JPS6321838Y2 - - Google Patents

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JPS6321838Y2
JPS6321838Y2 JP1983173661U JP17366183U JPS6321838Y2 JP S6321838 Y2 JPS6321838 Y2 JP S6321838Y2 JP 1983173661 U JP1983173661 U JP 1983173661U JP 17366183 U JP17366183 U JP 17366183U JP S6321838 Y2 JPS6321838 Y2 JP S6321838Y2
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【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 本考案は毒ガス或いは腐食性ガス等を封入した
圧力容器の継手部に使用されるガスパージ装置に
係り、特に材料ガス容器口金部と送気配管側間の
所定部位に滞留している材料ガスをパージガスに
より置換させるように構成したガスパージ装置に
関する。
従来の技術 例えば半導体の製造に使用される材料ガスの多
くは毒性、強腐食性、或いは大気中の酸素または
水分との接触により反応を生ずるものである為、
前記ガスを封入した圧力容器を交換する際は、容
器口金部と送気通路間に介在させたガスパージ装
置により、前記口金部とその接続部分に滞留して
いる前記材料ガスを、窒素等のパージガスと置換
した後、容器交換を行なう必要がある。
しかしながら従来公知のガスパージ装置にあつ
ては材料ガス容器口金部と送気配管側間を連通す
る主孔の途中位置にパージガスガス取入れ口を開
口し、前記主孔内に滞留している材料ガスをパー
ジガスにより置換させるように構成しているが、
このように構成すると、前記パージガスガス取入
れ口開口部の上流側に位置する主孔及びガス容器
口金部内までに滞留している材料ガスが置換出来
ず、いわゆるデツドスペースが生じるのを避ける
事が出来ず、該デツドスペースによりガスの置換
が十分行なわれず、機器の腐食、フイルターの目
詰まり、前記材料ガスの純度低下等の欠点が生じ
ていた。
かかる欠点を防止する為、本出願人は先に第1
図に示す如きガスパージ装置を提案している。
(実願昭57−58231号) その構成を簡単に示すと、50はガスパージ装
置本体、60は該装置50に気密的に接続された
連結部材、71は材料ガスが封入された圧力容器
70の口金部を示し、袋ナツト61及びガスケツ
ト62により前記連結部材と気密的に連結されて
いる。
前記装置本体50は前記連結部材60が固着さ
れた入口側接続口51と該接続口51の反対側に
形成した出口側接続口52との間を貫通させ、主
孔53を穿設すると共に、前記主孔53と平行に
入口側接続口51に開口する副孔54を穿設し、
その他端側をL型状に折曲し、側壁面に形成した
側部接続口55に開口させる。そして前記出口側
接続口52には送気管72を介してガスの使用先
と、又側部接続口52には配管73及び弁76を
介してパージガス容器75と各々接続されてい
る。
一方連結部材60は前記主孔53と副孔54に
対応する位置に各々中心孔63と側孔64を穿設
すると共に、該連結部材60の容器口金部71へ
の当接がフランジ65により位置規制されている
為、該連結部材60前端面と口金出口71a間に
空隙部74が形成され、この結果前記中心孔63
と側孔64とが連通可能になる。一方後端側は、
前記主孔53開口面に気密的に当接されている
為、中心孔63と側孔64との連通の遮断を図つ
ている。
かかる構成によれば、送気作業中においてはパ
ージガス容器75の弁76を閉じ、材料ガス容器
70の弁70aを開放する事により、該容器70
内の材料ガスが中心孔63及び主孔53を通つて
送気管72に送気され、半導体製造装置等の使用
先に送られる。
一方前記容器70を交換する場合には該材料ガ
ス容器70の弁70aを閉じた後、パージガス容
器75の弁76を開放する事により側部接続口5
5よりパージガス容器75中のパージガスが副孔
54、側孔64、空隙部74、中心孔63及び主
孔53を通つて送気管72内に送られ、ガス置換
が行なわれた後、材料ガス容器70を交換すれば
よい。
考案が解決しようとする問題点 かかる従来技術にあつては、前記容器口金部7
1出口側の空隙部74より送気管72内に滞留し
ている材料ガスのガス置換が行なわれ、パージガ
ス通路(副孔54、側孔64)と容器口金部71
間にデツドスペースが生じるのを防止する事が出
来るが、前記パージガスが送気管72及び該送気
管72のはるか先に取り付けられた半導体製造装
置等の使用先にまで送られてしまう為、ガス置換
量と置換時間が必然的に多くなるのみならず、前
記送気管72中のパージガスの存在によりそのま
ま再作業を行なうと材料ガスの純度低下を引き起
こす為、再作業前に材料ガス純度が一定レベルに
達するまで前記材料ガスを送気管72中に流さね
ばならず、特に半導体製造装置にあつてはかかる
容器交換時の純度低下は極めて重要な問題であつ
た。
又前記従来技術にあつては前記容器口金部71
出口側の空隙部74のガス置換は可能となるが、
尚前記空隙部74より奥側のデツドスペース71
b(例えば容器と口金部間の空隙部)に残存する
材料ガスの置換を十分に行なう事は出来なかつ
た。
更に本考案の類似する技術として実開昭55−
18653号において、高圧ガスボンベの配管接続口
に袋ナツトを用いて取り付ける配管内ガスパージ
装置において、一端の開口部側に前記袋ナツト締
めつけ用のフランジを設け、他端の閉端部付近に
配管部接続口を設けた外管と、該閉端部を貫通し
一端が該閉端部から突き出してパージガス導入口
となり他端は前記外管内に突き出して外管の開口
部付近に達する内管とからなり、該内管から吹き
出したパージガスが前記ボンベの配管接続口に当
つて内外管の空間を経て前記配管部接続口に流れ
るようにした二重管構造の配管内ガスパージ装置
を提案する。
しかしながら前記従来技術においても前記パー
ジガスが送気管及び該送気管のはるか先に取り付
けられた半導体製造装置等の使用先にまで送られ
てしまうという欠点は何等解消されず、ガス置換
量と置換時間が必然的に多くなるのみならず、前
記送気管中のパージガスの存在によりそのまま再
作業を行なうと材料ガスの純度低下を引き起こ
す。
更に前記パージガスを吹き出さす内管開口端
も、ボンベの口金部内には挿入されておらず、単
にボンベ配管接続口部付近に開口しているのみで
あるから、前記ボンベの配管接続口に当つたパー
ジガスが内外管の空間を経て前記配管部接続口に
逆流し、言い換えればボンベの配管接続口入口付
近の材料ガスを置換するのみで、その上流側に位
置するボンベの配管接続口内及び口金部内の材料
ガスを何等置換し得ない。
結果として、本考案はかかる従来技術の欠点に
鑑み、毒ガス或いは腐食性ガス等を封入した圧力
容器の交換時に生ずる純度低下を防止すると共
に、極めて限定された個所についてのみをガス置
換する事により容器交換が可能となり、ガス置換
時間と置換ガス量の大幅な低減を図る事の出来る
ガスパージ装置を提供する事を目的とする。
問題点を解決する為の手段 而して本考案は、第2図に示すように 材料ガスが通過する主孔13及び該主孔13
に開口させたパージガスガス取入れ口15を有
するパージ装置本体10の入口側11と出口側
12に夫々連結部20,30を介してガス容器
口金部71と開閉弁31とを連結させた点、 一端が主孔13に連接され、他端側の開口端
が夫々前記連結部2030内を通つてガス容器
口金部71内と開閉弁31内に位置せしめた少
なくとも先端部が細管状の第1の通路13a,
23−23aを設けた点 前記パージガスガス取入れ口15より主孔1
3内に導入されたパージガスを細管状の第1の
通路13a,23−23aを通つてその開口端
より、ガス容器口金部内71bと開閉弁31内
に衝突せしめた後、前記連結部20,30に設
けた前記第1の通路13a,23−23aと異
なる第2の通路30,24を通つてパージ装置
本体10側に設けた排出通路17−16−18
より外部に排出可能に構成した点 前記排出通路17−16−18により前記パ
ージ装置本体10の入口側11と出口側12に
設けた連結部20,30内の夫々の第2の通路
30,24間を連絡可能に構成した事 を必須構成要件とするガスパージ装置を提案す
る。
作 用 かかる技術手段によれば、毒ガス或いは腐食性
ガス等を封入した圧力容器の交換時、パージ装置
本体10の出口側12に開閉弁31を設けた為
に、該開閉弁31を閉鎖した状態でその上流側に
位置するパージ装置内の極めて限定された部分の
みをガス置換するだけで足り、特にガス置換用の
パージガス(以下パージガスという)が送気管及
び該送気管のはるか先に取り付けられた半導体製
造装置等の使用先にまで送られる事が全くない
為、ガス置換量と置換時間が従来品に比して大幅
に少なくなる。
従つて前記開閉弁31出口側の送気管中にはパ
ージガスが存在する事がない為、再作業前に開閉
弁31上流側に位置するパージ装置内に滞留して
いる前記パージガスを材料ガスと置換するだけで
よく、そして再置換した後前記開閉弁31を開放
する事により、材料ガスのみを送気管中に流す事
が出来、この結果再作業時の材料ガスの純度低下
を確実に防止出来、特に半導体製造装置にあつて
は永年の懸案であつた材料ガスの純度低下による
品質低減を防止出来、その実用価値は極めて高
い。
又、本技術手段によれば一端が主孔13に連接
され、他端側の開口端が夫々前記連結部20,3
0内を通つてガス容器口金部内71bと開閉弁3
1内に位置せしめた細管状の第1の通路13a,
23−23aを設けた為に、パージガスガス取入
れ口15より主孔13内に導入されたパージガス
が、少なくとも先端部が細管状の第1の通路13
a,23−23aを通つてその開口端よりガス容
器口金部内71bと開閉弁31内に直接衝突する
為に、ガス容器口金部内71bと開閉弁31内の
ガス置換が容易であり、 而も前記第1の通路13a,23−23aは少
なくとも先端部が細管状である為に、ガス容器口
金部内71bと開閉弁31内に奥まで容易に挿入
する事が出来、従来全くガス置換が不可能であつ
たガス容器口金部内71bと開閉弁31内のガス
置換が円滑に行い得る。
この結果本考案にして始めて、ガス置換が不可
能なデツドスペースの解消を図る事が出来、機器
の腐食、フイルターの目詰まり等の恐れを確実に
防止出来る。
又材料ガスの送気は前記主孔13と細管よりの
送気の他に、パージ装置本体10内に前記主穴と
は別個に穿孔した排出通路17−16−18によ
り前記パージ装置本体10の入口側11と出口側
12に設けた連結部20,30内の夫々の第2の
通路30,24間を連絡可能に構成した為に前記
排出通路17−16−18と第2の通路30,2
4がバイパス回路として機能し、この為該バイパ
ス回路からも材料ガスを送気させる事が出来、前
記主孔13が細管状の第1の通路と連絡させても
材料ガスの送気量の低減が生ずる事はない。
実施例 以下図面に基づいて本考案を説明する。
第2図は本考案の実施例に係るガスパージ装
置、第3図は該装置の使用状態を示す説明図であ
る。
10はパージ装置本体で、対向する直線方向に
入口側接続口11と出口側接続口12とを形成す
ると共に、該接続口11,12間の略中央付近を
直角に結ぶ線上の両側壁面に夫々パージガス取り
入れ口15と排気口16を形成する。
又前記入口側接続口11と出口側接続口12と
を結ぶ中心線上には主孔13が穿設され、該主孔
13の略中央付近より直角に分岐させてパージガ
ス取り入れ口15に開口する分岐孔14を穿設す
る。又排気口16は、前記入口側接続口11と出
口側接続口12に各々開口する2本の排気孔1
7,18を穿設する。
そして前記入口側接続口11には連結部材20
が、又出口側接続口12には先端に開閉弁31が
取り付けられた連結管30が気密的に固着されて
おり、一方パージガス取り入れ口15には弁76
を介してパージガス容器75が、又排気口16出
口側には弁78を介して材料ガス吸収装置79が
各々気密的に接続されている。(第3図参照) 又、前記主孔13の出口側には細管13aを気
密的に取り付け、該細管13aの先端が、連結管
30内を通つて開閉弁31の弁体31a付近にま
で達する如く延伸させる。
連結部材20は袋ナツト21及びガスケツト2
2を介して容器口金部71に気密的に接続可能に
構成されており、前記主孔13と一の排気孔17
に対応する位置に各々中心孔23と側孔24を穿
設すると共に、前記中心孔23の前端に細管23
aを気密的に接続し、その先端を容器口金部71
の奥71bまで延伸させている。一方、連結部材
20後端はその端面をリング状に切欠き、側孔2
4と排気孔17との連通を容易にすると共に、中
心孔23が穿設された中心突出面26を前記主孔
13内に気密的に嵌挿させ、中心孔23と側孔2
4との連通を遮断している。
次にかかる構成による本実施例の作用を説明す
る。
先づ材料ガスの送気を行なう場合は、弁76と
弁78を閉じ開閉弁31を開放した後、材料ガス
容器70の弁70aを開放する事により、該容器
70内の材料ガスが中心孔23及び主孔13及び
細管13aを通つて送気管72内に送気され、半
導体製造装置等の使用先に送られる。又前記材料
ガスは側孔24、排気孔17、排気口16、排気
孔18、連結管30をを通るバイパス回路にても
送気させる事が出来、細管13a,23aを設け
た事に伴なう送気量の低減を防止出来る。
一方前記容器70を交換する場合には該容器7
0の弁70aと開閉弁31を閉じ、弁78を開放
した後、パージガス容器75の弁76を開放する
事によりパージガス容器75中のパージガスが分
岐孔14を通つて主孔13で二つに分かれ、一の
パージガスは中心孔23及び細管23aを通つて
容器70口金部71の奥部71bに送られ、前記
材料ガス容器の弁出口側の滞留する全ての材料ガ
スの置換を行なつた後、該置換された材料ガスは
容器口金部出口側71aより側孔24、排気孔1
7、排気口16を通つてガス吸収装置79に送ら
れ、無害ガスに変換された後、大気中に放出され
る。
一方分岐された他のパージガスは主孔13、細
管13aを通つて開閉弁31弁体31a付近にま
で送られ、前記開閉弁31入口付近及び連結管3
0内に滞留する材料ガスの置換を行なつた後、該
置換された材料ガスが排気孔18、排気口16を
通つてガス吸収装置79に送られ、前記と同様に
無害ガスに変換された後大気中に放出される。そ
して前記ガス置換が終了した後、パージガス容器
75の弁76を閉塞して容器70交換を行なう。
容器70交換後、再作業を行なう訳であるが、
再作業前に容器口金部71と連結部20の袋ナツ
ト21の気密性の有無の確認と、材料ガスの純度
低下を防ぐ為前記ガスパージ装置内に滞留してい
るパージガスを排気する必要がある。
先づ袋ナツト21等の接続部分の気密性の有無
の確認はパージガスで行なう必要がある。従つて
開放弁31と弁78を閉塞させたまま、パージガ
ス容器75の弁76を開放する事により、前記ガ
スパージ装置内にパージガスが圧気され、前記袋
ナツト21等の接続部分に石鹸水等を塗布する事
により気密性の有無を確認する事が出来る。
次にパージガス容器75の弁76を閉じ、開閉
弁31を閉塞状態のまま弁78を開放した後、材
料ガス容器70の弁を開く事により、材料ガスが
容器口金部71に滞留しているパージガスを押し
出し、該パージガスは側孔24及び排気孔17を
通つてガス吸収装置79より大気中に、又前記材
料ガスの一部は細管23a、中心孔23、主孔1
3、細管13aを通つて開閉弁31入口側及び連
結管内に滞留しているパージガスを押し出し、排
気孔18よりガス吸収装置79を通つて大気中に
放出され、前記ガスパージ装置内に材料ガスが満
たされた後、ガス吸収装置79の弁を閉じる事に
より、再作業の準備が完了する。
考案の効果 以上記載の如く本考案によれば、毒ガス或いは
腐食性ガス等を封入した圧力容器の交換時、パー
ジ装置内の極めて限定された部分のみをガス置換
するだけで足り、特にガス置換用のパージガスが
開閉弁下流側の送気管及び該送気管のはるか先に
取り付けられた半導体製造装置等の使用先にまで
送られる事が全くない為、ガス置換量と置換時間
が従来品に比して大幅に少なくなる。
又前記送気管中にパージガスが存在する事がな
い為、再作業前に前記パージガスを材料ガスと置
換するだけで、再作業時の材料ガスの純度低下を
確実に防止出来、特に半導体製造装置にあつては
永年の懸案であつた材料ガスの純度低下による品
質低減を防止出来、その実用価値は極めて高い。
又、本考案によればガス容器口金部内のよう
に、ガス置換が不可能なデツドスペースの解消を
図る事が出来、機器の腐食、フイルターの目詰ま
り等の恐れを確実に防止出来る。
又材料ガスの送気は前記主孔と少なくとも先端
が細管状の第1の通路に加えてパージガス排出用
の第2の通路及び排出通路からなるバイパス回路
にても送気させる事が出来る為、十分なる送気量
を確保出来る。
等の種々の著効を有す。
【図面の簡単な説明】
第1図は先願にかかるガスパージ装置で、第1
A図は該装置の断面図、第1B図は前記装置の使
用状態を示す説明図である。第2図乃至第3図は
本考案の一実施例で、第2図はガスパージ装置の
断面図、第3図は該装置の使用状態を示す説明図
である。 10……パージ装置本体、11……入口側接続
口、12……出口側接続口、15……パージガス
取り入れ口、16……主孔排気口、13……主
孔、17,18……排気孔、13a,23a……
細管、31……開閉弁。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 材料ガス容器口金部出口側の所定部位に滞留し
    ている材料ガスをパージガスにより置換させるよ
    うに構成したガスパージ装置において、材料ガス
    が通過する主孔及び該主孔に開口させたパージガ
    スガス取入れ口を有するパージ装置本体の入口側
    と出口側に夫々連結部を介してガス容器口金部と
    開閉弁とを連結させるとともに、一端が主孔に連
    接され、他端側の開口端が夫々前記連結部内を通
    つてガス容器口金部内と開閉弁内に位置せしめた
    少なくとも先端部が細管状の第1の通路を設け、
    前記パージガスガス取入れ口より主孔内に導入さ
    れたパージガスを第1の通路を通つてその開口端
    より、ガス容器口金部内と開閉弁内に衝突せしめ
    た後、前記連結部に設けた前記第1の通路と異な
    る第2の通路を通つてパージ装置本体側に設けた
    排出通路より外部に排出可能に構成するととも
    に、該排出通路により前記パージ装置本体の入口
    側と出口側に設けた連結部内の夫々の第2の通路
    間を連絡可能に構成した事を特徴とするガスパー
    ジ装置。
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JPS5518653B2 (ja) * 1976-01-19 1980-05-20

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