JPS63239853A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPS63239853A
JPS63239853A JP62071424A JP7142487A JPS63239853A JP S63239853 A JPS63239853 A JP S63239853A JP 62071424 A JP62071424 A JP 62071424A JP 7142487 A JP7142487 A JP 7142487A JP S63239853 A JPS63239853 A JP S63239853A
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JP
Japan
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electrode
pellet
electrically connected
wiring
semiconductor substrate
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JP62071424A
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English (en)
Inventor
Keiji Sasaki
佐々木 圭治
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16135Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/16145Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
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    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
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    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors

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  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体装置、特に複数の半導体ペレットを搭
載してなる半導体装置の信頼性向上に適用して有効な技
術に関する。
〔従来の技術〕
半導体装置では、一般に半導体ペレット(以下、単にペ
レットともいう。)を電気的に接続するためのペレット
用電極を有する配線基板に取付けて該ペレット用電極と
の電気的接続を行い、さらに上記ペレット用電極と電気
的に接続され、配線基板に形成されている引出電極から
上記ペレットからの電気的導通を外部へ引き出すことが
行われている。
上述の配線基板には、複数のペレットを搭載して用いら
れる、いわゆるマザーチップがある。その−例を挙げれ
ば、シリコン(Si)単結晶(半導体基板)からなる大
型のチップに複数のペレットがフェースダウンボンディ
ング等で取付けられ、その電気的接続と同時に機械的固
定とが達成されてなるものがある。このマザーチップで
は、その上面に、搭載されるペレットの固定と電気的接
続とを行うための多数のペレット用電極が形成されてお
り、またその上面周囲には該マザーチップ周辺に配置さ
れている外部端子等の電極との電気的接続を行うための
周辺電極が形成されている。
前記ペレット用電極は、マザーチップの最上層であるフ
ァイナルパッシベーション膜の下に形成されている配線
を介して他のペレット用電極または前記周辺電極等と電
気的に接続されており、該配線を通して本チップに取付
けられるペレット間のまたは該ペレットと周辺電極等と
の間の信号の授受等が行われるものである。
前記マザーチップにおける配線層、絶縁膜等は、たとえ
ば通常のリングラフィ技術を用いて成形することができ
る。
配線層および電極等は、それぞれの電気的接続が完全で
あるか否か、または内部配線等の間でショートが生じて
いないか否か等の導通検査(配線のオーブンチェック)
が必要とされる。
前記導通検査は、それを短時間で行うために、例えばプ
ローバの探針を、前記マザーチップの周辺電極に当接し
て行うことが合理的手段として望ましい。しかし、ペレ
ットが取付けられる前においては、当然ペレット用電極
部分に右いて配線の電気的導通は遮断されている。した
がって、そのままでは周辺電極への探針接触によっては
、内部配線等の電気的導通検査はできないという問題が
ある。そこで、限られた配線についてしか適用できない
ものであるが、近接する電極間を半田ブリッジで接続す
ることにより、短い配線を延長せしめてプローブ検査の
効率を向上するという技術がある。この技術については
特開昭58−204846号に詳細に説明されている。
上記半田ブリッジの技術を適用する場合には、半田とそ
の下に位置する電極配線との電気的接触が必ずしも十分
でないため、配線自体の断線やショートを正確に検出で
きないという薪たな問題がある。また、半田ブリッジは
その間隔が近接している電極間にしか適用できないとい
う問題もある。
仮に離性されている電極間に適用すると、プローブ検査
終了後に上記半田ブリッジを加熱・溶断して半田バンプ
を形成する場合、過剰な半田が配線基板上に残存するた
めにペレット搭載後にショートの原因になり易いという
問題もある。
本発明の目的は、半導体ペレットを搭載する配線基板に
形成されている配線の正確なプローブ検査を行うことが
できる技術を提供することにある。
本発明の他の目的は、電極間隔の遠近に関わりなくプロ
ーブ検査を行うことができる技術を提供することにある
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
〔問題点を解決するための手段〕
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。
すなわち、搭載する半導体ペレットとの電気的接続を行
うペレット用電極と、該電極から配線を介して電気的に
接続されている引出電極とを備えた半導体基板からなる
配線基板に、上記ペレット用電極と検査用電極とを上記
半導体基板に形成されたダイオードを介して電気的に接
続するものである。
〔作用〕
上記した手段によれば、半導体素子の形成技術により上
記検査用電極と各引出電極との間の確実な電気的接続を
形成できるため、上記検査用電極と各引出電極との間の
導通検査により該引出電極とペレット用電極との間の配
線について断線検査を、また各引出電極間の導通検査に
よりショート検査を容易・正確に行うことができ、上記
目的を達成することができる。
〔実施例〕
第1図は本発明による一実施例であある半導体装置に適
用されるマザーチップを示す拡大断面図。
であり、第2図は上記マザーチップの概略平面図である
。また、第3図は上記マザーチップに形成されている一
部の配線とその検査用配線との関係を等価回路図で示す
概略説明図であり、第4図は本実施例の半導体装置を示
す概略断面図である。
本実施例の半導体装置は、第4図に示すように基板11
該基板lの上面周縁に低融点ガラス2で取付けられてい
る枠体3および該枠体3の上端に低融点ガラス2aで取
付けられているキャップ4でパッケージが形成されてい
るものである。ここで、基板工、枠体3およびキャップ
4は全てアルミナ(Δ1zos)からなるものである。
上記基板1の上面にはマザーチップ5が接着剤6を介し
て取付けられている。このマザーチップ5には、複数の
半導体ペレット7が半田からなるバンプ電極8を介して
フェースダウンボンディングされている。
また、上記低融点ガラス2には、コバールからなる外部
端子9が埋設固定されており、該外部端子9の内端部は
上記マザーチップ5の上面周縁に配列形成されているポ
ンディングパッド(引出電極)10と金等のワイヤ11
で電気的に接続されている。なお、上記形成材料に限定
されるものでないことはいうまでもない。
上記マザーチップ5はシリコン(Sl)単結晶(半導体
基板)で形成されている。そして、第2図に示すように
、その上面周縁には上記ポンディングパッド10が配列
形成されており、その上面内側には4°つの半導体ペレ
ット7の電気的接続と機械的固定とを行うためのバンプ
電極8が配列形成されている。
上記バンプ電極8にはポンディングパッド10と電気的
に接続されているものがある。その電気的接続状態を示
したのが第1図である。すなわち、半導体基板12の表
面に被着形成されている二酸化ケイ素(SiO2)から
なる絶縁膜13を介して所定形状のアルミニウム(A、
&)からなる配線14が被着形成され、該配線14の上
には窒化ケイ素(S 13N4 )からなる絶縁膜I5
が被着形成されている。そして、この絶縁膜I5の一部
を穿孔してポンディングパッド10が形成され、また穿
孔した部分に半田を溶着して上記バンプ電極8が形成さ
れている。
本実施例においては、上記マザーチップを構成する半導
体基板12がN型からなり、上記バンプ電極8の下方に
はP9頒域16が形成され、該P゛領域6と上記半導体
基板12との間にダイオードが形成されている。そして
、上記P+領域16は絶縁膜13の穿孔部を介して上記
配線14と電気的に接続され、結果としてその上のバン
プ電極8と電気的に接続されている。
また、上記マザーチップ5の上面にはプローブ検査専用
のアルミニウムからなる検査用電極17が形成されてお
り、該検査用電極17はその下の絶縁膜13の穿孔部を
介してN“領域18とオーミック接続されている。した
がって、上記ポンディングパッド10と検査用電極17
とはバンプ電極8の下方に形成されているダイオードを
介して電気的に接続されていることになる。なお、上記
マザーチップ5は、いわゆるリングラフィ技術により容
易に作成することができる。
上記電気的接続の関係を複数のポンディングパッドにつ
いて示したのが第3図の等価回路図である。すなわち、
103〜10dのポンディングパッドは、それぞれ8a
〜8dのバンプ電極と14a〜14dの配線を介して電
気的に接続されている。一方、上記バンプ電極8a〜8
dは、それぞれの下方に形成されているダイオードを介
して一つの検査用電極17と電気的に接続されている。
このように、本実施例によれば以下の効果を得ることが
できる。
(1)、搭載する半導体ペレット7との電気的接続を行
うバンプ電極(ペレット用電極)8a〜8dと、該電極
から配線14a〜14dを介して電気的に接続されてい
るポンディングパッド(引出電極)10a〜10dとを
備えたシリコン(Si)単結晶のN型半導体基板からな
るマザーチップ(配線基板)5に、上記バンプ電極8a
〜8dと検査用電極17とを該バンプ電極8a〜8d下
方の上記半導体基板に形成されたP−領域16で構成さ
れたダイオードを介して電気的に接続することにより、
リングラフィ技術(半導体素子の形成技術)により上記
検査用電極17と各バンプ電極8a〜8dとの間の確実
な電気的接続を形成できるため、上記検査用電極17と
各ポンディングパッド10a〜10dとの間の導通検査
により該ポンディングパッド10a〜10dとバンプ電
極8a〜8dとの間の上記配線141〜14dについて
断線検査を、また各ポンディングパッド10a〜10d
の導通検査により配線間のショート検査を容易・正確に
行うことがでる。
(2)、上記断線検査およびショート検査を半田ブリッ
ジを適用することなく行うことができるので、上記バン
プ電極8a〜8dの間隔の遠近に関わりなくプローブ検
査を容易かつ正確に行うことができる。
(3)、上記〔2)により、プローブ検査終了後に半田
を溶融してバンプ電極8を形成する場合に過剰半田に起
因して該バンプ電極8の形状が不統一になることを防止
できるので、半導体ペレット7の搭載を正確に行うこと
ができる。
C4)、上記(3)と同様に過剰半田に起因する問題の
発生を回避できることにより、半田溶融後にマザーチッ
プ5の上面に過剰半田が残存することを防止できるので
、該過剰半田に起因するショートの発生を有効に防止で
きる。
(5)、上記(1)から(4)により、半導体装置の製
造歩留を大幅に向上することができる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
たとえば、実施例ではマザーチップ5がシリコン(Si
)単結晶からなる半導体基板で形成されている場合につ
いて説明したが、これに限るものでなく所期の目的が達
成できるものであればあらゆる半導体基板を適用できる
ことはいうまでもない。また、実施例ではN型半導体基
板からなる場合を説明したが、当然P型半導体基板であ
ってもよい。この場合、バンプ電極8の下方にはN+領
領域、また検査用電極16の下方にはP゛領域形成する
。さらに、検査用電極が一つである場合を示したが、二
つ以上設けてもよいことはいうまでもない。なお、前記
実施例では、パッケージの形状、マザーチップ5の形状
等を、具体的に図示してきたがこれら形状に限定される
ものでないことはいうなでもない。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるマザーチップに適用
した場合について説明したが、これに限定されるもので
はなく、たとえば、パッケージ基板自体等、半導体ペレ
ットを搭載しその電気的接続を行うだめの配線が形成さ
れた配線基板であれば如何なるものにも適用して有効な
技術である。
〔発明の効果〕
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
すなわち、搭載する半導体ペレットとの電気的接続を行
うペレット用電極と、該電極から配線を介して電気的に
接続されている引出電極とを備えた半導体基板からなる
配線基板に、上記ペレット用電極と検査用電極とを上記
半導体基板に形成されたダイオードを介して電気的に接
続することにより、半導体素子の形成技術により上記検
査用電極と各引出電極との間の確実な電気的接続を形成
−できるため、上記検査用電極と各引出電極との間の導
通検査により該引出電極とペレット用電極との間の配線
について断線検査を、また各引出電極間の導通検査によ
りショート検査を容易・正確に行うことができるもので
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による一実施例であある半導体装置に適
用されるマザーチップを示す拡大断面図、第2図は上言
己マザーチップの概略平面図、第3図は上記マザーチッ
プに形成されている一部の配線とその検査用配線との関
係を等価回路図で示す概略説明図、 第4図は本実施例の半導体装置を示す概略断面図である
。 1・・・基板、2,2a・・・低融点ガラス、3・・・
枠体、4・・・キャップ、5・・・マザーチップ、6・
・・接着剤、7・・・半導体ペレット、8.8a〜8d
・・・バンプ電極、9・・・外部端子、10、lOa〜
10d・・・ボンディングパッド(引出電極)、11・
・・ワイヤ、12・・・半導体基板、13・・・絶縁膜
、14.14a〜14d・・・配線、15・・・絶縁膜
、16・・・P゛領域17・・・検査用電極、18・・
・N゛領域 第  1  図 第  2  図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、搭載する半導体ペレットとの電気的接続を行うペレ
    ット用電極と、該電極から配線を介して電気的に接続さ
    れている引出電極とを備えた半導体基板からなる配線基
    板に、上記ペレット用電極と検査用電極とが上記半導体
    基板に形成されたダイオードを介して電気的に接続され
    てなる半導体装置。 2、上記ペレット用電極が、配線基板の表面に形成され
    たバンプ電極であることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の半導体装置。 3、上記配線基板が、シリコン単結晶からなることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。
JP62071424A 1987-03-27 1987-03-27 半導体装置 Pending JPS63239853A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009139273A (ja) * 2007-12-07 2009-06-25 Elpida Memory Inc 積層型半導体装置および導通テスト方法

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009139273A (ja) * 2007-12-07 2009-06-25 Elpida Memory Inc 積層型半導体装置および導通テスト方法

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