は
パルセーションが起きるように0.07μmと極めて薄
い。また、この活性層5にはパルセーション周波数を高
くさせるために、不純物としてMg(マグネシウム)が
1×10IscIn−3程度添加(ドープ)されている
。前記n形りラッド層6の厚さは2μm、キャップ層7
の厚さは1μm程度に形成されている。
明する。前記基板1の厚さは、たとえば、100μm、
電流狭窄層2の厚さは0.8μm、溝3の幅は3〜5μ
mで深さは1.2μmに形成されている。また、前記p
形りラッド肋4はパルセーションが発生するように、0
.35μmと厚く形成されている。n;1記活性層5は
パルセーションが起きるように0.07μmと極めて薄
い。また、この活性層5にはパルセーション周波数を高
くさせるために、不純物としてMg(マグネシウム)が
1×10IscIn−3程度添加(ドープ)されている
。前記n形りラッド層6の厚さは2μm、キャップ層7
の厚さは1μm程度に形成されている。
このような半導体レーザ素子10は、光電子装置の光源
として機器に組み込まれる。たとえば、半導体レーザ素
子10は第2図に示されるように、コンパクトディスク
のピックアップ部に組み込まれる。第2図は説明のため
の便宜的な図である。
として機器に組み込まれる。たとえば、半導体レーザ素
子10は第2図に示されるように、コンパクトディスク
のピックアップ部に組み込まれる。第2図は説明のため
の便宜的な図である。
半導体レーザ素子10から発光されたレーザ光14は、
カップリングレンズ151回折格子16を通ってハーフ
プリズム17に進む。また、ハーフプリズム17を通っ
たレーザ光14は、直角プリズム18で方向を変えられ
(同図では直線となっている。)、・対物レンズ19で
絞られて光スポット20となり、ディスク21面上に焦
点を結ぶようになっている。また、対物レンズ19は2
次元アクチュエータ22によって制御される。なお、前
記半導体レーザ素子10からディスク21に至る距離り
が光路長、すなわち外部共振器となる。
カップリングレンズ151回折格子16を通ってハーフ
プリズム17に進む。また、ハーフプリズム17を通っ
たレーザ光14は、直角プリズム18で方向を変えられ
(同図では直線となっている。)、・対物レンズ19で
絞られて光スポット20となり、ディスク21面上に焦
点を結ぶようになっている。また、対物レンズ19は2
次元アクチュエータ22によって制御される。なお、前
記半導体レーザ素子10からディスク21に至る距離り
が光路長、すなわち外部共振器となる。
一方、前記ハーフプリズム17は、センサレンズ23お
よび光検出器24が光学的に接続されている。そして、
この光検出器24では、前記ディスク21面で反射した
反射光25が検出される。
よび光検出器24が光学的に接続されている。そして、
この光検出器24では、前記ディスク21面で反射した
反射光25が検出される。
前記光検出器24は図示はしないが、中央に4分割フォ
トダイオードが配されている。この4分割フォトダイオ
ードで信号読み取りと、シリンドリカルレンズとの組み
合わせによって焦点ずれが検出される。また、この4分
割フォトダイオードの両側には別の素子が配設されてい
て、この両側の素子と回折格子との組み合わせによって
、その出力の差を取ることにより、トラックずれ検出が
行われるようになっている。
トダイオードが配されている。この4分割フォトダイオ
ードで信号読み取りと、シリンドリカルレンズとの組み
合わせによって焦点ずれが検出される。また、この4分
割フォトダイオードの両側には別の素子が配設されてい
て、この両側の素子と回折格子との組み合わせによって
、その出力の差を取ることにより、トラックずれ検出が
行われるようになっている。
ところで、このようなコンパクトディスクプレーヤ(光
電子装置)において、前記半導体レーザ素子10の自励
発振周波数r、は、コンパクトディスクプレーヤのシス
テムの光路長(外部共振器長)Lの往復周期の逆数f
ttxt と一致するように構成されている。
電子装置)において、前記半導体レーザ素子10の自励
発振周波数r、は、コンパクトディスクプレーヤのシス
テムの光路長(外部共振器長)Lの往復周期の逆数f
ttxt と一致するように構成されている。
なお、自励発振周波数f0およびレーザ光の外部共振器
往復周期の逆数t extについては、次の関係式が成
り立つ。
往復周期の逆数t extについては、次の関係式が成
り立つ。
L
ここで、dg/dn:微分利得
g:利得
n:キャリア濃度
LC:キャビティ長
C:光速
L:外部共振器長である。
半導体レーザは、外部共振器の往復周期の逆数t ex
tに相当する周波数によって被変調を受ける。
tに相当する周波数によって被変調を受ける。
この周波数が自励発振周波数f0と一致、または近接し
ている場合には、両者の相乗効果により、半導体レーザ
の自励発振は深くなり、縦モードはより深いパルセーシ
ョンとなって、干渉性は低下し低ノイズとなる。しかし
、fl、xtが自励発振周波数f0と離れていると、上
記の効果は生じない。
ている場合には、両者の相乗効果により、半導体レーザ
の自励発振は深くなり、縦モードはより深いパルセーシ
ョンとなって、干渉性は低下し低ノイズとなる。しかし
、fl、xtが自励発振周波数f0と離れていると、上
記の効果は生じない。
foをf eXtと一致させるためには、半導体レーザ
の活性層にMg等の不純物を適量ドープすると効果があ
る。前記(1)弐において、不純物濃度(ギヤリア濃度
)を上げると、微分利得d g/dnが上昇しfoが増
大する。したがって、キャリア濃度を適当に選択すれば
、foとf extを一致あるいは近接させることがで
きる。
の活性層にMg等の不純物を適量ドープすると効果があ
る。前記(1)弐において、不純物濃度(ギヤリア濃度
)を上げると、微分利得d g/dnが上昇しfoが増
大する。したがって、キャリア濃度を適当に選択すれば
、foとf extを一致あるいは近接させることがで
きる。
第6図のグラフは、縦軸に変調度mの平方根を、横軸に
自助発振周波数を取ったグラフである。このグラフにお
いて、白丸は活性層にMgをドープしないもの、黒丸は
活性層にMgをlXl0”cm−’ドープしたものを示
す。このグラフは、非ドープ品、Mgトド−品を出力3
mWとし、アバランシェ・フォトダイオードと、高周波
スペクトラム・アナライザを用いて、自助発振周波数と
変調の′深さを測定して得たものである。同グラフに示
したように、Mgドープと非ドープでは、傾向が明確に
分かれた。同一の変調度では、Mgドープの方が自励発
振周波数が高い。
自助発振周波数を取ったグラフである。このグラフにお
いて、白丸は活性層にMgをドープしないもの、黒丸は
活性層にMgをlXl0”cm−’ドープしたものを示
す。このグラフは、非ドープ品、Mgトド−品を出力3
mWとし、アバランシェ・フォトダイオードと、高周波
スペクトラム・アナライザを用いて、自助発振周波数と
変調の′深さを測定して得たものである。同グラフに示
したように、Mgドープと非ドープでは、傾向が明確に
分かれた。同一の変調度では、Mgドープの方が自励発
振周波数が高い。
なお、活性層に添加する不純物は他のものでも良い。ま
た、この不純物の添加は以下の経緯により採用された。
た、この不純物の添加は以下の経緯により採用された。
すなわち、実装評価系で雑音評価データが積み上がるに
つれ、同−縦モード形状でも雑音特性がさらに良好な素
子群があることがわかってきた。これらの素子は、ロフ
ト依存性をもち、p形クラッド層のZnの濃度が高いロ
フトに集中する傾向が認められた。これはp形クラッド
層のZnが活性層に拡散したことによるのではないかと
考え、意識的に活性層に不純物を高濃度ドープしたサン
プルを作成し、評価してみた。この結果、同グラフに示
されるように、予想通りの結果を得た。ただし、不純物
はn形りラッド層への拡散のおそれが少ないMgとした
。この場合、Mgの濃度は結晶性に悪影響を与えない程
度の1×IQ18cm−’とした。
つれ、同−縦モード形状でも雑音特性がさらに良好な素
子群があることがわかってきた。これらの素子は、ロフ
ト依存性をもち、p形クラッド層のZnの濃度が高いロ
フトに集中する傾向が認められた。これはp形クラッド
層のZnが活性層に拡散したことによるのではないかと
考え、意識的に活性層に不純物を高濃度ドープしたサン
プルを作成し、評価してみた。この結果、同グラフに示
されるように、予想通りの結果を得た。ただし、不純物
はn形りラッド層への拡散のおそれが少ないMgとした
。この場合、Mgの濃度は結晶性に悪影響を与えない程
度の1×IQ18cm−’とした。
このような実施例によれば、つぎのような効果が得られ
る。
る。
(1)本発明の半導体レーザ素子は、活性層にバルセー
ンヨンを増大させることができ、不純物が添加されてい
るため、自励発振性が大きくなり、低雑音化が達成でき
るという効果が得られる。
ンヨンを増大させることができ、不純物が添加されてい
るため、自励発振性が大きくなり、低雑音化が達成でき
るという効果が得られる。
(2)本発明の光電子!A置は、上記(1)のように、
自励発振性を高くできる半導体レーザ素子が組み込まれ
ていることから、外部共振器に対して戻り光ノイズが最
小となる自励発振周波数を選択できるという効果が得ら
れる。
自励発振性を高くできる半導体レーザ素子が組み込まれ
ていることから、外部共振器に対して戻り光ノイズが最
小となる自励発振周波数を選択できるという効果が得ら
れる。
(3)上記(2)により、本発明によれば、半導体レー
ザの自励発振周波数と、外部共振器の往復周期の逆数を
一致させるようにすることによって、戻り光ノイズの少
ない光電子装置を提供することができるという効果が得
られる。
ザの自励発振周波数と、外部共振器の往復周期の逆数を
一致させるようにすることによって、戻り光ノイズの少
ない光電子装置を提供することができるという効果が得
られる。
(4)上記(3)により、本発明によれば、戻り光に対
して安定して動作する信幀度の裔い光電子装置を提供す
ることができるという相乗効果が得られる。
して安定して動作する信幀度の裔い光電子装置を提供す
ることができるという相乗効果が得られる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるコンパクト・ディス
ク・プレーヤに適用した場合について説明したが、それ
に限定されるものではない。
をその背景となった利用分野であるコンパクト・ディス
ク・プレーヤに適用した場合について説明したが、それ
に限定されるものではない。
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。
すなわち、本発明の光電子装置は、半4体レーザ素子の
自励発振周波数と外部共振器の光往復周期の逆数が一致
する構造となっているため、両者の相乗効果によって自
励発振は増大され、縦モードはより深いパルセーション
となり、戻り光との干渉性は低くなるため、戻り光によ
る雑音の発生が抑止される。また、半導体レーザ素子は
、活性層にMgが添加されていることから自助発振周波
数が増大されるため、戻り光との干渉性が低下し、低雑
音化が達成できる。
自励発振周波数と外部共振器の光往復周期の逆数が一致
する構造となっているため、両者の相乗効果によって自
励発振は増大され、縦モードはより深いパルセーション
となり、戻り光との干渉性は低くなるため、戻り光によ
る雑音の発生が抑止される。また、半導体レーザ素子は
、活性層にMgが添加されていることから自助発振周波
数が増大されるため、戻り光との干渉性が低下し、低雑
音化が達成できる。
第1図は本発明の一実施例による半導体レーザ素子の要
部を示す断面図、 第2図は同じく光電子装置の要部を示す模式図、第3図
はシングル縦モードを示すグラフ、第4図はマルチ縦モ
ードを示すグラフ、第5図はパルセーション縦モードを
示すグラフ、第6図は本発明によるMgをドープした半
4体レーザ素子とドープしない半導体レーザ素子の自励
発振周波数特性を示すグラフである。 1 ・ ・ ・基板、2 ・ ・ ・電IA狭窄層、3
・ ・ ・溝、4・・・p形りラッド層、5・・・活
性層、6・・・n形りラ/ド層、7・ ・ ・キャップ
層、8・ ・・カソード電極、9・・・アノード電↑j
、10・・・半導体レーザ素子、11・・・jli−モ
ード、12・・・マルチモード、13・・・パルセージ
コン、14・・・レーザ光、15・・・カップリングレ
ンズ、16・・・回折格子、17・・・ハーフプ゛ノズ
ム、18・・・直角プリズム、19・・・対物レンズ、
20・・・光スポット、21・・・ディスク、22・・
・2次元アクチュエータ、23・・・センサレンズ、2
4・・・先竿 3 図 第 4 図 第 5 図
部を示す断面図、 第2図は同じく光電子装置の要部を示す模式図、第3図
はシングル縦モードを示すグラフ、第4図はマルチ縦モ
ードを示すグラフ、第5図はパルセーション縦モードを
示すグラフ、第6図は本発明によるMgをドープした半
4体レーザ素子とドープしない半導体レーザ素子の自励
発振周波数特性を示すグラフである。 1 ・ ・ ・基板、2 ・ ・ ・電IA狭窄層、3
・ ・ ・溝、4・・・p形りラッド層、5・・・活
性層、6・・・n形りラ/ド層、7・ ・ ・キャップ
層、8・ ・・カソード電極、9・・・アノード電↑j
、10・・・半導体レーザ素子、11・・・jli−モ
ード、12・・・マルチモード、13・・・パルセージ
コン、14・・・レーザ光、15・・・カップリングレ
ンズ、16・・・回折格子、17・・・ハーフプ゛ノズ
ム、18・・・直角プリズム、19・・・対物レンズ、
20・・・光スポット、21・・・ディスク、22・・
・2次元アクチュエータ、23・・・センサレンズ、2
4・・・先竿 3 図 第 4 図 第 5 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、自励発振する半導体レーザ素子であって、活性層に
は自励発振周波数を増大する不純物が添加されているこ
とを特徴とする半導体レーザ素子。 2、前記活性層には1×10^1^8cm^−^3のM
gが添加されていることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の半導体レーザ素子。 3、自励発振する半導体レーザ素子を組み込んだ光電子
装置であって、前記半導体レーザ素子の自励発振周波数
と、外部共振器の光往復周期の逆数とが一致しているこ
とを特徴とする光電子装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62090874A JP2670046B2 (ja) | 1987-04-15 | 1987-04-15 | 光電子装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62090874A JP2670046B2 (ja) | 1987-04-15 | 1987-04-15 | 光電子装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63257286A true JPS63257286A (ja) | 1988-10-25 |
JP2670046B2 JP2670046B2 (ja) | 1997-10-29 |
Family
ID=14010642
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62090874A Expired - Lifetime JP2670046B2 (ja) | 1987-04-15 | 1987-04-15 | 光電子装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2670046B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1996034439A1 (fr) * | 1995-04-28 | 1996-10-31 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Laser a semiconducteur et appareil a disque optique utilisant ce laser |
WO1998039827A1 (fr) * | 1997-03-07 | 1998-09-11 | Sharp Kabushiki Kaisha | Element electroluminescent semi-conducteur a base de nitrure de gallium muni d'une zone active presentant une structure de multiplexage a puits quantique et un dispostif semi-conducteur a sources de lumiere utilisant le laser |
US6072817A (en) * | 1995-03-31 | 2000-06-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor laser device and optical disk apparatus using the same |
WO2003107499A1 (ja) * | 2002-03-11 | 2003-12-24 | 日本電気株式会社 | 外部共振器型モード同期半導体レーザ |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63102385A (ja) * | 1986-10-20 | 1988-05-07 | Sanyo Electric Co Ltd | 自励発振型半導体レ−ザの製造方法 |
-
1987
- 1987-04-15 JP JP62090874A patent/JP2670046B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63102385A (ja) * | 1986-10-20 | 1988-05-07 | Sanyo Electric Co Ltd | 自励発振型半導体レ−ザの製造方法 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6072817A (en) * | 1995-03-31 | 2000-06-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor laser device and optical disk apparatus using the same |
US6081541A (en) * | 1995-03-31 | 2000-06-27 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor laser device and optical disk apparatus using the same |
US6141364A (en) * | 1995-03-31 | 2000-10-31 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd | Semiconductor laser device and optical disk apparatus using the same |
WO1996034439A1 (fr) * | 1995-04-28 | 1996-10-31 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Laser a semiconducteur et appareil a disque optique utilisant ce laser |
WO1998039827A1 (fr) * | 1997-03-07 | 1998-09-11 | Sharp Kabushiki Kaisha | Element electroluminescent semi-conducteur a base de nitrure de gallium muni d'une zone active presentant une structure de multiplexage a puits quantique et un dispostif semi-conducteur a sources de lumiere utilisant le laser |
US6377597B1 (en) | 1997-03-07 | 2002-04-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | Gallium nitride semiconductor light emitting element with active layer having multiplex quantum well structure and semiconductor laser light source device |
US6956882B2 (en) | 1997-03-07 | 2005-10-18 | Sharp Kabushiki Kaisha | Gallium nitride semiconductor light emitting device having multi-quantum-well structure active layer, and semiconductor laser light source device |
US7183569B2 (en) | 1997-03-07 | 2007-02-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | Gallium nitride semiconductor light emitting device having multi-quantum-well structure active layer, and semiconductor laser light source device |
WO2003107499A1 (ja) * | 2002-03-11 | 2003-12-24 | 日本電気株式会社 | 外部共振器型モード同期半導体レーザ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2670046B2 (ja) | 1997-10-29 |
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