JPS632344A - Detecting method for wafer chip - Google Patents

Detecting method for wafer chip

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JPS632344A
JPS632344A JP61144753A JP14475386A JPS632344A JP S632344 A JPS632344 A JP S632344A JP 61144753 A JP61144753 A JP 61144753A JP 14475386 A JP14475386 A JP 14475386A JP S632344 A JPS632344 A JP S632344A
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wafer
chip
wafer chips
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正治 杭ノ瀬
Naohito Taniwaki
谷脇 尚人
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

PURPOSE:To recognize an actual array by simultaneously recognizing a plurality of wafer chips by one visual detection, detecting the positional relationship of a plurality of wafer chips of reference and a pitch between the chips, and moving the recognized position while correcting the recognized position to detect it, thereby eliminating the intermediary of an operator. CONSTITUTION:A wafer ring 14 having aligned wafer chips 11 is secured on an XY table 15, the chips 11 are picked up by an ITV camera 1, the image is processed by the picked image signal by means of a recognition unit 2, the result is transferred by a communication channel 3 to a die bonder controller 4 to control the table 15 to the recognition position and pickup position of the chips 11. Four wafer chips are simultaneously recognized at the recognition position initially given by an operator, the table 15 is moved by the pickup unit of the chips from the recognition result, the chips are mounted, next recognition position is then calculated including a pitch correction, the table 15 is moved, and similarly recognized. These operations are repeated to mount the chips.

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明はダイボンダの如き電子部品の自動実装機におけ
る視覚認識によるウェハチップの検出方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Technical Field) The present invention relates to a method for detecting wafer chips by visual recognition in an automatic electronic component mounting machine such as a die bonder.

(背景技術) ウェハチップは、多数の半導体回路が形成された円板状
のウェハを半導体回路単位毎に格子状に切断して得られ
るものであり、第7図に示すように接看剤付透明シート
12の上にウェハ10を載せ、カッタ(図示せず)によ
り格子状に切断した後、接着剤付透明シート12の基台
となっているエキスバンドリング13を拡げ、第8図に
示すように個々のウェハチップ11を分離し、ダイボン
ダ等による実装を行えるようにしている。
(Background Art) A wafer chip is obtained by cutting a disk-shaped wafer on which a large number of semiconductor circuits are formed into a lattice shape for each semiconductor circuit, and as shown in FIG. After placing the wafer 10 on the transparent sheet 12 and cutting it into a grid shape with a cutter (not shown), the expand ring 13 serving as the base of the transparent sheet 12 with adhesive is expanded, as shown in FIG. The individual wafer chips 11 are separated so that they can be mounted using a die bonder or the like.

しかして、ウェハチップは上記のようにして製造される
ため、以下の如き不規則要因を含んでいる。すなわち、 ■ウェハは円形をしているため、端面のウェハチップは
均一な形状をしていない。また、水平、垂直方向のウェ
ハチップの数も不均一である。
However, since wafer chips are manufactured as described above, they include the following irregularities. That is, (1) Since the wafer is circular, the wafer chips on the end surface do not have a uniform shape. Further, the number of wafer chips in the horizontal and vertical directions is also non-uniform.

■ウェハの切断時に一部のウェハチップに欠け。■Some wafer chips are chipped when cutting the wafer.

割れ等を生じることがある。Cracks may occur.

■ウニ八を引き延ばす際にウェハチップ間の引き延ばし
率がばらつき、ウェハチップ間のピッチが不均一となる
ことがある。
■When stretching the sea urchin, the stretching rate between wafer chips varies, and the pitch between the wafer chips may become uneven.

等である。etc.

このようなことから、ウェハチップの実装を行うダイポ
ンダ等の自動実装機にあっては、要求される位置晴度を
満たすために視覚認識によるウェハチップの確認が必要
とされ、実装に先立ってウェハチップの形状良否の判定
および取出位置の検出を行う必要がある。
For this reason, in automatic mounting machines such as dieponders that mount wafer chips, it is necessary to confirm the wafer chips by visual recognition in order to meet the required positional brightness, and the wafer chips are It is necessary to determine whether the shape of the chip is good or not and to detect the extraction position.

第9図は従来の認識方法を示したものであり、認識に先
立ってオペレータより (1)認識スタート位置(いずれかのウェハチップのチ
ップセンター) (2)ウェハチップ間のピッチ がデータとして与えられる。
Figure 9 shows the conventional recognition method. Prior to recognition, the operator provides (1) recognition start position (chip center of any wafer chip) and (2) pitch between wafer chips as data. .

しかして、動作は次のように行われる。The operation is performed as follows.

■最初にオペレータより与えられた認識位置においてウ
ェハチップを認識しくステップ201)、形状の良否を
判断し、実装の可否を判断する(ステップ202)。
(2) First, the wafer chip is recognized at the recognition position given by the operator (step 201), and the quality of the shape is determined to determine whether or not it can be mounted (step 202).

■実装可の場合はウェハチップの位置を検出し、実装を
行い(ステップ203)、オペレータにより与えられた
ピッチデータにより次の認識位置へ移動しくステップ2
04)、同様に認識を行う(ステップ201)。
■If mounting is possible, detect the position of the wafer chip, mount it (step 203), and move to the next recognition position according to the pitch data given by the operator.Step 2
04), recognition is performed in the same manner (step 201).

■実装否の場合は実装を行わず、次の認識位置に移動し
くステップ204) 、再び認識を行う(ステップ20
1)。
■If not mounted, do not mount and move to the next recognition position (step 204), perform recognition again (step 20)
1).

0以上を繰り返し実行し、ウェハチップの実装を行って
いく。
Repeat steps 0 or more to mount wafer chips.

しかして、上記の従来の方法でシよ、第10図(イ)に
示すようにウェハチップ11が一定のピッチpで整列し
ている場合には認識エリアA内でウェハチップ11が繰
り返し検出でき、問題は生じないが、第1O図(ロ)、
(ハ)の如くウェハチップ11の引き延ばし率がばらつ
いている場合やウェハチップ11が全体的に傾いている
場合には認識エリアA内でウェハチップ11が検出でき
ず、検出を中断してオペレータによるピッチデータの補
正あるいはウェハチップの傾き補正を行う必要があった
However, when the wafer chips 11 are arranged at a constant pitch p as shown in FIG. 10(a), the wafer chips 11 cannot be repeatedly detected within the recognition area A. , no problem arises, but Figure 1O (b),
If the stretching rate of the wafer chip 11 varies as shown in (c), or if the wafer chip 11 is tilted as a whole, the wafer chip 11 cannot be detected within the recognition area A, and the detection is interrupted and the operator It was necessary to correct the pitch data or correct the tilt of the wafer chip.

また、上記の方法では不良品のウェハチップを検出した
際に再認識を必要とするため、実装タクトに与える影響
が問題となっていた。すなわち、ウェハチップが良品で
ある場合は認識に続いて実装が行えるが、不良品である
場合は良品を検出するまで実装を見送らなければならな
いため、所定のリズムで実装を行うことができなかった
Furthermore, the above method requires re-recognition when a defective wafer chip is detected, which poses a problem of impact on mounting takt time. In other words, if the wafer chip is a good product, it can be mounted after recognition, but if it is a defective chip, the mounting must be postponed until a good product is detected, making it impossible to perform the mounting at a predetermined rhythm. .

一方、第11図は従来における列認識終了(1列のウェ
ハチップの認識を終了した状態)を判断する方法を示し
たものであり、第11図(イ)の(至)−Gψ→(v)
のように3回連続して不良品あるいはチップ無しと判断
した場合に列認識終了と判断するようにしていた。なお
、第11図(ロ)はそのフローチャートであり、ステッ
プ205において不良品あるいはチップ無しが3回連続
するのを判断し、結果がYESであればステップ206
において列認識終了と判断していた。
On the other hand, FIG. 11 shows a conventional method for determining the end of row recognition (a state in which recognition of one row of wafer chips has been completed), in which (to) −Gψ→(v )
When it is determined that the product is defective or has no chip three times in a row, it is determined that the row recognition has ended. In addition, FIG. 11 (b) is a flowchart of the process, in which it is determined in step 205 that defective products or no chips occur three times in a row, and if the result is YES, step 206 is performed.
It was determined that row recognition had finished.

また、第12図は全認識終了(全てのウェハチップの認
識を終了した状態)を判断する方法を示したものであり
、第12図(イ)のに)→−→−−■→−(支)→(5
)のように列認識終了の後に6@連続して不良品あるい
はチップ無しと判断した場合に全認識終了と判断するよ
うにしていた。なお、第12図(ロ)はそのフローチャ
ートであり、ステップ207において列wt識終了の後
に不良品あるいはチップ無しが6回連続するのを判断し
、結果がYESであればステップ208において全認1
11終了と判断していた。
In addition, Fig. 12 shows a method for determining whether all recognition has been completed (recognition of all wafer chips has been completed). Branch) → (5
), when it is determined that 6 consecutive defective products or no chips are found after the completion of row recognition, it is determined that all recognition has been completed. In addition, FIG. 12 (B) is a flowchart, in which it is determined in step 207 that defective products or no chips occur six times in a row after the completion of column wt recognition, and if the result is YES, all recognition is performed in step 208.
I thought it was over on November 11th.

しかして、列認識終了、全認識終了のいずれも判断まで
に要する認識の回数が多く、実装タクトに影響を与えて
いた。
However, the number of recognitions required to determine whether row recognition is complete or all recognition is complete is large, which affects the mounting takt time.

(発明の目的) 本発明は上記の点に鑑み提案されたものであり、認識位
置の自動補正を行うことによりオペレータの介在をなく
すと共に、不良品ウェハチップのための再J m等によ
る実装タクトへの影響をなくすことができるウェハチッ
プの検出方法を提供することを目的としている。
(Objective of the Invention) The present invention has been proposed in view of the above points, and eliminates operator intervention by automatically correcting the recognition position, and also reduces the mounting tact by re-J m etc. for defective wafer chips. The purpose of the present invention is to provide a method for detecting wafer chips that can eliminate the influence on wafer chips.

(発明の開示) 息下、実施例を示す図面に沿って本発明を詳述する。(Disclosure of invention) The present invention will now be described in detail with reference to the drawings showing embodiments.

第1図は本発明を具体化したシステムの構成を示すもの
であり、XY子テーブル5上にウェハチップ11が並ぶ
ウニ八リング14を固定し、ウェハチップ11をITV
カメラ1により撮像し、撮像信号より認識装置2で画像
処理を行い、認識結果をR3−232G回線の如き通信
回線3によりダイボンダコントローラ4に転送し、ウェ
ハチップ11の認識位置および取出位置へとXY子テー
ブル5を制御するようになっている。
FIG. 1 shows the configuration of a system embodying the present invention, in which a Unihachi ring 14 on which wafer chips 11 are lined up is fixed on an XY child table 5, and the wafer chips 11 are placed on an ITV.
An image is taken by a camera 1, image processing is performed by a recognition device 2 based on the image signal, and the recognition result is transferred to a die bonder controller 4 through a communication line 3 such as an R3-232G line, and is transferred to the recognition position and take-out position of the wafer chip 11 in the XY direction. The child table 5 is controlled.

以下、本発明によるウェハチップの検出方法を、同時に
認識するウェハチップの個数を4個として説明する。
Hereinafter, the method for detecting wafer chips according to the present invention will be described assuming that the number of wafer chips to be simultaneously recognized is four.

第2図は認識および実装の工程を示したものであり、認
識に先立ってオペレー、夕より(1)認識スタート位置
(4個のウェハチップのセンター) がデータとして与えられろ。
Figure 2 shows the process of recognition and mounting.Prior to recognition, the operator provides (1) the recognition start position (center of four wafer chips) as data.

しかして、最初にオペレータにより与えられた認識位置
にて4個のウェハチップを同時に認識しくステップ10
2)、良品チップの数にかかわらず例えば1個の良品チ
ップを実装しくステップ103) 、認識結果より次の
認識位置をピッチ補正を含めて算出しくステップ104
)、XY子テーブル5を移動させ(ステップ101)、
同様に認識を行う(ステップ102)。そして、これら
の動作を繰り返し行い、ウェハチップの実装を行ってい
く。
In step 10, four wafer chips are initially recognized at the recognition position given by the operator.
2), Regardless of the number of good chips, for example, one good chip is mounted.Step 103), From the recognition result, calculate the next recognition position including pitch correction.Step 104
), move the XY child table 5 (step 101),
Recognition is similarly performed (step 102). These operations are then repeated to mount the wafer chips.

第3図は認識の様子を示したものであゆ、(イ)はウェ
ハチップ11が一定のピッチで整列している場合、(ロ
)はウェハチップ11の引き延ばし率がばらついてピッ
チがずれている場合、(ハ)はウニ八チップ11全体が
傾斜している場合である。
Figure 3 shows the state of recognition; (a) shows when the wafer chips 11 are aligned at a constant pitch, and (b) shows when the stretching rate of the wafer chips 11 varies and the pitch is shifted. In the case (c), the entire sea urchin eight chip 11 is tilted.

しかして、同時に認識した4個のウェハチップ11a、
 llb、 lle、 lldより次の4個のウェハチ
ップのチップセンター〇を算出して補正を与え、認識エ
リアAを移動させていくので、認識エリアA内にウェハ
チップが検出できなくなるということがなくなるもので
ある。
Therefore, the four wafer chips 11a recognized at the same time,
Since the chip center 〇 of the next four wafer chips is calculated from llb, lle, and lld, correction is applied, and recognition area A is moved, there is no possibility that a wafer chip cannot be detected within recognition area A. It is something.

次に、ウェハチップの取出位置および次回の認識におけ
る認識エリアのセンターの算出方法について説明する。
Next, a method of calculating the wafer chip takeout position and the center of the recognition area in the next recognition will be explained.

第4図は認識エリアA内の4個のウェハチップlla、
 llb、 llc、 lidを示しており、Cはその
認識の際のセンター(認識センター)、C,、C,。
Figure 4 shows four wafer chips lla in recognition area A,
llb, llc, and lid are shown, and C is the center for recognition (recognition center), C,,C,.

C3,c、はウェハチップlla、 llb、 lie
、 lldの重心位置 C/は4個のウェハチップll
a、 llb。
C3,c, are wafer chips lla, llb, lie
, lld center of gravity position C/ is four wafer chips ll
a, llb.

11c、 lidの実際のセンター(4チツプセンター
)である。なお、c、、 C2,C3,C4,c’はセ
ンターのを基準とした相対位置を示すベクトルである。
11c, the actual center of the lid (4-chip center). Note that c, , C2, C3, C4, and c' are vectors indicating relative positions with respect to the center.

しかして、画像処理により4個のウェハチップlla、
 llb、 lie、 lidの重心位置C,,C2,
C,。
Through image processing, four wafer chips lla,
Center of gravity position C,,C2, of llb, lie, lid
C.

C4が測定されるので、ダイボンダによる取出位置は次
のように求められ、良品のウエノλチップにつき実装が
行われる。
Since C4 is measured, the take-out position by the die bonder is determined as follows, and a good Ueno λ chip is mounted.

11a:C+C 11b:C+C 11e:C+C。11a:C+C 11b:C+C 11e: C+C.

lid:C+04 また、4チツプセンターC′は (C’= (([:、+(C2+C3+(C4) /4
により求めることができろ。なお、このC′は認識セン
ターと4個のウェハチップのセンターとのズレを示すも
のである。
lid:C+04 Also, the 4-chip center C' is (C'= (([:, +(C2+C3+(C4)/4
You can find it by Note that C' indicates the deviation between the recognition center and the centers of the four wafer chips.

しかして、次回の認識位置のセンターは次式により求め
られる。
Therefore, the center of the next recognition position is determined by the following equation.

X成分:Cx+C′8+2Px Y成分:C,+C’、 なお、cx、 c’、はc、c’のX成分を、CY。X component: Cx+C'8+2Px Y component: C, +C', Note that cx, c' is the X component of c, c', and CY.

C′7はc、c’のY成分を表わすものとする。また、
上式におけるPxはX軸方向のウニ/’1チップ間のピ
ッチであり、 Px=(C2x−C1x+C4゜−C,x)/ 2で求
められ、ここでは4個のウェハチップを同時に認識する
ようにしているのでP8を2倍したものを加算するよう
にしている。
C'7 represents the Y component of c and c'. Also,
Px in the above equation is the pitch between 1 chip per chip in the Therefore, P8 multiplied by 2 is added.

次いで、上記の認識を1列に沿って繰り返して行き、列
認識終了を判断した際には次式により次の認識位置の算
出を行う。
Next, the above recognition is repeated along one column, and when it is determined that the column recognition has ended, the next recognition position is calculated using the following equation.

X成分: Cx−C’x−2Px Y成分: C,−C’、+ 2 PY なお、上式におけるP7はY軸方向のウェハチップ間の
ピッチであり、 Pヶ−(C8Y−C37+C2,、−C4v)/2で求
められる。そして、この計算結果により垂直方向への認
識位置の移動を行い、再び水平方向の認識位置の移動を
行う。なお、折返し後の水平方向の移動方向は前回まで
の方向と逆向きであり、よって、次回の認識を行う位置
は次式%式% なお、上記の各式におけるウェハチップ11a。
X component: Cx-C'x-2Px Y component: C, -C', +2 PY Note that P7 in the above equation is the pitch between wafer chips in the Y-axis direction, and P (C8Y-C37+C2,, −C4v)/2. Then, based on this calculation result, the recognition position is moved in the vertical direction, and then the recognition position is moved in the horizontal direction again. Note that the horizontal movement direction after turning back is opposite to the previous direction, so the next recognition position is determined by the following equation %.

11b、 lie、 1id(7)重心位置(C,、C
2,C3,C41!、認識エリアA内に4個ともウェハ
チップが存在し、かつ形状良品ウェハチップの場合しか
得られないため、不良がある場合や列の最後にあっては
C′、Px、PYが計算できないが、そのような場合は
前回に検知された(C’、 Px、 P、を使用するも
のである。
11b, lie, 1id (7) Center of gravity position (C,,C
2, C3, C41! , C', Px, and PY cannot be calculated if there is a defect or at the end of the column, since all four wafer chips exist in recognition area A and can only be obtained if the wafer chip is of good shape. , In such a case, the previously detected (C', Px, P, is used.

しかして、上記の動作を全認識終了を判断するまで繰り
返し行い、その都度、同時認識する4個のウェハチップ
に対し例えば1個のウェハチップを実装するようにして
いるため、不良がはなはだしい部分に認識エリアがさし
かかった場合やウェハ端部においても、既に前回までの
認識において良品と判断されたウェハチップ(その位置
がダイボンダコントローラ4内のバッファに蓄えられて
いる。)の実装を行え、実装タクトを乱すことなく作業
を進めることができる。
However, the above operation is repeated until it is determined that all recognition has been completed, and each time, for example, one wafer chip is mounted for the four wafer chips that are recognized simultaneously. Even when the recognition area is approaching or at the edge of the wafer, wafer chips that have already been determined to be good in the previous recognition (their positions are stored in the buffer in the die bonder controller 4) can be mounted, reducing the mounting tact time. You can proceed with your work without disturbing the environment.

なお、実際の認識においては上記の位置を示すデータの
他に、 ■形状良品チップ ■バッドマークチップ ■形状良品チップ ■チップ無し といったウェハチップの状態を検出するようにしている
。なお、上記のバッドマークとは電気的な特性に異常が
あるウェハチップに付されたマークである。
In the actual recognition, in addition to the data indicating the above-mentioned position, the state of the wafer chip is detected, such as: (1) chip in good shape, (2) bad mark chip, (2) chip in good shape, and (2) no chip. Note that the above-mentioned bad mark is a mark attached to a wafer chip with abnormal electrical characteristics.

次に、第5図は列#Ft識終了を判断する方法を示した
ものであり、第5図(イ)の(2)のように認識エリア
A内に2個以上のウェハチップが形状不良であるかチッ
プ無しである場合と、(lVlのように認識エリアA内
のウェハチップが4個とも無い場合が連続した際に列認
識終了と判断するようにしている。なお、第5図(ロ)
はそのフローチャートであり、ステップ105において
認識エリアA内において2個以上のウェハチップが形状
不良であるかチップ無しであるかを判断し、ステップ1
0Bにおいて次のEFt 識エリア内のウェハチップが
4個とも無いかどうかを判断し、両者が満たされた場合
にステップ107において列認識終了と判断するように
している。
Next, FIG. 5 shows a method for determining whether column #Ft recognition has been completed. As shown in (2) of FIG. It is determined that the row recognition is complete when there are consecutive cases where there are no chips or no chips in the recognition area A, and when there are consecutive cases where there are no four wafer chips in the recognition area A as shown in (lVl). B)
is a flowchart, in which it is determined in step 105 whether two or more wafer chips have defective shapes or no chips in recognition area A, and step 1
At 0B, it is determined whether all four wafer chips are present in the next EFt recognition area, and if both conditions are satisfied, it is determined at step 107 that the row recognition is complete.

また、第6図は全認識終了を判断する方法を示したもの
であり、第6図(イ)の叫→Mのように、列認識が行わ
れた(2)の後に認識エリアA内のウェハチップが4個
とも無い状態を2回連続して検出した場合に全認識終了
と判断するようにしている。なお、第6図(ロ)はその
フローチャートであり、ステップ108において列認識
終了の後に認識エリアA内のウェハチップが4個とも無
い状態を2回連続して検出したかどうかを判断し、結果
がYESであればステップ109において全認識終了と
判断するようにしている。
In addition, Figure 6 shows a method for determining when all recognition has been completed, and as shown in Figure 6 (a), as shown in "Scream → M", after column recognition has been performed (2), there is a When a state in which all four wafer chips are missing is detected twice in a row, it is determined that all recognition has been completed. In addition, FIG. 6(B) is a flowchart of the process, and in step 108, after the end of row recognition, it is determined whether or not a state in which all four wafer chips in recognition area A are missing is detected twice in a row, and the result is determined. If the result is YES, it is determined in step 109 that all recognition has been completed.

しかして、本発明では複数のウェハチップを同時に認識
するようにしているので、上記のようにウェハの端部の
特徴を検出することが容易であり、列認識終了、全認識
終了に要する認識の回数が少なくでき、実装タクトに与
丸る影響を更に小さくすることができる。
However, since the present invention recognizes multiple wafer chips at the same time, it is easy to detect the characteristics of the edge of the wafer as described above, and the recognition required to complete row recognition and all recognition is easy. The number of times can be reduced, and the influence on the mounting tact can be further reduced.

(発明の効果) 以上のように本発明にあっては、視覚iFj RLIに
よりウェハチップの欠け2割れ等の形状判定、電気的な
不良を示すバッドマークの検出、および良品チップの位
置情報の検出を行うウェハチップの検出方法において、
1回の視覚検出において複数個のウェハチップを同時に
1つの認識エリア内に取り込み、認識エリア内での=R
atエリアセンタを基準とした複数個のウェハチップの
位置関係とウェハチップ間のピッチとを検出し、次の複
数個のウェハチップの認識位置を算出し、認識位置の補
正を行いつつ認識位置を移動して検出を行うようにして
いるので、(イ〕ウェハチップの引き延ばし率のばらつ
きやウェハリングをXY子テーブル固定する際の傾きを
自動補正し、実際の配列に追従した認識が可能となり、
従来のようなオペレータの介在を不要とすることができ
る。
(Effects of the Invention) As described above, in the present invention, visual iFj RLI can be used to determine the shape of a wafer chip, such as chipping and cracking, detecting a bad mark indicating an electrical defect, and detecting the position information of a good chip. In a wafer chip detection method that performs
In one visual detection, multiple wafer chips are taken into one recognition area at the same time, and =R within the recognition area.
Detects the positional relationship of multiple wafer chips and the pitch between wafer chips based on the AT area center, calculates the recognition position of the next multiple wafer chips, and corrects the recognition position while adjusting the recognition position. Since the detection is performed while moving, (a) it automatically corrects variations in the stretching rate of the wafer chips and the inclination when fixing the wafer ring to the XY child table, making it possible to perform recognition that follows the actual arrangement.
It is possible to eliminate the need for operator intervention as in the conventional case.

(ロ)1チツプ認識・1チツプ実装ではなく、その都度
実装するウェハチップの数よりも多い数のウェハチップ
を先行認識するため、不良品が連続しても実装タクトを
乱すことがない。
(b) Instead of one-chip recognition/one-chip mounting, the number of wafer chips greater than the number of wafer chips to be mounted each time is recognized in advance, so even if defective products occur consecutively, the mounting tact is not disturbed.

(ハ)複数のウェハチップを同時に認識するため、ウェ
ハ端部の特徴を検出することが容易であり、列認識終了
、全認識終了に要する認識の回数が少なくでき、実装タ
クトに与える影響を小さくすることができる。
(c) Since multiple wafer chips are recognized at the same time, it is easy to detect the characteristics of the wafer edge, and the number of recognitions required to complete row recognition and all recognition can be reduced, reducing the impact on mounting tact. can do.

等の効果がある。There are other effects.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明のウェハチップの検出方法を具体化した
システムの構成図、第2図は認識および実装の工程を示
すフローチャート、第3図は認識エリアの設定の様子を
示す図、第4図は認識エリア内の各ウェハチップの位置
関係を示す図、第5図は列認識終了を判断する方法の説
明図、第6図は全5lit m終了を判断する方法の説
明図、第7図および第8図はウェハチップの説明図、第
9図は従来の検出方法lζおける認識および実装の工程
を示すフローチャート、第10図はその認識エリアの設
定の様子を示す図、第11図は列認識終了を判断する従
来の方法の説明図、第12図は全認識終了を判断する従
来の方法の説明図である。 1 ・ ITVカメラ、2・・・認識装置、3・・・通
信回線、4・・・・・・ダイボンダコントローラ、II
、 lla、 llb、 lie、 11+(・・・・
・・ウェハチップ、14・・・・ウェハリング、15・
・・・・XY子テーブルA・・・ 鼾g群比エ リ ア
Fig. 1 is a block diagram of a system embodying the wafer chip detection method of the present invention, Fig. 2 is a flowchart showing the recognition and mounting process, Fig. 3 is a diagram showing how the recognition area is set, and Fig. 4 is a diagram showing the setting of the recognition area. The figure shows the positional relationship of each wafer chip within the recognition area, Figure 5 is an explanatory diagram of the method for determining the end of row recognition, Figure 6 is an explanatory diagram of the method for determining the end of all 5 liters, and Figure 7 8 is an explanatory diagram of a wafer chip, FIG. 9 is a flowchart showing the recognition and mounting process in the conventional detection method lζ, FIG. 10 is a diagram showing how the recognition area is set, and FIG. 11 is a column FIG. 12 is an explanatory diagram of a conventional method for determining whether recognition has been completed. FIG. 12 is an explanatory diagram of a conventional method for determining whether all recognition has been completed. 1. ITV camera, 2... recognition device, 3... communication line, 4... die bonder controller, II
, lla, llb, lie, 11+(...
...Wafer chip, 14...Wafer ring, 15.
...XY child table A... snoring group ratio area

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 視覚認識によりウェハチップの欠け、割れ等の形状判定
、電気的な不良を示すバッドマークの検出、および良品
チップの位置情報の検出を行うウェハチップの検出方法
において、1回の視覚検出において複数個のウェハチッ
プを同時に1つの認識エリア内に取り込み、認識エリア
内での認識エリアセンタを基準とした複数個のウェハチ
ップの位置関係とウェハチップ間のピッチとを検出し、
次の複数個のウェハチップの認識位置を算出し、認識位
置の補正を行いつつ認識位置を移動して検出を行うこと
を特徴としたウェハチップの検出方法。
In a wafer chip detection method that uses visual recognition to determine the shape of chips, cracks, etc. on wafer chips, detect bad marks that indicate electrical defects, and detect position information of good chips, multiple chips are detected in one visual detection. wafer chips are simultaneously taken into one recognition area, and the positional relationship of the plurality of wafer chips with reference to the recognition area center within the recognition area and the pitch between the wafer chips are detected,
A method for detecting wafer chips characterized by calculating the recognition positions of the next plurality of wafer chips and performing detection by moving the recognition positions while correcting the recognition positions.
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0412549A (en) * 1990-05-01 1992-01-17 Rohm Co Ltd Semiconductor pellet pick up device
JP2003028812A (en) * 2001-07-17 2003-01-29 Shimadzu Corp Radioscopic apparatus
JP2006128231A (en) * 2004-10-27 2006-05-18 Nidec Tosok Corp Bonding equipment
JP2009016455A (en) * 2007-07-02 2009-01-22 Nec Corp Substrate position detecting device and substrate position detecting method
JP4919240B2 (en) * 2010-04-13 2012-04-18 パイオニア株式会社 Parts transfer apparatus and method
WO2012132273A1 (en) * 2011-03-25 2012-10-04 東レエンジニアリング株式会社 Exterior inspection method and device for same
WO2014143598A1 (en) * 2013-03-12 2014-09-18 Microchip Technology Incorporated Wafer mapping process control with indicator line
JP2017050327A (en) * 2015-08-31 2017-03-09 ファスフォードテクノロジ株式会社 Die bonder, bonding method, and method of manufacturing semiconductor device

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0412549A (en) * 1990-05-01 1992-01-17 Rohm Co Ltd Semiconductor pellet pick up device
JP2526301B2 (en) * 1990-05-01 1996-08-21 ローム株式会社 Pickup device for semiconductor pellets
JP2003028812A (en) * 2001-07-17 2003-01-29 Shimadzu Corp Radioscopic apparatus
JP2006128231A (en) * 2004-10-27 2006-05-18 Nidec Tosok Corp Bonding equipment
JP4490786B2 (en) * 2004-10-27 2010-06-30 日本電産トーソク株式会社 Bonding equipment
JP2009016455A (en) * 2007-07-02 2009-01-22 Nec Corp Substrate position detecting device and substrate position detecting method
JP4919240B2 (en) * 2010-04-13 2012-04-18 パイオニア株式会社 Parts transfer apparatus and method
WO2012132273A1 (en) * 2011-03-25 2012-10-04 東レエンジニアリング株式会社 Exterior inspection method and device for same
CN103460029A (en) * 2011-03-25 2013-12-18 东丽工程株式会社 Exterior inspection method and device for same
JP5917492B2 (en) * 2011-03-25 2016-05-18 東レエンジニアリング株式会社 Appearance inspection method and apparatus
WO2014143598A1 (en) * 2013-03-12 2014-09-18 Microchip Technology Incorporated Wafer mapping process control with indicator line
CN105009269A (en) * 2013-03-12 2015-10-28 密克罗奇普技术公司 Wafer mapping process control with indicator line
TWI645486B (en) * 2013-03-12 2018-12-21 微晶片科技公司 Wafer mapping process control with indicator line
JP2017050327A (en) * 2015-08-31 2017-03-09 ファスフォードテクノロジ株式会社 Die bonder, bonding method, and method of manufacturing semiconductor device

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