JPS63239452A - Adhesive seal - Google Patents
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、接着シールに関し、特に、ペリクルが貼り付
けられるフレームのマスク基板への接着に適用して有効
な技術に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an adhesive seal, and particularly to a technique that is effective when applied to adhesion of a frame to which a pellicle is attached to a mask substrate.
従来、縮小投影露光装置による露光時に用いられるレチ
クルの表面にフレームを接着し、このフレームにニトロ
セルロースの薄膜から成るペリクルを貼り付けることに
より、レチクルの表面に塵埃等の異物が付着することに
よる不良を防止する技術が知られている。このフレーム
とレチクルとの接着は、基材の両面に接着剤を塗布した
接着シールを用いて行われている。従来、この基材とし
ては、ネオブレン、ポリエチレンフオーム等の発泡体が
用いられている。しかしながら、これらの発泡体はその
内部に存在する空間に異物が残留しやすいため、ペリク
ル上の異物を除去するためにエアブロ−を行った場合、
膜振動の影響で前記発泡体中の異物が基材の外に出てレ
チクルの表面に付着してしまい、露光不良を生じるとい
う問題があった。Conventionally, a frame is glued to the surface of a reticle used during exposure using a reduction projection exposure device, and a pellicle made of a thin film of nitrocellulose is attached to this frame. There are known techniques to prevent this. The frame and reticle are bonded using an adhesive seal, which is a base material coated with adhesive on both sides. Conventionally, foams such as neorene and polyethylene foam have been used as this base material. However, these foams tend to have foreign matter remaining in the space inside them, so when air blowing is performed to remove foreign matter from the pellicle,
There is a problem in that foreign matter in the foam comes out of the base material and adheres to the surface of the reticle due to the influence of membrane vibration, resulting in poor exposure.
このような問題を解決するために、特開昭６０−５７８
４１号公報においては、フレームの内周面にあらかじめ
粘着性物質の薄膜を設けておくことにより、基材から出
てペリクルとマスク基板との間の空間に浮遊する異物を
前記粘着性物質に付着させて固定する方法が提案されて
いる。In order to solve such problems, Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-578
In Publication No. 41, by providing a thin film of an adhesive substance on the inner peripheral surface of the frame in advance, foreign matter that comes out of the base material and floats in the space between the pellicle and the mask substrate is prevented from adhering to the adhesive substance. A method has been proposed in which the material is fixed in place.
しかしながら１本発明者の検討によれば、特開昭６０−
５７８４１号公報で提案されている前記技術は、前記粘
着性物質が光、熱等により剥離してしまうため、かえっ
て異物の発生源となるという問題があった。However, according to the study of the present inventor, JP-A-60-
The technique proposed in Japanese Patent No. 57841 has a problem in that the adhesive substance peels off due to light, heat, etc., and thus becomes a source of foreign matter.
本発明の目的は、接着シールからの発塵を防止すること
ができる技術を提供することにある。An object of the present invention is to provide a technique that can prevent dust from being generated from an adhesive seal.
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は１．
＊明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであ
ろう。The above and other objects and novel features of the present invention are as follows: 1.
*It will become clear from the description in the specification and the attached drawings.
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.
すなわち、少なくともその内周面を無発塵性の物質によ
り構成している。That is, at least the inner circumferential surface thereof is made of a dust-free material.
上記した手段によれば、接着シールからの発塵を防止す
ることができる。According to the above-described means, dust generation from the adhesive seal can be prevented.
以下１本発明の実施例を図面を用いて具体的に説明する
。EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, one embodiment of the present invention will be specifically described using the drawings.
なお、実施例を説明するための全回において。In addition, in all the times for explaining the example.
同一機能を有するものには同一符号を付け、その繰り返
しの説明は省略するゆ
λ五銭上
第１図は、本発明の実施例Ｉを示す平面図であり、第２
図は、第１図のｘ−Ｘ線に沿っての断面図である。Components having the same functions are given the same reference numerals, and repeated explanations thereof will be omitted.
The figure is a sectional view taken along the line xx in FIG. 1.
第１、図及び第２図に示すように、実施例■においては
、透明なペリクル１が貼り付けられているフレーム２が
、接着シール３により例えばガラスから成る例えばレチ
クルのようなマスク基板４の表面に接着されている。そ
して、これらのペリクル１及びフレーム２によって、所
定のマスクパターン５が設けられたマスク基板４の表面
に塵埃等の異物が付着したり汚染が生じたりするのを防
止することができるようになっている。As shown in FIG. 1, FIG. 2, and FIG. glued to the surface. These pellicle 1 and frame 2 can prevent foreign matter such as dust from adhering to the surface of the mask substrate 4 on which a predetermined mask pattern 5 is provided, and from contamination. There is.
前記フレーム２は、例えばプラスチックやアルミニウム
のような無発塵性の物質から成る。また。The frame 2 is made of a dust-free material such as plastic or aluminum. Also.
前記接着シール３は、基材６と、この基材６の両面に塗
布された接着剤７とから成る。この接着剤７としては１
例えばアクリル系やゴム系の接着剤を用いることができ
る。前記基材６は内周部６ａと外周部６ｂとから成る。The adhesive seal 3 consists of a base material 6 and an adhesive 7 applied to both surfaces of the base material 6. This adhesive 7 is 1
For example, an acrylic or rubber adhesive can be used. The base material 6 consists of an inner peripheral part 6a and an outer peripheral part 6b.
この外周部６ｂは、例えばネオプレン、ポリエチレンフ
オーム、ポリウレタンフォームのような発泡体から成る
。これによって、この発泡体の有する弾性によりフレー
ム２のマスク基板４に対する接着性を高めることができ
る。例えば、マスク基板４の表面の平坦度が１０μｍ程
度である場合、接着時にフレーム２に加える圧力を４ｋ
ｇｗ／＋ａＪとすることにより接着面積１００％を容易
に実現することができる。これによって、フレーム２と
マスク基板４との間から、ペリクルｌとフレーム２と接
着シール３とにより形成される空間内に異物が侵入する
のを効果的に防止することができる。一方、前記内周部
６ａは。This outer peripheral portion 6b is made of a foam such as neoprene, polyethylene foam, or polyurethane foam. As a result, the adhesiveness of the frame 2 to the mask substrate 4 can be improved due to the elasticity of this foam. For example, if the surface flatness of the mask substrate 4 is about 10 μm, the pressure applied to the frame 2 during bonding is 4 k.
By setting gw/+aJ, 100% bonding area can be easily achieved. Thereby, it is possible to effectively prevent foreign matter from entering between the frame 2 and the mask substrate 4 into the space formed by the pellicle I, the frame 2, and the adhesive seal 3. On the other hand, the inner peripheral portion 6a is.
例えばポリエステル、プラスチックフィルム、金属、無
塵紙のような無発泡体から成る。これらの無発泡体はそ
の内部に空間を有しないため、この空間内に異物が残留
することがなく、従ってこの内周部６ａからの発塵はな
い。これによって、ペリクル１とフレーム２と接着シー
ル３とにより形成される空間内には発塵性のない清浄な
面のみが露出する構造となるので、マスク基板４の表面
に異物が付着することによる露光不良を防止することが
できる。For example, it is made of non-foamed materials such as polyester, plastic film, metal, and dust-free paper. Since these non-foamed bodies have no space inside, no foreign matter remains in this space, and therefore no dust is generated from the inner peripheral portion 6a. As a result, only a clean surface that does not generate dust is exposed in the space formed by the pellicle 1, the frame 2, and the adhesive seal 3. Exposure defects can be prevented.
なお、前記基材６は、内周部６ａ及び外周部６ｂをそれ
ぞれ型抜き等により形成した後、内周部６ａを外周部６
ｂにはめこむことにより形成することができる。Note that the base material 6 is formed by forming the inner circumferential portion 6a and the outer circumferential portion 6b by die cutting or the like, and then forming the inner circumferential portion 6a into the outer circumferential portion 6.
It can be formed by fitting it into b.
ス１ぼ１更
第３図は、本発明の実施例■を示す断面図である。なお
、この実施例■の平面図は第１図と同様である。FIG. 3 is a sectional view showing the embodiment (2) of the present invention. Incidentally, the plan view of this embodiment (2) is the same as that in FIG.
第３図に示すように、実施例■においては、フレーム２
に設けられた突出部２ａが接着剤７によりマスク基板４
に直接接着され、この突出部２ａ以外の部分のフレーム
２は接着剤７及び発泡体から成る外周部６ｂによりマス
ク基板４に接着されている。これによって、ペリクル１
とフレーム２と接着シール３とにより形成される空間に
は発塵性のある面が全く露出していない構造となるので
、マスク基板４の表面に異物が付着するのを防止するこ
とができる。また、実施例Ｉにおける基材６の内周部６
ａを設けていないので、この分だけ構造が簡単となり、
接着界面も減る。さらに、前記外周部６ｂはフレーム２
の突出部２ａよりもｄだけ突出している。これによって
、フレーム２をマスク基板４に接着する際に弾性を有す
る外周部６ｂの圧縮量を十分に大きくすることができ、
このためフレーム２をマスク基板４に完全に接着するこ
とができる。なお、上述のように外周部６ｂをフレーム
２の突出部２ａよりも突出させたことに伴い、この突出
部２ａとマスク基板４との間の部分の接着剤７はその他
の部分に比べてその厚さが大きくなっている。As shown in FIG. 3, in Example 2, frame 2
The protrusion 2a provided on the mask substrate 4 is attached to the mask substrate 4 by adhesive 7.
The portion of the frame 2 other than the protrusion 2a is bonded to the mask substrate 4 by an adhesive 7 and an outer peripheral portion 6b made of foam. With this, pellicle 1
Since the space formed by the frame 2 and the adhesive seal 3 has a structure in which no dust-generating surface is exposed, it is possible to prevent foreign matter from adhering to the surface of the mask substrate 4. In addition, the inner peripheral part 6 of the base material 6 in Example I
Since a is not provided, the structure is simplified accordingly,
The adhesive interface is also reduced. Furthermore, the outer peripheral portion 6b is the frame 2
It protrudes by a distance d from the protruding portion 2a. As a result, when bonding the frame 2 to the mask substrate 4, the amount of compression of the elastic outer peripheral portion 6b can be made sufficiently large.
Therefore, the frame 2 can be completely bonded to the mask substrate 4. In addition, since the outer circumferential portion 6b is made to protrude beyond the protruding portion 2a of the frame 2 as described above, the adhesive 7 in the portion between the protruding portion 2a and the mask substrate 4 is thinner than in other portions. The thickness is increased.
去１１１町
第４図は１本発明の実施例■を示す断面図である。なお
、この実施例■の平面図は第１図と同様である。Figure 4 is a cross-sectional view showing Embodiment (2) of the present invention. Incidentally, the plan view of this embodiment (2) is the same as that in FIG.
第４図に示すように、実施例ｍにおいては、発泡体から
成る基材６及び接着剤７の内周面が、例えばニトロセル
ロースや金属のような無発塵性の物質から成る膜８によ
り覆われている。これによって、実施例Ｉ、■と同様に
、ペリクル１とフレーム２と接着シール６とにより形成
される空間内には発塵性の面が全く露出しない構造とな
るので。As shown in FIG. 4, in Example m, the inner peripheral surfaces of the base material 6 made of foam and the adhesive 7 are covered with a film 8 made of a dust-free substance such as nitrocellulose or metal. covered. This results in a structure in which no dust-generating surface is exposed within the space formed by the pellicle 1, frame 2, and adhesive seal 6, as in Examples I and (2).
マスク基板４に異物が付着するのを防止することができ
る。また、基材６は発泡体のみから成るので、構造が簡
単であり、製造も容易である。It is possible to prevent foreign matter from adhering to the mask substrate 4. Moreover, since the base material 6 is made only of foam, it has a simple structure and is easy to manufacture.
以上、本発明を実施例にもとづき具体的に説明したが１
本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であること
は言うまでもない。The present invention has been specifically described above based on examples, but 1.
It goes without saying that the present invention is not limited to the embodiments described above, and can be modified in various ways without departing from the spirit thereof.
例えば、第５図に示すように、実施例Ｉにおける基材６
の内周部６ａの厚さを外周部６ｂの厚さに比べて小さく
することも可能である。このようにすることにより、実
施例■（第３図）におけると同様に、フレーム２をマス
ク基板４に接着する際の外周部６ｂの圧縮量を十分に大
きくすることができるので、良好な接着を行うことがで
きる。また、第６図に示すように、十分な弾性を有する
接着剤７を用い、この接着剤７によりフレーム２をマス
ク基板４に直接接着することも可能である。For example, as shown in FIG. 5, the base material 6 in Example I
It is also possible to make the thickness of the inner peripheral part 6a smaller than the thickness of the outer peripheral part 6b. By doing this, the amount of compression of the outer peripheral part 6b when adhering the frame 2 to the mask substrate 4 can be sufficiently increased, as in Example 2 (FIG. 3), so that good adhesion can be achieved. It can be performed. Further, as shown in FIG. 6, it is also possible to use an adhesive 7 having sufficient elasticity to directly adhere the frame 2 to the mask substrate 4.
このようにすることによって基材６を省略することがで
きるので、接着シールの構造が簡単となる。By doing so, the base material 6 can be omitted, so the structure of the adhesive seal becomes simple.
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows.
すなわち、接着シールからの発塵を防止することができ
る。That is, dust generation from the adhesive seal can be prevented.
第１図は１本発明の実施例Ｉを示す平面図、第２図は、
第１図のＸ−Ｘ線に沿っての断面図、第３図は、本発明
の実施例■を示す断面図。
第４図は１本発明の実施例■を示す断面図、第５図は１
本発明の変形例を示す断面図、第６図は、本発明の他の
変形例を示す断面図である。
図中、１・・・ペリクル、２・・・フレーム、３・・・
接着シール、４・・・マスク基板、６・・・基材、６ａ
・・・内周部、６ｂ・・・外周部、７・・・接着剤であ
る。FIG. 1 is a plan view showing Embodiment I of the present invention, and FIG. 2 is a plan view showing Embodiment I of the present invention.
FIG. 1 is a cross-sectional view taken along line X-X in FIG. 1, and FIG. 3 is a cross-sectional view showing Example 2 of the present invention. FIG. 4 is a sectional view showing Embodiment 1 of the present invention, and FIG.
FIG. 6 is a sectional view showing another modification of the present invention. In the figure, 1...pellicle, 2...frame, 3...
Adhesive seal, 4... Mask substrate, 6... Base material, 6a
...Inner peripheral part, 6b... Outer peripheral part, 7... Adhesive.
Claims (1)
接着するための接着シールであって、少なくともその内
周面を無発塵性の物質により構成したことを特徴とする
接着シール。 ２、前記接着シールが基材とこの基材の両面に塗布され
た接着剤とから成り、前記基材が無発泡体から成る内周
部と発泡体から成る外周部とから成ることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の接着シール。 ３、前記基材の前記外周部の厚さが前記内周部の厚さよ
りも大きいことを特徴とする特許請求の範囲第２項記載
の接着シール。 ４、前記無発泡体がポリエステル、プラスチック、金属
又は無塵紙であり、前記発泡体がネオプレン、ポリエチ
レンフォーム又はポリウレタンフォームであることを特
徴とする特許請求の範囲第２項又は第３項記載の接着シ
ール。[Claims] 1. An adhesive seal for adhering a frame to which a pellicle is attached to a mask substrate, characterized in that at least the inner peripheral surface thereof is made of a non-dust-producing material. . 2. The adhesive seal is comprised of a base material and an adhesive applied to both surfaces of the base material, and the base material is comprised of an inner peripheral part made of a non-foamed material and an outer peripheral part made of a foamed material. An adhesive seal according to claim 1. 3. The adhesive seal according to claim 2, wherein the thickness of the outer peripheral portion of the base material is greater than the thickness of the inner peripheral portion. 4. The adhesive according to claim 2 or 3, wherein the non-foamed material is polyester, plastic, metal, or dust-free paper, and the foamed material is neoprene, polyethylene foam, or polyurethane foam. sticker.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62071515A JPS63239452A (en) | 1987-03-27 | 1987-03-27 | Adhesive seal |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62071515A JPS63239452A (en) | 1987-03-27 | 1987-03-27 | Adhesive seal |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63239452A true JPS63239452A (en) | 1988-10-05 |
Family
ID=13462926
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62071515A Pending JPS63239452A (en) | 1987-03-27 | 1987-03-27 | Adhesive seal |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63239452A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0325441A (en) * | 1989-06-22 | 1991-02-04 | Fujitsu Ltd | Pellicle |
| JP2011203568A (en) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | Pellicle for lithography |
-
1987
- 1987-03-27 JP JP62071515A patent/JPS63239452A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0325441A (en) * | 1989-06-22 | 1991-02-04 | Fujitsu Ltd | Pellicle |
| JP2011203568A (en) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | Pellicle for lithography |
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