JPS63241894A - 透明電極膜の処理方法 - Google Patents

透明電極膜の処理方法

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JPS63241894A
JPS63241894A JP62075081A JP7508187A JPS63241894A JP S63241894 A JPS63241894 A JP S63241894A JP 62075081 A JP62075081 A JP 62075081A JP 7508187 A JP7508187 A JP 7508187A JP S63241894 A JPS63241894 A JP S63241894A
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JP
Japan
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transparent electrode
electrode film
etching
film
electrolytic
Prior art date
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Pending
Application number
JP62075081A
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English (en)
Inventor
淳 箕浦
高橋 成幸
久喜 加藤
伊藤 敏安
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Toyoda Gosei Co Ltd
Original Assignee
Toyoda Gosei Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の目的 (産業上の利用分野) 本発明はエレクトロクロミック素子、液晶素子、エレク
トロルミネセンス素子等の透明電極を有する表示素子に
おける透明電極膜の処理方法に関するものである。
(従来の技術) 従来、一般的に金属のエツチング又は脱脂洗浄は、電解
液中で金属に正の電圧を印加して陽極的に熔解する方法
や金属に負の電圧を印加して陰掘還元により発生する発
生期の水素による脱脂方法が行われていた。しかし、透
明電極膜は酸化物であるため金属と同様な方法ではエツ
チングや脱脂を行うことができなかった。
そのため、透明電極膜のエツチングは、エツチング液と
して塩酸、硝酸及び水の混合溶液を用い、これを加熱し
てその中に透明電極膜を浸漬する方法がとられていた。
この方法においては10〜20分の時間を要していた。
また、透明電極膜表面の脱脂洗浄は、一般に界面活性剤
入りの水溶液による超音波洗浄がとられていた。この方
法においては5〜10分の時間を要していた。
(発明が解決しようとする問題点) 上記従来の透明電極膜のエツチング方法においては、エ
ツチング時間が長いうえに、エツチング液中には塩酸、
硝酸という劇物が含まれているので、取扱いが難しく、
また塩素、−酸化窒素、二酸化窒素等の腐食性ガスが発
生するという問題点があった。
一方、透明電極膜表面の脱脂洗浄方法におい°Cは、処
理作業に時間がかかるという問題点があった。
即ち、上記いずれの方法においても透明電極膜を処理す
る時間が長いという共通の問題点があった。
発明の構成 (問題点を解決するための手段) 本発明は上記問題点を解決するために、電解液中に透明
電極としての透明電極膜とその対向電極を配置し、透明
電極膜に負の電圧を印加し、対向電極に正の電圧を印加
して透明電極膜をエツチングするという方法(以下第1
発明という)及び同じく電解液中に透明電極としての透
明電極膜とその対向電極を配置し、透明電極膜に正の電
圧を印加し、対向電極に負の電圧を印加して透明電極膜
の表面を脱脂洗浄するという方法(以下第2発明という
)を採用している。
(作用) 上記第1発明により、透明電極膜のエツチングが透明電
極膜に負の電圧、対向電極(例えばカーボン電極)に正
の電圧が印加される電解エツチングによって塩素、−酸
化窒素、二酸化窒素等の腐食性ガスを発生させることな
く速やかに行われる。
また第2発明によれば、電解液中で透明電極膜に正の電
圧を印加して透明電極膜を陽極酸化することにより、発
生期の酸素によって透明電極膜の表面が速やかに脱脂洗
浄される。
(実施例) 以下に本発明をエレクトロクロミック素子作製に具体化
した一実施例を第1〜5図を用いて説明する。
本実施例では第1図に模式的に示すような電解エツチン
グ装置を使用した。即ち、電解槽1中には電解液2が満
たされ、同電解液2中には対向電極としてのカーボン電
極4と透明ガラス基板3とが浸漬されている。同透明ガ
ラス基板3上には表面全体にITOMm!!5が被覆さ
れ、電極として機能している。そして、外部の電源6の
正極が電極としてのITO膜5に接続され、負極がカー
ボン電極4に接続されている。
上記電解液2としては、0.INから飽和濃度までの酸
、アルカリ又は塩の水溶液が使用され、例えば0.5 
Nの水酸化ナトリウム(NaOH)水溶液又は0.5 
Nの硫酸(H2304)水溶液が使用される。同電解液
2の濃度が0.IN未満では電解液2中を電流が流れに
(く、エツチング速度も遅くなりやすい。
さて、上記エツチング装置を用いて透明電極膜の処理を
行う方法について説明する。
まず、ITO膜5上におけるエツチング不要な部分をフ
ィルム状の樹脂製マスキング材で覆い、第3図に示すよ
うな長方形状のマスキング部7を形成すると同時に透明
ガラス基板3の外周部をコの字状のエツチング対象面8
とする。次いで、20℃において電源6よりITO膜5
に矩形波状に負の電圧を印加し、その際の電流密度が1
00〜500mA/caの範囲となるように電圧を印加
するのが好ましく、本実施例では300111A/c1
11で電圧−7V程度である。電流密度が100mA/
cI!未満ではエツチング速度が遅くなり、またITO
膜5における電源6からのリード線端部に近い部分が大
きくエツチングされたりすることがあり、5゜OmA/
cnlを超えるとエツチングにむらが生じゃすい、 上記のようにITO膜5に負の電圧−7■が印加される
と、マスキング部7以外のエツチング対象面8が陰極還
元され、エツチングされる。同エツチングに要する時間
は約10秒である。
電解エツチングが終了すると、第5図に示すようにエツ
チング対象面8におけるITO膜5が陰極還元により除
去される。
本実施例における陰極還元法は、従来の金属に正の電圧
を印加して同金属を陽極的に溶解する電解エツチング法
と異なっている。
本実施例でのITO膜5のエツチング方法によれば、エ
ツチング作業に要する時間の大幅な短縮をはかることが
できるとともに、エツチング溶液として塩酸、硝酸等の
劇物を使用しないのに加え塩素、−酸化窒素、二酸化窒
素等の腐食性ガスが発生しないので、作業工程での安全
、衛生面において問題がなくなる 次に、第2図に示すような装置を用いて上記ITO膜5
の表面を電解脱脂したゆ 即ち、同装置は電源6の正極をITO膜5に接続し、負
極をカーボン電極4に接続した点及び電解液として5重
量%のアルカリ性の界面活性剤を含有する0、5NaO
H水溶液又は中性界面活性剤を含有する1moβ/1以
上の炭酸ナトリウム(Na2cOa)水溶液を使用する
点以外は前記第1図に示す電解エツチング装置と同様で
ある。なお、電解液は0.INから飽和濃度までの酸、
アルカリ、塩の水溶液が使用される。また、界面活性剤
の濃度は0.1〜10重量%の範囲が適当である。同濃
度が0.1重量%未満では脱脂が不十分となりやすく、
10重量%を超えると経済性が悪くなる。
次に、この装置を用いて電解脱脂を行う方法について説
明する。
まず、上記電解エツチング法によってエツチングが行わ
れた透明ガラス基板3におけるマスキング部7のマスキ
ング材を除去し、第4図に示すような脱脂対象面9を露
出させる。
次いで、電源6から正の電圧をITOI!+15に+3
■から200 mV/seeの速度で徐々に印加電圧を
上昇させ20seclj(に+7■となるように電圧を
印加する。その際の電流密度はO〜30mA/cdに変
化した。なお、上記電圧印加速度は10〜10100O
/secの範囲が好ましい。1.0 mV / 3er
;未満では脱脂速度が遅くなり、1000mV/sec
を超えると脱脂むらが生じやすい。
すると、電解液2中の脱脂対象面9付近が陽極酸化され
、発生期の酸素が発生する。そして、同発生期の酸素に
よって脱脂対象面9が約40秒とい・)短時間で脱脂さ
れる。
このような脱脂対象面9の陽極酸化による発生期の酸素
に基づく脱脂機構が、従来の陰極還元により発生する発
生期の水素による脱脂機構と異なっている。
このようにして得られる脱脂対象面9の脱脂された表面
上にポリアニリンが電着によって被覆される。
上記のような電解脱脂によれば、脱脂時間が大幅に短縮
され、作業者の手が透明ガラス基板3の表面に触れない
ため脱脂対象面全体が均一に脱脂洗浄される。上記のよ
うに電解エツチング工程及び電解脱脂工程の大幅な時間
短縮が行われるので、ポリアニリンの電着工程に至る一
連の工程が効率的にしかも安全に行われる。
本発明は上記実施例に限定されず、次のように構成する
こともできる。
電解エンチングの対象とならず、電解脱脂の対象となる
マスキング部7又は脱脂対象面9の形状は、上記実施例
における長方形以外にマスキング材の形状を目的に応じ
て設定することによって、正方形、楕円形その他直線や
曲線を組み合わせた任意の形状とすることができる。
発明の効果 第1発明の透明電極膜の処理方法によれば、エツチング
作業に要する時間の大幅な短縮をはかることができると
ともに、エツチング溶液として塩酸、硝酸等の劇物を使
用しないので、作業工程での安全、衛生面の一層の向上
がはかられるという優れた効果を奏する。
また、第2発明の透明電極膜の処理方法によれば、脱脂
洗浄時間の大幅な短縮がはかられるという効果を奏する
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本発明の実施例における電解槽の模
式図、第3図及び第4図は透明ガラス基板を示す平面図
、第5図は第3図のA−A断面図である。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 1. 電解液(2)中に透明電極としての透明電極膜(
    5)とその対向電極(4)を配置し、透明電極膜(5)
    に負の電圧を印加し、対向電極(4)に正の電圧を印加
    して透明電極膜(5)をエッチングすることを特徴とす
    る透明電極膜(5)の処理方法。
  2. 2. マスキング材を使用して透明電極膜(5)のエッ
    チング不要部分の表面を被覆した後、透明電極膜(5)
    に負の電圧を印加し、対向電極(4)に正の電圧を印加
    して透明電極膜(5)をエッチングすることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項に記載の透明電極膜(5)の処
    理方法。
  3. 3. 電解液(2)中に透明電極としての透明電極膜(
    5)とその対向電極(4)を配置し、透明電極膜(5)
    に正の電圧を印加し、対向電極(4)に負の電圧を印加
    して透明電極膜(5)の表面を脱脂洗浄することを特徴
    とする透明電極膜(5)の処理方法。
  4. 4. 透明電極膜(5)に正の電圧を一定の速度で上昇
    させて印加することを特徴とする特許請求の範囲第3項
    に記載の透明電極膜(5)の処理方法。
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