JPS63223428A - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JPS63223428A JPS63223428A JP5754387A JP5754387A JPS63223428A JP S63223428 A JPS63223428 A JP S63223428A JP 5754387 A JP5754387 A JP 5754387A JP 5754387 A JP5754387 A JP 5754387A JP S63223428 A JPS63223428 A JP S63223428A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating chamber
- lead wire
- chamber wall
- spiral
- spiral lead
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 42
- 235000013305 food Nutrition 0.000 claims abstract description 8
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Landscapes
- Electric Ovens (AREA)
- Electric Stoves And Ranges (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高周波エネルギーとシーズヒータによるふく射
熱を利用した複合加熱方式を採用したものにおいで、シ
ーズヒータ端末からの高周波エネルギー漏洩防止構造を
施した高周波加熱装置に関する。
熱を利用した複合加熱方式を採用したものにおいで、シ
ーズヒータ端末からの高周波エネルギー漏洩防止構造を
施した高周波加熱装置に関する。
従来の技術
高周波エネルギーを導入して食品な誘電加熱するための
加熱室内にシーズヒータを設けで、その端末部を加熱室
壁面を貫通させて取付け、高周波エネルギーの漏洩防止
用のチョーク室を有する、食品を外部加熱する複合加熱
方式を採用した高周被加熱装置が実開昭61−8869
0号公報等に見られる。
加熱室内にシーズヒータを設けで、その端末部を加熱室
壁面を貫通させて取付け、高周波エネルギーの漏洩防止
用のチョーク室を有する、食品を外部加熱する複合加熱
方式を採用した高周被加熱装置が実開昭61−8869
0号公報等に見られる。
発明が解決しようとする問題点
加熱室壁面を貫通して設けられたシーズヒータを有する
従来の方式ては、シーズヒータ端末部の加熱室壁面を貫
通ずる部分はシーズヒータが中心導体、加熱室壁面が外
部導体と見なせる同軸伝送線路を形成しているため、高
周波エネルギーか加熱室外部へ漏洩するため、これを防
止するためのチョークを構成する必要かあり、このチョ
ーク構造が実開昭61−88690号公報で示すように
複雑であるばかりか、十分なシール効果か得られないと
いう問題点があった。
従来の方式ては、シーズヒータ端末部の加熱室壁面を貫
通ずる部分はシーズヒータが中心導体、加熱室壁面が外
部導体と見なせる同軸伝送線路を形成しているため、高
周波エネルギーか加熱室外部へ漏洩するため、これを防
止するためのチョークを構成する必要かあり、このチョ
ーク構造が実開昭61−88690号公報で示すように
複雑であるばかりか、十分なシール効果か得られないと
いう問題点があった。
問題点を解決するだめの手段
本発明は、シーズヒータ端末部か加熱室壁面と貫通する
部分に構成される同軸伝送線路を、シーズヒータ内の螺
旋状ヒータ線と同形状の電気的良導体の螺旋状リード線
を接続し、この螺旋状リード線を加熱室壁面板厚部内を
貫通させ、かつ螺旋状リード線の直径をこの貫通部の穴
径の半分より大きく穴径より小さい寸法とし、螺旋状リ
ー1へ線の全体の展開寸法が使用波長的120+nmに
対し充分小さくすることにより除去したものである。
部分に構成される同軸伝送線路を、シーズヒータ内の螺
旋状ヒータ線と同形状の電気的良導体の螺旋状リード線
を接続し、この螺旋状リード線を加熱室壁面板厚部内を
貫通させ、かつ螺旋状リード線の直径をこの貫通部の穴
径の半分より大きく穴径より小さい寸法とし、螺旋状リ
ー1へ線の全体の展開寸法が使用波長的120+nmに
対し充分小さくすることにより除去したものである。
作 用
本発明においては、加熱室壁面とこれを貫通ずるシーズ
ヒータ内の螺旋状ヒータ線か同軸伝送線路を形成しない
ため、外部へ漏洩する高周波エネルギーが生じない。ま
た、加熱室板厚内の電気的良導体からなる螺旋状リード
線は、上記加熱室板厚内での温度上昇を低くする作用を
する。
ヒータ内の螺旋状ヒータ線か同軸伝送線路を形成しない
ため、外部へ漏洩する高周波エネルギーが生じない。ま
た、加熱室板厚内の電気的良導体からなる螺旋状リード
線は、上記加熱室板厚内での温度上昇を低くする作用を
する。
実施例
本発明の一実施例を施した高周波加熱装置の構成を図面
を用いて説明する。
を用いて説明する。
lは加熱室で金属板て構成され、高周波エネルギーを封
し込め、食品を誘電加熱するようになっている。加熱室
壁面2はこれを貫通してシーズヒータ3か設けられてお
り、食品を外部加熱するようになっている。加熱室壁面
2を貫通するシーズヒータ3端末部は、加熱室壁面板厚
部4内に位置するシーズヒータ3のリード線を抵抗損失
の少ない材料からなる良導体の螺旋状リード線5で形成
させ、シーズヒータ3内の螺旋状ヒータ線6と接続し、
この螺旋状リード線5の少なくとも一巻か、加熱室壁面
板厚部4内に位置し、螺旋状リード線5の直径をr、螺
旋状リード線5か貫通する加熱室壁面2の貫通穴径なR
としたとき、螺旋状リード&15の直径rかR/2<r
<Rで、加熱室壁面2内側より加熱室l外側に設けられ
た螺旋状リード線5の全体の寸法か、使用波長をん、螺
旋状リード線5の一巻の長さし、巻数をnとした時、n
L<入となるようにしで、シーズヒータ3を加熱室l内
に固着しである。シーズヒータ3は金属製の外被導体7
とこの内部に螺旋状ヒータ線6を有し、両者間には絶縁
体8か詰められ、螺旋状ヒータ線6の一端は電流を供給
するための電気的良導体て形成された螺旋状リード線5
か、螺旋状ヒータ線6と溶接等により接続され、螺旋状
リード!!5の一端には端子9か設けられた構造となっ
ている。なお螺旋状ヒータ線および螺旋状リード線は各
コイルピッチ間が電気的に接触せぬよう形成しである。
し込め、食品を誘電加熱するようになっている。加熱室
壁面2はこれを貫通してシーズヒータ3か設けられてお
り、食品を外部加熱するようになっている。加熱室壁面
2を貫通するシーズヒータ3端末部は、加熱室壁面板厚
部4内に位置するシーズヒータ3のリード線を抵抗損失
の少ない材料からなる良導体の螺旋状リード線5で形成
させ、シーズヒータ3内の螺旋状ヒータ線6と接続し、
この螺旋状リード線5の少なくとも一巻か、加熱室壁面
板厚部4内に位置し、螺旋状リード線5の直径をr、螺
旋状リード線5か貫通する加熱室壁面2の貫通穴径なR
としたとき、螺旋状リード&15の直径rかR/2<r
<Rで、加熱室壁面2内側より加熱室l外側に設けられ
た螺旋状リード線5の全体の寸法か、使用波長をん、螺
旋状リード線5の一巻の長さし、巻数をnとした時、n
L<入となるようにしで、シーズヒータ3を加熱室l内
に固着しである。シーズヒータ3は金属製の外被導体7
とこの内部に螺旋状ヒータ線6を有し、両者間には絶縁
体8か詰められ、螺旋状ヒータ線6の一端は電流を供給
するための電気的良導体て形成された螺旋状リード線5
か、螺旋状ヒータ線6と溶接等により接続され、螺旋状
リード!!5の一端には端子9か設けられた構造となっ
ている。なお螺旋状ヒータ線および螺旋状リード線は各
コイルピッチ間が電気的に接触せぬよう形成しである。
次に上記構成における作用について図面を用いて説明す
る。
る。
高周波エネルギーを加熱室1内に導入しで、食品を誘電
加熱しようとする時、従来のようなシーズヒータ3か加
熱室1を貫通して設けられていると、貫通部に同軸伝送
線路か構成されるため、加熱室1外部へ高周波エネルギ
ーか漏洩するが、本発明では加熱室壁面2を貫通するシ
ーズヒータ3端末は螺旋状リード線5である。しかもこ
の螺旋状リード線5の少なくとも一巻か加熱室壁面板厚
部4内に存在することは、従来のような同軸伝送線路が
この部分で形成されることかなく、しかも加熱室壁面2
内側より加熱室l外側に設けられた螺旋状リード線5の
全体の寸法かnL<入となるような条件により、マイク
ロ波理論よりシーズヒータ3の軸方向に放射特性をもっ
ことがない、即ちシーズヒータ3に沿って加熱室1外側
方向に進む高周波エネルギーが存在しないことを意味す
るものである。また螺旋状リード線5の直径rかR/
2 < r < Rの時、漏洩量が最も小さく、このこ
とは上記構成を有するシーズヒータ3を用いた実験で確
かめられたものである。さらに加熱室壁面板厚部4内を
貫通する螺旋状リード線5は良導体て形成されているた
め発熱することがなく、加熱室壁面板厚部4内の温度上
昇を低くおさえることができる。
加熱しようとする時、従来のようなシーズヒータ3か加
熱室1を貫通して設けられていると、貫通部に同軸伝送
線路か構成されるため、加熱室1外部へ高周波エネルギ
ーか漏洩するが、本発明では加熱室壁面2を貫通するシ
ーズヒータ3端末は螺旋状リード線5である。しかもこ
の螺旋状リード線5の少なくとも一巻か加熱室壁面板厚
部4内に存在することは、従来のような同軸伝送線路が
この部分で形成されることかなく、しかも加熱室壁面2
内側より加熱室l外側に設けられた螺旋状リード線5の
全体の寸法かnL<入となるような条件により、マイク
ロ波理論よりシーズヒータ3の軸方向に放射特性をもっ
ことがない、即ちシーズヒータ3に沿って加熱室1外側
方向に進む高周波エネルギーが存在しないことを意味す
るものである。また螺旋状リード線5の直径rかR/
2 < r < Rの時、漏洩量が最も小さく、このこ
とは上記構成を有するシーズヒータ3を用いた実験で確
かめられたものである。さらに加熱室壁面板厚部4内を
貫通する螺旋状リード線5は良導体て形成されているた
め発熱することがなく、加熱室壁面板厚部4内の温度上
昇を低くおさえることができる。
発明の効果
以上のように本発明によると、加熱室壁面を貫通する部
分はシーズヒータのヒータ線に接続された電気的良導体
の螺旋状リード線を貫通させ、少なくとも上記螺旋状リ
ード線の一巻が、これか貫通する加熱室壁面板厚部内に
存在するように構成しで、しかも加熱室壁面内側より加
熱室外側に貫通して位置する上記螺旋状リード線の全体
の寸法が、波長に対して十分小さく (nL<入)し、
R/ 2 < r < Rとなるものとしたので、シー
ズヒータ端末部より外部へ漏洩する高周波エネルギーは
ない。したがって従来のような複雑なチョーク構造を形
成することなく高周波エネルギーの外部漏洩を防止する
ことができ、簡単て確実なシール効果か得られる。さら
に、螺旋状リード線は抵抗損失の少ない良導体て形成し
ているため、加熱室壁面板厚部内での温度上昇を低くお
さえることかてきるため、この部分での熱変形か生しな
いため、より安定したシール効果が得られる。
分はシーズヒータのヒータ線に接続された電気的良導体
の螺旋状リード線を貫通させ、少なくとも上記螺旋状リ
ード線の一巻が、これか貫通する加熱室壁面板厚部内に
存在するように構成しで、しかも加熱室壁面内側より加
熱室外側に貫通して位置する上記螺旋状リード線の全体
の寸法が、波長に対して十分小さく (nL<入)し、
R/ 2 < r < Rとなるものとしたので、シー
ズヒータ端末部より外部へ漏洩する高周波エネルギーは
ない。したがって従来のような複雑なチョーク構造を形
成することなく高周波エネルギーの外部漏洩を防止する
ことができ、簡単て確実なシール効果か得られる。さら
に、螺旋状リード線は抵抗損失の少ない良導体て形成し
ているため、加熱室壁面板厚部内での温度上昇を低くお
さえることかてきるため、この部分での熱変形か生しな
いため、より安定したシール効果が得られる。
図面は本発明の一実施例を示す高周波加熱装置のシーズ
ヒータ端末部の要部拡大図を示したものである。 1・・・加熱室、 2・・・加熱室壁面、 3・・・シーズヒータ、 4・・・加熱室壁面板厚部、 5・・・螺旋状リード線。 6・・・螺旋状ヒータ線。
ヒータ端末部の要部拡大図を示したものである。 1・・・加熱室、 2・・・加熱室壁面、 3・・・シーズヒータ、 4・・・加熱室壁面板厚部、 5・・・螺旋状リード線。 6・・・螺旋状ヒータ線。
Claims (1)
- 高周波エネルギーを導入して食品を誘電加熱するための
金属製の加熱室(1)と、この加熱室(1)を貫通して
設けられたシーズヒータ(3)を有する高周波加熱装置
において、シーズヒータ(3)の端末部が貫通する加熱
室壁面板厚部(4)内に位置するシーズヒータ(3)の
リード線を抵抗損失の少ない材料からなり各コイルピッ
チ間が電気的に接触していぬ螺旋状リード線(5)で形
成させ、シーズヒータ(3)内の各コイルピッチ間が電
気的に接触していぬ螺旋状ヒータ線(6)と接続し、こ
の螺旋状リード線(5)が加熱室壁面板厚部(4)内で
電気的接触をすることなく貫通させると共に、螺旋状リ
ード線(5)の少なくとも一巻が、上記加熱室壁面板厚
部(4)内に位置し、螺旋状リード線(5)の直径をr
、上記螺旋状リード線(5)が貫通する加熱室壁面(2
)の貫通穴径をRとしたとき、螺旋状リード線(5)の
直径がR/2<r<Rで、加熱室壁面(2)内側より加
熱室(1)外側に設けられた螺旋状リード線(5)の全
体の寸法がnL<<λ(但しλは使用波長で約120m
m、Lは螺旋状リード線(5)の一巻の長さ、nは加熱
室壁面(2)内と外側に位置する螺旋状リード線(5)
の巻数である。)を満足するようにした構造のシーズヒ
ータ(3)を有することを特徴とする高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5754387A JPS63223428A (ja) | 1987-03-12 | 1987-03-12 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5754387A JPS63223428A (ja) | 1987-03-12 | 1987-03-12 | 高周波加熱装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63223428A true JPS63223428A (ja) | 1988-09-16 |
Family
ID=13058679
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5754387A Pending JPS63223428A (ja) | 1987-03-12 | 1987-03-12 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63223428A (ja) |
-
1987
- 1987-03-12 JP JP5754387A patent/JPS63223428A/ja active Pending
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