JPS63231251A - 電子スピン共鳴装置 - Google Patents

電子スピン共鳴装置

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JPS63231251A
JPS63231251A JP62063776A JP6377687A JPS63231251A JP S63231251 A JPS63231251 A JP S63231251A JP 62063776 A JP62063776 A JP 62063776A JP 6377687 A JP6377687 A JP 6377687A JP S63231251 A JPS63231251 A JP S63231251A
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JP
Japan
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sample
light
electron spin
spin resonance
electromotive force
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Pending
Application number
JP62063776A
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English (en)
Inventor
Yusuke Yajima
裕介 矢島
Kanji Tsujii
辻井 完次
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R33/00Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
    • G01R33/20Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance
    • G01R33/60Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance using electron paramagnetic resonance

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、微小領域測定を行うのに好適な電子スピン共
鳴(以下、ESRと略称する)装置に係り、特に、薄膜
状の半導体材料や半導体ウェハーについて、特定の欠陥
の面分布を非破壊で評価するのに好適なESR装置に関
する。
〔従来の技術〕
通常のESR装置では、試料を空洞共振器内に設置する
ため、得られる信号においては、試料全一体からの寄与
が、試料各部のマイクロ波磁場のエネルギーを重みとし
て平均化されている。試料の特定の部分からの信号を得
る方法としては、例えばrEsRによる半導体の評価」
(日本電子資料)にあるように、空洞共振器の側壁にし
ぼり孔をあけ、空洞共振器の外側側面に設置したウェハ
ー状試料のうち、しぼり孔に対向した部分のみからの信
号を得ることが、従来行われている。この方法は、ウェ
ハー試料を移動する機構を並設して、例えば磁気バブル
メモリ材料の磁化や易動度の面分布の評価などに用いら
れている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記従来技術においては、面分布測定の位置分解能は、
上記しぼり孔の大きさにより規定される。
このしぼり孔の径は、使用するマイクロ波がx帯(9,
5GHz)である場合は5〜10IIIm程度であり、
これより径を小さくすると、しぼり孔を通って空洞共振
器の外側の試料まで到達するマイクロ波は著しく弱くな
り、実用的検出検度は得られない、したがって、上記従
来技術の位置分解能は数I程度であり、構造がミクロン
単位であるLSI材料においては、充分な微小部評価が
行えない。
本発明の目的は、ESR測定の位置分解能を、ミクロン
オーダーにまで向上し得るESR装置を提供することに
ある。
〔問題点を解決するための手段〕
上記目的は、試料に集束した光ビームを照射し、その部
分で発生する光誘起起電力のESR吸収による変化を検
出することによって達成される。
〔作用〕
上記光ビームの径は、原理的には1μm以下まで集束さ
せることができる。そのため、特定の欠陥に由来するE
SR吸収を、上記光ビーム照射に伴う光誘起起電力の変
化として検出すれば、光照射位置を試料上で移動させる
ことにより、その欠陥の面分布を1ミクロンオーダーで
評価できる。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。第1
図には、上記実施例の主要部の構成図と、そこに接続さ
れた電子機器のブロック図が示されている。第1111
において、空洞共振器lは導波管2を経て図においては
省略されている電子スピン共鳴(E S R)スペクト
ロメータにつながれている。空洞共振器1内部には、光
透過電極3および電極兼試料支持台4の間に設置した試
料5を固定できるようになっている。また、空洞共振器
1側面には、外部より光透過電極3を通して試料5に集
束した光ビーム6が照射できるように、光照射窓7があ
けである。この、集束した光ビーム6を供給するための
機構は、図においては省略されている。光照射窓7には
、その開口面積を大きくしてもマイクロ波の損失が問題
とならないよう、空洞共振器1の壁面に流れるマイクロ
波誘起電流の方向に金属細線8が適当な間隔で設置しで
ある。
空洞共振器1には図では省略されている磁石によ  ゛
り試料5に加わる外部磁場に変調を与えるための、変調
コイル9が取り付けである。発振器10で発生する同期
信号は、増幅器11の信号入力端子およびロックイン増
幅器12の参照信号入力端子に入力される。増幅器11
は上記周期信号に同期した交流成分を有する電流を変調
コイル9に供給し。
試料5には変調成分のある磁場が加わるようになってい
る。また、光透過電極3および電極兼試料支持台4に接
続した引き出し線13は、上記ロックイン増幅器12の
信号入力端子につないである。
そして、このロックイン増幅器12の出力は、記録計ま
たはデータ処理装置14に入力される。
次に第2図により、本実施例における試料設置方法を説
明する0本実施例においては、光透過電極3として高純
度石英薄板にネサ膜を蒸着したものを用いている。もち
ろん、光透過性、マイクロ波透過性、導電性が充分であ
れば、光透過電極として他の材料を用いることもできる
。また、電極兼試料支持台4には、高純度石英基板に無
酸素鋼。
銀などの金属を蒸着したものを用いている。ここで、蒸
着部分のうち空洞共振器1内部に入る領域は、スリット
状の無蒸着部分15により隔てられた、くしの歯状構造
を成している。この構造は、蒸着部分におけるマイクロ
波の損失を低減するのに有効である。マイクロ波透過性
が良好で、しかも適度な導電性がある他の材料も、この
電極兼試料支持台4として使用可能であることは言うま
でもない。試料5は、第2図においては省略されている
機構により、光透過電極3と電極兼試料支持台4との間
に固定される。この際、第2図においては省略されてい
る機構によって、光透過電極3と試料5との間には0.
1 膿程度め空隙が保てるようになっている。
次に第3図により、本実施例の動作原理を説明する6簡
単のために、試料5の内部には、欠陥A(丸印)、およ
び欠陥B(三角印)の2種の欠陥のみが存在するとする
。これらの欠陥の分布が、試料5内部で均一ではなく、
欠陥Aは領域2よりも領域1に多く存在し、逆に欠陥B
は領域1よりも領域2に多く存在しているとする。欠陥
A、大欠陥のESR共鳴磁場がそれぞれHa 、Hbで
あるなら、試料5のESRスペクトルにはHa、 Hb
の位置に、それぞれ欠陥A、大欠陥に対応するピークが
現われる。ここでもしも、試料5の限られた部分でのE
SRスペクトルを選択的に測定できたとすると、各ピー
クの高さは、欠陥分布の不均一性のために、′a定を行
う場所によって変化する。
すなわち、欠陥Aに対応するESR共鳴磁場H&におけ
るピークは、領域2よりも領域1において大きくなり、
逆に欠陥Bに対応するESR共鳴磁場H,、におけるピ
ークは、領域1よりも領域2において大きくなる。した
がって、領域1.領域2におけるESR信号は、第3図
におけるそれぞれグラフ1.グラフ2のようになる。試
料5が半導体材料の場合には、これにバンド間遷移エネ
ルギーよりも高エネルギーの光を照射すると照射部にキ
ャリアが生成する。このキャリアは欠陥部分で再結合す
るが、この再結合の確率は欠陥部分の孤立電子のスピン
状態に依存している。したがって。
上記キャリアの濃度は、光照射部分に存在する欠陥にお
いて電子スピン共鳴が起こっているか否かで変化する。
光誘起起電力は、光照射により生成するキャリアの濃度
に依存するから、磁場を電子スピン共鳴条件が大きく変
化する範囲(第3図のグラフ1.グラフ2における斜線
部分)で変調した場合に、その変調に同期した光誘起起
電力の変化(第3図においてはグラフ1およびグラフ2
において光誘起起電力信号として示した)が最大となる
。このような原理により、本実施例においては光照射部
分のみでの電子スピン共鳴を選択的に抽出できる。本実
施例では、第1図においては省略されている。光を集束
するための機構、および、この集束光の試料5上での照
射位置を移動、調整するための機構によって、径1μm
程度の光ビーム6を0.1  μm程度の位置分解能で
試料5上を移動走査できる。この機構により試料5上で
光ビーム6を走査して得た信号を第4図に示す。第4図
のグラフにおいて実線は、第3図における欠陥Aに起因
するESR信号の変化が最大になる範囲での磁場変調(
第3図のグラフ1.グラフ2におけるδH& 、δH&
’  の範囲での磁場変調)を行って、光照射位置を走
査した場合に得られる光誘起起電力信号であり、破線は
、欠陥Bに起因するESR信号の変化が最大になる範囲
での磁場変調(第3図のグラフ1.グラフ2におけるδ
Hb。
δHb ’  の範囲での磁場変調)を行って、上の場
合と同じ経路で光照射位置を走査した場合に得られる光
誘起起電力信号である。前述した理由により、第4図の
実線は、光照射経路にそった欠陥Aの分布を表わしてお
り、破線は同じ経路にそった欠陥Bの分布を示している
。以上述べたように、本実施例によれば、試料5中の特
定の欠陥について、その分布をミクロンオーダーの位置
分解能で評価することができる。
本実施例においては、空洞共振器1としては円筒型を用
いており、内部でのマイクロ波のモードはTEozzに
なっている。このモードでは試料5を円筒中央部に設置
した場合に、試料5中での観測位置が、円筒軸方向に円
筒の高さく第1図においてはLとして示した)の1/1
0移動すると。
観測位置でのマイクロ波磁場のエネルギー密度が10%
程度変動する。したがって、欠陥密度や照射光量が同一
であっても、得られる信号の強度はこの程度の範囲で変
動することになる。移動距離が1/3oになれば上記の
変動は1%以内とすることが可能である。これらの範囲
内での信号強度変動が無視できない場合、あるいはさら
に広い範囲で欠陥分布を測定したい場合には、得られる
信号を上記マイクロ波磁場のエネルギー密度で補正する
必要がある。このような考慮は、空洞共振器1の形状や
使用するマイクロ波のモードが本実施例とは異なる場合
においても必要なことは、もちろんである。
また、本実施例においては、試料5を空洞共振器1の部
分に設置しているが、空洞共振器1の側面にしぼり孔を
設け、そこから外部に出るマイクロ波を、本実施例の場
合と類似した構造を持つ電極および支持台中に固定して
上記しぼり孔に空洞共振器1の外側から対向設置した試
料5に供給することによっても、本実施例の場合の同様
な効果が得られる。この方法は本実施例の場合に比べて
、測定や試料交換の容易さにおいて優れているが、測定
感度は若干劣る。
次に、本発明の別の実施例を、第5図(a)。
(b)により説明する。この実施例においては。
マイクロ波は第5図(a)、(b)においては省略され
ているマイクロ波供給装置より導波管2を経て、第5図
(a)、(b)では省略されている磁石の磁極間に設置
されている電磁ホーン16より自由空間に出る。この電
磁ホーン16の出口部分には、光透過電極3とスリット
状の無蒸着部分15を有する電極兼試料支持台4との間
に設置した試料5を固定し、その付近には試料5に加わ
る磁場に変調を与えるための変調コイル9が配置しであ
る。光透過電極3.電極兼試料支持台4部分の材質や構
造は、第2図で説明した実施例の場合とほぼ同一である
。異なる点は、本実施例においては、径数インチの半導
体ウェハーサイズの大きな試料までそのまま判定できる
という点である。
両電極3および4、また変調コイルに付随する電子機器
およびそれらの接続方法また、光ビーム6の集束方法、
光照射位置の移動、調整機構などは、第1図により説明
した実施例の場合と同様である。
第5図(a)、(b)に示した実施例の場合には。
第1図における実施例とは異なり、試料5におけるマイ
クロ波の吸収量を測定するという、通常の電子スピン共
鳴の検出法を適用することは困難である。しかし、光誘
起起電力信号のみで電子スピン共鳴を検出する場合には
、自由空間において試料5に光ビーム6を照射できるた
め、操作性の点で第1図により説明した実施例よりも優
れている。
以上説明した実施例では、いずれにおいても試料5に測
定のための加工をする必要がなく、測定のために外部よ
り試料5に加えるプローブも光。
磁場、マイクロ波といった電磁波のみであるため。
本発明になる装置は、本質的に非破壊評価手段である。
また、試料5を真空室に入れる必要がないという利点も
ある。
〔発明の効果〕
以上述べたように2本発明によれば、特に半導体材料な
どの面状試料において、特定の欠陥を識別し、その面分
布を試料を破壊することなく、ミクロンオーダーの位置
分解能で知ることができる6
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の主要部の構成図、第2図は
第1図の一部をさらに詳しく説明するための図、第3図
は本発明の動作原理を説明するための図、第4図は本発
明の詳細な説明するための図、第5図(a)、(b)は
本発明の別の実施例の主要部の構成図である。 1・・・空洞共振器、2・・・導波管、3・・・光透過
電極、4・・・電極兼試料支持台、5・・・試料、6・
・・光ビーム、7・・・光透過窓、8・・・金属細線、
9・・・変調コイル。 10・・・発振器、11・・・増幅器、12・・・ロッ
クイン増幅器、13・・・引き出し線、14・・・記録
計またはデータ処理装置、15・・・スリット状の無蒸
着部分、16・・・電磁ホーン。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、空洞共振器と、磁石と、電子スピン共鳴スペクトロ
    メータとより成る電子スピン共鳴装置において、上記空
    洞共振器の側壁に設けたしぼり孔の外側、あるいは上記
    空洞共振器の内部に設置した試料に光を照射する手段と
    、上記光照射により上記試料中に発生する光誘起電位を
    上記光照射を阻害することなく検出する手段とを設けた
    ことを特徴とする電子スピン共鳴装置。 2、上記光を集束するための機構と上記集束光の上記試
    料に対する照射位置を移動、調整するための機構とをさ
    らに付設することにより、上記試料中の限られた領域に
    光を照射し、上記光照射領域を移動させた時の光誘起起
    電力の変化を測定することを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載の電子スピン共鳴装置。 3、磁石と、上記磁石の磁極間に設置した試料にマイク
    ロ波を供給する機構と、マイクロ波透過電極と光透過電
    極との間に上記試料を保持するための機構と、上記試料
    に上記光透過電極を通して光を照射する機構と、上記マ
    イクロ波透過電極と上記光透過電極から上記試料に上記
    光照射を行つた時に発生する光誘起起電力を検出する機
    構と、上記試料に加わる磁場を変調する機構と、上記光
    誘起起電力のうち上記磁場変調に同期した成分を抽出す
    る機構とを備え、上記試料における電子スピン共鳴を光
    誘起起電力の変化として検出することを特徴とする電子
    スピン共鳴装置。 4、上記光を集束する機構と、上記集束光の試料照射位
    置を移動調整するための機構とを付設することにより、
    上記試料内の微小部分における電子スピン共鳴信号を検
    出し、かつその信号の上記試料内での分布を測定するこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の電子スピン
    共鳴装置。
JP62063776A 1987-03-20 1987-03-20 電子スピン共鳴装置 Pending JPS63231251A (ja)

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