JPS63230290A - レ−ザスキヤナ装置 - Google Patents
レ−ザスキヤナ装置Info
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- JPS63230290A JPS63230290A JP62063455A JP6345587A JPS63230290A JP S63230290 A JPS63230290 A JP S63230290A JP 62063455 A JP62063455 A JP 62063455A JP 6345587 A JP6345587 A JP 6345587A JP S63230290 A JPS63230290 A JP S63230290A
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Landscapes
- Lasers (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はレーザスキャナ装置に係り、特に環境温度およ
び使用による本体の温度の変化に伴う加工位置の位置ず
れの防止機能に関する。
び使用による本体の温度の変化に伴う加工位置の位置ず
れの防止機能に関する。
[従来技術およびその問題点]
半導体技術の進歩に伴い、素子の微細化は進む一方であ
り、微細加工技術への要求が高くなっている。
り、微細加工技術への要求が高くなっている。
なかでも、レーザ加工は、従来用いられてきた1械的加
工、電子的加工、科学的加工等に比べて、高い出力パワ
ー密度を得ることができること、非接触加工であるため
、加工l1iT後のひずみ、変形等を最小限に抑えるこ
とができること、細部への局所的加工が容易であること
等の優れた特徴を有しており、微細部分のマーキング、
厚膜、あるいは薄膜抵抗のトリミング、半導体のアニー
リング等に広く利用され始めている。
工、電子的加工、科学的加工等に比べて、高い出力パワ
ー密度を得ることができること、非接触加工であるため
、加工l1iT後のひずみ、変形等を最小限に抑えるこ
とができること、細部への局所的加工が容易であること
等の優れた特徴を有しており、微細部分のマーキング、
厚膜、あるいは薄膜抵抗のトリミング、半導体のアニー
リング等に広く利用され始めている。
このようなレーザ加工工程においては、レーザビームの
位置制御が小型なポイントであり、通常、ミラーを駆動
することにより、位置11す御を行なうようにしたレー
ザ用スキャナ(以下レーザスキャナ)が用いられている
。
位置制御が小型なポイントであり、通常、ミラーを駆動
することにより、位置11す御を行なうようにしたレー
ザ用スキャナ(以下レーザスキャナ)が用いられている
。
このレーザスキャナは、例えば第4図に示す如く、位置
センサ102をfA、備しており、この位置センサによ
って検出された位置データに基づき、ミラー110をマ
グネチックドライバー109によって駆動し、レーザビ
ームの照射位置を制御する装置である。
センサ102をfA、備しており、この位置センサによ
って検出された位置データに基づき、ミラー110をマ
グネチックドライバー109によって駆動し、レーザビ
ームの照射位置を制御する装置である。
′ここでは、スキャナ軸の正確な位置制御を青るために
、厳しい条件が必要とされる。特に、工場レベルでの実
際のレーザ照射には温度変位による検出位置の位置ずれ
を防ぐため特に温度特性の安定化が要求される。これは
、実験室レベルでは到底想象もつかないような環境条件
下での動作が要求されるためである。
、厳しい条件が必要とされる。特に、工場レベルでの実
際のレーザ照射には温度変位による検出位置の位置ずれ
を防ぐため特に温度特性の安定化が要求される。これは
、実験室レベルでは到底想象もつかないような環境条件
下での動作が要求されるためである。
そこで温度特性の安定化のために、例えば、ゼネラルス
キャニング社(米)製のレーザスキャナでは第5図に示
す如くスキセナ本体101の位置センサ2の周りにヒー
タHを設け、このヒータに接続された電源系での温度コ
ントロールによって常に40℃程度に位置センサ部を加
熱保温するという方法が用いられている。第6図は、こ
のヒータを設けた加熱保温タイプのレーザスキャナaと
ヒータを設けない標準タイプのレーザスキャナbとの温
度と時間の関係を示す。この図からもわかるように、こ
の加熱保温タイプのレーザスキャナは、標準タイプのレ
ーザスキャナに比べて温度の安定化をはかることができ
るが、 ■ ランニングタイムが長い(30分)。
キャニング社(米)製のレーザスキャナでは第5図に示
す如くスキセナ本体101の位置センサ2の周りにヒー
タHを設け、このヒータに接続された電源系での温度コ
ントロールによって常に40℃程度に位置センサ部を加
熱保温するという方法が用いられている。第6図は、こ
のヒータを設けた加熱保温タイプのレーザスキャナaと
ヒータを設けない標準タイプのレーザスキャナbとの温
度と時間の関係を示す。この図からもわかるように、こ
の加熱保温タイプのレーザスキャナは、標準タイプのレ
ーザスキャナに比べて温度の安定化をはかることができ
るが、 ■ ランニングタイムが長い(30分)。
■ 使用環境温度が10〜28°Cに限られる。
■ ■■により一般工業用としては環境、設備等に問題
がある。
がある。
■ 電源系での温度コントロールであるから完全にドリ
フトを押えることができない。
フトを押えることができない。
等の問題を有していた。
そこで、本発明名は、位置センサの検出信号に基づいて
作動せしめられるようにした駆動手段によってミラーを
回動ゼしめレーザビーム照射位置(走査方向)を制御す
るレーザスキャナ装置において、前記位置センサの近傍
に配設されたスキャナ温度センサと、スキャナ雰囲気す
なわち環境温度を検出する環境温度検出手段を設(ブ、
環境温度と位置センサ部の温度とを常に比較し、この比
較結果に応じて加熱冷却手段を駆動しこれにより位置セ
ンサ部を加熱又は冷却し、位置センサ部の温度を常に一
定に保つように構成したレーザスキャナ装置を提案して
いる(特願61−192541号)。
作動せしめられるようにした駆動手段によってミラーを
回動ゼしめレーザビーム照射位置(走査方向)を制御す
るレーザスキャナ装置において、前記位置センサの近傍
に配設されたスキャナ温度センサと、スキャナ雰囲気す
なわち環境温度を検出する環境温度検出手段を設(ブ、
環境温度と位置センサ部の温度とを常に比較し、この比
較結果に応じて加熱冷却手段を駆動しこれにより位置セ
ンサ部を加熱又は冷却し、位置センサ部の温度を常に一
定に保つように構成したレーザスキャナ装置を提案して
いる(特願61−192541号)。
本発明は、スキセナ温度の変化に対しても温度ドリフト
を生じることなく、スキャナ軸の位置制御を更に高精度
化することのできるレーザスキャナ装置を提供すること
を目的とする。
を生じることなく、スキャナ軸の位置制御を更に高精度
化することのできるレーザスキャナ装置を提供すること
を目的とする。
[問題点を解決するための手段]
そこで本発明では、位置センサの検出信号に基づいて作
動せしめられる駆動手段によってミラーを回動せしめレ
ーザビーム照射位置(走査方向)を制御するレーザスキ
ャナ装置に6いて、位置センサ部をバイポーラ電源で駆
動される熱電素子の一端側に熱接触せしめると共に、該
熱電素子の他端側をレーザヘッド冷却水をバイパスさせ
てなる水冷ブロックに接触せしめる一方、前記位置セン
サの近傍に配設されたスキャナ温度センサの温度と、基
準温度設定手段の設定値とを比較し、この比較結果に応
じて前記バイポーラ電源を駆動しこれにより位置センサ
部を前記熱電素子によって加熱又は冷却し、位置センサ
部の温度を調整するように構成している。
動せしめられる駆動手段によってミラーを回動せしめレ
ーザビーム照射位置(走査方向)を制御するレーザスキ
ャナ装置に6いて、位置センサ部をバイポーラ電源で駆
動される熱電素子の一端側に熱接触せしめると共に、該
熱電素子の他端側をレーザヘッド冷却水をバイパスさせ
てなる水冷ブロックに接触せしめる一方、前記位置セン
サの近傍に配設されたスキャナ温度センサの温度と、基
準温度設定手段の設定値とを比較し、この比較結果に応
じて前記バイポーラ電源を駆動しこれにより位置センサ
部を前記熱電素子によって加熱又は冷却し、位置センサ
部の温度を調整するように構成している。
[作用]
すなわち本発明のレーザスキャナVIAによれば、位置
センサ部の温度を一定にするための力11熱冷却手段と
して、バイポーラ電源によって流れる電流の方向が自在
となるようにした熱電素子を用い、基準温度と位置セン
サ部の温度とを常に比較しつつこの比較結果に応じて加
熱冷却を行なうわけであるが、この熱電素子は他端側す
なわち、位置センサ部と接触しない側の排熱をレーザ冷
却水の1部をバイパスして利用する水冷ブロックによっ
て行なっている。
センサ部の温度を一定にするための力11熱冷却手段と
して、バイポーラ電源によって流れる電流の方向が自在
となるようにした熱電素子を用い、基準温度と位置セン
サ部の温度とを常に比較しつつこの比較結果に応じて加
熱冷却を行なうわけであるが、この熱電素子は他端側す
なわち、位置センサ部と接触しない側の排熱をレーザ冷
却水の1部をバイパスして利用する水冷ブロックによっ
て行なっている。
このレーザ冷却水は常に一定温度となるように温度管理
がなされており、この1部をそのまま利用すればよく、
コストも低い。また、このようにして熱電素子の二次排
熱を一定温度に管理された水冷ブロックで行なうように
しているため、加熱6甜両方向のゲインを一定に保つこ
とができ、制御性を高めることが可能である。
がなされており、この1部をそのまま利用すればよく、
コストも低い。また、このようにして熱電素子の二次排
熱を一定温度に管理された水冷ブロックで行なうように
しているため、加熱6甜両方向のゲインを一定に保つこ
とができ、制御性を高めることが可能である。
[実施例]
以下本発明の実施例について、図面を参照しつつ詳細に
説明する。
説明する。
第1図は、本発明実施例のレーザスキャナ装置を示す図
である。
である。
このレーザスキャナ装置は、X、Yスキャナ1゜2の温
度制御手段として夫々第1および第2のバイポーラ電源
3,4によって駆動される第1および第2の熱電素子5
,6を配設すると共に、これら熱電素子の二次排熱手段
としてレーザヘッド冷却水をバイパスして用いた第1お
よび第2の水冷熱交換ブロック7.8を用い、X、Yス
キャナの温度制御を行いつつ、XスキャナとYスキャナ
とによってミラー9を移動せしめ、レーザ発振器(図示
せず)からのレーザ光りを走査するようにしたものであ
る。ここで1oはF−eレンズである。
度制御手段として夫々第1および第2のバイポーラ電源
3,4によって駆動される第1および第2の熱電素子5
,6を配設すると共に、これら熱電素子の二次排熱手段
としてレーザヘッド冷却水をバイパスして用いた第1お
よび第2の水冷熱交換ブロック7.8を用い、X、Yス
キャナの温度制御を行いつつ、XスキャナとYスキャナ
とによってミラー9を移動せしめ、レーザ発振器(図示
せず)からのレーザ光りを走査するようにしたものであ
る。ここで1oはF−eレンズである。
そして、XスキャナおよびYスキャナは、夫々中央部に
プラチナセンサからなるXスキャナ温度センサ11およ
びYスキャナ温度センサ12を具備しており、これらの
センサの出力と、雰囲気温度を検出するプラチナセンサ
からなる雰囲気温度検出センサ13の出力とから、第2
図に示す如く、比較演算器14によって、夫々第1およ
び第2のバイポーラ電源3,4の出力電圧が決定され、
第1および第2の熱電素子5.6は、夫々Xスキャナ1
およびYスキャナ2を加熱または冷却する。
プラチナセンサからなるXスキャナ温度センサ11およ
びYスキャナ温度センサ12を具備しており、これらの
センサの出力と、雰囲気温度を検出するプラチナセンサ
からなる雰囲気温度検出センサ13の出力とから、第2
図に示す如く、比較演算器14によって、夫々第1およ
び第2のバイポーラ電源3,4の出力電圧が決定され、
第1および第2の熱電素子5.6は、夫々Xスキャナ1
およびYスキャナ2を加熱または冷却する。
また、雰囲気温度センサ13の出力は、必要に応じてホ
ールド値のクリア・リセットが可能なデータホールド回
路15を介して比較演算器に入力せしめられるようにな
っている。
ールド値のクリア・リセットが可能なデータホールド回
路15を介して比較演算器に入力せしめられるようにな
っている。
また、第1および第2の水冷熱交換ブロック7゜8には
、レーザヘッド冷却器16からレーザヘッド(図示せず
)±1°Cの精度で温度管理のなされた冷却水を送出す
る冷却管17がら絞り弁19を介して分校せしめられた
バイパス管19を介して、レーザヘッド冷却水が循環せ
しめられる。
、レーザヘッド冷却器16からレーザヘッド(図示せず
)±1°Cの精度で温度管理のなされた冷却水を送出す
る冷却管17がら絞り弁19を介して分校せしめられた
バイパス管19を介して、レーザヘッド冷却水が循環せ
しめられる。
次に、このレーザスキャナ装置の動作について説明する
。
。
Xスキャナ温度センサ11の出力は、データホールド回
路15によって、所定の値にホールドせしめられた雰囲
気温度センサ13の出力と比較演算器14において比較
演算せしめられ、第1のバイポーラ電源3の出力を決定
する。仮に、いま雰囲気温度が20℃で小−ルドゼしめ
られているとして、Xスキャナの温度センサ11の出力
が25℃であるとすると、比較波算器14からは△t=
20−25℃=−5°Cに比例した出力電圧△■が第1
のバイポーラ電源3に出力される。これにより第1の熱
電素子には順方向の電圧が印加されてXスキャナは冷却
せしめられ、Xスキャナ温度センサの出力が20°C(
△t=0)になるまで冷却が続行される。
路15によって、所定の値にホールドせしめられた雰囲
気温度センサ13の出力と比較演算器14において比較
演算せしめられ、第1のバイポーラ電源3の出力を決定
する。仮に、いま雰囲気温度が20℃で小−ルドゼしめ
られているとして、Xスキャナの温度センサ11の出力
が25℃であるとすると、比較波算器14からは△t=
20−25℃=−5°Cに比例した出力電圧△■が第1
のバイポーラ電源3に出力される。これにより第1の熱
電素子には順方向の電圧が印加されてXスキャナは冷却
せしめられ、Xスキャナ温度センサの出力が20°C(
△t=0)になるまで冷却が続行される。
一方、Xスキャナ温度センサの出力が20″Cよりも低
いときは、△Vの極性が反転され、第1の熱電素子には
逆方向の電圧が印加されて、Xスキャナは加熱される。
いときは、△Vの極性が反転され、第1の熱電素子には
逆方向の電圧が印加されて、Xスキャナは加熱される。
このようにしてXスキャナの温度は常にデータホールド
回路の出力温度に保持される。
回路の出力温度に保持される。
Yスキャナについても同様である。
このようにして、Xスキャナ、Yスキャナ共に制御性良
く一定温度に保持されるため、温度ドリフトもなく、極
めて位置精度の高いレーザスキャンが可能となる。第3
図は、このgL@における時間の経過(横軸)とX、Y
スキャナ温度a1.a2と雰囲気温度との関係を示す。
く一定温度に保持されるため、温度ドリフトもなく、極
めて位置精度の高いレーザスキャンが可能となる。第3
図は、このgL@における時間の経過(横軸)とX、Y
スキャナ温度a1.a2と雰囲気温度との関係を示す。
このように高精度に温度管理のなされたレーザヘッド冷
却液を利用して、第1および第2の熱電素子の2次排熱
を行なっているため、2次排熱側が常に、一定温度(レ
ーザヘッド冷却液の温度)に保持されることになり、加
熱、冷却両方向のゲインを一定に保つことが可能である
。
却液を利用して、第1および第2の熱電素子の2次排熱
を行なっているため、2次排熱側が常に、一定温度(レ
ーザヘッド冷却液の温度)に保持されることになり、加
熱、冷却両方向のゲインを一定に保つことが可能である
。
また、温度センサに、プラチナ温度センサを用いている
ため直線性が良く高粘度の温度検出が可能である。
ため直線性が良く高粘度の温度検出が可能である。
この装置によれば±30℃の雰囲気温度変化に対しても
±0.2℃の範囲内で制御することができ、第5図に示
した従来の加熱保温型のスギャナドリフト制御装置のド
リフトQが±300#以上だったのに対し、この装置で
は雰囲気温度が0〜60℃まで変化してもドリフト量は
±60−以下に抑えることができる。
±0.2℃の範囲内で制御することができ、第5図に示
した従来の加熱保温型のスギャナドリフト制御装置のド
リフトQが±300#以上だったのに対し、この装置で
は雰囲気温度が0〜60℃まで変化してもドリフト量は
±60−以下に抑えることができる。
また、温度偏差+3℃、−3℃に対するステップ応答性
を測定した結果を夫々第1表および第2表に示す。
を測定した結果を夫々第1表および第2表に示す。
第1表
第2表
この表からも明らかなように、温度偏差±3℃における
ステップ応答性は、スタートから30秒以内に設定温度
に対して±0.2℃以下に制谷0可能となる。ちなみに
、従来の装置では30分以上必要であった。
ステップ応答性は、スタートから30秒以内に設定温度
に対して±0.2℃以下に制谷0可能となる。ちなみに
、従来の装置では30分以上必要であった。
加えて、基準温度としての絶対温度への設定は、極めて
、大がかりな装置を必要としていたのに対し、このよう
に雰囲気温度を検出して、この値をデータホールド回路
によってホールドして基4F温度として用いることによ
り装置の簡略化をはかることができる。
、大がかりな装置を必要としていたのに対し、このよう
に雰囲気温度を検出して、この値をデータホールド回路
によってホールドして基4F温度として用いることによ
り装置の簡略化をはかることができる。
なお、実施例の、データホールド回路に代えて、定電圧
発生器を用いて絶対温度に設定するようにしてもよい。
発生器を用いて絶対温度に設定するようにしてもよい。
[発明の効果]
以上説明してきたように、本発明のレーザスキャナ装置
によれば、スキャナ位置センサ部をバイポーラ電源で駆
動される熱電素子の1端側に熱接触せしめると共に、該
熱電素子の他端側をレーザヘッド冷却水をバイパスせし
めて構成した水冷ブロックに熱接触せしめ、スキャナ温
度と基準温度とに基ずいてバイポーラ電源を駆動しスキ
ャナ位置センサ部を温度制卸するようにしているため、
スキャナ温度の変化に対してもスキャナ軸の位置制御を
極めて高精度化することが可能となる。
によれば、スキャナ位置センサ部をバイポーラ電源で駆
動される熱電素子の1端側に熱接触せしめると共に、該
熱電素子の他端側をレーザヘッド冷却水をバイパスせし
めて構成した水冷ブロックに熱接触せしめ、スキャナ温
度と基準温度とに基ずいてバイポーラ電源を駆動しスキ
ャナ位置センサ部を温度制卸するようにしているため、
スキャナ温度の変化に対してもスキャナ軸の位置制御を
極めて高精度化することが可能となる。
第1図は、本発明実施例のレーザスキャナ装置の構造説
明図、第2図は、同装置の処理回路を示す図、第3図は
、同装置の雰囲気温度とスキrす温度との関係を示す図
、第4図、第5図は従来例のレーザスキャナ装置を示す
図、第6図は、第4図および第5図で示したレーザスキ
ャナの時間と温度との関係を示す図である。 1・・・Xスキャナ、2・・・Yスキャナ、3・・・第
1のバイポーラ電源、4・・・第2のバイポーラ電源、
5・・・第1の熱電素子、6・・・第2の熱電素子、7
・・・第1の水冷熱交換ブロック、8・・・第2の水冷
熱交換ブロック、9・・・ミラー、10・・・F−θレ
ンズ、11・・・Xスキャナ温度センサ、12・・・Y
スキャナ温度センサ、13・・・雰囲気温度センサ、1
4・・・比較演算器、15・・・データホールド回路、
16・・・レーザヘッド冷却器、17・・・冷Ifl管
、18・・・絞り弁、19・・・バイパス管。 第4図
明図、第2図は、同装置の処理回路を示す図、第3図は
、同装置の雰囲気温度とスキrす温度との関係を示す図
、第4図、第5図は従来例のレーザスキャナ装置を示す
図、第6図は、第4図および第5図で示したレーザスキ
ャナの時間と温度との関係を示す図である。 1・・・Xスキャナ、2・・・Yスキャナ、3・・・第
1のバイポーラ電源、4・・・第2のバイポーラ電源、
5・・・第1の熱電素子、6・・・第2の熱電素子、7
・・・第1の水冷熱交換ブロック、8・・・第2の水冷
熱交換ブロック、9・・・ミラー、10・・・F−θレ
ンズ、11・・・Xスキャナ温度センサ、12・・・Y
スキャナ温度センサ、13・・・雰囲気温度センサ、1
4・・・比較演算器、15・・・データホールド回路、
16・・・レーザヘッド冷却器、17・・・冷Ifl管
、18・・・絞り弁、19・・・バイパス管。 第4図
Claims (2)
- (1)スキャナ位置センサの検出信号に基づいて作動せ
しめられる駆動手段によってミラーを回動せしめレーザ
ビーム照射位置(走査方向)を制御するレーザスキャナ
装置において、 前記スキャナ位置センサの近傍に配設されたスキャナ温
度センサと、 基準温度設定手段と、 前記スキャナ温度センサの出力と前記基準温度設定手段
の出力を比較する比較器と、 バイポーラ電源によって駆動され、前記スキャナ位置セ
ンサに一端側を熱接触せしめられると共に他端側をレー
ザヘッド冷却液をバイパスさせてなる水冷ブロックに熱
接触せしめられた熱電素子とを具え、 前記比較器の出力に基づいてバイポーラ電源を駆動する
ことにより、前記熱電素子を加熱又は冷却し、位置セン
サ部の温度を基準温度に、調整するようにしたとを特徴
とするレーザスキャナ装置。 - (2)前記基準温度設定手段は、スキャナの環境温度を
検出する環境温度センサと、この環境温度センサの出力
を保持および更新することの可能なデータホールド回路
を具備してなり、このデータホールド回路の出力を比較
器に入力するようにしたことを特徴とするレーザスキャ
ナ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62063455A JPS63230290A (ja) | 1987-03-18 | 1987-03-18 | レ−ザスキヤナ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62063455A JPS63230290A (ja) | 1987-03-18 | 1987-03-18 | レ−ザスキヤナ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63230290A true JPS63230290A (ja) | 1988-09-26 |
Family
ID=13229725
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62063455A Pending JPS63230290A (ja) | 1987-03-18 | 1987-03-18 | レ−ザスキヤナ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63230290A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008296258A (ja) * | 2007-05-31 | 2008-12-11 | Sunx Ltd | レーザ加工装置 |
JP2010029909A (ja) * | 2008-07-29 | 2010-02-12 | Tohoku Denshi Sangyo Kk | レーザマーキング装置、及びレーザマーキングシステム |
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1987
- 1987-03-18 JP JP62063455A patent/JPS63230290A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2008296258A (ja) * | 2007-05-31 | 2008-12-11 | Sunx Ltd | レーザ加工装置 |
JP2010029909A (ja) * | 2008-07-29 | 2010-02-12 | Tohoku Denshi Sangyo Kk | レーザマーキング装置、及びレーザマーキングシステム |
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