JPS63241902A - Manufacture of printed resistance board - Google Patents

Manufacture of printed resistance board

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JPS63241902A
JPS63241902A JP62075098A JP7509887A JPS63241902A JP S63241902 A JPS63241902 A JP S63241902A JP 62075098 A JP62075098 A JP 62075098A JP 7509887 A JP7509887 A JP 7509887A JP S63241902 A JPS63241902 A JP S63241902A
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printed
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printed resistor
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正美 石井
並木 伸之
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は、印刷抵抗基板の製造方法に関し、特に印刷抵
抗基板の製造過程における印刷抵抗体の抵抗値変化や抵
抗値バラツキを防止するようにした印刷抵抗基板の製造
方法に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for manufacturing a printed resistor board, and in particular, a method for preventing changes in the resistance value and variations in the resistance value of a printed resistor during the manufacturing process of the printed resistor board. The present invention relates to a method of manufacturing a printed resistor substrate.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は、スクリーン印刷技術等により抵抗体を形成し
てなる印刷抵抗基板を製造するに際し、耐半田保護層と
各層との密着力を確保するための熱処理工程を印刷抵抗
体の抵抗値調整工程の前に行うことにより、 抵抗値調整後の製造過程における抵抗値変化や抵抗値バ
ラツキを解消しようとするものである。
When manufacturing a printed resistor board with resistors formed by screen printing technology, the present invention incorporates a heat treatment process to ensure adhesion between the solder-resistant protective layer and each layer to the resistance value adjustment process of the printed resistor. By performing this step before adjusting the resistance value, it is intended to eliminate changes in resistance value and variations in resistance value during the manufacturing process after resistance value adjustment.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

一般に、印刷抵抗基板を構成する印刷抵抗体上には、該
印刷抵抗体を半田デイツプ工程における熱から保護する
ために耐半田保護層層が形成されている。
Generally, a solder-resistant protective layer is formed on the printed resistor forming the printed resistor substrate in order to protect the printed resistor from heat during the solder dipping process.

すなわち上記耐半田保Allは、例えば光硬化型インキ
あるいは熱硬化型インキ等で形成され、印刷抵抗基板の
製造工程中で行われる半田ディツプの際に発生する熱に
よる印刷抵抗体の抵抗4rL変化を防止するために設け
られている。
In other words, the solder resistance All is formed of, for example, photo-curing ink or thermosetting ink, and prevents a 4rL change in resistance of the printed resistor due to heat generated during solder dipping performed during the manufacturing process of the printed resistor board. It is designed to prevent this.

従来′、この種の印刷抵抗基板を製造するには、基板上
に絶縁層を介して電極を形成し、この上に例えばカーボ
ンペースト等の抵抗体材料を印刷形成し、しかる後に該
抵抗体tこトリミング加工を施して所定の抵抗値に調整
する。最後に、抵抗値調整を行った抵抗体を覆うように
耐半田保護層を印刷形成した後、熱処理を施して該保護
層を硬化させるとともに各層間の密着力を確保すること
により印刷抵抗基板を作成していた。
Conventionally, in order to manufacture this type of printed resistance board, electrodes are formed on the substrate via an insulating layer, a resistor material such as carbon paste is printed on the electrode, and then the resistor t This trimming process is performed to adjust the resistance to a predetermined value. Finally, after printing and forming a solder-resistant protective layer to cover the resistor whose resistance value has been adjusted, heat treatment is performed to harden the protective layer and ensure adhesion between each layer, thereby creating a printed resistor board. I was creating it.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

このように従来では、抵抗値調整のためのトリミング加
工を行った後、耐半田保護層を形成し熱処理を施してい
た。
In this way, conventionally, after trimming to adjust the resistance value, a solder-resistant protective layer was formed and heat treatment was performed.

ここで、例えば耐半田保護層として熱硬化型インキを使
用した場合には、印刷抵抗基板を温度100〜150°
Cで10〜30分程度熱処理して保護層を硬化しており
、光硬化型インキを用いる場合には、例えば紫外線を照
射して硬化した後各層間の密着力向上のために100〜
150°Cで10〜30分程度熱処理している。
For example, if a thermosetting ink is used as the solder-resistant protective layer, the printed resistance board may be heated to a temperature of 100 to 150°C.
The protective layer is cured by heat treatment with C for about 10 to 30 minutes, and when using a photocurable ink, for example, after curing by irradiation with ultraviolet rays, the protective layer is heated with C for about 10 to 30 minutes to improve the adhesion between each layer.
Heat treatment is performed at 150°C for about 10 to 30 minutes.

したがって、この熱処理工程において、上記印刷抵抗体
に所謂熱履歴が生し、この結果抵抗値変化や抵抗値バラ
ツキが発生するという問題があった。すなわち、従来の
製法では、既に精度良く調整した抵抗値が最後の熱処理
によって変化するという大きな問題を抱えている。
Therefore, in this heat treatment process, a so-called thermal history occurs in the printed resistor, resulting in a problem that resistance value changes and resistance value variations occur. That is, the conventional manufacturing method has a major problem in that the resistance value, which has already been adjusted with high precision, changes due to the final heat treatment.

−iに、完成品の抵抗値がトリミング加工直後の抵抗値
の±5%以内の許容差であれば実用上支障が$いとされ
ているが、上述の製法ではこの許容差が±10%程度と
大きくなり、製造歩留りや印刷抵抗基板の信頼性の低下
の大きな原因となっている。
-i, if the tolerance of the resistance value of the finished product is within ±5% of the resistance value immediately after trimming, it is considered to be a practical problem, but with the above manufacturing method, this tolerance is about ±10%. This is a major cause of reduction in manufacturing yield and reliability of printed resistor substrates.

そこで本発明は、上述の従来の実情に濫みて提案された
ものであって、印刷抵抗体の抵抗値調整後の抵抗値変化
やバラツキが極めて小さく、製造歩留りや信頼性の優れ
た印刷抵抗基板の製造方法を提供することを目的とする
Therefore, the present invention has been proposed in view of the above-mentioned conventional situation, and is a printed resistor substrate that has extremely small resistance change and variation after adjusting the resistance value of the printed resistor, and has excellent manufacturing yield and reliability. The purpose is to provide a manufacturing method for.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

上述の目的を達成するために、本発明の印刷抵抗基板の
製造方法は、基板に電極を含む回路パターンを形成し、
次に上記電極と接続するように印刷抵抗体を形成し、次
いで上記印刷抵抗体を被覆する如く第1の保護層を形成
し熱処理を施した後、上記印刷抵抗体の抵抗値調整を行
い、その後第2の保3I層を形成することを特徴とする
ものである。
In order to achieve the above object, the method for manufacturing a printed resistance board of the present invention includes forming a circuit pattern including electrodes on the board;
Next, a printed resistor is formed so as to be connected to the electrode, and then a first protective layer is formed to cover the printed resistor and subjected to heat treatment, and then the resistance value of the printed resistor is adjusted. This method is characterized in that a second protective layer is then formed.

〔作用〕[Effect]

本発明では、印刷抵抗体を形成後、第1の保護層を印刷
形成し熱処理を施して各層間の密着力を確保し、しかる
後に抵抗値調整を行っているので、この熱処理工程にお
いて抵抗値が変化したり、あるいは抵抗値にバラツキが
発生することはない。
In the present invention, after forming the printed resistor, the first protective layer is printed and heat-treated to ensure adhesion between each layer, and then the resistance value is adjusted. There is no change in the resistance value or variation in resistance value.

また、半田デイツプ工程の熱から印刷抵抗体を保護する
ために最後に第2の保護層を形成しているので、この半
田工程で抵抗値が変化することはない。
Furthermore, since a second protective layer is formed at the end to protect the printed resistor from the heat of the solder dipping process, the resistance value does not change during this soldering process.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を通用した印刷抵抗基板の製造方法をその
工程順序に従って示す図面を参照しながら説明する。
Hereinafter, a method for manufacturing a printed resistor board according to the present invention will be described in accordance with the process order with reference to the drawings.

本発明により印刷抵抗基板を製造するには、先ず、第1
図に示すように、基板(1)上に導体膜(2)を形成し
、その上に所望の回路パターンが得られるようにパター
ンレジストを塗布し〔本実施例では導体膜(2)が3個
所等間隔で残存するような形状〕、塗膜を形成した後、
例えば100W、  4 m/Minの水銀ランプを3
灯使用して上記レジストを硬化させる。続いて、FeC
j2t、 CuCff1□等のエノチンダ液を用いて導
体膜(2)にエツチング処理を施して所定の形状にパタ
ーニングする。その後、NaOH水溶液によって残存レ
ジスト膜を剥離し所望パターンの導体膜(2)を有する
基板(1)を作成する。
In order to manufacture a printed resistance board according to the present invention, first, a first
As shown in the figure, a conductive film (2) is formed on a substrate (1), and a pattern resist is applied thereon to obtain a desired circuit pattern [in this example, the conductive film (2) is [shape that remains at equal intervals], after forming the coating film,
For example, 3 100W, 4m/Min mercury lamps
Cure the resist using a lamp. Next, FeC
The conductive film (2) is patterned into a predetermined shape by etching using an enochinda solution such as J2t or CuCff1□. Thereafter, the remaining resist film is peeled off using a NaOH aqueous solution to create a substrate (1) having a conductive film (2) with a desired pattern.

ここで、上記基板(1)としては、例えば紙基材フェノ
ール樹脂積層板、祇基材エポキシ樹脂積層板、ガラス布
基材エポキシ樹脂積層板、CEM材。
Here, examples of the substrate (1) include a paper-based phenolic resin laminate, a paper-based epoxy resin laminate, a glass cloth-based epoxy resin laminate, and a CEM material.

セラミック基板等が挙げられる。Examples include ceramic substrates.

次に、第2図に示すように、左右両端位置の導体膜(2
) 、 (2)の一部(2a) 、 (2b) と中心
位置の導体膜(2)の全部を覆うようにアンダーコート
層と称される絶縁層(3)を印刷形成する。
Next, as shown in Figure 2, conductor films (2
), (2), parts (2a), (2b), and the entirety of the conductor film (2) at the central position, an insulating layer (3) called an undercoat layer is formed by printing.

上記アンダーコートi (3)は、所謂ソルダーレジス
トを通常の印刷技術によって形成するもので、印刷され
たソルダーレジストは10〜30分間、130〜150
°Cの熱を加えることによって硬化する。
The above-mentioned undercoat i (3) is a so-called solder resist formed by ordinary printing technology, and the printed solder resist is heated at 130 to 150 mL for 10 to 30 minutes.
Cured by applying heat at °C.

次いで、第3図に示すように、上記導体膜のうち、例え
ば両端に位置する導体膜(2) 、 (2)上に電Ff
x (4) 、 (4)を形成する。この結果、これら
電極(4) 、 (4)は左右両端位置の導体膜(2)
 、 (2) と導通されたことになる。
Next, as shown in FIG.
x (4) , (4) is formed. As a result, these electrodes (4), (4) are connected to the conductive film (2) at both left and right end positions.
, (2) is now electrically connected.

上記雪掻(4)としては、導電性ペーストが好適であり
、本実施例ではAgペーストを用い、これを印刷形成し
た後、10〜30分間、130〜150 ’Cの温度で
加熱硬化した。
As the snow shovel (4), a conductive paste is suitable, and in this example, Ag paste was used, and after being printed, it was heated and hardened at a temperature of 130 to 150'C for 10 to 30 minutes.

その後、第4図に示すように、上記電Jm(4)、(4
)間にアンダーコー) 1 (3)を被覆するように抵
抗体(5)を形成する。上記抵抗体(5)としては、例
えばカーボンペーストが好適で、この形成方法としては
、スクリーン印刷等の印刷技術で塗布した後、30〜6
0分間、150〜180°Cの温度で加熱硬化すること
により形成できる。
After that, as shown in FIG.
) A resistor (5) is formed so as to cover the undercoat (3) between ). For example, carbon paste is suitable for the resistor (5), and the method for forming this is to apply it by a printing technique such as screen printing, and then apply it to a
It can be formed by heating and curing at a temperature of 150 to 180°C for 0 minutes.

なお、第3図に示す電極形成工程と、第4図に示す抵抗
体形成工程とを前後させ、抵抗体を形成した後、電極を
形成するようにしてもよい。
Note that the electrode forming step shown in FIG. 3 and the resistor forming step shown in FIG. 4 may be performed one after the other, and the electrodes may be formed after the resistor is formed.

続いて、第5図に示すように、上記基板(1)上に積層
形成された導体層(2)、アンダーコート層(3)、電
極(4)、抵抗体(5)を覆うように第1の保護層(6
)を塗布し、熱処理を施して硬化する。
Subsequently, as shown in FIG. 5, a layer was formed to cover the conductor layer (2), undercoat layer (3), electrode (4), and resistor (5) laminated on the substrate (1). 1 protective layer (6
) is applied and cured by heat treatment.

この第1の保護層(6)は、特に各層との密着力の確保
、及び後述の抵抗値調整工程時における抵抗体(5)の
損傷を防止する目的のものである。そして、この第1の
保護膜(6)の膜厚lは、5〜20μm程度に設定する
ことが好ましい。すなわち、上記膜厚lが5μm以下で
はこの保3I7!!(6)による上述の効果が薄れ好ま
しくない。逆に、上記膜厚2を20μm以上にすると、
上述の抵抗値調整を例えばレーザー光線にて行った場合
、トリミングにかなりの時間を必要とし、大きなレーザ
ーパワーを要するとともに、このトリミング時に熱が抵
抗体(5)中に拡散し抵抗値変動の原因となり好ましく
ない。
The purpose of this first protective layer (6) is particularly to ensure adhesion with each layer and to prevent damage to the resistor (5) during the resistance value adjustment process described later. The thickness l of this first protective film (6) is preferably set to about 5 to 20 μm. In other words, when the film thickness l is 5 μm or less, the 3I7! ! The above-mentioned effect due to (6) is diminished, which is not preferable. On the other hand, if the film thickness 2 is set to 20 μm or more,
If the above-mentioned resistance value adjustment is performed using a laser beam, for example, trimming requires a considerable amount of time and a large laser power, and during this trimming, heat is diffused into the resistor (5), causing resistance value fluctuations. Undesirable.

ここで、上記第1の保8i層(6)は、熱収縮による収
縮残存応力が200〜900 kg/cfflの範囲内
の材料が好適である。この収縮残存応力が900 kg
/cff1以上では、半田ディツプを行った場合、印刷
1抵抗体(5)が受ける応力が大きくなり、抵抗値変化
が顕著となるので好ましくない。
Here, the first protective layer (6) is preferably made of a material whose shrinkage residual stress due to thermal shrinkage is within the range of 200 to 900 kg/cffl. This shrinkage residual stress is 900 kg
/cff1 or more is not preferable because when solder dipping is performed, the stress applied to the printed 1 resistor (5) becomes large and the change in resistance value becomes significant.

かかる要件を満足する第1の保護層(6)としては、例
えばクレゾールノボラック型エポキシ樹脂を主体とする
ベースレジンとアクリレート系希釈モノマーを主成分と
する有機被膜が好適である。
As the first protective layer (6) that satisfies these requirements, it is preferable to use, for example, a base resin mainly composed of a cresol novolak type epoxy resin and an organic film mainly composed of an acrylate diluent monomer.

上記有機被膜のベースレジンとして使用されるクレゾー
ルノボラック型エポキシ樹脂は、a械的塗膜強度を向上
させるために用いられるもので、次式で表される。
The cresol novolak type epoxy resin used as the base resin for the above-mentioned organic coating is used to improve the mechanical coating strength, and is expressed by the following formula.

(但し、上記式中Rは水素又は−価の炭化水素基等を表
すものであり、nは整数を表す。)上記クレゾールノボ
ラック型エポキシ樹脂の分子量は3000〜10000
程度であることが好ましい。
(However, in the above formula, R represents hydrogen or a -valent hydrocarbon group, and n represents an integer.) The molecular weight of the cresol novolak type epoxy resin is 3000 to 10000.
It is preferable that the degree of

また、上記有機被膜のベースレジンは、上記クレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂にエポキシ変性ウレタンアク
リレートを加えたものでもよい。
Further, the base resin of the organic coating may be one obtained by adding an epoxy-modified urethane acrylate to the cresol novolac type epoxy resin.

上記エポキシ変性ウレタンアクリレートは、光硬化樹脂
であって、半田デイツプ後の印刷抵抗体の熱収縮が少な
く抵抗値変動を少なくするために用いられるもので、次
式で表される。
The above-mentioned epoxy-modified urethane acrylate is a photocurable resin and is used to reduce thermal shrinkage of the printed resistor after soldering and to reduce resistance value fluctuation, and is expressed by the following formula.

この場合、エポキシ変性ウレタンアクリレートの分子量
は2000〜3000程度であることが好ましい。
In this case, the molecular weight of the epoxy-modified urethane acrylate is preferably about 2,000 to 3,000.

上述のエポキシ変性ウレタンアクリレート及びタレゾー
ルノボラック型エポキシ樹脂は、基本的には、エポキシ
変性ウレタンアクリレート:クレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂−1:lの配合比で使用することが好ましい
。しかし、印刷抵抗基板の信頬性向上のために必要とさ
れる塗膜硬度は、4H〜91−1の範囲内にあることが
要求される。そこで、上記エポキシ変性ウレタンアクリ
レート及びタレゾールノボラック型エポキシ樹脂の硬化
後の塗膜硬度条件の観点からは、エポキシ変性ウレタン
アクリレート:クレゾールノボラック型エポキシ樹脂=
7:3以上であることが好ましい。したがって、塗膜強
度だけを考えるとタレゾールノボラック型エポキシ樹脂
のみをヘースレジンとして有機被膜材料としてもよい。
The above-mentioned epoxy-modified urethane acrylate and Talesol novolac-type epoxy resin are basically preferably used in a blending ratio of epoxy-modified urethane acrylate:cresol novolac-type epoxy resin - 1:1. However, the coating film hardness required to improve the cheek appearance of the printed resistance board is required to be within the range of 4H to 91-1. Therefore, from the viewpoint of the coating film hardness conditions after curing of the above-mentioned epoxy-modified urethane acrylate and Talesol novolac-type epoxy resin, epoxy-modified urethane acrylate: Cresol novolak-type epoxy resin =
The ratio is preferably 7:3 or more. Therefore, considering only the strength of the coating film, only Talesol novolak type epoxy resin may be used as the heath resin as the organic coating material.

さらに、上記有機被膜材料の光硬化条件、収縮応力の観
点からは、エポキシ変性ウレタンアクリレート:クレゾ
ールノボラック型エポキシ樹脂−7:3〜6:4の範囲
であることが好ましい。
Furthermore, from the viewpoint of photocuring conditions and shrinkage stress of the organic coating material, the ratio of epoxy modified urethane acrylate:cresol novolak type epoxy resin is preferably in the range of 7:3 to 6:4.

上記有機被膜材料は、特性の向上、粘度調整等の点から
、上述のタレゾールノボラック型エポキシ樹脂を主成分
としエポキシ変性ウレタンアクリレートを併用してなる
ベースレジン中に、希釈モノマーと、必要に応じて重合
開始剤と、フィラーと、消泡剤とを添加する。この場合
、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂を20〜100
重量部、エポキシ変性ウレタンアクリレートを0〜10
0重量部、希釈モノマーを40〜80重量部、重合開始
剤を1〜3重量部、フィラーを10〜20重量部、消泡
剤を0.5〜2重量部とすることが好ましい。
In order to improve properties and adjust viscosity, the above-mentioned organic coating material is made by adding a diluent monomer and, if necessary, a base resin containing the above-mentioned Talesol novolak type epoxy resin as a main component, in combination with epoxy-modified urethane acrylate. Then, a polymerization initiator, filler, and antifoaming agent are added. In this case, 20 to 100% of cresol novolac type epoxy resin is used.
Part by weight, 0 to 10 epoxy-modified urethane acrylate
0 parts by weight, 40 to 80 parts by weight of the diluent monomer, 1 to 3 parts by weight of the polymerization initiator, 10 to 20 parts by weight of the filler, and 0.5 to 2 parts by weight of the antifoaming agent.

上記希釈モノマーとしては、例えば2−ヒドロキシアル
キルアクリレート、2−ヒドロキシアルキルメタアクリ
レート、エチレングリコールジアクリレート、エチレン
グリコールジメタクリレート、1.6−ヘキサンジオー
ルジアクリレート、 1.6−ヘキサンジオールジアク
リレート、ネオペンチレンゲリコールジアクリレート、
ネオペンチレンゲリコールジメタクリレート トリエチ
レングリコールジアクリレート、トリエチレングリコー
ルジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート
及びその他の不飽和ポリエステルアクリレート、不飽和
ポリエステルメタクリレート(分子量100〜1000
)が挙げられる。
Examples of the diluent monomers include 2-hydroxyalkyl acrylate, 2-hydroxyalkyl methacrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1.6-hexanediol diacrylate, 1.6-hexanediol diacrylate, neopentylene rangelicol diacrylate,
Neopentylene gelicol dimethacrylate Triethylene glycol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate and other unsaturated polyester acrylates, unsaturated polyester methacrylates (molecular weight 100-1000)
).

上記重合開始剤は、有機被膜を硬化させるべく重合を開
始するために加えられるもので、例えばベンゾインエー
テル、イソブロビルヘンゾインエーテル、ベンゾインエ
チルエーテル5ベンゾインメチルエーテル、α−アクリ
ルオキシムエーテル。
The above-mentioned polymerization initiator is added to initiate polymerization to cure the organic film, and examples thereof include benzoin ether, isobrobylhenzoin ether, benzoin ethyl ether, benzoin methyl ether, and α-acryloxime ether.

ペンジルケタール。ヒドロキシシクロへキシルフェニル
ケトン、アセトン誘導体、ヘンシル、ベンゾフェノン、
メチル−〇−ベンゾインベンゾエート、チオイサントン
8R4体等が挙げられる。
Penzil Ketal. Hydroxycyclohexyl phenyl ketone, acetone derivative, hensyl, benzophenone,
Methyl-〇-benzoin benzoate, thioisanthone 8R4 body, etc. are mentioned.

上記フィラーとしては、例えば微粒炭酸カルシウム、ン
リカ、シランカッブリ・ング剤コーティングタルク、タ
ルク、MgO,アルミナ、雪母、ヘンゾグアナミン樹脂
球状微粉体、架橋ポリスチレンビーズ等が挙げられる。
Examples of the filler include finely divided calcium carbonate, Nlica, talc coated with a silane coupling agent, talc, MgO, alumina, snow powder, spherical fine powder of Henzoguanamine resin, and crosslinked polystyrene beads.

上記消泡剤としては、例えばアクリル系、シリコン系、
ハロゲン系の消泡剤が挙げられる。
Examples of the antifoaming agent include acrylic, silicone,
Examples include halogen-based antifoaming agents.

上述の組成からなる耐半田保護材料は、光硬化型樹脂と
して使用され、光硬化の方法としては、紫外線による硬
化を行う。その際には、例えば80〜100Wのメタル
ハライドランプ若しくは水銀ランプを2灯〜3灯、6m
/Min以上、温度70〜)0°Cの条件で使用するこ
とができる。
The solder-resistant protective material having the above-mentioned composition is used as a photocurable resin, and the photocuring method is curing with ultraviolet rays. In that case, for example, 2 to 3 80 to 100 W metal halide lamps or mercury lamps, 6 m
/Min or more, and the temperature is 70 to 0°C.

あるいは、上記第1の保護!(6)として、エポキシ系
樹脂等の熱硬化性樹脂を用いてもよい。但し、この場合
にも、熱硬化後の収縮残存応力が200〜900 kg
/cr?lの範囲内の材料を用い、この膜厚は5〜20
μmとする。例えば、エポキシ系の熱硬化型樹脂の収縮
残存応力は2000〜5000kg/c+lと大きくこ
のままでは使用できないが、希釈することにより使用可
能となる。
Or the first protection above! As (6), a thermosetting resin such as an epoxy resin may be used. However, even in this case, the shrinkage residual stress after thermosetting is 200 to 900 kg.
/cr? Using a material within the range of l, the film thickness is between 5 and 20
Let it be μm. For example, the shrinkage residual stress of an epoxy thermosetting resin is as large as 2,000 to 5,000 kg/c+l, and cannot be used as is, but it can be used by diluting it.

以上のようにして印刷抵抗体(5)を第1の保護層(G
)で被覆した後、この抵抗体(5)の砥抗値を調整する
ために、第6図に示すように、中央に位置する導体膜(
2)パターン上に形成された印刷抵抗体(5)の一部(
5a)を切断し、所定の抵抗値となるように調整する。
As described above, the printed resistor (5) is coated with the first protective layer (G
), in order to adjust the abrasive resistance of this resistor (5), as shown in Fig. 6, a conductor film located in the center (
2) Part of the printed resistor (5) formed on the pattern (
5a) and adjust it to a predetermined resistance value.

この抵抗値調整手段としては、レーザー光線による所謂
レーザートリミング法や、サンドブラスト等の機械的手
段による方法があるが、加工の信頼性や周辺部材の損傷
等の観点からはレーザートリミングが好適である。
As means for adjusting the resistance value, there are a so-called laser trimming method using a laser beam and a method using mechanical means such as sandblasting, but laser trimming is preferable from the viewpoint of processing reliability and damage to peripheral members.

このように本発明では、印刷抵抗体(5)を第1の保護
N(6)で被覆し、該保護層(6)と各層間の密着性を
確保するための熱処理を権した後に、抵抗値調整を行っ
ているので、この熱処理工程における抵抗値変化が解消
される。同時に、保護層(6)の密着力も確保されるの
で、機械的強度も確保される。
In this way, in the present invention, the printed resistor (5) is coated with the first protective N (6), and after being subjected to heat treatment to ensure adhesion between the protective layer (6) and each layer, the resistor is coated with the first protective layer (6). Since the value is adjusted, the change in resistance value during this heat treatment process is eliminated. At the same time, since the adhesion of the protective layer (6) is ensured, mechanical strength is also ensured.

最後に、半田ディツプの際の熱から上記印刷抵抗体(5
)を確実に保護するため、第7図に示すように、上記第
1の保護IJ(6)を覆うように第2の保護層(7)を
所定の膜厚となようにスクリーン印刷の手法で形成し、
しかる後に上記保護層(7)硬化させて印刷抵抗基板を
完成する。
Finally, the above printed resistor (5
), as shown in FIG. 7, a screen printing method was used to form a second protective layer (7) with a predetermined thickness so as to cover the first protective IJ (6). formed with
Thereafter, the protective layer (7) is cured to complete the printed resistance board.

ここで、上記第2の保護層(7)としては、先の第1の
保護層(1)に使用したタレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂を主体とするヘースレジンとアクリレート系希釈
上ツマ−とを主成分とする樹脂等の光硬化型樹脂を用い
る。しかも、この第2の保護層(7)は、一度に塗布硬
化させるのではなく、2〜3段階に分けて形成すること
がより好ましい。
Here, the second protective layer (7) is mainly composed of Hose resin, which is mainly based on the Talesol novolac type epoxy resin used in the first protective layer (1), and an acrylate-based diluent. A photocurable resin such as a resin is used. Moreover, it is more preferable to form the second protective layer (7) in two to three stages, rather than applying and curing it all at once.

このように本発明では、第2の保1層(7)に光硬化型
樹脂を用いているので、該保護層(7)に光を照射する
だけで硬化できる。したがって、得られる印刷抵抗基板
における印刷抵抗体(5)は抵抗値調整後の抵抗値と略
同等に制御される。すなわち、本発明を適用した印刷抵
抗基板においては、抵抗値変化が所定の抵抗値許容範囲
内(±5%)に制御できるので、印刷抵抗基板の信頼性
及び製造歩留りは大幅に向上する。
In this way, in the present invention, since a photocurable resin is used for the second protective layer (7), it can be cured simply by irradiating the protective layer (7) with light. Therefore, the printed resistor (5) on the obtained printed resistor substrate is controlled to have a resistance value substantially equal to the resistance value after the resistance value adjustment. That is, in the printed resistance board to which the present invention is applied, the change in resistance value can be controlled within a predetermined resistance value tolerance range (±5%), so the reliability and manufacturing yield of the printed resistance board are significantly improved.

また、上記第2の保護層(7)の収縮応力は、上記第1
の保護層(6)がクッションとなるために、抵抗体(5
)に直接作用することはない、したがって、この第2の
保護層(7)の収縮応力にて抵抗体(5)の抵抗値が大
きく変化する心配はない。
Further, the shrinkage stress of the second protective layer (7) is
The protective layer (6) of the resistor (5) acts as a cushion.
), so there is no concern that the resistance value of the resistor (5) will change significantly due to the shrinkage stress of this second protective layer (7).

さらに、印刷抵抗体(5)は第1の保8i層(6)にて
覆われ、かつ該保護N(6)には熱処理が施され各層と
の密着性が確保されているでいるので、得られる印刷抵
抗基板の機械的強度は従来と同程度となる。
Furthermore, the printed resistor (5) is covered with the first protective layer (6), and the protective layer (6) is heat-treated to ensure adhesion with each layer. The mechanical strength of the printed resistor board obtained is comparable to that of the conventional one.

本発明者等は、上述の工程を経て作成される印刷抵抗基
板について、抵抗値の変化及びバラツキについて調べた
The present inventors investigated changes and variations in the resistance value of printed resistor boards created through the above-described steps.

すなわち、第1の保3[(6)及び第2の保護膜(7)
として、以下に示す組成物を混合したものを用いた。
That is, the first protective film (6) and the second protective film (7)
A mixture of the compositions shown below was used.

エポキシ変性ウレタンアクリレート  60重量部クレ
ゾールノボラック型エポキシ樹脂 50重量部希釈七ノ
 マー : トリエチレングリコールノアクリレート 
   22ffiBt部重合開始剤:ベンゾインエーテ
ル  2.3重量部フ ィ マー :゛ シランカフブ
リング剤コーティンクタ1シク     13ffiB
t部消泡剤               1重重部そ
して、第1の保護層(6)を印刷・硬化し、印刷抵抗体
の抵抗値調整をした後の抵抗値のバラツキ及び完成した
第2の保i1層(7)を形成した後の抵抗値のバラツキ
を調べた。結果を、それぞれ第8図(A)及び第8図(
B)に示す。なお、測定個数はそれぞれ7000個とし
た。
Epoxy-modified urethane acrylate 60 parts by weight Cresol novolac type epoxy resin 50 parts by weight Diluted hexamer: Triethylene glycol noacrylate
22ffiBt part Polymerization initiator: benzoin ether 2.3 parts by weight Filmer: ゛ Silane cuffing agent coating 1 piece 13ffiB
Part t Antifoaming agent 1 layer Part Then, the first protective layer (6) is printed and cured, and the resistance value variation after adjusting the resistance value of the printed resistor and the completed second protection layer (7 ) was investigated for the variation in resistance value after forming. The results are shown in Figure 8 (A) and Figure 8 (
Shown in B). Note that the number of measurements was 7000 for each.

この第8図(A)及び第8図(B)から明らかなように
、本発明を適用することにより、得られる印刷抵抗基板
の抵抗値のバラツキは、±2%以内に制御できることが
確認された。比較のために、従来の製法で作成した印刷
抵抗基板についても抵抗値変化を調べたところ、抵抗値
の調整後に熱処理を施した後の抵抗値はO〜−6%程度
のバラツキがあり、さらに完成品においては、±10%
程度のバラツキがあった。
As is clear from FIG. 8(A) and FIG. 8(B), it has been confirmed that by applying the present invention, the variation in the resistance value of the obtained printed resistor substrate can be controlled within ±2%. Ta. For comparison, we also investigated the change in resistance value of printed resistor boards made using the conventional manufacturing method, and found that the resistance value after heat treatment after adjustment of the resistance value varied by about 0 to -6%. ±10% for finished products
There was a degree of variation.

したがって、本発明を適用することにより抵抗値の変化
やバラツキが大幅に改善され、製造歩留りや信頼性に優
れた印刷抵抗基板が提供されることがわかった。
Therefore, it has been found that by applying the present invention, changes and variations in resistance values can be significantly improved, and a printed resistor substrate with excellent manufacturing yield and reliability can be provided.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上の説明からも明らかなように、本発明印刷抵抗体を
形成後、第1の保護層を印刷形成し熱処理を施して各層
間の密着力を確保し、しかる後に抵抗値調整を行ってい
るので、この熱処理工程において抵抗値が変化したり、
あるいは抵抗値がバラツキが発生することがない。した
がって、製造歩留りや信頼性に優れた印刷抵抗基板が得
られる。
As is clear from the above explanation, after forming the printed resistor of the present invention, the first protective layer is printed and heat treated to ensure adhesion between each layer, and then the resistance value is adjusted. Therefore, during this heat treatment process, the resistance value may change,
Alternatively, variations in resistance values do not occur. Therefore, a printed resistance substrate with excellent manufacturing yield and reliability can be obtained.

また、半田デイツプ工程の熱から印刷抵抗体を保護する
ために最終工程で第2の保護層を形成しているので、半
田ディツプにより抵抗値が変化することはない。
Furthermore, since a second protective layer is formed in the final step to protect the printed resistor from the heat of the solder dip process, the resistance value will not change due to the solder dip.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図ないし第7図は本発明を通用した印刷抵抗基板の
製造方法の一例をその工程順に従って示すもので、第1
図はパターンエソチング工程を示す断面図、第2図はア
ンダーコート層形成工程を示す断面図、第3図は電極印
刷工程を示す断面図、第4図は印刷抵抗体の印刷工程を
示す断面図、第5図は第1の保護層形成工程を示す断面
口、第6図は抵抗値調整工程を示す平面図、第7図は第
2の保31i形成工程を示す断面図である。 第8図(A)及び第8図(B)は本発明により作成され
た印刷抵抗基板における抵抗値のバラツキの測定結果を
示す特性図であり、第8図(A)は抵抗値調整後の測定
結果を、第8図(B)は完成した印刷抵抗基板の測定結
果をそれぞれ示す。 1・・−・・・基板 2・・・・・導体膜 3・・・・・アンダーコートi 4・・・・・電極 5・・・・・印刷抵抗体 6・・・・・第1の保護層 7・・・・・第2の保3i珊 第1図 第3図 第5図 第2図 第4図 第6図 第7図 第8図       第9図 手続補正書(方式) %式% ■、下件の表示 昭和62年 特許側 第75098号 2、発明の名称 印刷抵抗基板のM漬方法 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 住所 東京部品用区北品用6丁目7番35号名称 (2
18)  ソ ニ − 株 式 会 社代表者大賀典雄 4、代理人 住所 〒105東京都港区虎ノ門二丁目6番4−号笛1
1森ビル11階 狙(508)826G &+5昭和6
2年6月3日(発送日;昭和62年6月30日)6、補
正の対象 7、補正の内容 (1)明細書、第18頁第4行目から第5行目に[第8
図(A)及び第8図(B)に示す。」とある記載を「第
8図及び第9図に示す。Jと補正する。 (2)同書、第18頁第7行目から第8行目に「この第
8図(A)及び第8図CB)から明らかなように、」と
ある記載を「この第8図及び第9図から明らかなように
、」と補正する。 (3)同書、第20頁第4行目から第8行目にかけて「
第85 (A)  ・・・それぞれ示す。」とある記載
を下記の通り補正する。 記 「第8図及び第9図は本発明により作成された印刷抵抗
基板における抵抗値のバラツキの測定結果を示す特性図
であり、第8図は抵抗値調整後の測定結果を、第9図は
完成した印刷抵抗基板の一11定結果をそれぞれ示す。 」
1 to 7 show an example of a method for manufacturing a printed resistor board according to the present invention according to the process order.
Figure 2 is a cross-sectional view showing the pattern etching process, Figure 2 is a cross-sectional view showing the undercoat layer forming process, Figure 3 is a cross-sectional view showing the electrode printing process, and Figure 4 is a cross-sectional view showing the printed resistor printing process. 5 is a cross-sectional view showing the first protective layer forming step, FIG. 6 is a plan view showing the resistance value adjusting step, and FIG. 7 is a cross-sectional view showing the second protective layer forming step. FIG. 8(A) and FIG. 8(B) are characteristic diagrams showing the measurement results of resistance value variations in the printed resistor substrate produced according to the present invention, and FIG. 8(A) is a characteristic diagram after the resistance value adjustment. FIG. 8(B) shows the measurement results of the completed printed resistor board. 1...Substrate 2...Conductor film 3...Undercoat i 4...Electrode 5...Printed resistor 6...First Protective layer 7... Second protection 3i coral Figure 1 Figure 3 Figure 5 Figure 2 Figure 4 Figure 6 Figure 7 Figure 8 Figure 9 Procedural amendment (method) % formula ■, Indication of the following 1986 Patent side No. 75098 2, Name of the invention M-soaking method for printed resistor substrates 3, Relationship with the case of the person making the amendment Patent applicant address 6-7 Kitashinyo, Tokyo Parts Co., Ltd. No. 35 name (2
18) Sony Co., Ltd. Company Representative: Norio Oga 4, Agent Address: 2-6-4-Toranomon, Minato-ku, Tokyo 105, No. 1
1 Mori Building 11th floor Aim (508) 826G &+5 Showa 6
June 3, 1982 (Shipping date: June 30, 1986) 6. Subject of amendment 7. Contents of amendment (1) Specification, page 18, line 4 to line 5 [No. 8
It is shown in Figure (A) and Figure 8 (B). (2) In the same book, page 18, lines 7 to 8, the statement ``shown in Figures 8 and 9. The statement "As is clear from Figure CB)" has been amended to "As is clear from FIGS. 8 and 9." (3) In the same book, page 20, lines 4 to 8, “
No. 85 (A)...Respectively. '' has been amended as follows. "Figures 8 and 9 are characteristic diagrams showing the measurement results of resistance value variations in the printed resistor substrate produced according to the present invention, and Figure 8 shows the measurement results after adjusting the resistance value, and Figure 9 11 shows the results of the completed printed resistor board, respectively.

Claims (1)

【特許請求の範囲】  基板に電極を含む回路パターンを形成し、 次に上記電極と接続するように印刷抵抗体を形成し、 次いで上記印刷抵抗体を被覆する如く第1の保護層を形
成し熱処理を施した後、 上記印刷抵抗体の抵抗値調整を行い、 その後第2の保護層を形成することを特徴とする印刷抵
抗基板の製造方法。
[Claims] A circuit pattern including electrodes is formed on a substrate, a printed resistor is formed so as to be connected to the electrode, and a first protective layer is then formed to cover the printed resistor. A method for manufacturing a printed resistor substrate, which comprises: performing heat treatment, adjusting the resistance value of the printed resistor, and then forming a second protective layer.
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