JPS63239755A - X線発生装置およびこれを用いたx線露光装置 - Google Patents

X線発生装置およびこれを用いたx線露光装置

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JPS63239755A
JPS63239755A JP62071710A JP7171087A JPS63239755A JP S63239755 A JPS63239755 A JP S63239755A JP 62071710 A JP62071710 A JP 62071710A JP 7171087 A JP7171087 A JP 7171087A JP S63239755 A JPS63239755 A JP S63239755A
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JP
Japan
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plasma
rays
ray
dielectric sheet
capillary
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JP62071710A
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English (en)
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Mitsuaki Amamiya
光陽 雨宮
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • X-Ray Techniques (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、高輝度かつ高効率の線状で擬似平行化された
パルスX線を発生させるX線発生装置およびこれを用い
たX線露光装置に関する。
[従来技術] 近年、半導体ウェハ(基板)やマスク(原版)等の試料
に微細なパターンを形成するための装置として、X線を
利用したX線露光装置の開発が進められている。このX
線露光装置に用いられるX線発生装置としては、ターゲ
ットに高速電子ビームを衝突させてターゲットからX線
を発生させる方式が一般的である。しかし、この方式に
よると、X線発生効率は0.1%程度と低い上に、ター
ゲットに衝突させる電子ビームの強度を上げるとターゲ
ットが溶解するので、高出力のX線を得るには限界があ
フた。
そこで、高出力のX線を得るものとして、沿面放電を利
用したX線発生装置が考案されている。
このX線発生装置(細管型プラズマX線源)の一般的な
構造を第6図に示す。
すなわち、円筒型のポリエチレンからなる硝子1にその
中央部を貫°通ずるキャピラリ(細管状の空間)2が形
成され、また、硝子1の両側には電極3.4が設けられ
ている。Ra、Rbは抵抗、Cb、Cdはコンデンサで
あり、−抵抗Raの一端には直流高電圧−HVが印加さ
れる。
このような構造でコンデンサCdが充電され、硝子1に
充分大きな電圧が印加されると、硝子1を構成するポリ
エチレンがキャピラリ2の沿面放電により蒸発し、プラ
ズマ5が発生する。この時カソード6から電子ビームを
プラズマ5に照射すると、プラズマ5の温度が上昇し、
かつプラズマ富度が高まり、X線7が発生する。
[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、このような従来の方法では硝子1を構成
するポリエチレンが消費されるので、キャピラリ2の直
径が大きくなる。例えば、50KV程度の電圧を印加し
て300回程度の放電を行なうと、はじめは1 mmで
あったキャピラリの直径が31umとなる。キャピラリ
の直径が太き・くなると、プラズマ密度が低下し、発生
するX線の強度が低下するので、従来の方法ではX線発
生装置の寿命が短いという欠点があった。
さらに、発生するX線の波長は硝子の構成元素によって
制限を受け、主として、炭素のにα線などの長波長X線
がほとんどであり、10Å以下の短波長X線は発生させ
にくかった。
一方、線線源や面線源とソーラースリットを組み合わせ
てX線を疑似平行化させてX線露光を行なう方法が、特
開昭59−119838号公報、同59−127837
号公報、同60−34018号公報などに開示されてい
るが、細管型プラズマX線源によっては線状のX線を得
ることが難しく、したがって上記疑似平行化X線による
露光法に細管型プラズマX線源を利用することは困難で
あるという問題があった。
本発明の目的は、この問題点に鑑み、細管型プラズマX
線源を改良して線状の高出力な擬似平行化X線が得られ
るようにしそしてこのX線源を露光装置に適用すること
にあり、さらには、該X線源の高出力X線発生能力を長
期に維持しかつ該X線源が所望の例えば10Å以下の短
波長X線をも発生できるようにすることにある。
[問題点を解決するための手段および作用] 1上記目
的を達成するため本発明のX線発生装置は、細管状の空
間を形成する壁に沿った沿面放電によって該細管状空間
内にプラズマを生じさせてX線を発生させる細管型X線
発生装置を改良し、上記細管状空間の側面の一部を開放
してそこからX線を射出するようにした構成を有する。
また、本発明のX線露光装置は、上記X線発生装置をX
線源とし、該X線源が射出するX線をソーラースリット
により擬似平行化し、これにより原版のパター像を照射
して基板の感光体に転写するようにしている。
したがって、上記開放部の形状を細管状空間の輻方向に
線状あるいは棒状とすることにより、この形状に従って
いわゆる線状のX線を得ることができ、さらにこれを擬
似平行化して露光に用いている。
また、上記細管状の空間を、誘電体シートによって覆わ
れた絶縁物の壁によって構成して該誘電体シートを更新
可能にすれば、細管状空間に面する誘電体シートのプラ
ズマ化による消費を該誘電体シートの更新により補うこ
とができる。さらにまた、該誘電体シートの細管状空間
に面した側には蒸着等によってつけられた金属等の物質
を有することも可能であり、その場合、細管状空間に面
する誘電体シートのプラズマ化による消費を該誘電体シ
ートの更新により補うことができると同時に、上記金属
等の物質として所定の波長域のX線を放射すべき元素を
含有する物質を用いることにより所望の波長のX線を得
ることもできる。
[実施例] 以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。なお、第
6図の従来例と共通または対応する部分については同一
の符号で表わす。
第1図は、本発明の一実施例に係るX線発生装置(M管
型プラズマX線源)の構成を示す。同図において、Ra
、Rbは抵抗、Cb、Cdはコンデンサ、2はキャピラ
リ、3.4は電極、5は発生したプラズマ、6はカソー
ド、7はX線、8は硝子、9は誘電体のシートである。
同図かられかるように、キャピラリ2は5個の三角柱状
の硝子8と、硝子を覆う誘電体シート9で構成される。
そして、キャピラリ2は側面の一部を除き誘電体シート
9で囲まれている。誘電体シート9の厚さは1〜100
μm程度である。硝子8は誘電体シート9と同質の材料
でもよいが、絶縁物であれば誘電体シート9と異なる材
質(例えばアルミナA℃203)のものでもよい。電極
3,4、カソード6、硝子8および誘電体シート9は真
空容器に収められている。誘電体シート9の内側(キャ
ピラリ側)には所定のX線を放射すべき元素を含有する
物質10が必要に応じてつけられている。物質10は金
属や合金、絶縁物などで構成されている。
例えば波長4.4人のX線を所望する場合、Pdなとの
金属を蒸着すればよい。また、第1図ではキャピラリ2
に対応する電極3に穴がおいているが、これは閉じてあ
ってもよい。
次に、第1図の装置の動作を説明する。
コンデンサCdが充電され、硝子8に十分大きな電圧が
印加されると、硝子8を覆う誘電体シート9及び物質1
0がキャピラリ2の沿面放電により蒸発しプラズマ5が
発生する。このとき、カソード6から電子ビームをプラ
ズマ5に照射すると、プラズマ5の温度が上昇し、かつ
プラズマ密度が高まる。そして、物質lOに対応した波
長域のX線7が発生しキャピラリ2の側面の誘電体に覆
われていない部分からいわゆる線状に射出される。ただ
し、キャピラリ2に面している誘電体シート9の表面の
一部は沿面放電によりプラズマ化されるのでX線発生後
シートは薄くなっている。そこでプラズマ化されていな
い新しい面がキャピラリ2を囲むように、誘電体シート
9を移動させる。
この移動は1回または複数回の放電ごとに行なう。さら
に、発生するX線や光の強度をモニタし、これを参照し
ながら移動を行なってもよい。
なお、上述の実施例で説明したような細管型プラズマX
線源で用いるプラズマ発生用の電気回路として多くのも
のが考案されている。すなわち、本発明は、このような
細管型プラズマX線源用の電気回路のいずれによっても
構成でき、該電気回路に制限されることはない。そして
、例えば第2図に示すような電気回路を用いるようにし
てもよい。この場合、抵抗Raに接続する電圧の正負を
連続的に反転すること等によって電極間に印加する電圧
を反転させることで、照射するX線強度を一様にするこ
とが可能である。
第3図は本発明の一実施例に係るX線露光装置の模式化
した断面図である。この装置においては、線状(にX線
を発する)プラズマX線源ORとソーラースリットとの
組合せにより擬似平行化X線を得、これにより露光を行
なう。
同図において、20はソーラースリット、21はマスク
フレーム、22はマスク基板、23はマスクパターン、
24はレジスト、25はウェハ、26はX線取出し窓で
ある。同図の点線内は真空中に保持されている。マスク
23、ウェハ25、およびソーラースリット20は真空
中または他の雰囲気のどちらに置かれていてもよい。
この構成において、プラズマ5から放射されたX線は、
ソーラースリット20によってマスク22に対する入射
角θがθ= jan−’ (a/b)に制限されてマス
ク22を照射し、これによりマスクパターン23がウェ
ハ25上に転写される。また、この間ウェハ25とマス
ク22は一体として保持され、第3図の紙面に垂直な方
向にステップまたは連続的に6動される。
[他の実施例コ 第4図は本発明の他の実施例に係る線状のプラズマX線
源を示す断面図であり、第1図のA−A断面図に相当す
る。この装置は、碍子8の1つを2つに分割したものを
第1図のX線発生装置のX線射出部分に取り付け、その
分割面の間からX線を取出すようにしたものである。こ
の場合、線状のX線を取り出す位置に当たる誘電体シー
ト10を他の部分のシートより薄くしたり、材質を変え
るようにすれば、取り出すX線の強度を増加させること
ができる。
この実施例のメリットは次の4点である。
■ プラズマの拡散を防ぐことができ、高温かつ高密度
のプラズマを作りやすい。
■ プラズマが飛散することを防ぐことでマスク22や
X線取出し窓26等に対する汚れを減少させることが可
能である。
■ 適当な大きさの分離された碍子8を用いることによ
って、第3図におけるX線7のうち紙面内の成分をコリ
メートできる。その場合、同図のソーラースリット20
は金属板などを同図の紙面に垂直に並べた形状でもよい
■ また、X線を取り出す位置のシートの材質を選ぶこ
とやキャピラリ2の反対面に種々の物質を塗布すること
で、取り出すX線の波長を選択できる。
なお、この他キャピラリ2を構成する碍子8や誘電体シ
ート9には、種々の変形が考えられる。
第5図にその1例を示す。ただし、同図には碍子8と誘
電体シート9のみを示した。
[発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、細管型プラズマX
線源を改良して線状の高出力な擬似平行化X線を得そし
てこれにより露光することができる。また、細管状空間
の壁を更新可能な誘電体で覆うようにすれば、高出力X
線発生能力を長期に維持でき、さらに、該誘電体シート
に所望の波長域のX線を放射すべき元素を含有する物質
を付着または含有させるようにすれば、所望の波長例え
は10Å以下のX線を得ることもできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例に係る細管型X、を朶発生
装置の構成を示す断面図、 第2図は、第1図の装置の電気回路の変形例を示す断面
図、 第3図は、本発明の一実施例に係るX線露光装置の模式
化した断面図、 第4図は、本発明の他の実施例に係る線状のプラズマX
線源を示す断面図、 第5図は、本発明のプラズマX線源における碍子や誘電
体シートの変形例を示す斜視図、そして第6図は、従来
の細管型プラズマX線源の1例を示す断面図である。 1:誘電体、2:キャピラリ、3.4:電極、5ニプラ
ズマ、6:カソード、7:X線、8:硝子、9:誘電体
シート、 10:所定の波長のX線を放射すべき元素を含有した物
質、 20:ソーラースリット、21:マスクフレーム、22
:マスク基板、23:マスクパターン、24ニレジスト
、25:ウェハ、 26:X線取出し窓。 特許出願人  □キャノン株式会社 代理人 弁理士   伊 東 辰 雄 代理人 弁理士   伊 東 哲 也 HV 第1図 第2図 HV 第5図 一すV b 第6図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、側面の一部を開放した細管状の空間を形成する絶縁
    物の壁と、該壁面に沿った沿面放電によって該細管状の
    空間内にプラズマを発生させるプラズマ発生手段とを具
    備し、該プラズマからのX線を上記開放部から射出する
    ことを特徴とするX線発生装置。 2、前記細管状の空間に面する絶縁物の面が誘電体シー
    トで覆われており、前記絶縁物が複数の柱状形絶縁物か
    ら成り、上記誘電体シートを該複数の絶縁物がそれぞれ
    互いに接する接面または接線の空隙を通して移動させる
    ことにより前記細管状の空間に面する誘電体シートの面
    を更新することができる特許請求の範囲第1項記載のX
    線発生装置。 3、前記細管状の空間を形成する側の前記誘電体シート
    面に所望の波長域のX線を放射すべき元素を含有する物
    質が付着または含有されている特許請求の範囲第2項記
    載のX線発生装置。 4、側面の一部を開放した細管状の空間を形成する絶縁
    物の壁、および該壁面に沿つた沿面放電によって該細管
    状の空間内にプラズマを発生させるプラズマ発生手段を
    有し、該プラズマからのX線を上記開放部から射出する
    X線発生手段と、該X線発生手段により射出されたX線
    を擬似平行化するソーラースリットと、 該ソーラースリットにより擬似平行化されたX線を原版
    のパターンに照射して該パターンの像を基板上の感光体
    に転写する転写手段と を具備することを特徴とするX線露光装置。 5、前記原版がX線マスクであり、前記基板がウェハで
    あり、前記感光体がレジストである特許請求の範囲第4
    項記載のX線露光装置。 6、前記細管状の空間に面する絶縁物の面が誘電体シー
    トで覆われており、前記絶縁物が複数の柱状形絶縁物か
    ら成り、上記誘電体シートを該複数の絶縁物がそれぞれ
    互いに接する接面または接線の空隙を通して移動させる
    ことにより前記細管状の空間に面する誘電体シートの面
    を更新することができる特許請求の範囲第4項記載のX
    線露光装置。 7、前記細管状の空間を形成する側の前記誘電体シート
    面に所望の波長域のX線を放射すべき元素を含有する物
    質が付着または含有されている特許請求の範囲第6項記
    載のX線露光装置。
JP62071710A 1986-04-10 1987-03-27 X線発生装置およびこれを用いたx線露光装置 Pending JPS63239755A (ja)

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US07/309,918 US4935947A (en) 1986-04-10 1989-02-07 X-ray exposure apparatus

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002061787A3 (en) * 2001-01-31 2003-03-13 Plasmion Corp Method and apparatus having pin electrode for surface treatment using capillary discharge plasma

Cited By (2)

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WO2002061787A3 (en) * 2001-01-31 2003-03-13 Plasmion Corp Method and apparatus having pin electrode for surface treatment using capillary discharge plasma
US6632323B2 (en) 2001-01-31 2003-10-14 Plasmion Corporation Method and apparatus having pin electrode for surface treatment using capillary discharge plasma

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