JPS63216872A - 複素環式化合物 - Google Patents
複素環式化合物Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、下記の式(I):
八
〔式中、Aは、カルバモイル、N−低級アルキルカルバ
モイル、N、N−ジー低級アルキルカルバモイル、遊離
形又は保護形でのN−ヒドロキシカルバモイル、N(C
1〜C2゜)アルコキシ−N−(C,〜Cto)アルキ
ルカルバモイル、5−c(=N 0H)−NHz 、
アミジノ基−C(=NH)−NHlSN−低級アルキル
アミジノ基−C(=NH)−NH(低級アルキル)、基
−C(=NH)−0(低級アルキル)、1−(C1〜c
ps−アルコキシカルボニル)−1−(低級アルコキシ
)−メトキシカルボニル、C1〜C??ルカノイル、1
−(N−ヒドロキシイミノ)−低級アルキル、4,5−
ジヒドロ−2−(チア、オキサ、イミダ)ゾリル、2−
(チア、オキサ)ゾリル、1−低級アルキルー4,5−
ジヒドロ−2−イミダゾリル、イミダゾリル、1−アシ
ル−イミダゾリル、2−ベンズ(オチア、オキサ、イミ
ダ)ゾリル、1−アシル−2−ベンズイミダゾリル、遊
離形又は保護形での5−テトラゾリルを表わし:又はA
は、R1が水素、フェニル、ニトロ−フェニル、カルボ
キシ−フェニル及ヒC+〜C2−アル°コキシカルボニ
ルーフェニル以外のものである場合、Aはカルボキシ又
は医薬的に許容されるそのエステル基を表わし; R1は、カルボキシ又は医薬的に許容されるそのエステ
ル基を表わし、そして R1は、水素又は低級アルキル、シクロアルキル、アリ
ール−低級アルキル、ヘテロアリール−低級アルキル及
びアリール(これらのそれぞれは置換されていなくても
よく又は置換されていてもよい)から成る群の基を表わ
し;そしてR3は水素を表わし;あるいは R2及びR1は、−緒になって ・ (1゜〜、/ 3−ブタジェン−1,4−イレン)を表わし;但し、A
はN−ヒドロキシカルバモイルを表わし、そしてR1は
メトキシカルボニルである場合、又はAはN−ヒドロキ
シイミノメチルを表わし、そしてR3はメトキシカルボ
ニル又はエトキシカルボニルである場合;又はAは2−
ベンズイミダゾリルであり、そしてR1はエトキシカル
ボニルである場合、R2は水素以外のものであり;そし
てAはカルバモイルであり、そしてR1はメトキシカル
ボニル又はエトキシカルボニルである場合、R2はフェ
ニル以外のものである〕で表わされる化合物;その互変
異体及び塩、これらの化合物の製造方法、前記化合物を
含有する医薬組成物及び医薬製剤の製造のために又は薬
理学的に活性な化合物としてのそれらの使用に関する。
モイル、N、N−ジー低級アルキルカルバモイル、遊離
形又は保護形でのN−ヒドロキシカルバモイル、N(C
1〜C2゜)アルコキシ−N−(C,〜Cto)アルキ
ルカルバモイル、5−c(=N 0H)−NHz 、
アミジノ基−C(=NH)−NHlSN−低級アルキル
アミジノ基−C(=NH)−NH(低級アルキル)、基
−C(=NH)−0(低級アルキル)、1−(C1〜c
ps−アルコキシカルボニル)−1−(低級アルコキシ
)−メトキシカルボニル、C1〜C??ルカノイル、1
−(N−ヒドロキシイミノ)−低級アルキル、4,5−
ジヒドロ−2−(チア、オキサ、イミダ)ゾリル、2−
(チア、オキサ)ゾリル、1−低級アルキルー4,5−
ジヒドロ−2−イミダゾリル、イミダゾリル、1−アシ
ル−イミダゾリル、2−ベンズ(オチア、オキサ、イミ
ダ)ゾリル、1−アシル−2−ベンズイミダゾリル、遊
離形又は保護形での5−テトラゾリルを表わし:又はA
は、R1が水素、フェニル、ニトロ−フェニル、カルボ
キシ−フェニル及ヒC+〜C2−アル°コキシカルボニ
ルーフェニル以外のものである場合、Aはカルボキシ又
は医薬的に許容されるそのエステル基を表わし; R1は、カルボキシ又は医薬的に許容されるそのエステ
ル基を表わし、そして R1は、水素又は低級アルキル、シクロアルキル、アリ
ール−低級アルキル、ヘテロアリール−低級アルキル及
びアリール(これらのそれぞれは置換されていなくても
よく又は置換されていてもよい)から成る群の基を表わ
し;そしてR3は水素を表わし;あるいは R2及びR1は、−緒になって ・ (1゜〜、/ 3−ブタジェン−1,4−イレン)を表わし;但し、A
はN−ヒドロキシカルバモイルを表わし、そしてR1は
メトキシカルボニルである場合、又はAはN−ヒドロキ
シイミノメチルを表わし、そしてR3はメトキシカルボ
ニル又はエトキシカルボニルである場合;又はAは2−
ベンズイミダゾリルであり、そしてR1はエトキシカル
ボニルである場合、R2は水素以外のものであり;そし
てAはカルバモイルであり、そしてR1はメトキシカル
ボニル又はエトキシカルボニルである場合、R2はフェ
ニル以外のものである〕で表わされる化合物;その互変
異体及び塩、これらの化合物の製造方法、前記化合物を
含有する医薬組成物及び医薬製剤の製造のために又は薬
理学的に活性な化合物としてのそれらの使用に関する。
本発明に使用される一般定義は、本発明の範囲内で次の
意味を有する。
意味を有する。
用語“低級”とは、そのように定義された基が、好まし
くは7個(7個を含む)までの、特に4個(4個を含む
)までの炭素原子を有することを意味する。
くは7個(7個を含む)までの、特に4個(4個を含む
)までの炭素原子を有することを意味する。
基−C(=N OH) NHzは、ヒドロキシイミ
ノ−カルバモイルとして命名され得る。基−C(=NH
) −0(低級アルキル)は、イミノ−低級アルコキシ
カルボニルとして命名され得る。
ノ−カルバモイルとして命名され得る。基−C(=NH
) −0(低級アルキル)は、イミノ−低級アルコキシ
カルボニルとして命名され得る。
アルキルは、好ましくはC,−C,。−アルキル、たと
えばヘキサデシル又は下記に定義されているような低級
アルキルである。
えばヘキサデシル又は下記に定義されているような低級
アルキルである。
低級アルキルは、たとえばn−プロピル、イソプロピル
、n−ブチル、イソブチル、5ec−ブチル、tert
−ブチル、n−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル
、n−ヘキシル、イソヘキシル又はn−ペプチル、好ま
しくはエチル及び特に好ましくはメチルである。
、n−ブチル、イソブチル、5ec−ブチル、tert
−ブチル、n−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル
、n−ヘキシル、イソヘキシル又はn−ペプチル、好ま
しくはエチル及び特に好ましくはメチルである。
イミダゾリルは、たとえば2−又は4 (5) −イミ
ダゾリルを表わす。l−アシル−イミダゾリルは、好ま
しくは1−アシル−2−又は1−アシル−4−イミダゾ
リルである。
ダゾリルを表わす。l−アシル−イミダゾリルは、好ま
しくは1−アシル−2−又は1−アシル−4−イミダゾ
リルである。
アシルは、好ましくは低級アルカノイルであるが、しか
し、たとえば場合によっては置換されたベンゾイル又は
場合によっては置換されたフェニル−低級アルコキシカ
ルボニル、たとえばベンジルオキシカルボニルでもあり
得る。ベンゾイル又はフェニル−低級アルコキシカルボ
ニルの任意の置換基は、了り−ル基について下記に記載
されたものと同じである。
し、たとえば場合によっては置換されたベンゾイル又は
場合によっては置換されたフェニル−低級アルコキシカ
ルボニル、たとえばベンジルオキシカルボニルでもあり
得る。ベンゾイル又はフェニル−低級アルコキシカルボ
ニルの任意の置換基は、了り−ル基について下記に記載
されたものと同じである。
C3〜C1のアルカノイルは、たとえばプロピオニル、
n −7’チリル、ピバロイル又はバレロイルである。
n −7’チリル、ピバロイル又はバレロイルである。
低級アルカノイルは、さらにホルミル及びアセチルを含
む。1−(N−ヒドロキシイミノ)−低級アルキルは、
式−C(=N−OH)−(H又はCI〜C6−アルキル
)の前記低級アルカノイル基のオキシムを表わし、そし
てたとえばN−ヒドロキシイミノメチル又は1−(N−
ヒドロキシイミノ)−エチル、−プロピル又は−ブチル
である。
む。1−(N−ヒドロキシイミノ)−低級アルキルは、
式−C(=N−OH)−(H又はCI〜C6−アルキル
)の前記低級アルカノイル基のオキシムを表わし、そし
てたとえばN−ヒドロキシイミノメチル又は1−(N−
ヒドロキシイミノ)−エチル、−プロピル又は−ブチル
である。
医薬的に許容できるカルボキシのエステル基は、好都合
には溶解によって又は生理的条件下で遊離カルボン酸に
転換され得るエステル、たとえば01〜C20−アルコ
キシカルボニル、好ましくは低級アルコキシカルボニル
; (アミノ、モノ−又はジー低級アルキルアミノ)−
置換の低級アルコキシカルボニル;カルボキシ−置換の
低級アルコキシカルボニル、たとえばα−カルボキシ−
置換の低級アルコキシカルボニル;低級アルコキシカル
ボニル−置換の低級アルコキシカルボニル、たとえばα
−低低級アルコキシ力水ボニル−置換低級アルコキシカ
ルボニル;アリール−置換の低級アルコキシカルボニル
、たとえば場合によっては(ハロゲン、低級アルキル又
は低級アルコキシ)−置換のベンジルオキシカルボニル
又はピリジルメトキシカルボニル; (ヒドロキシ、低
級アルカノイルオキシ又は低級アルコキシ)−置換の低
級アルコキシカルボニル、たとえばピバロイルオキシメ
トキシカルボニル; (ヒドロキシ、低級アルカノイル
オキシ又は低級アルコキシ)−置換の低級アルコキシメ
トキシカルボニル;1−アルコキシカルボニル−1−低
級アルコキシメトキシカルボニル、好ましくは1
(C+ NCts−アルコキシカルボニル)−t−(a
t〜C7−アルコキシ)−メトキシカルボニル、特に1
−(C1〜Cl5−アルコキシカルボニル)−1−エト
キシ−メトキシカルボニル及び特定には1−エトキシカ
ルボニル−1−エトキシメトキシカルボニル(cp、5
ynth。
には溶解によって又は生理的条件下で遊離カルボン酸に
転換され得るエステル、たとえば01〜C20−アルコ
キシカルボニル、好ましくは低級アルコキシカルボニル
; (アミノ、モノ−又はジー低級アルキルアミノ)−
置換の低級アルコキシカルボニル;カルボキシ−置換の
低級アルコキシカルボニル、たとえばα−カルボキシ−
置換の低級アルコキシカルボニル;低級アルコキシカル
ボニル−置換の低級アルコキシカルボニル、たとえばα
−低低級アルコキシ力水ボニル−置換低級アルコキシカ
ルボニル;アリール−置換の低級アルコキシカルボニル
、たとえば場合によっては(ハロゲン、低級アルキル又
は低級アルコキシ)−置換のベンジルオキシカルボニル
又はピリジルメトキシカルボニル; (ヒドロキシ、低
級アルカノイルオキシ又は低級アルコキシ)−置換の低
級アルコキシカルボニル、たとえばピバロイルオキシメ
トキシカルボニル; (ヒドロキシ、低級アルカノイル
オキシ又は低級アルコキシ)−置換の低級アルコキシメ
トキシカルボニル;1−アルコキシカルボニル−1−低
級アルコキシメトキシカルボニル、好ましくは1
(C+ NCts−アルコキシカルボニル)−t−(a
t〜C7−アルコキシ)−メトキシカルボニル、特に1
−(C1〜Cl5−アルコキシカルボニル)−1−エト
キシ−メトキシカルボニル及び特定には1−エトキシカ
ルボニル−1−エトキシメトキシカルボニル(cp、5
ynth。
Commun、16.1431(1986)) :
3−フタリドオキシカルボニル; (低級アルキル、低
級アルコキシ、ハロゲン)−置換の3−フタリドオキシ
カルボニル、低級アルコキシカルボニルオキシ−低級ア
ルコキシカルボニル、たとえば1−(メトキシ−又はエ
トキシカルボニルオキシ)−エトキシカルボニル;アリ
ールオキシカルボニル、たとえばフェノキシカルボニル
又は、カルボキシ又は低級アルコキシカルボニルによっ
てオルトの位置で都合良く置換されたフェノキシカルボ
ニルである。医薬的に許容されるエステル基として、1
−(C1〜Cl5−アルキルカルボニル)−t−(C+
〜C7−アルコキシ)−メトキシカルボニル及びC3〜
C20−アルコキシカルボニルが好ましく、そして特に
低級アルコキシカルボニルが好ましい。
3−フタリドオキシカルボニル; (低級アルキル、低
級アルコキシ、ハロゲン)−置換の3−フタリドオキシ
カルボニル、低級アルコキシカルボニルオキシ−低級ア
ルコキシカルボニル、たとえば1−(メトキシ−又はエ
トキシカルボニルオキシ)−エトキシカルボニル;アリ
ールオキシカルボニル、たとえばフェノキシカルボニル
又は、カルボキシ又は低級アルコキシカルボニルによっ
てオルトの位置で都合良く置換されたフェノキシカルボ
ニルである。医薬的に許容されるエステル基として、1
−(C1〜Cl5−アルキルカルボニル)−t−(C+
〜C7−アルコキシ)−メトキシカルボニル及びC3〜
C20−アルコキシカルボニルが好ましく、そして特に
低級アルコキシカルボニルが好ましい。
5−テトラゾリルは、たとえばカルボキシ基に類似して
保護され得る。上記のような医薬的に許容されるカルボ
キシのエステル基を得るためにカルボキシのエステル化
のために使用されるすべての基(R”)は、5−テトラ
ゾリルのNHiを保護するために同様にして使用され得
る。従って、上記の医薬的に許容されるカルボキシのエ
ステル基、すなわち−COORは、保護された形での5
−テに直接に対応する。さらに、5−テトラゾリルは上
記に定義されたようにアシル基によって保護され得る。
保護され得る。上記のような医薬的に許容されるカルボ
キシのエステル基を得るためにカルボキシのエステル化
のために使用されるすべての基(R”)は、5−テトラ
ゾリルのNHiを保護するために同様にして使用され得
る。従って、上記の医薬的に許容されるカルボキシのエ
ステル基、すなわち−COORは、保護された形での5
−テに直接に対応する。さらに、5−テトラゾリルは上
記に定義されたようにアシル基によって保護され得る。
保護された形での5−テトラゾリルとして2− (1−
(C,〜C+sのアルコキシカルボニル)−1−低級ア
ルコキシ−メチルツー5−テトラゾリル及び2−低級ア
ルカノイルー5−テトラゾリルが好ましい。
(C,〜C+sのアルコキシカルボニル)−1−低級ア
ルコキシ−メチルツー5−テトラゾリル及び2−低級ア
ルカノイルー5−テトラゾリルが好ましい。
保護された形でのN−ヒドロキシカルバモイルは、たと
えばモノ−又はジアシル化された又は七ノー又はジー低
級アルキル化されたN−ヒドロキシカルバモイルを意味
する。モノアシル化又はモノアルキル化の場合、通常、
OH基がアシル化される。第2アシル基又はアルキル基
が導入される場合、NH基がまた、アシル化又はアルキ
ル化されるであろう。保護された形でのN−ヒドロキシ
カルバモイルは、好ましくは〇−低級アルカノイルーN
−ヒドロキシカルバモイル、N、O−ジー低級アルカノ
イル−N−ヒドロキシカルバモイル、〇−低級アルキル
ーN−ヒドロキシカルバモイル又はN、O−ジー低級ア
ルキル−N−ヒドロキシカルバモイルである。
えばモノ−又はジアシル化された又は七ノー又はジー低
級アルキル化されたN−ヒドロキシカルバモイルを意味
する。モノアシル化又はモノアルキル化の場合、通常、
OH基がアシル化される。第2アシル基又はアルキル基
が導入される場合、NH基がまた、アシル化又はアルキ
ル化されるであろう。保護された形でのN−ヒドロキシ
カルバモイルは、好ましくは〇−低級アルカノイルーN
−ヒドロキシカルバモイル、N、O−ジー低級アルカノ
イル−N−ヒドロキシカルバモイル、〇−低級アルキル
ーN−ヒドロキシカルバモイル又はN、O−ジー低級ア
ルキル−N−ヒドロキシカルバモイルである。
シクロアルキルは、たとえば3〜8、好ましくは5〜7
個の環炭素原子を有し、そしてたとえばシクロプロピル
、シクロペンチル又はシクロヘキシルである。
個の環炭素原子を有し、そしてたとえばシクロプロピル
、シクロペンチル又はシクロヘキシルである。
アリールは、モノ−、ビー又はポリ炭素環式芳香族基、
たとえばナフチル、好ましくはフェニルである。
たとえばナフチル、好ましくはフェニルである。
ヘテロアリールは、少なくとも1つの環状へテロ原子を
含む、好ましくは窒素、酸素及び硫黄から成る基のモノ
−、ビー又は多環式芳香族基である。モノ環状の複素環
式基及びまた、好ましくは1つの融合炭素環状環、特に
ベンゾ環を有するモノ環状の複素環式基が好ましい。そ
れぞれの複素環は、たとえば3〜7、好ましくは5〜6
の環状肩から成り、そして環状肩として4個までの同一
の又は異なったヘテロ原子を含むことができる。
含む、好ましくは窒素、酸素及び硫黄から成る基のモノ
−、ビー又は多環式芳香族基である。モノ環状の複素環
式基及びまた、好ましくは1つの融合炭素環状環、特に
ベンゾ環を有するモノ環状の複素環式基が好ましい。そ
れぞれの複素環は、たとえば3〜7、好ましくは5〜6
の環状肩から成り、そして環状肩として4個までの同一
の又は異なったヘテロ原子を含むことができる。
5員のへテロアリール基として、モノアザ−、ジアザ−
、トリアザ−、テトラアザ゛−、モノオキサ−、モノチ
ア−、オキサザ−、オキサジアザ−、チアザ−及びチア
ジアザ環状基、たとえばピリル、ピラゾリル、イミダゾ
リル、トリアゾイル、テトラゾリル、フリル、チェニル
、イソキサゾリル、オキサシリル、オキサジアゾリル、
イソチアゾリル、チアゾリル又はチアジアゾリル基が好
ましく、そしてたとえば6員のヘテロアリール基は、モ
ノアザ−、ジアザ−又はトリアザ−環状基、たとえばピ
リジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル又は
トリアジニル基に相当する。融合ベンゾ環を有するモノ
環状の複素環式基は、たとえばインドールイル、イソイ
ンドールイル、ペンズイミタソリル、ベンゾフラニル、
ベンゾチェニル、ベンゾチアゾリル、ベンズオキサジア
ゾリル、ベンゾチアジアゾリル、キノリニル又はイソキ
ノリニル基である。
、トリアザ−、テトラアザ゛−、モノオキサ−、モノチ
ア−、オキサザ−、オキサジアザ−、チアザ−及びチア
ジアザ環状基、たとえばピリル、ピラゾリル、イミダゾ
リル、トリアゾイル、テトラゾリル、フリル、チェニル
、イソキサゾリル、オキサシリル、オキサジアゾリル、
イソチアゾリル、チアゾリル又はチアジアゾリル基が好
ましく、そしてたとえば6員のヘテロアリール基は、モ
ノアザ−、ジアザ−又はトリアザ−環状基、たとえばピ
リジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル又は
トリアジニル基に相当する。融合ベンゾ環を有するモノ
環状の複素環式基は、たとえばインドールイル、イソイ
ンドールイル、ペンズイミタソリル、ベンゾフラニル、
ベンゾチェニル、ベンゾチアゾリル、ベンズオキサジア
ゾリル、ベンゾチアジアゾリル、キノリニル又はイソキ
ノリニル基である。
低級アルキル、シクロアルキル、アリール及びヘテロア
リール基は好ましくは、置換されていてもよく、又は置
換されていなくてもよい。置換基として、たとえば遊離
性、エーテル化された又はエステル化されたヒドロキシ
、たとえばヒドロキシ、低級アルコキシ又は低級アルカ
ノイルオキシ;C3〜Cl4−アルコキシ、ここでアル
キル鎖は1〜5個のオキシ基によってΦ綺されている;
エーテル化されたメルカプト、たとえば低級アルキルチ
オ;アミノ;第二又は第三アミノ、たとえば低級アルキ
ルアミノ、ジー低級アルキルアミノ、04〜C6−アル
キレンアミノ、アザ−、オキサ−又はチア−C1〜C1
−アルキレンアミノ、N−(低級アルキル又は低級アル
カノイル)−アザ−03〜CS−アルキレンアミノ、又
はアシルアミノ、好ましくは低級アルカノイルアミノ;
C3〜CI4のアルキルアミノ、ここでアルキル鎖は1
〜5個のオキシ基及び/又はイミノ基によって中断され
ている;ハロゲン;遊離性又は機能的に変性されたカル
ボキシル、たとえば低級アルコキシカルボニル、カルバ
モイル、N−モノ−又はN、N−ジー低級アルキルカル
バモイル又はシアノ;ニトロ;スルホ、低級アルコキシ
スルホニル又はアミド化されたスルホ、たとえばスルフ
ァモイル、N−低級−アルキルー、N、N−ジー低級−
アルキル−又はN−フヱニルスルファモイルが考えられ
る。さらに低級アルキルが、たとえばシクロアルキル、
了り−ル又はヘテロアリールによって置換され得る。さ
らに、シクロアルキルは、たとえば低級アルキル、アリ
ール又はへテロアリールによって置換され得;そしてア
リール及びヘテロアリールもまた、たとえば低級アルキ
ル、シクロアルキル又は1,2−メチレンジオキシによ
って置換され得る。低級アルキルの置換基として、N−
モルホリノ、N−ピペラジノ、03〜Cl4−アルコキ
シ(ここでアルキル鎖は1〜5個のオキシ基によって中
断されている)及びC8〜Cl4−アルキルアミノ (
ここでアルキル鎖は1〜5個のオキシ基及び/又はイミ
ノ基によって中断されている)が好ましい。シクロアル
キル、アリール及びヘテロアリールの置換基として、低
級アルキル、ヒドロキシ、低級アルコキシ及びハロゲン
が好ましい。
リール基は好ましくは、置換されていてもよく、又は置
換されていなくてもよい。置換基として、たとえば遊離
性、エーテル化された又はエステル化されたヒドロキシ
、たとえばヒドロキシ、低級アルコキシ又は低級アルカ
ノイルオキシ;C3〜Cl4−アルコキシ、ここでアル
キル鎖は1〜5個のオキシ基によってΦ綺されている;
エーテル化されたメルカプト、たとえば低級アルキルチ
オ;アミノ;第二又は第三アミノ、たとえば低級アルキ
ルアミノ、ジー低級アルキルアミノ、04〜C6−アル
キレンアミノ、アザ−、オキサ−又はチア−C1〜C1
−アルキレンアミノ、N−(低級アルキル又は低級アル
カノイル)−アザ−03〜CS−アルキレンアミノ、又
はアシルアミノ、好ましくは低級アルカノイルアミノ;
C3〜CI4のアルキルアミノ、ここでアルキル鎖は1
〜5個のオキシ基及び/又はイミノ基によって中断され
ている;ハロゲン;遊離性又は機能的に変性されたカル
ボキシル、たとえば低級アルコキシカルボニル、カルバ
モイル、N−モノ−又はN、N−ジー低級アルキルカル
バモイル又はシアノ;ニトロ;スルホ、低級アルコキシ
スルホニル又はアミド化されたスルホ、たとえばスルフ
ァモイル、N−低級−アルキルー、N、N−ジー低級−
アルキル−又はN−フヱニルスルファモイルが考えられ
る。さらに低級アルキルが、たとえばシクロアルキル、
了り−ル又はヘテロアリールによって置換され得る。さ
らに、シクロアルキルは、たとえば低級アルキル、アリ
ール又はへテロアリールによって置換され得;そしてア
リール及びヘテロアリールもまた、たとえば低級アルキ
ル、シクロアルキル又は1,2−メチレンジオキシによ
って置換され得る。低級アルキルの置換基として、N−
モルホリノ、N−ピペラジノ、03〜Cl4−アルコキ
シ(ここでアルキル鎖は1〜5個のオキシ基によって中
断されている)及びC8〜Cl4−アルキルアミノ (
ここでアルキル鎖は1〜5個のオキシ基及び/又はイミ
ノ基によって中断されている)が好ましい。シクロアル
キル、アリール及びヘテロアリールの置換基として、低
級アルキル、ヒドロキシ、低級アルコキシ及びハロゲン
が好ましい。
03〜Cl4−アルコキシ(ここでアルキル鎖は1〜5
個のオキシ基によって中断されている)は、たとえば−
〇−(CHzCHzO)n −(CI −C4)アルキ
ル〔n=1〜5〕、好ましくは一〇 −(CHtCH,
O)。
個のオキシ基によって中断されている)は、たとえば−
〇−(CHzCHzO)n −(CI −C4)アルキ
ル〔n=1〜5〕、好ましくは一〇 −(CHtCH,
O)。
CH3(特にn=1又はn=2の基)である。
03〜014−アルキルアミノ (ここで、アルキル鎖
は、1〜5個のオキシ基及び/又はイミノ基によって中
断されている)は、たとえば−NH−(CIlzCHJ
) 、、(C+ 〜Ct)アルキル(n=1〜5 、X
=O又はNH〕、好ましくは−N H−(CHzCHz
Xk CH3(好ましくはn=1又はn=2の基)であ
る。
は、1〜5個のオキシ基及び/又はイミノ基によって中
断されている)は、たとえば−NH−(CIlzCHJ
) 、、(C+ 〜Ct)アルキル(n=1〜5 、X
=O又はNH〕、好ましくは−N H−(CHzCHz
Xk CH3(好ましくはn=1又はn=2の基)であ
る。
ハロゲンは、好ましくはフルオロ又はクロロであるが、
しかしまたブロモ又はヨードも好ましい。
しかしまたブロモ又はヨードも好ましい。
塩は、好ましくは医薬的に許容される塩、特に遊離カル
ボキシ基を有する前記式(1)の化合物の金属塩又はア
ンモニウム塩、より特定にはアルカリ土類金属塩、たと
えばナトリウム、カリウム、マグネシウム又はカルシウ
ム塩;又はアンモニア又は有機アミンに由来する、都合
良く容易に結晶化するアンモニウム塩、たとえばモノ−
、ジー又はトリー低級(アルキル、シクロアルキル又は
ヒドロキシアルキル)−アミン、低級アルキレンジアミ
ン又は低級(ヒドロキシアルキル又はアラルキル)−ア
ルキルアンモニウム水酸化物、たとえばメチルアミン、
ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジシクロヘキシル
アミン、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、ト
リス−(ヒドロキシメチル)アミノメタン、N−メチル
−D−グルカミン又はベンジルトリメチルアンモニウム
水酸化物である。塩基性基を有する前記式(1)の化合
物は、好ましくは医薬的に許容される無機又は有機酸、
たとえば強鉱酸、脂肪族又は芳香族カルボキシル酸又は
スルホン酸、たとえば塩酸、琥珀酸、サリチル酸、メタ
ンスルホン酸又はp−)ルエンスルホン酸の酸付加塩を
形成する。
ボキシ基を有する前記式(1)の化合物の金属塩又はア
ンモニウム塩、より特定にはアルカリ土類金属塩、たと
えばナトリウム、カリウム、マグネシウム又はカルシウ
ム塩;又はアンモニア又は有機アミンに由来する、都合
良く容易に結晶化するアンモニウム塩、たとえばモノ−
、ジー又はトリー低級(アルキル、シクロアルキル又は
ヒドロキシアルキル)−アミン、低級アルキレンジアミ
ン又は低級(ヒドロキシアルキル又はアラルキル)−ア
ルキルアンモニウム水酸化物、たとえばメチルアミン、
ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジシクロヘキシル
アミン、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、ト
リス−(ヒドロキシメチル)アミノメタン、N−メチル
−D−グルカミン又はベンジルトリメチルアンモニウム
水酸化物である。塩基性基を有する前記式(1)の化合
物は、好ましくは医薬的に許容される無機又は有機酸、
たとえば強鉱酸、脂肪族又は芳香族カルボキシル酸又は
スルホン酸、たとえば塩酸、琥珀酸、サリチル酸、メタ
ンスルホン酸又はp−)ルエンスルホン酸の酸付加塩を
形成する。
単離又は精製のために医薬的に許容されない塩を使用す
ることも可能である。医薬的に許容される非毒性、塩の
みが治療的に使用され、そして従ったとえばそれらはコ
ラーゲンプロリンヒドロキシラーゼの阻害剤であり、そ
してコラーゲンの合成を低め;従って、それらは、たと
えば疾患、たとえば肝R1IA維症及び肝硬変、肺線維
症、腎硬化症、動脈硬化症、硬皮痙性骨髄線維症、慢性
関節炎、リウマチ性関節炎、肥大性廠痕形成、変形性関
節症又はケロイドの治療及び予防のための抗線維症剤と
して有用である。
ることも可能である。医薬的に許容される非毒性、塩の
みが治療的に使用され、そして従ったとえばそれらはコ
ラーゲンプロリンヒドロキシラーゼの阻害剤であり、そ
してコラーゲンの合成を低め;従って、それらは、たと
えば疾患、たとえば肝R1IA維症及び肝硬変、肺線維
症、腎硬化症、動脈硬化症、硬皮痙性骨髄線維症、慢性
関節炎、リウマチ性関節炎、肥大性廠痕形成、変形性関
節症又はケロイドの治療及び予防のための抗線維症剤と
して有用である。
プロリル−4−ヒドロキシラーゼ活性の測定:プロリル
ー4−ヒドロキシラーゼは、1. Tudera+an
など、 [Bur、J、Biochesi、52.
9〜16(1975))の方法に従って鳥の胚の硫酸ア
ンモニウム画分から単離され得る。プロリル−4−ヒド
ロキシラーゼ活性は、K、I、Kivirikkoなど
+j Methods in Enzymology井
紅245〜304 (1982)による2−オキソ−1
−l4C−グルタレートの脱カルボキシル化に基づかれ
る方法によってインビトロで決定され得ル。
ー4−ヒドロキシラーゼは、1. Tudera+an
など、 [Bur、J、Biochesi、52.
9〜16(1975))の方法に従って鳥の胚の硫酸ア
ンモニウム画分から単離され得る。プロリル−4−ヒド
ロキシラーゼ活性は、K、I、Kivirikkoなど
+j Methods in Enzymology井
紅245〜304 (1982)による2−オキソ−1
−l4C−グルタレートの脱カルボキシル化に基づかれ
る方法によってインビトロで決定され得ル。
IC,。値(酸素反応の50%減少を誘導する薬物濃度
)が、本発明の化合物のために決定され、そしてそれら
は約0.5 岸又はそれ以上に達する。
)が、本発明の化合物のために決定され、そしてそれら
は約0.5 岸又はそれ以上に達する。
インビトロでのコラーゲン産生:コラーゲン合成に対す
る式(1)の化合物の効果が、M、Ducheneなど
、、 FBBS Letter 135.119〜12
2(1981)に従って、卵胚の線維芽細胞培養物中に
おいてインビトロで研究され得る。24時間の薬物のイ
ンキュベーシヨンの後、培地中に分泌されるコラーゲン
タイプ■が、ラジオイムノアッセイ (たとえばCen
tre de Radioanalyse、 In5t
int Pa5teur、 Lyon+Franceか
らのキットにより)によって測定され得る。試験される
化合物によって誘発される、合成されたタイプIコラー
ゲンの阻害(%で)が計算れ得る。
る式(1)の化合物の効果が、M、Ducheneなど
、、 FBBS Letter 135.119〜12
2(1981)に従って、卵胚の線維芽細胞培養物中に
おいてインビトロで研究され得る。24時間の薬物のイ
ンキュベーシヨンの後、培地中に分泌されるコラーゲン
タイプ■が、ラジオイムノアッセイ (たとえばCen
tre de Radioanalyse、 In5t
int Pa5teur、 Lyon+Franceか
らのキットにより)によって測定され得る。試験される
化合物によって誘発される、合成されたタイプIコラー
ゲンの阻害(%で)が計算れ得る。
以下余白
プロ1ルー4−ヒドロキシー−ゼ2 の 、前記式(
1)の化合物が好ましく、ここでRオは水素又は低級ア
ルキル、シクロアルキル、アリール−低級アルキル、ヘ
テロアリール−低級アルキル及びアリール〔これらのそ
れぞれは、置換されていなくもよく、又はアミノ、低級
アルキルアミノ、ジー低級アルキルアミノ、N−ピペリ
ジノ、N−モルホリン、N−チオモルホリノ、N−ピペ
ラジノ、4−(低級アルキル又は低級アルカノイル)−
N−ピペラジノ、低級アルコキシ、CS〜C+a−アル
コキシ(ここでアルキル鎖は1〜5個のすキシ基によっ
て中断されている)、又はC1〜C0−アルキルアミノ
(ここでアルキル鎖は1〜5個のオキシ基及び/又は
イミノ基によって中断されている)によって置換されて
いてもよい〕から成る群の基を表わし;そしてR3は水
素を表わし:又はRオ及びR1は一緒になって1.3−
ブタジェン−1,4−イレンを表わす。
1)の化合物が好ましく、ここでRオは水素又は低級ア
ルキル、シクロアルキル、アリール−低級アルキル、ヘ
テロアリール−低級アルキル及びアリール〔これらのそ
れぞれは、置換されていなくもよく、又はアミノ、低級
アルキルアミノ、ジー低級アルキルアミノ、N−ピペリ
ジノ、N−モルホリン、N−チオモルホリノ、N−ピペ
ラジノ、4−(低級アルキル又は低級アルカノイル)−
N−ピペラジノ、低級アルコキシ、CS〜C+a−アル
コキシ(ここでアルキル鎖は1〜5個のすキシ基によっ
て中断されている)、又はC1〜C0−アルキルアミノ
(ここでアルキル鎖は1〜5個のオキシ基及び/又は
イミノ基によって中断されている)によって置換されて
いてもよい〕から成る群の基を表わし;そしてR3は水
素を表わし:又はRオ及びR1は一緒になって1.3−
ブタジェン−1,4−イレンを表わす。
本発明の好ましい態様は、式(1)の化合物であり、こ
こでAはN−低級アルキルカルバモイル、N、N−ジー
低級アルキルカルバモイル、N−ヒドロキシカルバモイ
ル、N−(C,〜C2゜)アルコキシ−N−(C,〜C
!。)−アルキルカルバモイル、基−C(=N−OH)
−NHz 、N−低級アルキルアミジノ基−C(=NH
)−NH(低級アルキル)、基−C(=NH) −0(
低級アルキル)、1−低級アルコキシ力ルボニルー1−
低級アルコキシ−メトキシカルボニル、03〜C7のア
ルカノイル、1−(N−ヒドロキシイミノ)−低級アル
キル、4.5−ジヒドロ−2−(チア、オキサ、イミダ
)ゾリル、2−(チア、イミダ)ゾリル、1−低級アル
キルー4.5−ジヒドロ−2−イミダゾリル、2−ベン
ゾチアゾリル、5−テトラゾリル、2−低級アルカノイ
ルー5−テトラゾリル又は2−(1−低級アルコキシ力
ルボニルー1−低級アルコキシ−メチル)−5−テトラ
ゾリルを表わし;又はR2が水素及び非置換性フェニル
以外のものである場合、Aはカルボキシ又はC7〜C2
゜−アルコキシカルボニルを表わし;R4はカルボキシ
、01〜C2゜−アルコキシカルボニル又は1−低級ア
ルコキシ力ルボニルー1−低級アルコキシ−メトキシカ
ルボニルを表わし、そして R2は水素、低級アルキル、Cs ”” C?−シクロ
アルキル、フェニル−低級アルキル又はフェニルを表わ
し、後者の2種の基において、フェニルが置換されてい
なくてもよく、又は低級アルキル、ヒドロキシ、低級ア
ルコキシ及び/又はハロゲンによって置換されていても
よく、但しAがN−ヒドロキシカルバモイルを表わし、
そしてR8がメトキシカルボニルである場合、R2は水
素以外のものであり;そしてR3は水素を表わし;又は
R2及びR1は一緒になって1,3−ブタジェン−1,
4−イレンを表わし;及びその互変異体及び医薬的に許
容されるその塩である。
こでAはN−低級アルキルカルバモイル、N、N−ジー
低級アルキルカルバモイル、N−ヒドロキシカルバモイ
ル、N−(C,〜C2゜)アルコキシ−N−(C,〜C
!。)−アルキルカルバモイル、基−C(=N−OH)
−NHz 、N−低級アルキルアミジノ基−C(=NH
)−NH(低級アルキル)、基−C(=NH) −0(
低級アルキル)、1−低級アルコキシ力ルボニルー1−
低級アルコキシ−メトキシカルボニル、03〜C7のア
ルカノイル、1−(N−ヒドロキシイミノ)−低級アル
キル、4.5−ジヒドロ−2−(チア、オキサ、イミダ
)ゾリル、2−(チア、イミダ)ゾリル、1−低級アル
キルー4.5−ジヒドロ−2−イミダゾリル、2−ベン
ゾチアゾリル、5−テトラゾリル、2−低級アルカノイ
ルー5−テトラゾリル又は2−(1−低級アルコキシ力
ルボニルー1−低級アルコキシ−メチル)−5−テトラ
ゾリルを表わし;又はR2が水素及び非置換性フェニル
以外のものである場合、Aはカルボキシ又はC7〜C2
゜−アルコキシカルボニルを表わし;R4はカルボキシ
、01〜C2゜−アルコキシカルボニル又は1−低級ア
ルコキシ力ルボニルー1−低級アルコキシ−メトキシカ
ルボニルを表わし、そして R2は水素、低級アルキル、Cs ”” C?−シクロ
アルキル、フェニル−低級アルキル又はフェニルを表わ
し、後者の2種の基において、フェニルが置換されてい
なくてもよく、又は低級アルキル、ヒドロキシ、低級ア
ルコキシ及び/又はハロゲンによって置換されていても
よく、但しAがN−ヒドロキシカルバモイルを表わし、
そしてR8がメトキシカルボニルである場合、R2は水
素以外のものであり;そしてR3は水素を表わし;又は
R2及びR1は一緒になって1,3−ブタジェン−1,
4−イレンを表わし;及びその互変異体及び医薬的に許
容されるその塩である。
本発明のもう1つの好ましい態様は、式(1)の化合物
であり、ここでAはN−ヒドロキシカルバモイル、N−
(C,〜C!。)−アルコキシ−N(C+〜C2゜)ア
ルキルカルバモイル、M−C(=N OH) −NH
z 、N−低級アルキルアミジノ基−C(=NH)−N
H(低級アルキル)、基−C(=NH) −0(低級ア
ルキル)、1−低級アルコキシカルボニル−1−低mア
ルコキシ−メトキシカルボニル、C1〜C7−アルコノ
イル、1−(N−ヒドロキシイミノ)−低級アルキル、
4.5−ジヒドロ−2−(チア、オキサ、イミダ)ゾリ
ル、2−(チア、イミダ)ゾリル、■−低級アルキルー
4.5−ジヒドロ−2−イミダゾリル、2−ベンゾチア
ゾリル、5−テトラゾリル、2−低級アルカノイル−5
−テトラゾリル又は2−(l−低級アルコキシカルボニ
ルー1−低級アルコキシ−メチル)−5−テトラゾリル
を表わし;又はR,が水素及びファニル以外のものであ
る場合、Aはカルボキシ又はC8〜C2゜−アルコキシ
カルボニルを表わし; R5はカルボキシ、01〜C2゜のアルコキシカルボニ
ル又は1−低級アルコキシカルボニル−1−低級アルコ
キシ−メトキシカルボニルを表わし、そして R,は水素、低級アルキル、C3〜C1のシクロアルキ
ル又はフェニルを表わし、但しAがN−ヒドロキシ力ル
バモイルを表わし、そしてR7がメトキシカルボニルで
ある場合、R2は水素以外のものであり;そしてR1は
水素を表わし;又はR2及びR1は一緒になって1.3
−ブタジェン−1,4−イレンを表わし;その互変異体
及び医薬的に許容されるその塩である。
であり、ここでAはN−ヒドロキシカルバモイル、N−
(C,〜C!。)−アルコキシ−N(C+〜C2゜)ア
ルキルカルバモイル、M−C(=N OH) −NH
z 、N−低級アルキルアミジノ基−C(=NH)−N
H(低級アルキル)、基−C(=NH) −0(低級ア
ルキル)、1−低級アルコキシカルボニル−1−低mア
ルコキシ−メトキシカルボニル、C1〜C7−アルコノ
イル、1−(N−ヒドロキシイミノ)−低級アルキル、
4.5−ジヒドロ−2−(チア、オキサ、イミダ)ゾリ
ル、2−(チア、イミダ)ゾリル、■−低級アルキルー
4.5−ジヒドロ−2−イミダゾリル、2−ベンゾチア
ゾリル、5−テトラゾリル、2−低級アルカノイル−5
−テトラゾリル又は2−(l−低級アルコキシカルボニ
ルー1−低級アルコキシ−メチル)−5−テトラゾリル
を表わし;又はR,が水素及びファニル以外のものであ
る場合、Aはカルボキシ又はC8〜C2゜−アルコキシ
カルボニルを表わし; R5はカルボキシ、01〜C2゜のアルコキシカルボニ
ル又は1−低級アルコキシカルボニル−1−低級アルコ
キシ−メトキシカルボニルを表わし、そして R,は水素、低級アルキル、C3〜C1のシクロアルキ
ル又はフェニルを表わし、但しAがN−ヒドロキシ力ル
バモイルを表わし、そしてR7がメトキシカルボニルで
ある場合、R2は水素以外のものであり;そしてR1は
水素を表わし;又はR2及びR1は一緒になって1.3
−ブタジェン−1,4−イレンを表わし;その互変異体
及び医薬的に許容されるその塩である。
特に好ましい式(1)の化合物は次のものであり、ここ
でAは遊離形又は保護された形でのN−ヒドロキシカル
バモイル、遊離形又は保護された形での5−テトラゾリ
ル、又はカルボキシ又は医薬的に許容されるそのエステ
ル基を表わし、R6はカルボキシ又は医薬的に許容され
るそのエステル基を表わし、R2及びR3は水素を表わ
し、又はR2及びR1は一緒になって1.3−ブタジェ
ン−1,4−イレンを表わし:但しAがN−ヒドロキシ
カルバモイルであり、そしてR5がメトキシカルボニル
である場合、又はAがカルボキシ又は低級アルコキシカ
ルボニルである場合、R2及びR1は一緒になって1,
3−ブタジェン−1゜4−イレンであるべきであり;そ
して医薬的に許容されるその塩である。
でAは遊離形又は保護された形でのN−ヒドロキシカル
バモイル、遊離形又は保護された形での5−テトラゾリ
ル、又はカルボキシ又は医薬的に許容されるそのエステ
ル基を表わし、R6はカルボキシ又は医薬的に許容され
るそのエステル基を表わし、R2及びR3は水素を表わ
し、又はR2及びR1は一緒になって1.3−ブタジェ
ン−1,4−イレンを表わし:但しAがN−ヒドロキシ
カルバモイルであり、そしてR5がメトキシカルボニル
である場合、又はAがカルボキシ又は低級アルコキシカ
ルボニルである場合、R2及びR1は一緒になって1,
3−ブタジェン−1゜4−イレンであるべきであり;そ
して医薬的に許容されるその塩である。
さらに好ましい式(1)の化合物は次のものであり、こ
こでAはN−低級アルキルカルバモイル、N、N−ジー
<g級アルキルカルバモイル、N−ヒドロキシカルバモ
イル、基−C(=N−OH)−NHt、N−低級アルキ
ルアミジノ基−C(=NH)−NH(低級アルキル)、
基−C(=NH)−O(低級アルキル)、C1〜C1−
アルカノイル、1−(N−ヒドロキシイミノ)−02〜
C1−アルキル、4.5−ジヒドロ−2−チアゾリル、
2−チアゾリル、4.5−ジヒドロ−2−イミダゾリル
、■−低級アルキルー4,5−ジヒドロ−2−イミダゾ
リル、2−イミダゾリル、4,5−ジヒドロ−2−オキ
サシリル、2−ベンゾチアゾリル又は5−テトラゾリル
を表わし、R1はカルボキシ又は低級アルコキシカルボ
ニルを表わし、R2は水素、低級アルキル、シクロアル
キル、フェニル−低級アルキル又はフェニルであり、後
者の2種の基において、フェニルは置換されなくてもよ
く又は低級アルキル、ヒドロキシ、低級アルコキシ及び
/又はハロゲンによって置換されていてもよく、但しA
がN−ヒドロキシカルバモイルを表わし、そしてR1が
メトキシカルボニルである場合、R2は水素以外のもの
であり;そしてR3は水素を表わし;又はR2及びR3
は一緒になって、1.3−ブタジェン−1,4−イレン
を表わし;その互変異体及び医薬的に許容されるその塩
である。
こでAはN−低級アルキルカルバモイル、N、N−ジー
<g級アルキルカルバモイル、N−ヒドロキシカルバモ
イル、基−C(=N−OH)−NHt、N−低級アルキ
ルアミジノ基−C(=NH)−NH(低級アルキル)、
基−C(=NH)−O(低級アルキル)、C1〜C1−
アルカノイル、1−(N−ヒドロキシイミノ)−02〜
C1−アルキル、4.5−ジヒドロ−2−チアゾリル、
2−チアゾリル、4.5−ジヒドロ−2−イミダゾリル
、■−低級アルキルー4,5−ジヒドロ−2−イミダゾ
リル、2−イミダゾリル、4,5−ジヒドロ−2−オキ
サシリル、2−ベンゾチアゾリル又は5−テトラゾリル
を表わし、R1はカルボキシ又は低級アルコキシカルボ
ニルを表わし、R2は水素、低級アルキル、シクロアル
キル、フェニル−低級アルキル又はフェニルであり、後
者の2種の基において、フェニルは置換されなくてもよ
く又は低級アルキル、ヒドロキシ、低級アルコキシ及び
/又はハロゲンによって置換されていてもよく、但しA
がN−ヒドロキシカルバモイルを表わし、そしてR1が
メトキシカルボニルである場合、R2は水素以外のもの
であり;そしてR3は水素を表わし;又はR2及びR3
は一緒になって、1.3−ブタジェン−1,4−イレン
を表わし;その互変異体及び医薬的に許容されるその塩
である。
特に好ましい式(1)の化合物は次のものであり、ここ
でAはN−ヒドロキシカルバモイル、5−テトラゾリル
又はカルボキシを表わし、R1はカルボキシ又は低級ア
ルコキシカルボニルであり、R2は水素又は低級アルキ
ルであるが、しかしAがN−ヒドロキシカルバモイルで
あり、そしてR8がメトキシカルボニルである場合、又
はAがカルボキシである場合、低級アルキルであるべき
であり;そしてR3は水素を表わし;そして医薬的に許
容されるその塩である。
でAはN−ヒドロキシカルバモイル、5−テトラゾリル
又はカルボキシを表わし、R1はカルボキシ又は低級ア
ルコキシカルボニルであり、R2は水素又は低級アルキ
ルであるが、しかしAがN−ヒドロキシカルバモイルで
あり、そしてR8がメトキシカルボニルである場合、又
はAがカルボキシである場合、低級アルキルであるべき
であり;そしてR3は水素を表わし;そして医薬的に許
容されるその塩である。
上記のすべては、例に記載される式(1)の好ましい化
合物及び医薬的に許容されるその塩である。
合物及び医薬的に許容されるその塩である。
式(1)の化合物は、それ自体既知の方法によって、た
とえば下記の一般式: 〔式中、基B及びCの少なくとも1つが式(I)の基A
及びR8以外のものであるという条件で、Bは、基Aに
転位され得る基であり、又は式(I)下で定義されたよ
うな基Aであり、Cは基R,に転位され得る基であり、
又は式(1)下で定義されたような基Aであり、そして
Rt及びR3が式(1)下で定義されたものである〕で
表わされる化合物と基A及び/又はR1を形成する試薬
とを反応せしめ;そして/又は所望により、得られた式
(I)の化合物をもう1つの式(1)の化合物に転換し
、そして/又は得られた塩を遊離化合物又は他の塩に転
換し、そして/又は塩形成特性を有する、得られた式(
1)の遊離化合物を塩に転換し、そして/又は得られた
立体異性体又は光学異性体の混合物、たとえばジアステ
レオマーの混合物をそれぞれ個々の立体異性体、光学異
性体又は鏡像体混合物に分離し、そして/又は鏡像体混
合物、たとえばラセミ化合物を光学異性体に分離するこ
とによって製造され得る。
とえば下記の一般式: 〔式中、基B及びCの少なくとも1つが式(I)の基A
及びR8以外のものであるという条件で、Bは、基Aに
転位され得る基であり、又は式(I)下で定義されたよ
うな基Aであり、Cは基R,に転位され得る基であり、
又は式(1)下で定義されたような基Aであり、そして
Rt及びR3が式(1)下で定義されたものである〕で
表わされる化合物と基A及び/又はR1を形成する試薬
とを反応せしめ;そして/又は所望により、得られた式
(I)の化合物をもう1つの式(1)の化合物に転換し
、そして/又は得られた塩を遊離化合物又は他の塩に転
換し、そして/又は塩形成特性を有する、得られた式(
1)の遊離化合物を塩に転換し、そして/又は得られた
立体異性体又は光学異性体の混合物、たとえばジアステ
レオマーの混合物をそれぞれ個々の立体異性体、光学異
性体又は鏡像体混合物に分離し、そして/又は鏡像体混
合物、たとえばラセミ化合物を光学異性体に分離するこ
とによって製造され得る。
基Aに転化され得る基Bは好ましくは、遊離又は機能的
に変性されたカルボキシであり、またたとえば遊離又は
機能的に変性されたホルミルもである。機能的に変性さ
れたカルボキシは、たとえばシアノ、エステル化された
カルボキシ、たとえハ低級アルコキシカルボニル、ハロ
カルボニル、たとえばクロロカルボニル(−CoCj!
) 、(Ulアルコキシカルボニルハロゲン化物、た
とえばエチルクロロホルメート又はインダート低級アル
カノイルハロゲン化物、たとえば塩化ピバロイルに由来
した無水物又は混合された無水物である。多くの場合、
たとえばアルカリ金属のアルコラード、たとえばナトリ
ウムメトキシド又はエトキシドとの反応により、最初に
シアノをイミノ−低級アルコキシカルボニルに転換する
ことが好都合である(cp、chem、Rev、61.
179(1961) ) 、イミノ−低級アルコキシカ
ルボニルは、通常、シアノよりも反応性であり、そして
その場で調製され得又は必要なら、下記のようにして他
の基Aに導びく転換の1つにゆだねられる前、単離され
得る。
に変性されたカルボキシであり、またたとえば遊離又は
機能的に変性されたホルミルもである。機能的に変性さ
れたカルボキシは、たとえばシアノ、エステル化された
カルボキシ、たとえハ低級アルコキシカルボニル、ハロ
カルボニル、たとえばクロロカルボニル(−CoCj!
) 、(Ulアルコキシカルボニルハロゲン化物、た
とえばエチルクロロホルメート又はインダート低級アル
カノイルハロゲン化物、たとえば塩化ピバロイルに由来
した無水物又は混合された無水物である。多くの場合、
たとえばアルカリ金属のアルコラード、たとえばナトリ
ウムメトキシド又はエトキシドとの反応により、最初に
シアノをイミノ−低級アルコキシカルボニルに転換する
ことが好都合である(cp、chem、Rev、61.
179(1961) ) 、イミノ−低級アルコキシカ
ルボニルは、通常、シアノよりも反応性であり、そして
その場で調製され得又は必要なら、下記のようにして他
の基Aに導びく転換の1つにゆだねられる前、単離され
得る。
基R1に転位され得る基Cは、好ましくは機能的に変性
されたカルボキシ、たとえばシアノ、ハロカルボニル又
は上記に定義されたようなカルボキシとの混合無水物で
ある。さらに、たとえばハロゲン、メチル、ヒドロキシ
メチル、エーテル化された又はエステル化されたヒドロ
キシメチル、ハロゲンメチル、遊離又は機能的に変性さ
れたホルミル又は低級アルカノイルも考慮される。
されたカルボキシ、たとえばシアノ、ハロカルボニル又
は上記に定義されたようなカルボキシとの混合無水物で
ある。さらに、たとえばハロゲン、メチル、ヒドロキシ
メチル、エーテル化された又はエステル化されたヒドロ
キシメチル、ハロゲンメチル、遊離又は機能的に変性さ
れたホルミル又は低級アルカノイルも考慮される。
基A及び/又はR3を形成する適切な試薬のための例は
、下記に見出され得、ここでいくつかの可能性ある転換
、BL−A及びC→R1が記載されている。
、下記に見出され得、ここでいくつかの可能性ある転換
、BL−A及びC→R1が記載されている。
式(I)〔ここでAはカルバモイル、N−低級アルキル
カルバモイル又はN、N−ジー低級アルキルカルバモイ
ルを表わす〕の化合物は、式(II)又は(I)〔ここ
でB (A)はカルボキシ、官能的に変性されたカルボ
キシ又は低級アルコキシカルボニルを表わす〕のいづれ
かの対応する化合物とアンモニア、モノ−又はジー低級
アルキルアミンとをそれぞれ反応せしめることによって
調製され得る。
カルバモイル又はN、N−ジー低級アルキルカルバモイ
ルを表わす〕の化合物は、式(II)又は(I)〔ここ
でB (A)はカルボキシ、官能的に変性されたカルボ
キシ又は低級アルコキシカルボニルを表わす〕のいづれ
かの対応する化合物とアンモニア、モノ−又はジー低級
アルキルアミンとをそれぞれ反応せしめることによって
調製され得る。
さらに、式(I)〔ここでAはカルバモイルを表わす〕
の化合物は、たとえば96%硫酸による加水分解により
、又はアルカリ金属の水酸化物、たとえば希NaOH溶
液、及び過酸化水素による処理により、たとえば対応す
る式(II)〔式中、Bはシアノである〕の化合物から
調製され得る。
の化合物は、たとえば96%硫酸による加水分解により
、又はアルカリ金属の水酸化物、たとえば希NaOH溶
液、及び過酸化水素による処理により、たとえば対応す
る式(II)〔式中、Bはシアノである〕の化合物から
調製され得る。
式I(n)(式中、A (B)及び/又はR1は、(低
級)アルコキシカルボニル又は’Eta (低級)アル
コキシカルボニル、すなわちエステル化されたカルボキ
シを表わす〕の化合物は、また、式(II)〔式中、B
及び/又はR1はシアノを表わす〕の化合物と任意の置
換(低級)アルカノールとを反応せしめ、続いて水によ
る加水分解によっても製造され得る。
級)アルコキシカルボニル又は’Eta (低級)アル
コキシカルボニル、すなわちエステル化されたカルボキ
シを表わす〕の化合物は、また、式(II)〔式中、B
及び/又はR1はシアノを表わす〕の化合物と任意の置
換(低級)アルカノールとを反応せしめ、続いて水によ
る加水分解によっても製造され得る。
式(I)〔式中、Aはヒドロキシイミノ−カルバモイル
を表わす〕の化合物は、たとえば式(H)又は(I)〔
式中、B (A)はシアノ又はイミノ−低級アルコキシ
カルボニルを表わす〕のいづれかの対応する化合物とヒ
ドロキシルアミン又は塩、たとえば塩酸塩又は硫酸塩と
を反応せしめることによって製造され得る。
を表わす〕の化合物は、たとえば式(H)又は(I)〔
式中、B (A)はシアノ又はイミノ−低級アルコキシ
カルボニルを表わす〕のいづれかの対応する化合物とヒ
ドロキシルアミン又は塩、たとえば塩酸塩又は硫酸塩と
を反応せしめることによって製造され得る。
式(I)〔式中、Aはアミジノ又はN−低級アルキルア
ミジノを表わす〕の化合物は、式(II)又は(I)〔
式中、B (A)はシアノ又はイミノ−低級アルコキシ
カルボニルを表わす〕のいづれかの対応する化合物とア
ンモニア又は低級アルキルアミンとをそれぞれ反応せし
めることによって製造され得る。
ミジノを表わす〕の化合物は、式(II)又は(I)〔
式中、B (A)はシアノ又はイミノ−低級アルコキシ
カルボニルを表わす〕のいづれかの対応する化合物とア
ンモニア又は低級アルキルアミンとをそれぞれ反応せし
めることによって製造され得る。
式(I)〔式中、Aは4,5−ジヒドロ−2−チアシル
、4,5−ジヒドロ−2−オキサシリル、4.5−ジヒ
ドロ−2−イミダゾリル、1−低級アルキルー4,5−
ジヒドロ−2−イミダゾリル、2−ベンゾチアゾリル、
2−ベンズオキサシリル又は2−ベンズイミダゾリルを
表わす〕の化合物は、一般的に、たとえば式(II)又
は(I)〔式中、B (A)はカルボキシ又は好ましく
は上記に定義されたような官能的に変性されたカルボキ
シ、特にシアノ又はイミノ−低級アルコキシカルボニル
を表わし〕のいづれかの対応する化合物と2−アミノエ
タンチオール、2−アミノエタノール、1.2−ジアミ
ノエタン、1−(低級アルキルアミノ)−2−アミノエ
タン、2−アミノチオフェノール、2−アミノフェノー
ル又は1.2−ジアミノベンゼンとをそれぞれ反応せし
めることによって製造され得る(cp、chem、Re
v、61.179〜211(1960)又はRodd’
s Chemistry of Carbon Com
pounds。
、4,5−ジヒドロ−2−オキサシリル、4.5−ジヒ
ドロ−2−イミダゾリル、1−低級アルキルー4,5−
ジヒドロ−2−イミダゾリル、2−ベンゾチアゾリル、
2−ベンズオキサシリル又は2−ベンズイミダゾリルを
表わす〕の化合物は、一般的に、たとえば式(II)又
は(I)〔式中、B (A)はカルボキシ又は好ましく
は上記に定義されたような官能的に変性されたカルボキ
シ、特にシアノ又はイミノ−低級アルコキシカルボニル
を表わし〕のいづれかの対応する化合物と2−アミノエ
タンチオール、2−アミノエタノール、1.2−ジアミ
ノエタン、1−(低級アルキルアミノ)−2−アミノエ
タン、2−アミノチオフェノール、2−アミノフェノー
ル又は1.2−ジアミノベンゼンとをそれぞれ反応せし
めることによって製造され得る(cp、chem、Re
v、61.179〜211(1960)又はRodd’
s Chemistry of Carbon Com
pounds。
第rVc 巻、 l’l、F、八n5ell (Ed
、)、Elsevier、Amsterdamなど、
1986.156〜158.197〜200.317〜
320゜347〜348.429及び456ページ〕。
、)、Elsevier、Amsterdamなど、
1986.156〜158.197〜200.317〜
320゜347〜348.429及び456ページ〕。
式(I)C式中、Aは5−テトラゾリルを表わす〕の化
合物は、たとえば式(II)〔式中、Bは、たとえばシ
アノ、又は上記のようにしてイミノ−低級アルコキシカ
ルボニルの形で活性化されたシアノを表わす〕の化合物
とアジ化水素又はアジ化水素の源として作用する化合物
、たとえばアジ化水素の金属又はアンモニウム塩、好ま
しくはアルカリ金属のアジド、たとえばアジ化ナトリウ
ム又はアジ化アンモニウムとを縮合することによって製
造され得る。前記縮合は、たとえばBartonなど、
。
合物は、たとえば式(II)〔式中、Bは、たとえばシ
アノ、又は上記のようにしてイミノ−低級アルコキシカ
ルボニルの形で活性化されたシアノを表わす〕の化合物
とアジ化水素又はアジ化水素の源として作用する化合物
、たとえばアジ化水素の金属又はアンモニウム塩、好ま
しくはアルカリ金属のアジド、たとえばアジ化ナトリウ
ム又はアジ化アンモニウムとを縮合することによって製
造され得る。前記縮合は、たとえばBartonなど、
。
Comprehensive Organic Che
n+1stry第4巻、407〜409ページ(197
9)に記載されているそれ自体既知の方法に従って、好
ましくは酸、たとえば塩酸又は塩化アンモニウムの存在
下で行なわれる(cp。
n+1stry第4巻、407〜409ページ(197
9)に記載されているそれ自体既知の方法に従って、好
ましくは酸、たとえば塩酸又は塩化アンモニウムの存在
下で行なわれる(cp。
また、5ynthesis 1973+ 80及びJ、
^mer、chem、Soc。
^mer、chem、Soc。
銭、 3908 (1958)を参照のこと〕。
式(I)〔式中、AはN−ヒドロキシカルバモイルを表
わす〕の化合物は、たとえば式(II)又は(I)〔式
中、B (A)は、カルボキシ、上記に定義されたよう
な官能的に変性されたカルボキシ又は低級アルコキシカ
ルボニルを表わす〕のいづれかの対応する化合物とヒド
ロキシルアミン又はその塩とを反応せしめることによっ
て製造され得る。例として、低級アルコキシカルボニル
は、塩基性条件下でヒドロキシルアミンにより処理され
得る(cp、J、Med、CheIll、22.589
(1979) )。
わす〕の化合物は、たとえば式(II)又は(I)〔式
中、B (A)は、カルボキシ、上記に定義されたよう
な官能的に変性されたカルボキシ又は低級アルコキシカ
ルボニルを表わす〕のいづれかの対応する化合物とヒド
ロキシルアミン又はその塩とを反応せしめることによっ
て製造され得る。例として、低級アルコキシカルボニル
は、塩基性条件下でヒドロキシルアミンにより処理され
得る(cp、J、Med、CheIll、22.589
(1979) )。
式(I)〔式中、AはN (CI 〜Cto)アルコ
キシ−N (Cl −’ C2゜)アルキルカルバモ
イルを表わす〕の化合物は、たとえば式(I)〔式中、
AはN−ヒドロキシカルバモイルを表わす〕のもう1つ
の化合物とCI −C,。−アルカノールとをたとえば
酸、たとえば硫酸の存在下で反応せしめることによって
製造され得る。
キシ−N (Cl −’ C2゜)アルキルカルバモ
イルを表わす〕の化合物は、たとえば式(I)〔式中、
AはN−ヒドロキシカルバモイルを表わす〕のもう1つ
の化合物とCI −C,。−アルカノールとをたとえば
酸、たとえば硫酸の存在下で反応せしめることによって
製造され得る。
式(I) 〔式中、Aは2−チアゾリル、2−オキサシ
リル、2−イミダゾリル又番まl−アシル−2−イミダ
ゾリルを表わす〕の化合物は、たとえば式(n)又は(
I) 〔式中、B (A)は4.5−ジヒドロ−2−チ
アゾリル、4.5−ジヒドロ−2−オキサシリル、4.
5−ジヒドロ−2−イミダゾリル又は1−アシル−4,
5−ジヒドロ−2−イミダゾリルをそれぞれ表わす〕の
いづれかの対応する化合物を酸化することによって製造
され得る〔たとえばJ、A+++er、 Cheap、
Soc、96.2463 (1974)を参照のこと
〕。
リル、2−イミダゾリル又番まl−アシル−2−イミダ
ゾリルを表わす〕の化合物は、たとえば式(n)又は(
I) 〔式中、B (A)は4.5−ジヒドロ−2−チ
アゾリル、4.5−ジヒドロ−2−オキサシリル、4.
5−ジヒドロ−2−イミダゾリル又は1−アシル−4,
5−ジヒドロ−2−イミダゾリルをそれぞれ表わす〕の
いづれかの対応する化合物を酸化することによって製造
され得る〔たとえばJ、A+++er、 Cheap、
Soc、96.2463 (1974)を参照のこと
〕。
式(I)〔式中、Aは4(5)−イミダゾリルを表わす
〕の化合物は、たとえば式(II)〔式中、Bはアセチ
ルである〕の対応する化合物と低級アルキルメタンイミ
デート、たとえばIC(・N11)OC,IISとをア
ンモニアの存在下で反応せしめることによって製造され
得る(Arch、Pharm 307.972(197
4)を参照のこと〕。
〕の化合物は、たとえば式(II)〔式中、Bはアセチ
ルである〕の対応する化合物と低級アルキルメタンイミ
デート、たとえばIC(・N11)OC,IISとをア
ンモニアの存在下で反応せしめることによって製造され
得る(Arch、Pharm 307.972(197
4)を参照のこと〕。
式(n)又は(I) 〔式中、B (A)は低級アルカ
ノイルを表わす〕のいづれかの化合物は、たとえば式(
II) 〔式中、Bは好ましくはシアノである〕の化合
物を好ましくは弐C1〜C6−アルキル−Mg −Ha
j! (Haffi =ハロゲン〕のグリニヤール化
合物とを反応せしめることによって製造され得る。酸に
よる加水分解の後、所望とするケト化合物が得られる。
ノイルを表わす〕のいづれかの化合物は、たとえば式(
II) 〔式中、Bは好ましくはシアノである〕の化合
物を好ましくは弐C1〜C6−アルキル−Mg −Ha
j! (Haffi =ハロゲン〕のグリニヤール化
合物とを反応せしめることによって製造され得る。酸に
よる加水分解の後、所望とするケト化合物が得られる。
式(I)〔式中、Aは1−(N−ヒドロキシイミノ)−
低級アルキルを表わす〕の化合物は、たとえば式(II
)又は(I)〔式中、B (A)はホルミル又は02〜
C1−アルカノイルを表わす〕のいづれかの対応する化
合物とヒドロキシルアミン又はその塩とを反応せしめる
ことによって製造され得る。
低級アルキルを表わす〕の化合物は、たとえば式(II
)又は(I)〔式中、B (A)はホルミル又は02〜
C1−アルカノイルを表わす〕のいづれかの対応する化
合物とヒドロキシルアミン又はその塩とを反応せしめる
ことによって製造され得る。
式(I)〔式中、Aはl−アシル−(2又は4)−イミ
ダゾリル、1−アシル−2−ベンズイミダゾリル、2−
アシル−5−テトラゾリル、0−アシル−又はN、O−
ジアシル−N−ヒドロキシカルバモイルを表わす〕の化
合物は、たとえば式(I)〔式中、Aは〔2又は4(5
))−イミダゾリル、2−ベンズイミダゾリル、5−テ
トラゾリル又はN−ヒドロキシカルバモイルを表わす〕
ノモう1つの化合物と所望とするアシル基を導びく適切
なアシル化剤、たとえば上記に記載の酸ハロゲン化物、
無水物又は混合無水物とを反応せしめることによって製
造され得る。
ダゾリル、1−アシル−2−ベンズイミダゾリル、2−
アシル−5−テトラゾリル、0−アシル−又はN、O−
ジアシル−N−ヒドロキシカルバモイルを表わす〕の化
合物は、たとえば式(I)〔式中、Aは〔2又は4(5
))−イミダゾリル、2−ベンズイミダゾリル、5−テ
トラゾリル又はN−ヒドロキシカルバモイルを表わす〕
ノモう1つの化合物と所望とするアシル基を導びく適切
なアシル化剤、たとえば上記に記載の酸ハロゲン化物、
無水物又は混合無水物とを反応せしめることによって製
造され得る。
5−テトラゾリルをアシル化するために考えられるアシ
ル化剤は、たとえば式c1−C(=O)−X (N6低
級アルキル、アリール、O(低級アルキル)、0(アリ
ール))の酸塩化物、イソシアネート、たとえばフェニ
ルイソシアネート、ケテンダイマー又は臭化シアンであ
る。通常、5−テトラゾリルは、2−位置でアシル化(
同様にアルキル化)される。
ル化剤は、たとえば式c1−C(=O)−X (N6低
級アルキル、アリール、O(低級アルキル)、0(アリ
ール))の酸塩化物、イソシアネート、たとえばフェニ
ルイソシアネート、ケテンダイマー又は臭化シアンであ
る。通常、5−テトラゾリルは、2−位置でアシル化(
同様にアルキル化)される。
ヒドロキサム酸(仝N−ヒドロキシカルバモイル)をア
シル化するために考えられるアシル化剤は、たとえば酸
塩化物、酸無水物、イソシアネート、ケテンダイマー又
はジー低級アルキルアセタールである。
シル化するために考えられるアシル化剤は、たとえば酸
塩化物、酸無水物、イソシアネート、ケテンダイマー又
はジー低級アルキルアセタールである。
N−ヒドロキシカルバモイルの0−モノアルキル化は、
たとえば塩基、たとえばナトリウムメトキシドの存在下
で低級アルキルハロゲン化物ニよる処理により行なわれ
る。N−ヒドロキシカルバモイルのジアルキル化は、た
とえばそのカリウム塩と低級アルキルハロゲン化物とを
反応せしめることによって達成され得る。
たとえば塩基、たとえばナトリウムメトキシドの存在下
で低級アルキルハロゲン化物ニよる処理により行なわれ
る。N−ヒドロキシカルバモイルのジアルキル化は、た
とえばそのカリウム塩と低級アルキルハロゲン化物とを
反応せしめることによって達成され得る。
式(I)〔式中、R,(及び/又はA)は医薬的に許容
されるエステル基である〕の化合物は、たとえば式(I
)〔式中、Rl (及び/又はA)はカルボキシを表わ
す〕の化合物、又は式(II)〔式中、Cは官能的に変
性されたカルボキシを表わし、そしてBは式(1)のた
めに定義されたような基Aである(又は官能的に変性さ
れたカルボキシである))の化合物とその対応するアル
コールとを反応せしめることによって製造される。
されるエステル基である〕の化合物は、たとえば式(I
)〔式中、Rl (及び/又はA)はカルボキシを表わ
す〕の化合物、又は式(II)〔式中、Cは官能的に変
性されたカルボキシを表わし、そしてBは式(1)のた
めに定義されたような基Aである(又は官能的に変性さ
れたカルボキシである))の化合物とその対応するアル
コールとを反応せしめることによって製造される。
遊離カルボキシ基のエステル化は、好都合には、使用さ
れる過剰のアルコール及び/又は不活性溶媒中において
、酸性水−除去触媒、たとえば陽性酸、たとえば硫酸、
又はルイス酸、たとえば三弗化硼素エテレートの存在下
で起こり、必要ならば、そしてたとえば反応の間、遊離
される水の共沸蒸留による除去を伴う。その反応はまた
、水結合性縮合剤、たとえば適切に置換されたカルボジ
イミド、たとえばN、N’−ジシクロへキシルカルボジ
イミドの存在下で、場合によっては不活性有機溶媒中に
おいて行なわれ得る。官能的に変性されたカルボキシ、
たとえば混合された無水物又は酸ハロゲン化物は、酸結
合剤、たとえば有機塩基、特に第三窒素塩基、たとえば
トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン又はピ
リジン、又はまた無機塩基、たとえばアルカリ金属又は
アルカリ土類金属の水酸化物又は炭酸塩、たとえばナト
リウム、カリウム又はカルシウムの水酸化物又は炭酸塩
の存在下で、アルコール又はアルコ−ラード、たとえば
アルカリ金属の低級アルコキシドと反応せしめられる。
れる過剰のアルコール及び/又は不活性溶媒中において
、酸性水−除去触媒、たとえば陽性酸、たとえば硫酸、
又はルイス酸、たとえば三弗化硼素エテレートの存在下
で起こり、必要ならば、そしてたとえば反応の間、遊離
される水の共沸蒸留による除去を伴う。その反応はまた
、水結合性縮合剤、たとえば適切に置換されたカルボジ
イミド、たとえばN、N’−ジシクロへキシルカルボジ
イミドの存在下で、場合によっては不活性有機溶媒中に
おいて行なわれ得る。官能的に変性されたカルボキシ、
たとえば混合された無水物又は酸ハロゲン化物は、酸結
合剤、たとえば有機塩基、特に第三窒素塩基、たとえば
トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン又はピ
リジン、又はまた無機塩基、たとえばアルカリ金属又は
アルカリ土類金属の水酸化物又は炭酸塩、たとえばナト
リウム、カリウム又はカルシウムの水酸化物又は炭酸塩
の存在下で、アルコール又はアルコ−ラード、たとえば
アルカリ金属の低級アルコキシドと反応せしめられる。
さらtこ、式(I)〔式中、R,(及び/又はA)は医
薬的に許容されるエステル基である〕の化合物は、たと
えば下記の式(■): R,−Z (m) 〔式中、Zはヒドロキシ又はエステル化された反応性ヒ
ドロキシ基を表わし、そしてR4は上記に定義されたエ
ステルラジカルのいづれかを表わす〕で表わされるエス
テル化剤により、式(I)〔式中、R1(及び/又はA
)はカルボキシを表わす〕のもう1つの化合物を縮合す
ることによって製造され得る。
薬的に許容されるエステル基である〕の化合物は、たと
えば下記の式(■): R,−Z (m) 〔式中、Zはヒドロキシ又はエステル化された反応性ヒ
ドロキシ基を表わし、そしてR4は上記に定義されたエ
ステルラジカルのいづれかを表わす〕で表わされるエス
テル化剤により、式(I)〔式中、R1(及び/又はA
)はカルボキシを表わす〕のもう1つの化合物を縮合す
ることによって製造され得る。
式(III)の化合物中のエステル化された反応性ヒド
ロキシ基Zは、無機又は有機の強酸によってエステル化
されたヒドロキシ基である。対応するZ基は特にハロゲ
ン、たとえば塩素、臭素又は好ましくはヨウ素、またス
ルホニルオキシ基、たとえば低級アルキル−又はアリー
ルスルホニルオキシ基、たとえばメタン−、エタン−、
ベンゼン−又はトルエン−スルホニルオキシ基である。
ロキシ基Zは、無機又は有機の強酸によってエステル化
されたヒドロキシ基である。対応するZ基は特にハロゲ
ン、たとえば塩素、臭素又は好ましくはヨウ素、またス
ルホニルオキシ基、たとえば低級アルキル−又はアリー
ルスルホニルオキシ基、たとえばメタン−、エタン−、
ベンゼン−又はトルエン−スルホニルオキシ基である。
式(■)〔式中、Zはエステル化された反応性ヒドロキ
シ基を表わす〕の化合物による、式(I)の化合物中の
カルボキシ基R+c及び/又はA)(場合によっては塩
形の)のエステル化は、たとえば有機塩基、たとえば有
機アミン、たとえば第三アミン、たとえばトリー低級ア
ルキルアミン、たとえばトリメチルアミン、トリエチル
アミン又はエチル−ジ−イソプロピルアミン、N、N−
ジー低級−アルキル−アニリン、たとえばN、N−ジメ
チル−アニリン、環状第三アミン、たとえばN−低級−
アルキル化モルホリン、たとえばN−メチル−モルホリ
ン、ピリジン型の塩基、たとえばピリジン、無機塩基、
たとえば水酸化物、炭酸塩又はアルカリ金属又はアルカ
リ土類金属の炭酸水素塩、たとえばナトリウム、カリウ
ム又はカルシウムの水酸化物、炭酸塩又は炭酸水素塩、
又は第三アンモニウム塩基、たとえばテトラアルキルア
ンモニウムの水酸化物、炭酸塩又は炭酸水素塩(たとえ
ばこのアルキルは、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル又は同様のものである)の存在下で、そ
れ自体既知の方法で行なわれる。
シ基を表わす〕の化合物による、式(I)の化合物中の
カルボキシ基R+c及び/又はA)(場合によっては塩
形の)のエステル化は、たとえば有機塩基、たとえば有
機アミン、たとえば第三アミン、たとえばトリー低級ア
ルキルアミン、たとえばトリメチルアミン、トリエチル
アミン又はエチル−ジ−イソプロピルアミン、N、N−
ジー低級−アルキル−アニリン、たとえばN、N−ジメ
チル−アニリン、環状第三アミン、たとえばN−低級−
アルキル化モルホリン、たとえばN−メチル−モルホリ
ン、ピリジン型の塩基、たとえばピリジン、無機塩基、
たとえば水酸化物、炭酸塩又はアルカリ金属又はアルカ
リ土類金属の炭酸水素塩、たとえばナトリウム、カリウ
ム又はカルシウムの水酸化物、炭酸塩又は炭酸水素塩、
又は第三アンモニウム塩基、たとえばテトラアルキルア
ンモニウムの水酸化物、炭酸塩又は炭酸水素塩(たとえ
ばこのアルキルは、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル又は同様のものである)の存在下で、そ
れ自体既知の方法で行なわれる。
式(I)〔式中、R1(及び/又はA)はカルボキシで
ある〕の化合物は、好ましくは最初に、前記有機又は無
機塩基の1つの塩、特にナトリウム又はカリウム塩に転
換され、そして次に式(III)の化合物と反応せしめ
られる。式(III)の化合物は既知であり、又は当業
界で良く知られた方法によって製造され得る。
ある〕の化合物は、好ましくは最初に、前記有機又は無
機塩基の1つの塩、特にナトリウム又はカリウム塩に転
換され、そして次に式(III)の化合物と反応せしめ
られる。式(III)の化合物は既知であり、又は当業
界で良く知られた方法によって製造され得る。
式(■)〔式中、Zはエステル化された反応性ヒドロキ
シ基である〕の化合物は、その場で製造され得る。たと
えば、式(■)〔式中、Zはクロロである〕の化合物は
、溶媒、たとえばアセトン又はアセトニトリル中におい
て沃化ナトリウムによる処理によって、式(■)〔式中
、Zはヨードである〕の化合物に転換され得;又はエス
テル化は、沃化ナトリウムの存在下で式(Ill)のク
ロロ化合物により行なわれ得る。
シ基である〕の化合物は、その場で製造され得る。たと
えば、式(■)〔式中、Zはクロロである〕の化合物は
、溶媒、たとえばアセトン又はアセトニトリル中におい
て沃化ナトリウムによる処理によって、式(■)〔式中
、Zはヨードである〕の化合物に転換され得;又はエス
テル化は、沃化ナトリウムの存在下で式(Ill)のク
ロロ化合物により行なわれ得る。
カルボキシの医薬的に許容されるそのエステル基への転
換のための上記と同じ反応が、A=5−テトラゾリルの
A=保護された5−テトラゾリルへの転換のために適用
され得る。たとえば式(I)〔式中、Aは2− (1−
(C1””cps−アルコキシカルボニル)−1−低級
アルコキシ−メチルツー5−テトラゾリルを表わす〕の
化合物は、式(1)〔式中、Aは5−テトラゾリルを表
わす〕のもう1つの化合物とC8〜Cl5−アルキル2
−バロー2−低級アルコキシアセテートとをたとえば塩
基、たとえばトリエチルアミンの存在下で反応せしめる
ことによって製造され得る。
換のための上記と同じ反応が、A=5−テトラゾリルの
A=保護された5−テトラゾリルへの転換のために適用
され得る。たとえば式(I)〔式中、Aは2− (1−
(C1””cps−アルコキシカルボニル)−1−低級
アルコキシ−メチルツー5−テトラゾリルを表わす〕の
化合物は、式(1)〔式中、Aは5−テトラゾリルを表
わす〕のもう1つの化合物とC8〜Cl5−アルキル2
−バロー2−低級アルコキシアセテートとをたとえば塩
基、たとえばトリエチルアミンの存在下で反応せしめる
ことによって製造され得る。
出発材料のほとんどは、既知の2,5−ジ−カルボキシ
−ピリジンの誘導体である。また4−又は3.4−位置
に追加の置換基を有する5−カルボキシ−2−シアノ−
ピリジンは、Re1ssert −Henze法又はそ
れに関係する同じ方法(Ileterocy−cles
22.2375(1984)を参照のこと〕に従って
、3−ホルミル−ピリジン又は3−カルボキシ−ピリジ
ン(それぞれは、任意に4−又は4,5−位置で置換さ
れている)から、(1)対応する3−カルポキシーピリ
ジンーN−オキシドへの酸化及び(2)後者を特にアル
カリ金属のシアン化物、たとえばシアン化ナトリウム又
はシアン化カリウムにより処理することによって製造さ
れ得る。たとえばその置換されたピリジン−N−オキシ
ドのシアン化は、それらとトリメチルシリルシアン化物
/及びジメチルカルバモイル塩化物とを反応せしめるこ
とによって1−メトキシピリジニウムイオンを通して達
成され得る(Heterocycles 22+93(
1984)を参照のこと〕。
−ピリジンの誘導体である。また4−又は3.4−位置
に追加の置換基を有する5−カルボキシ−2−シアノ−
ピリジンは、Re1ssert −Henze法又はそ
れに関係する同じ方法(Ileterocy−cles
22.2375(1984)を参照のこと〕に従って
、3−ホルミル−ピリジン又は3−カルボキシ−ピリジ
ン(それぞれは、任意に4−又は4,5−位置で置換さ
れている)から、(1)対応する3−カルポキシーピリ
ジンーN−オキシドへの酸化及び(2)後者を特にアル
カリ金属のシアン化物、たとえばシアン化ナトリウム又
はシアン化カリウムにより処理することによって製造さ
れ得る。たとえばその置換されたピリジン−N−オキシ
ドのシアン化は、それらとトリメチルシリルシアン化物
/及びジメチルカルバモイル塩化物とを反応せしめるこ
とによって1−メトキシピリジニウムイオンを通して達
成され得る(Heterocycles 22+93(
1984)を参照のこと〕。
置換基Rz、たとえば低級アルキル、シクロアルキル、
アリール−低級アルキル、ヘテロアリール−低級アルキ
ル又はアリールの3−ホルミル−ピリジンの位置4への
導入は、たとえば次のようにして行なわれ得る: (1
)たとえば1.2−エチレンジオキシアセクールとして
のホルミル基の保31;(2)クロロホルム酸のフェニ
ルエステルによる処理、N−フェニルオキシカルボニル
−ピリジニウム塩の産生i (3)RJgHal C
R2=置換基、Ha1=ハロゲン〕による処理、4
Rt−1,4−ジヒドロピリジンの産生; (4)たと
えば硫黄、たとえばS8による酸化、遊離4−R2−置
換のピリジン(そのフェニルオキシカルボニル置換基は
分離される)の産生;及び(5)たとえば酸による加水
分解によるホルミル基の保護解除、目的とする4−R1
−3−ホルミル−ピリジンの産生(Heterocyc
les 22.339(1984)を参照のこと)。
アリール−低級アルキル、ヘテロアリール−低級アルキ
ル又はアリールの3−ホルミル−ピリジンの位置4への
導入は、たとえば次のようにして行なわれ得る: (1
)たとえば1.2−エチレンジオキシアセクールとして
のホルミル基の保31;(2)クロロホルム酸のフェニ
ルエステルによる処理、N−フェニルオキシカルボニル
−ピリジニウム塩の産生i (3)RJgHal C
R2=置換基、Ha1=ハロゲン〕による処理、4
Rt−1,4−ジヒドロピリジンの産生; (4)たと
えば硫黄、たとえばS8による酸化、遊離4−R2−置
換のピリジン(そのフェニルオキシカルボニル置換基は
分離される)の産生;及び(5)たとえば酸による加水
分解によるホルミル基の保護解除、目的とする4−R1
−3−ホルミル−ピリジンの産生(Heterocyc
les 22.339(1984)を参照のこと)。
ベンゾ環により4,5−位置で置換される3−(カルボ
キシ又はホルミル)−ピリジンは、既知の4−(カルボ
キシ又はホルミル)−イソキノリンに相当する。基R1
(これは水素以外のものである)により4位置で置換さ
れる3−カルボキシ−ピリジンはまた、たとえばそれ自
体既知の方法でピリジン環の完全な合成により製造され
得る。たとえば、式R2C0CIItCOOA 1 k
のβ−ケト酢酸のアルキルエステルとシアノアセトアミ
ドとの反応は、ハロゲン化剤、たとえばPOCl 3と
の反応によってその対応する2、6−ジクロロ−4−R
Z−5−シアノピリジンに転換され得る2、6−シヒド
ロキシー4−Rz −3−シアノピリジンを生成する。
キシ又はホルミル)−ピリジンは、既知の4−(カルボ
キシ又はホルミル)−イソキノリンに相当する。基R1
(これは水素以外のものである)により4位置で置換さ
れる3−カルボキシ−ピリジンはまた、たとえばそれ自
体既知の方法でピリジン環の完全な合成により製造され
得る。たとえば、式R2C0CIItCOOA 1 k
のβ−ケト酢酸のアルキルエステルとシアノアセトアミ
ドとの反応は、ハロゲン化剤、たとえばPOCl 3と
の反応によってその対応する2、6−ジクロロ−4−R
Z−5−シアノピリジンに転換され得る2、6−シヒド
ロキシー4−Rz −3−シアノピリジンを生成する。
後者において、2個のクロロ置換基は、Pd(たとえば
PdCJ 3からの)の存在において、たとえば水素に
より水素に還元され得、そしてその得られた4−Rl−
3−シアノ−ピリジンは、鹸化され、目的とする4 −
Rz 3−カルボキシピリジンを生成される(J、O
rg、Chem、 25.560(1960)又はTe
trahedron J3.113(1977)を参照
のこと)。
PdCJ 3からの)の存在において、たとえば水素に
より水素に還元され得、そしてその得られた4−Rl−
3−シアノ−ピリジンは、鹸化され、目的とする4 −
Rz 3−カルボキシピリジンを生成される(J、O
rg、Chem、 25.560(1960)又はTe
trahedron J3.113(1977)を参照
のこと)。
式(II)〔式中、Bはホルミルを表わし、そしてCは
カルボキシである〕の化合物は当業界において既知であ
り(JP−A−77−42,8830C0^、釘、 1
17786y(1977)を参照のこと〕又はOrg、
5ynth、Co11.第3巻、626(1955)に
従って、たとえばSnCl z / HCj!による選
択的還元によって、たとえば式(II)〔式中、Bはシ
アノである〕の対応する化合物から製造され得る。
カルボキシである〕の化合物は当業界において既知であ
り(JP−A−77−42,8830C0^、釘、 1
17786y(1977)を参照のこと〕又はOrg、
5ynth、Co11.第3巻、626(1955)に
従って、たとえばSnCl z / HCj!による選
択的還元によって、たとえば式(II)〔式中、Bはシ
アノである〕の対応する化合物から製造され得る。
弐1(II)(式中、A (B)及び/又はR1は、た
とえば低級アルコキシカルボニル、シアノ又は官能的に
変性されたカルボキシを表わす〕の化合物の式(I)〔
式中、A及び/又はR3はカルボキシを表わす〕の化合
物への転換は、好都合には、無機酸、たとえばハロゲン
化水素又は硫酸による又は水性アルカリ、好ましくはア
ルカリ金属の水酸化物、たとえば水酸化リチウム又はナ
トリウムによる加水分解によって行なわれる。
とえば低級アルコキシカルボニル、シアノ又は官能的に
変性されたカルボキシを表わす〕の化合物の式(I)〔
式中、A及び/又はR3はカルボキシを表わす〕の化合
物への転換は、好都合には、無機酸、たとえばハロゲン
化水素又は硫酸による又は水性アルカリ、好ましくはア
ルカリ金属の水酸化物、たとえば水酸化リチウム又はナ
トリウムによる加水分解によって行なわれる。
前記のいづれかの中間体が妨害する反応性基、たとえば
カルボキシ、ヒドロキシ、アミノ又はメルカプト基を含
む場合、好都合には、容易に除去できる保護基によりい
づれの段階ででも一時的に保護され得る。特定の反応の
ための保護基の選択は、いくつかの要因、たとえば保護
されるべき官能基の性質、分子(この置換基が官能基で
ある)の構造及び安定性、及び反応条件に依存する。こ
れらの条件を満たす保jI基及びそれらの導入並びに除
去は、当業界で既知であり、そしてたとえばJ、F、W
、McOmie、“Protective Group
s in OrganicChemistry”+P1
enuo+ Press、London、New Yo
rk 1973に記載されている。
カルボキシ、ヒドロキシ、アミノ又はメルカプト基を含
む場合、好都合には、容易に除去できる保護基によりい
づれの段階ででも一時的に保護され得る。特定の反応の
ための保護基の選択は、いくつかの要因、たとえば保護
されるべき官能基の性質、分子(この置換基が官能基で
ある)の構造及び安定性、及び反応条件に依存する。こ
れらの条件を満たす保jI基及びそれらの導入並びに除
去は、当業界で既知であり、そしてたとえばJ、F、W
、McOmie、“Protective Group
s in OrganicChemistry”+P1
enuo+ Press、London、New Yo
rk 1973に記載されている。
反応条件に依存して、式(1)の化合物は、遊離形で、
又はその塩として得られる。いづれかの得られた塩基は
、好ましくは治療的に有用な酸又はアニオン交換調製物
の使用により、その対応する酸付加塩に転換され得、又
はその得られた塩は、強酸、たとえば金属又はアンモニ
ウム水酸化物又は塩基性塩、たとえばアルカリ金属の水
酸化物又は炭酸塩、又はカチオン交換調製物の使用によ
りその対応する遊離塩基に転換され得る。他方、酸性基
、たとえばカルボキシ又はフェノールヒドロキシ基を含
む式(1)の化合物は、塩基、たとえばアルカリ金属の
水酸化物又はアルコキシド、アルカリ金属又はアルカリ
土類金属の塩、たとえば炭酸水素ナトリウム、アンモニ
ア又は適切な有機アミンによる処理によって、それ自体
既知の方法で塩に転換され得る。その遊離化合物は、そ
のような塩を酸により処理することによって得られる。
又はその塩として得られる。いづれかの得られた塩基は
、好ましくは治療的に有用な酸又はアニオン交換調製物
の使用により、その対応する酸付加塩に転換され得、又
はその得られた塩は、強酸、たとえば金属又はアンモニ
ウム水酸化物又は塩基性塩、たとえばアルカリ金属の水
酸化物又は炭酸塩、又はカチオン交換調製物の使用によ
りその対応する遊離塩基に転換され得る。他方、酸性基
、たとえばカルボキシ又はフェノールヒドロキシ基を含
む式(1)の化合物は、塩基、たとえばアルカリ金属の
水酸化物又はアルコキシド、アルカリ金属又はアルカリ
土類金属の塩、たとえば炭酸水素ナトリウム、アンモニ
ア又は適切な有機アミンによる処理によって、それ自体
既知の方法で塩に転換され得る。その遊離化合物は、そ
のような塩を酸により処理することによって得られる。
その遊離化合物とそれらの塩の形での化合物との間の密
接な関係から、化合物がこのような関係で言及される場
合、そのような化合物がその情況下で可能性あり又は適
切であるならば、対応する塩がまた、予定される。
接な関係から、化合物がこのような関係で言及される場
合、そのような化合物がその情況下で可能性あり又は適
切であるならば、対応する塩がまた、予定される。
少なくとも1つの不斉炭素原子を存する式(1)の化合
物は、R−又はS−鏡像体及びその鏡像体混合物、たと
えばラセミ化合物として見出され得る。本発明は、すべ
てのこれらの形、またそれらの異性体及び少なくとも2
種の異性体の混合物、たとえば偏左右異性体の混合物又
は鏡像体の混合物(これらは、1又はそれよりも多くの
不斉中心がその分子内に存在するかどうかを可能にする
)を含むように向けられる。得られた偏左右異性体の混
合物、ラセミ化合物又は幾何異性体の混合物は、既知の
方法、たとえばクロマトグラフィー及び/又は分別結晶
法によって、構成成分の生理化学的差異に基づいて、単
一の偏左右異性体、ラセミ化合物又は幾何異性体に分離
され得る。
物は、R−又はS−鏡像体及びその鏡像体混合物、たと
えばラセミ化合物として見出され得る。本発明は、すべ
てのこれらの形、またそれらの異性体及び少なくとも2
種の異性体の混合物、たとえば偏左右異性体の混合物又
は鏡像体の混合物(これらは、1又はそれよりも多くの
不斉中心がその分子内に存在するかどうかを可能にする
)を含むように向けられる。得られた偏左右異性体の混
合物、ラセミ化合物又は幾何異性体の混合物は、既知の
方法、たとえばクロマトグラフィー及び/又は分別結晶
法によって、構成成分の生理化学的差異に基づいて、単
一の偏左右異性体、ラセミ化合物又は幾何異性体に分離
され得る。
いづれかの得られた鏡像体混合物、たとえばラセミ化合
物は、既知の方法、たとえば光学的に活性な溶媒からの
再結晶化により、又は微生物の助けにより、もしくは、
たとえば酸性の最終生成物とブドウ酸と塩を形成する光
学的に活性な塩基とを反応せしめ、そしてこのようにし
て得られた塩を、たとえば分別結晶法によって、偏左右
異性体塩(これから光学的に活性なカルボキシル酸対躊
体が酸化に基づいて生成され得る)に分離することによ
って、光学異性体(対跡体)に分解され得る。
物は、既知の方法、たとえば光学的に活性な溶媒からの
再結晶化により、又は微生物の助けにより、もしくは、
たとえば酸性の最終生成物とブドウ酸と塩を形成する光
学的に活性な塩基とを反応せしめ、そしてこのようにし
て得られた塩を、たとえば分別結晶法によって、偏左右
異性体塩(これから光学的に活性なカルボキシル酸対躊
体が酸化に基づいて生成され得る)に分離することによ
って、光学異性体(対跡体)に分解され得る。
上記反応は、標準方法に従って、それぞれ触媒、縮合剤
又は前記他の物質の希釈剤(好ましくは、たとえばその
試薬に対して不活性であり、そしてその溶媒である)の
存在又は不在下で、及び/又は不活性雰囲気下で、低湿
度、室温又は高温、たとえば−20℃〜+200℃の範
囲の湿度で、好ましくは使用される溶媒の沸点で、及び
大気圧又は過圧下で行なわれる。それらの好ましい溶媒
、触媒及び反応条件は、次の例に示される。
又は前記他の物質の希釈剤(好ましくは、たとえばその
試薬に対して不活性であり、そしてその溶媒である)の
存在又は不在下で、及び/又は不活性雰囲気下で、低湿
度、室温又は高温、たとえば−20℃〜+200℃の範
囲の湿度で、好ましくは使用される溶媒の沸点で、及び
大気圧又は過圧下で行なわれる。それらの好ましい溶媒
、触媒及び反応条件は、次の例に示される。
それらの塩を含む化合物はまた、それらの水和物の形で
も得られ、又はそれらの結晶化のために使用される他の
溶媒を含むこともできる。
も得られ、又はそれらの結晶化のために使用される他の
溶媒を含むこともできる。
本発明はさらに、種々の本発明の工程を含み、ここでそ
のいづれかの段階で得られる中間生成物は、出発材料と
して使用され、そして残る段階が行なわれ、又はその工
程はそのいづれかの段階で中断され、又はここで出発材
料がその反応条件下で形成され、又はここで反応成分が
塩又は光学的に純粋な対随体の形で使用される。主に、
これらの出発材料は、特に有用であるとして上記に指摘
された化合物の形成を導びく前記反応に使用されるべき
である。本発明はまた、新規の出発材料及びそれらの製
造方法にも関する。
のいづれかの段階で得られる中間生成物は、出発材料と
して使用され、そして残る段階が行なわれ、又はその工
程はそのいづれかの段階で中断され、又はここで出発材
料がその反応条件下で形成され、又はここで反応成分が
塩又は光学的に純粋な対随体の形で使用される。主に、
これらの出発材料は、特に有用であるとして上記に指摘
された化合物の形成を導びく前記反応に使用されるべき
である。本発明はまた、新規の出発材料及びそれらの製
造方法にも関する。
本発明の薬理学的に許容される化合物は、有効量の活性
成分のみ又は−緒に無機又は有機、固体又は液体の医薬
的に許容される担体を含む医薬製剤の製造のために使用
され得る。この医薬製剤は、ヒトを含む溢血動物への腸
内、たとえば経口又は直腸、局所的(経皮的な)及び非
経口、たとえば腹腔内又は静脈内投与のために有効であ
る。
成分のみ又は−緒に無機又は有機、固体又は液体の医薬
的に許容される担体を含む医薬製剤の製造のために使用
され得る。この医薬製剤は、ヒトを含む溢血動物への腸
内、たとえば経口又は直腸、局所的(経皮的な)及び非
経口、たとえば腹腔内又は静脈内投与のために有効であ
る。
経口投与のために、たとえば希釈剤、たとえばラクトー
ス、デキストロース、スクロース、マンニトール、ソル
ビトール及び/又はセルロース、及び滑剤、たとえばシ
リカ、タルク、ステアリン酸又はその塩、たとえばステ
アリン酸マグネシウム又はカルシウム、及び/又はポリ
エチレングリコールと共に活性成分を含む錠剤又はゼラ
チンカプセルが使用され;錠剤はまた、結合剤、たとえ
ば澱粉、たとえばトウモロコシ、小麦、米又はクズ澱粉
、ゼラチン、トラガカント、メチルセルロース、ナトリ
ウムカルボキシメチルセルロース及び/又はポリビニル
ピロリドン、及び所望によりディスインチグレーター、
たとえば澱粉、寒天、アルギン酸又はその塩、たとえば
アルギン酸ナトリウム、及び/又はたとえば発泡性混合
物、吸着剤、着色剤、香料又は甘味剤も含む。
ス、デキストロース、スクロース、マンニトール、ソル
ビトール及び/又はセルロース、及び滑剤、たとえばシ
リカ、タルク、ステアリン酸又はその塩、たとえばステ
アリン酸マグネシウム又はカルシウム、及び/又はポリ
エチレングリコールと共に活性成分を含む錠剤又はゼラ
チンカプセルが使用され;錠剤はまた、結合剤、たとえ
ば澱粉、たとえばトウモロコシ、小麦、米又はクズ澱粉
、ゼラチン、トラガカント、メチルセルロース、ナトリ
ウムカルボキシメチルセルロース及び/又はポリビニル
ピロリドン、及び所望によりディスインチグレーター、
たとえば澱粉、寒天、アルギン酸又はその塩、たとえば
アルギン酸ナトリウム、及び/又はたとえば発泡性混合
物、吸着剤、着色剤、香料又は甘味剤も含む。
非経口投与のためには、特に注入溶液、好ましくは等張
水溶液又は懸濁液が適切であり、使用の前、たとえば活
性成分のみ又は−緒に担体、たとえばマンニトールを含
む凍結乾燥された製剤からこれらを調製することが可能
である。そのような製剤は殺菌され、そして/又は添加
剤、たとえば防腐剤、安定剤、湿潤剤及び/又は乳化剤
、溶解剤、浸透圧を調製するための塩及び/又は緩衝液
を含む。
水溶液又は懸濁液が適切であり、使用の前、たとえば活
性成分のみ又は−緒に担体、たとえばマンニトールを含
む凍結乾燥された製剤からこれらを調製することが可能
である。そのような製剤は殺菌され、そして/又は添加
剤、たとえば防腐剤、安定剤、湿潤剤及び/又は乳化剤
、溶解剤、浸透圧を調製するための塩及び/又は緩衝液
を含む。
局所的及び経皮的投与のためには、好ましくは、ヒドロ
ゲル、エマルジョン、たとえばクリーム及び軟膏、及び
ミクロエマルジテン、たとえば等張の透明なエマルジョ
ンゲルが使用される。そのような製剤は、たとえば防腐
剤、安定剤、増粘剤、乳化剤、オイル、溶解剤及び透過
増強剤と共に活性成分を含む。
ゲル、エマルジョン、たとえばクリーム及び軟膏、及び
ミクロエマルジテン、たとえば等張の透明なエマルジョ
ンゲルが使用される。そのような製剤は、たとえば防腐
剤、安定剤、増粘剤、乳化剤、オイル、溶解剤及び透過
増強剤と共に活性成分を含む。
所望により他の薬理学的に活性な物質を含むことができ
る本発明の医薬製剤は、それ自体既知の方法、たとえば
従来の混合、粗砕、錠剤化、1塗、溶解、糖剤化及び凍
結乾燥法によって製造され、そして凍結乾燥剤において
は、約0.1〜100%、特に約1〜約50%又は10
0%までの活性成分を含む。
る本発明の医薬製剤は、それ自体既知の方法、たとえば
従来の混合、粗砕、錠剤化、1塗、溶解、糖剤化及び凍
結乾燥法によって製造され、そして凍結乾燥剤において
は、約0.1〜100%、特に約1〜約50%又は10
0%までの活性成分を含む。
疾患のタイプ、生物体の個々の状態及び投与の態様に依
存して、約70kgの重量の溢血動物(ヒト又は動物)
の治療のために投与されるべき毎日の投与量は、約5■
〜約3g、及び特に50■〜1gである。
存して、約70kgの重量の溢血動物(ヒト又は動物)
の治療のために投与されるべき毎日の投与量は、約5■
〜約3g、及び特に50■〜1gである。
次の例a)〜f)は、投与のいくつかの典形的な形の製
造法を例示する予定であるが、しかしこれらの型の投与
の態様のみを表わすものではない。
造法を例示する予定であるが、しかしこれらの型の投与
の態様のみを表わすものではない。
a)活性物質250gを、ラクトース550g、ミクロ
結晶性セルロース100g及びトウモロコシ澱粉100
gと共に混合し、そしてその混合物を、トウモロコシ澱
粉100g水性ペーストにより加湿し、そして篩を通す
ことによって粗砕する。乾燥した後、タルク60g1ス
テアリン酸マグネシウム10g及びコロイド状シリカ2
0gを添加し、そしてその混合物を圧縮し、それぞれ1
19■の重量で且つそれぞれ活性物質25■を含むto
、ooo個の錠剤を形成し、そしてこれらは、投与量の
細かな調整のために所望により分割用ノツチを供給され
る。
結晶性セルロース100g及びトウモロコシ澱粉100
gと共に混合し、そしてその混合物を、トウモロコシ澱
粉100g水性ペーストにより加湿し、そして篩を通す
ことによって粗砕する。乾燥した後、タルク60g1ス
テアリン酸マグネシウム10g及びコロイド状シリカ2
0gを添加し、そしてその混合物を圧縮し、それぞれ1
19■の重量で且つそれぞれ活性物質25■を含むto
、ooo個の錠剤を形成し、そしてこれらは、投与量の
細かな調整のために所望により分割用ノツチを供給され
る。
b)粒体を、活性物質100g、ラクトース600g2
セルロース300g、トウモロコシ澱粉200g及びト
ウモロコシ澱粉の水性ペースト120gから調製する。
セルロース300g、トウモロコシ澱粉200g及びト
ウモロコシ澱粉の水性ペースト120gから調製する。
乾燥の後、それを、コロイド状シリカ30g、タルク9
0g及びステアリン酸マグネシウム15gと共に混合し
、そしてio、ooo個の1塗コアーを形成するために
加工する。これらを、次いで低級置換のヒドロキシプロ
ピルメチルセルロース20g、タルク15g及び二酸化
チタン10gの水性懸濁液により被覆し、そして乾燥せ
しめる。その得られたフィルム被覆の錠剤は、それぞれ
重さ150■であり、そして活性物質10■を含む。
0g及びステアリン酸マグネシウム15gと共に混合し
、そしてio、ooo個の1塗コアーを形成するために
加工する。これらを、次いで低級置換のヒドロキシプロ
ピルメチルセルロース20g、タルク15g及び二酸化
チタン10gの水性懸濁液により被覆し、そして乾燥せ
しめる。その得られたフィルム被覆の錠剤は、それぞれ
重さ150■であり、そして活性物質10■を含む。
C)蒸留水5000−中、活性物質5.0gの殺菌溶液
を、5w&のアンプル中に導入し、そして該アンプルは
溶液5−中に活性成分5■を含む。
を、5w&のアンプル中に導入し、そして該アンプルは
溶液5−中に活性成分5■を含む。
d)活性物質25g及び細かく粉砕された生薬基材(た
とえばココアバター) 1975gを十分に混合し、そ
して次に溶融する。 1,000個の2gの生薬を、
撹拌によって均質に保たれている溶融体から注型する。
とえばココアバター) 1975gを十分に混合し、そ
して次に溶融する。 1,000個の2gの生薬を、
撹拌によって均質に保たれている溶融体から注型する。
それらはそれぞれ活性成分25■を含む。
e)活性物質25g、粒状ラクトース、たとえばTab
lettoseO120g 、 95gのミクロ結晶セ
ルロース、たとえばAvicelOPH102、コロイ
ド状シリカゲル7g及びステアリン酸マグネシウム3g
を十分に混合する。次に、その得られた粉末を篩にかけ
、そして250■の部分を1 、000個のゼラチンカ
プセルに充填する。
lettoseO120g 、 95gのミクロ結晶セ
ルロース、たとえばAvicelOPH102、コロイ
ド状シリカゲル7g及びステアリン酸マグネシウム3g
を十分に混合する。次に、その得られた粉末を篩にかけ
、そして250■の部分を1 、000個のゼラチンカ
プセルに充填する。
f)活性物質400gを蒸留水241中で分散し、そし
て防腐剤、たとえばメチルパラベン70g及び530g
の増粘剤、たとえばカルボマー940並びにその対応す
る量のIN水酸化ナトリウム溶液を添加する。
て防腐剤、たとえばメチルパラベン70g及び530g
の増粘剤、たとえばカルボマー940並びにその対応す
る量のIN水酸化ナトリウム溶液を添加する。
ペトロラタム6000 gを、脂肪アルコール、たとえ
ばステアリルアルコール6000 gと混合し、そして
乳化剤、たとえばポリオキシエチレンソルビタンモノラ
ウレート3000gを添加する。油相及び水相の両者を
別々に70℃に加熱し、そして次に一緒に混合する。均
質化及び冷却の後、O/W軟膏40gをそれぞれ1 、
000個のチュブに充填する。
ばステアリルアルコール6000 gと混合し、そして
乳化剤、たとえばポリオキシエチレンソルビタンモノラ
ウレート3000gを添加する。油相及び水相の両者を
別々に70℃に加熱し、そして次に一緒に混合する。均
質化及び冷却の後、O/W軟膏40gをそれぞれ1 、
000個のチュブに充填する。
次の例は、本発明を例示するものであって、制限するも
のではない。温度は℃で与えられている。
のではない。温度は℃で与えられている。
エタノール73rdを含むフラスコに、ナトリウム(1
1mモル)を添加する。そのナトリウムが溶解したらす
ぐ、5−カルボキシ−2−シアノピリジン10mモル及
び2−アミノ−エタンチオールl1mモルを添加し、そ
してその溶液を24時間、還流する。次にその溶液を、
水25−により希釈し、2NのHC/!により酸性にし
くpH=5)、そして蒸発せしめる。その残渣を、ホッ
トクロロホルム10〇−中に溶解し、塩を濾過し、そし
て冷却後の濾液は、標記化合物(融点234〜235°
)の結晶を与える。
1mモル)を添加する。そのナトリウムが溶解したらす
ぐ、5−カルボキシ−2−シアノピリジン10mモル及
び2−アミノ−エタンチオールl1mモルを添加し、そ
してその溶液を24時間、還流する。次にその溶液を、
水25−により希釈し、2NのHC/!により酸性にし
くpH=5)、そして蒸発せしめる。その残渣を、ホッ
トクロロホルム10〇−中に溶解し、塩を濾過し、そし
て冷却後の濾液は、標記化合物(融点234〜235°
)の結晶を与える。
出発材料は次のようにして調製されるニジクロメタンl
Qmj中、ニコチン酸N−オキシド(0,7g、5mモ
ル)の懸濁液に、トリメチルシリルシアニド(0,55
g、5.5mモルを添加し、そしてその溶液を5分間、
撹拌する0次に塩化ジメチルカルバモイル(0,54g
、5mモル)を添加し、そして撹拌を還流下で5日間続
ける。冷去した後、その溶液を減圧下で蒸発乾燥せしめ
、そして残渣を温水50aI中に溶解する。−暁闇いた
後、白色沈殿物を濾去し、そしてカラムクロマトグラフ
ィー(酢酸エチル/エタノール、1:1)によって精製
し、5−カルボキシ−2−シアノ−ピリジン(融点19
4〜195°、R,=0.54)を得る。
Qmj中、ニコチン酸N−オキシド(0,7g、5mモ
ル)の懸濁液に、トリメチルシリルシアニド(0,55
g、5.5mモルを添加し、そしてその溶液を5分間、
撹拌する0次に塩化ジメチルカルバモイル(0,54g
、5mモル)を添加し、そして撹拌を還流下で5日間続
ける。冷去した後、その溶液を減圧下で蒸発乾燥せしめ
、そして残渣を温水50aI中に溶解する。−暁闇いた
後、白色沈殿物を濾去し、そしてカラムクロマトグラフ
ィー(酢酸エチル/エタノール、1:1)によって精製
し、5−カルボキシ−2−シアノ−ピリジン(融点19
4〜195°、R,=0.54)を得る。
貫1:5−カルボキシ−2−(2−チアゾリル)−ピリ
ジン 5−カルボキシ−2−(4,5−ジヒドロ−2−チアゾ
リル)−ピリジン500ag (2,4mモル)、10
%Pd50■及びジフェニルエーテル5gの混合物を4
時間、還流する。次に、その混合物をメタノールにより
希釈し、そして触媒を濾去する。メタノールを蒸発せし
め、そしていくらかのヘキサンをその残渣に添加する。
ジン 5−カルボキシ−2−(4,5−ジヒドロ−2−チアゾ
リル)−ピリジン500ag (2,4mモル)、10
%Pd50■及びジフェニルエーテル5gの混合物を4
時間、還流する。次に、その混合物をメタノールにより
希釈し、そして触媒を濾去する。メタノールを蒸発せし
め、そしていくらかのヘキサンをその残渣に添加する。
ジフェニルエーテルが溶解し、そして固形物が残り、こ
れと濾去し、そしてヘキサンにより洗浄する。この残渣
を再びメタノール中に溶解し、そして木炭により処理す
る。
れと濾去し、そしてヘキサンにより洗浄する。この残渣
を再びメタノール中に溶解し、そして木炭により処理す
る。
メタノールの蒸発の後、標記化合物(融点〉300°)
を得る。
を得る。
エタノール70mZを含むフラスコにナトリウム(7,
7mモル)を添加する。そのナトリウムが溶解した後、
すぐに、5−カルボキシ−2−シアノ−ピリジン7mモ
ル及び2−アミノ−チオフェノール8.4mモルを添加
し、そしてその溶液を24時間、還流する。形成された
固形分を濾去し、エタノール及び水中に再溶解し、その
溶液を2NのHClにより酸性にしくpH=3)、そし
て蒸発せしめる。残渣を、熱い酢酸エチル100−中に
溶解し、その塩を濾去し、そして冷却後、その濾液は標
記化合物(融点〉300°)の結晶を与える。
7mモル)を添加する。そのナトリウムが溶解した後、
すぐに、5−カルボキシ−2−シアノ−ピリジン7mモ
ル及び2−アミノ−チオフェノール8.4mモルを添加
し、そしてその溶液を24時間、還流する。形成された
固形分を濾去し、エタノール及び水中に再溶解し、その
溶液を2NのHClにより酸性にしくpH=3)、そし
て蒸発せしめる。残渣を、熱い酢酸エチル100−中に
溶解し、その塩を濾去し、そして冷却後、その濾液は標
記化合物(融点〉300°)の結晶を与える。
窒素雰囲気下で、無水メタノール10−を含むフラスコ
にナトリウム(12mモル)を添加する。
にナトリウム(12mモル)を添加する。
ナトリウムが溶解した後、メタノール中、5−カルボキ
シ−2−シアノ−ピリジン(5mモル)の溶液を滴下す
る。その混合物を50℃で1.5時間、加熱する。その
混合物を冷却し、そしてメタノール5ml及びsHC1
1,5ml中、エタノールアミン(10mモル)の溶液
を滴下する。添加が完結した後、その反応混合物を2時
間、還流する。溶媒を蒸発せしめ、その残渣を熱エタノ
ール45mj中に溶解し、その塩を濾去し、そして冷却
の後、その濾液は標記化合物(融点286〜287°)
の結晶を与える。
シ−2−シアノ−ピリジン(5mモル)の溶液を滴下す
る。その混合物を50℃で1.5時間、加熱する。その
混合物を冷却し、そしてメタノール5ml及びsHC1
1,5ml中、エタノールアミン(10mモル)の溶液
を滴下する。添加が完結した後、その反応混合物を2時
間、還流する。溶媒を蒸発せしめ、その残渣を熱エタノ
ール45mj中に溶解し、その塩を濾去し、そして冷却
の後、その濾液は標記化合物(融点286〜287°)
の結晶を与える。
貫工:5−カルボキシ−2−(3−−トーゾiル)−ピ
リジン アジ化ナトリウム(12,0g 、 0.18モル)及
び無水塩化アンモニウム(1,5g)を、乾燥ジメチル
ホルムアミド(375d )中、5−カルボキシ−2−
シアノ−ピリジン(22,0g、0.15モル)の撹拌
溶液に添加する。その反応混合物を80°に加熱し、そ
してこの温度で24時間、維持する。この後、アジ化ナ
トリウム(6,0g 、 0.09モル)の追加部分を
添加し、そして加熱をさらに24時間、続ける。次に、
その反応混合物を周囲温度に冷却し、そして水(560
d )により希釈する。この溶液を、5Nの塩酸により
pH3に酸性化し、そして固形分が沈殿する間、30分
間このpHで撹拌する。その生成物を濾過し、そして還
流水(60mj)中で15分間、撹拌する。次に、それ
を再濾過し、ジクロロメタン(5x20ml)により洗
浄し、そして60℃で真空乾燥せしめ、淡い固形分とし
て標記化合物(融点:257〜259°)を得る。
リジン アジ化ナトリウム(12,0g 、 0.18モル)及
び無水塩化アンモニウム(1,5g)を、乾燥ジメチル
ホルムアミド(375d )中、5−カルボキシ−2−
シアノ−ピリジン(22,0g、0.15モル)の撹拌
溶液に添加する。その反応混合物を80°に加熱し、そ
してこの温度で24時間、維持する。この後、アジ化ナ
トリウム(6,0g 、 0.09モル)の追加部分を
添加し、そして加熱をさらに24時間、続ける。次に、
その反応混合物を周囲温度に冷却し、そして水(560
d )により希釈する。この溶液を、5Nの塩酸により
pH3に酸性化し、そして固形分が沈殿する間、30分
間このpHで撹拌する。その生成物を濾過し、そして還
流水(60mj)中で15分間、撹拌する。次に、それ
を再濾過し、ジクロロメタン(5x20ml)により洗
浄し、そして60℃で真空乾燥せしめ、淡い固形分とし
て標記化合物(融点:257〜259°)を得る。
メタノール(500aZ)を含むフラスコ(撹拌されて
いる)へのナトリウム金属(13,6g、0.59モル
)の注意しての添加により、ナトリウムメトキシドの溶
液を調製する。メタノール(200at )中、5−カ
ルボキシ−2−シアノ−ピリジン(36,0g 。
いる)へのナトリウム金属(13,6g、0.59モル
)の注意しての添加により、ナトリウムメトキシドの溶
液を調製する。メタノール(200at )中、5−カ
ルボキシ−2−シアノ−ピリジン(36,0g 。
0.24モル)の溶液を、前記ナトリウムメトキシド溶
液に添加し、そしてその混合物を50℃で2時間、加熱
する。この後、新しく蒸留されたエチレンジアミン(2
8,8g 、 0.48モル)及び濃塩酸(64aOを
その溶液に添加し、次に2.5時間、80℃に加熱する
。その反応混合物を真空蒸発せしめ、乾燥せしめる。そ
の残渣を温水(75+nf)中で15分間、スラリし、
濾過し、冷メタノール(2x25mg)により洗浄し、
そして60℃で真空乾燥せしめ、標記化合物(融点34
4〜345“)を得る。
液に添加し、そしてその混合物を50℃で2時間、加熱
する。この後、新しく蒸留されたエチレンジアミン(2
8,8g 、 0.48モル)及び濃塩酸(64aOを
その溶液に添加し、次に2.5時間、80℃に加熱する
。その反応混合物を真空蒸発せしめ、乾燥せしめる。そ
の残渣を温水(75+nf)中で15分間、スラリし、
濾過し、冷メタノール(2x25mg)により洗浄し、
そして60℃で真空乾燥せしめ、標記化合物(融点34
4〜345“)を得る。
グ2
メタノール20ra1を含むフラスコに、ナトリウム(
12mモル)を添加する。ナトリウムが溶解した後、メ
タノール1〇−中、5−カルボキシ−2−シアノ−ピリ
ジン(5mモル)の溶液を滴下する。その混合物を50
℃で3時間、加熱する。
12mモル)を添加する。ナトリウムが溶解した後、メ
タノール1〇−中、5−カルボキシ−2−シアノ−ピリ
ジン(5mモル)の溶液を滴下する。その混合物を50
℃で3時間、加熱する。
次に、2−エチルアミノ−エチルアミン5mモル及び濃
塩酸1.5 n+7を添加し、そして加熱を80℃で3
時間続ける。その反応混合物を冷去し、そしてその得ら
れた沈殿物を濾去し、乾燥せしめ、そして溶出液として
メタノール:ジクロロメタン=25%水性アンモニア(
6:4:0.1)を用いて、シリカゲルカラムクロマト
グラフィーによって精製する。標記化合物(融点:25
4〜256°)を得る。
塩酸1.5 n+7を添加し、そして加熱を80℃で3
時間続ける。その反応混合物を冷去し、そしてその得ら
れた沈殿物を濾去し、乾燥せしめ、そして溶出液として
メタノール:ジクロロメタン=25%水性アンモニア(
6:4:0.1)を用いて、シリカゲルカラムクロマト
グラフィーによって精製する。標記化合物(融点:25
4〜256°)を得る。
メタノール20m7を含むフラスコに、ナトリウム(1
2mモル)を添加する。そのナトリウムが溶解した後、
5−カルボキシ−2−シアノ−ピリジン5mモルを添加
する。その混合物を50℃で6時間、加熱する。冷却し
た後、その反応混合物を水により希釈し、そして2Nの
HCJにより酸性にする(pH=5)。固形分を集め、
そして乾燥せしめ、そしてそれは標記化合物(融点:2
84〜286°)に相当する。
2mモル)を添加する。そのナトリウムが溶解した後、
5−カルボキシ−2−シアノ−ピリジン5mモルを添加
する。その混合物を50℃で6時間、加熱する。冷却し
た後、その反応混合物を水により希釈し、そして2Nの
HCJにより酸性にする(pH=5)。固形分を集め、
そして乾燥せしめ、そしてそれは標記化合物(融点:2
84〜286°)に相当する。
メタノール30m1を含むフラスコに、ナトリウム(1
2mモル)を添加する。そのナトリウムが溶解した後、
5−カルボキシ−2−シアノ−ピリジン5mモルを添加
する。その混合物を50℃で6時間、加熱する。次に、
メタノール1〇−中、エチルアミン塩酸塩の溶液10m
モルを滴下し、そして温度を17時間、80℃に上昇す
る。冷却の後、その溶液を蒸発乾燥せしめ、その残渣を
水3〇−中に溶解し、そしてそのpHを3に調製する。
2mモル)を添加する。そのナトリウムが溶解した後、
5−カルボキシ−2−シアノ−ピリジン5mモルを添加
する。その混合物を50℃で6時間、加熱する。次に、
メタノール1〇−中、エチルアミン塩酸塩の溶液10m
モルを滴下し、そして温度を17時間、80℃に上昇す
る。冷却の後、その溶液を蒸発乾燥せしめ、その残渣を
水3〇−中に溶解し、そしてそのpHを3に調製する。
固形分を集め、そして乾燥せしめ、そしてそれは標記化
合物(融点〉290°)に相当する。
合物(融点〉290°)に相当する。
エーテル8〇−中、臭化プロピルマグネシウム(67,
5mモル)の撹拌溶液に、テトラヒドロフラン100−
中に溶解された5−カルボキシ−2−シアノ−ピリジン
(30,7mモル)を滴下する。その混合物を20時間
、還流する。冷却した後、水l〇−及び5Nの硫酸65
−を添加する。エーテルによる水性相の抽出及び溶媒の
蒸発は、粗生成物3.5gを与える。シリカゲルカラム
クロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル: H
COOH。
5mモル)の撹拌溶液に、テトラヒドロフラン100−
中に溶解された5−カルボキシ−2−シアノ−ピリジン
(30,7mモル)を滴下する。その混合物を20時間
、還流する。冷却した後、水l〇−及び5Nの硫酸65
−を添加する。エーテルによる水性相の抽出及び溶媒の
蒸発は、粗生成物3.5gを与える。シリカゲルカラム
クロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル: H
COOH。
7:3:0.1)による精製により、標記化合物(融点
=128〜130”)を得る。
=128〜130”)を得る。
ピリジン20−中、1−(5−カルボキシ−2−ピリジ
ニル)−1−ブタノン(2mモル)の撹拌溶液に、ヒド
ロキシルアミン塩酸塩(4mモル)を添加する。その反
応混合物を室温で5時間、撹拌する。溶媒を蒸留し、そ
して残渣を酢酸エチルから結晶化する;融点=203〜
205°。
ニル)−1−ブタノン(2mモル)の撹拌溶液に、ヒド
ロキシルアミン塩酸塩(4mモル)を添加する。その反
応混合物を室温で5時間、撹拌する。溶媒を蒸留し、そ
して残渣を酢酸エチルから結晶化する;融点=203〜
205°。
エタノール20−を含むフラスコに、ナトリウム(18
mモル)を添加する。そのナトリウムが溶解した後、5
−カルボキシ−2−シアノ−ピリジン3.8mモル及び
ヒドロキシルアミン塩酸塩18mモルを添加し、そして
その溶液を5時間、還流する。冷却した後、その得られ
た沈殿物を濾去し、そして水から再結晶化する;融点〉
300°。
mモル)を添加する。そのナトリウムが溶解した後、5
−カルボキシ−2−シアノ−ピリジン3.8mモル及び
ヒドロキシルアミン塩酸塩18mモルを添加し、そして
その溶液を5時間、還流する。冷却した後、その得られ
た沈殿物を濾去し、そして水から再結晶化する;融点〉
300°。
W:5−カルボキシ−2−N−ヒドロキシカル5Nの水
酸化ナトリウム溶液(300ml)を、硫酸ヒドロキシ
ルアミン(49,2g 、 0.3モル)及び氷(50
g)の混合物に撹拌しながらゆっ(りと添加する。亜硫
酸ナトリウム(6,0g)、続いて5−カルボキシ−2
−メトキシカルボニル−ピリジン〔たとえばC,A、6
8.68840h(1968)を参照のこと〕(54,
3g、0.3モル)を添加し、そしてその混合物を、透
明な溶液が得られるまで、周囲温度で撹拌する。この溶
液を45〜50℃で24時間、撹拌する。冷却した後、
その溶液を、5Nの塩酸を用いてpH=3に酸性化する
。ベージュ色の固形分が沈殿する。この固形分を濾去し
、そして次に温水(70〜80’ 、 250mj
)中で15分間スラリする。
酸化ナトリウム溶液(300ml)を、硫酸ヒドロキシ
ルアミン(49,2g 、 0.3モル)及び氷(50
g)の混合物に撹拌しながらゆっ(りと添加する。亜硫
酸ナトリウム(6,0g)、続いて5−カルボキシ−2
−メトキシカルボニル−ピリジン〔たとえばC,A、6
8.68840h(1968)を参照のこと〕(54,
3g、0.3モル)を添加し、そしてその混合物を、透
明な溶液が得られるまで、周囲温度で撹拌する。この溶
液を45〜50℃で24時間、撹拌する。冷却した後、
その溶液を、5Nの塩酸を用いてpH=3に酸性化する
。ベージュ色の固形分が沈殿する。この固形分を濾去し
、そして次に温水(70〜80’ 、 250mj
)中で15分間スラリする。
その生成物を濾過し、少量の冷水(25〜50−)によ
り洗浄し、そして60℃で真空乾燥せしめ、淡い固形分
として標記化合物(融点:219〜223°)を得る。
り洗浄し、そして60℃で真空乾燥せしめ、淡い固形分
として標記化合物(融点:219〜223°)を得る。
、U:イソキノ嘗ンー1,4−ジカルボン32%の水性
Mail 15 ml中、1−シアノ−イソキノリン−
4−カルボン酸(1,98g 、 0.01モル)の撹
拌溶液を、3時間還流する。冷却した後、その溶液を、
5NのHCj!によりpH=3に酸性化する。その得ら
れた沈殿物を濾過し、水により洗浄し、そして乾燥せし
め、標記化合物(融点:228〜229°)を得る。
Mail 15 ml中、1−シアノ−イソキノリン−
4−カルボン酸(1,98g 、 0.01モル)の撹
拌溶液を、3時間還流する。冷却した後、その溶液を、
5NのHCj!によりpH=3に酸性化する。その得ら
れた沈殿物を濾過し、水により洗浄し、そして乾燥せし
め、標記化合物(融点:228〜229°)を得る。
出発原料を次の通りにして調製する:
a)4−カルボキシ−イソキノリン(J、Amer。
Chem、Soc、 67.1268(1945) )
(10g、 0.058モル)を、過酸化水素(
30%) 13a(を含む酢酸溶液100−中で、−晩
還流する。冷却した後、その溶液を蒸発し、乾燥せしめ
、そしてその残渣をカラムクロマトグラフィー(酢酸エ
チル/メタノール/蟻酸、3 : 2 : 1)により
精製し、4−カルボキシ−イソキノリンN−オキシド(
融点:280〜283°、Rf−0,3)を得る。
(10g、 0.058モル)を、過酸化水素(
30%) 13a(を含む酢酸溶液100−中で、−晩
還流する。冷却した後、その溶液を蒸発し、乾燥せしめ
、そしてその残渣をカラムクロマトグラフィー(酢酸エ
チル/メタノール/蟻酸、3 : 2 : 1)により
精製し、4−カルボキシ−イソキノリンN−オキシド(
融点:280〜283°、Rf−0,3)を得る。
b)ジクロロメタン2〇−中、4−カルボキシ−イソキ
ノリンN−オキシド(0,65g 、 3.4 mモル
)の懸濁液に、トリメチルシリルシアニド(0,7g、
7mモル)を添加し、そして撹拌を5分間続ける。この
後、塩化ジメチルカルバモイル(0,75g、7mモル
)を添加し、そしてその溶液を還流下で5日間、撹拌す
る。冷却した後、その反応混合物を蒸発し、乾燥せしめ
る。その残渣を、エタノール/水の熱い混合液50mj
中に溶解し、そして冷蔵庫中に一晩放置する。その得ら
れた結晶を濾過し、そして乾燥せしめ、そして1−シア
ノ−イソキノリン−4−カルボン酸(融点:216°)
を得る。
ノリンN−オキシド(0,65g 、 3.4 mモル
)の懸濁液に、トリメチルシリルシアニド(0,7g、
7mモル)を添加し、そして撹拌を5分間続ける。この
後、塩化ジメチルカルバモイル(0,75g、7mモル
)を添加し、そしてその溶液を還流下で5日間、撹拌す
る。冷却した後、その反応混合物を蒸発し、乾燥せしめ
る。その残渣を、エタノール/水の熱い混合液50mj
中に溶解し、そして冷蔵庫中に一晩放置する。その得ら
れた結晶を濾過し、そして乾燥せしめ、そして1−シア
ノ−イソキノリン−4−カルボン酸(融点:216°)
を得る。
標記化合物(融点292°)を例5に記載のようにして
調製する。但し、5−カルボキシ−2−シアノ−ピリジ
ンの代わりに1−シアノ−イソキノリン−4−カルボン
酸から出発する。
調製する。但し、5−カルボキシ−2−シアノ−ピリジ
ンの代わりに1−シアノ−イソキノリン−4−カルボン
酸から出発する。
列上レメチル4−カルボキシーイソキノjンーlメタノ
ール20〇−中、イソキノリン−1,4−ジカルボン酸
(4,1g 、 18.9mモル)の撹拌溶液に、濃硫
酸(l−)を添加する。その反応混合物を15時間、還
流する。冷却した後、その溶液を冷水200−中に注ぐ
、形成された沈殿物を集め、冷水により洗浄し、そして
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(アセトン:メタ
ン:v&酸、9:1:0.1)によって精製する。メチ
ル4−カルボキシ−イソキノリン−1−カルボキシレー
ト(融点:189°、Rt =o、88)及びジメチル
イソキノリン−1,4−ジカルボキシレート(融点:6
9〜70°、R,=0.96)を別々の両分として得る
。
ール20〇−中、イソキノリン−1,4−ジカルボン酸
(4,1g 、 18.9mモル)の撹拌溶液に、濃硫
酸(l−)を添加する。その反応混合物を15時間、還
流する。冷却した後、その溶液を冷水200−中に注ぐ
、形成された沈殿物を集め、冷水により洗浄し、そして
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(アセトン:メタ
ン:v&酸、9:1:0.1)によって精製する。メチ
ル4−カルボキシ−イソキノリン−1−カルボキシレー
ト(融点:189°、Rt =o、88)及びジメチル
イソキノリン−1,4−ジカルボキシレート(融点:6
9〜70°、R,=0.96)を別々の両分として得る
。
側工し5−カルボキシ−2−(2−イミダゾ1ル)−ピ
リジン 5−カルボキシ−2−(4,5−ジヒドロ−2=イミダ
ゾリル)−ピリジン(0−5g、2.6mモル)をジフ
ェニルエーテル50−中に溶解し、そしてPd/C(1
0%) 50stZを添加する。その混合物を8時間、
還流し、次に濾過する。木炭及び生成物を含む固形酸を
、熱いメタノール中に溶解し、そして濾過する。メタノ
ールを蒸発せしめ、標記化合物(融点〉300°)を得
る。
リジン 5−カルボキシ−2−(4,5−ジヒドロ−2=イミダ
ゾリル)−ピリジン(0−5g、2.6mモル)をジフ
ェニルエーテル50−中に溶解し、そしてPd/C(1
0%) 50stZを添加する。その混合物を8時間、
還流し、次に濾過する。木炭及び生成物を含む固形酸を
、熱いメタノール中に溶解し、そして濾過する。メタノ
ールを蒸発せしめ、標記化合物(融点〉300°)を得
る。
標記化合物(融点〉300°)を、例5に記載のように
して調製する。但し、5−カルボキシ−2−シアノ−ピ
リジンの代わりに4−n−ブチル−5−カルボキシ−2
−シアノ−ピリジンから出発する。
して調製する。但し、5−カルボキシ−2−シアノ−ピ
リジンの代わりに4−n−ブチル−5−カルボキシ−2
−シアノ−ピリジンから出発する。
出発原料を次の通りにして調製する:
a)4−n−ブチル−ピリジン−3−カルボキシアルデ
ヒド(Heterocycles22.339〜344
(1984)を参照のこと) (10g 、0.0
61モル)を、テトラヒドロフラン(Loo@1)中に
溶解する。この溶液を、THF(200aZ)中、メタ
クロロ過安息香酸(26,3g、0.15モル)の冷溶
液と共に混合し、そしてその得られた混合物を室温で一
晩、撹拌する。白色の沈澱物を濾過し、THFにより洗
浄し、そして乾燥せしめ、4−n−ブチル−3−カルボ
キシ−ピリジンN−オキシド(融点:164〜165°
)を得る。
ヒド(Heterocycles22.339〜344
(1984)を参照のこと) (10g 、0.0
61モル)を、テトラヒドロフラン(Loo@1)中に
溶解する。この溶液を、THF(200aZ)中、メタ
クロロ過安息香酸(26,3g、0.15モル)の冷溶
液と共に混合し、そしてその得られた混合物を室温で一
晩、撹拌する。白色の沈澱物を濾過し、THFにより洗
浄し、そして乾燥せしめ、4−n−ブチル−3−カルボ
キシ−ピリジンN−オキシド(融点:164〜165°
)を得る。
b)ジクロロメタン15−中、4−n−ブチル−3−カ
ルボキシ−ピリジンN−オキシド(600mg、3mモ
ル)の懸濁液に、トリメチルシリルシアニド(595■
、6mモル)を添加し、そしてその溶液を5分間、撹拌
する。次に、塩化ジメチルカルバモイル(645mg、
6mモル)を添加し、そして還流下で4日間、撹拌を続
ける。冷却した後、その溶液を減圧下で蒸発乾燥せしめ
、そしてその残渣をカラムクロマトグラフィー(ジクロ
ロメタン/メタノール、3:1)によって精製し、4−
n−ブチル−5−カルボキシ−2−シアノ−ピリジン(
融点:267〜268°、R,=0.3)を得る。
ルボキシ−ピリジンN−オキシド(600mg、3mモ
ル)の懸濁液に、トリメチルシリルシアニド(595■
、6mモル)を添加し、そしてその溶液を5分間、撹拌
する。次に、塩化ジメチルカルバモイル(645mg、
6mモル)を添加し、そして還流下で4日間、撹拌を続
ける。冷却した後、その溶液を減圧下で蒸発乾燥せしめ
、そしてその残渣をカラムクロマトグラフィー(ジクロ
ロメタン/メタノール、3:1)によって精製し、4−
n−ブチル−5−カルボキシ−2−シアノ−ピリジン(
融点:267〜268°、R,=0.3)を得る。
水性水酸化ナトリウム(32%)10社中、4−n−ブ
チル−5−カルボキシ−2−シアノ−ピリジン(500
■、2.4mモル)の撹拌された溶液を、3時間還流す
る。冷却した後、その溶液を2NのHClによりpH=
3に酸性化する。その得られた沈殿物を温水中で再結晶
化し、標記化合物(融点:239°)を得る。
チル−5−カルボキシ−2−シアノ−ピリジン(500
■、2.4mモル)の撹拌された溶液を、3時間還流す
る。冷却した後、その溶液を2NのHClによりpH=
3に酸性化する。その得られた沈殿物を温水中で再結晶
化し、標記化合物(融点:239°)を得る。
標記化合物〈融点〉300°)を、例5に記載のように
して調製する。但し、5−カルボキシ−2−シアノ−ピ
リジンの代わりに5−カルボキシ−2−シアノ−4−フ
ェニル−ピリジンから出発する。
して調製する。但し、5−カルボキシ−2−シアノ−ピ
リジンの代わりに5−カルボキシ−2−シアノ−4−フ
ェニル−ピリジンから出発する。
出発原料を次の通りにして調製する:
a)メチル4−フェニルニコチネート(Hetero−
cycles 22. f51〜157(1984)
) (53g、 0.25モル)、5NのNaOH水溶
液(100af)及びメタノール(100aZ)を、撹
拌しながら1時間、−緒に還流する。その反応溶液を冷
却し、濃塩酸によりpH4にし、そして真空中に蒸発乾
燥せしめる。その残渣を熱いエタノール(75siZ)
中でスラリし、濾過し、そして濾液を真空中で蒸発乾燥
せしめる。得られた残渣を冷酢酸エチル(30d>中で
スラリし、濾過し、そして乾燥せしめ、4−フェニルニ
コチン酸塩酸塩(融点:239〜241°)を得る。
cycles 22. f51〜157(1984)
) (53g、 0.25モル)、5NのNaOH水溶
液(100af)及びメタノール(100aZ)を、撹
拌しながら1時間、−緒に還流する。その反応溶液を冷
却し、濃塩酸によりpH4にし、そして真空中に蒸発乾
燥せしめる。その残渣を熱いエタノール(75siZ)
中でスラリし、濾過し、そして濾液を真空中で蒸発乾燥
せしめる。得られた残渣を冷酢酸エチル(30d>中で
スラリし、濾過し、そして乾燥せしめ、4−フェニルニ
コチン酸塩酸塩(融点:239〜241°)を得る。
b)4−フェニルニコチン酸塩酸塩(2,4g、0.0
1モル)を水(50+nf)中に溶解し、そしてそのp
Hを5Nの水酸化ナトリウム水溶液の添加により10〜
11に調整する。過酢酸の溶液(40%、W/V。
1モル)を水(50+nf)中に溶解し、そしてそのp
Hを5Nの水酸化ナトリウム水溶液の添加により10〜
11に調整する。過酢酸の溶液(40%、W/V。
15.2 g )を注意して周囲温度で添加する。添加
が完結した後、その反応混合物を周囲温度で15分間、
撹拌し、そして次に4時間、50℃で加熱する。この後
、その混合物を冷却し、そして真空中で蒸発乾燥せしめ
る。残渣を熱いエタノール(20+aZ)中でスラリし
、次に濾過し、そして濾液を真空中で蒸発乾燥せしめ、
4−フェニルニコチン酸N−オキシドを得る。
が完結した後、その反応混合物を周囲温度で15分間、
撹拌し、そして次に4時間、50℃で加熱する。この後
、その混合物を冷却し、そして真空中で蒸発乾燥せしめ
る。残渣を熱いエタノール(20+aZ)中でスラリし
、次に濾過し、そして濾液を真空中で蒸発乾燥せしめ、
4−フェニルニコチン酸N−オキシドを得る。
C)無水ジメチルホルムアミド(200aZ)中、4−
フェニルニコチン酸N−オキシド(8,4g。
フェニルニコチン酸N−オキシド(8,4g。
0.04モル)、シアン化ナトリウム(6,45g 、
0.13モル)及びジエチルアミン(26,2stj
、0.19モル)の溶液に、クロロトリメチルシラン(
23,8ml。
0.13モル)及びジエチルアミン(26,2stj
、0.19モル)の溶液に、クロロトリメチルシラン(
23,8ml。
0.19モル)を添加する。次に、その反応混合物を1
00−110℃で26時間、加熱する。冷却した後、そ
の溶液を水20〇−中に注ぎ、そしてそのpHを濃塩酸
の添加により4に調整する。その混合物を酢酸エチルに
より抽出し、そしてその抽出物を濃縮する。薄黒い残渣
を酢酸エチル150ra1中に溶解し、そして炭酸水素
ナトリウムの飽和溶液により抽出する。この後者の抽出
物を、濃塩酸によりpH4に調整し、そして再び酢酸エ
チルにより抽出する。
00−110℃で26時間、加熱する。冷却した後、そ
の溶液を水20〇−中に注ぎ、そしてそのpHを濃塩酸
の添加により4に調整する。その混合物を酢酸エチルに
より抽出し、そしてその抽出物を濃縮する。薄黒い残渣
を酢酸エチル150ra1中に溶解し、そして炭酸水素
ナトリウムの飽和溶液により抽出する。この後者の抽出
物を、濃塩酸によりpH4に調整し、そして再び酢酸エ
チルにより抽出する。
集められた酢酸エチル抽出物を蒸発乾燥せしめ、そして
その残渣をFlorisil@ (マグネシウムシリ
ケート (30〜60メツシユ、Fluka、Buch
s、CI) )上で酢酸エチル/メタノール(1: 1
)によりクロマトグラフィー処理し、5−カルボキシ−
2−シアノ−4−フェニル−ピリジン(融点:270〜
272°、Rf=0.6)を得る。
その残渣をFlorisil@ (マグネシウムシリ
ケート (30〜60メツシユ、Fluka、Buch
s、CI) )上で酢酸エチル/メタノール(1: 1
)によりクロマトグラフィー処理し、5−カルボキシ−
2−シアノ−4−フェニル−ピリジン(融点:270〜
272°、Rf=0.6)を得る。
標記化合物(融点:278°)を、例5に記載している
ようにして調製する。但し、5−カルボキシ−2−シア
ノ−ピリジンの代わりに5−カルボキシ−2−シアノ−
4−シクロヘキシル−ピリジンから出発する。
ようにして調製する。但し、5−カルボキシ−2−シア
ノ−ピリジンの代わりに5−カルボキシ−2−シアノ−
4−シクロヘキシル−ピリジンから出発する。
出発原料を次のようにして調製する:
a)メチル4−シクロへキシルニコチネート(llet
erocycles 22.151〜157(1984
)を参照のこと) (23,6g 、 0.11モル
)、5Nの水酸化ナトリウム水溶液(100mZ)及び
メタノール(50d)を、撹拌しながら1時間、還流す
る。その反応溶液を冷却し、そして濃塩酸によりpH4
にす、る。その混合物を真空中で蒸発乾燥せしめる。そ
の残渣を熱いエタノール(50aり中でスラリし、濾過
し、そしてその濾液を真空中で蒸発乾燥せしめる。その
残渣を冷酢酸エチル(25d)中でスラリし、濾過し、
そして乾燥せしめ、4−シクロヘキシルニコチン酸塩酸
塩を得る。
erocycles 22.151〜157(1984
)を参照のこと) (23,6g 、 0.11モル
)、5Nの水酸化ナトリウム水溶液(100mZ)及び
メタノール(50d)を、撹拌しながら1時間、還流す
る。その反応溶液を冷却し、そして濃塩酸によりpH4
にす、る。その混合物を真空中で蒸発乾燥せしめる。そ
の残渣を熱いエタノール(50aり中でスラリし、濾過
し、そしてその濾液を真空中で蒸発乾燥せしめる。その
残渣を冷酢酸エチル(25d)中でスラリし、濾過し、
そして乾燥せしめ、4−シクロヘキシルニコチン酸塩酸
塩を得る。
b)4−シクロヘキシルニコチン酸塩酸塩(4,5g、
0.018モル)を、塩化メチレン(4〇−)中に
溶解する。この溶液を、CHzCj!z(80aZ)中
、メタクロロ過安息香酸(10,82g 、 0.0
63モル)の冷溶液と混合せしめ、そして、その得られ
た混合物を室温で一晩、撹拌する。その得られた沈殿物
を濾過し、そしてその濾液を蒸発乾燥せしめる。
0.018モル)を、塩化メチレン(4〇−)中に
溶解する。この溶液を、CHzCj!z(80aZ)中
、メタクロロ過安息香酸(10,82g 、 0.0
63モル)の冷溶液と混合せしめ、そして、その得られ
た混合物を室温で一晩、撹拌する。その得られた沈殿物
を濾過し、そしてその濾液を蒸発乾燥せしめる。
その残渣をエーテル中に懸濁する。その沈殿物を濾過し
、エーテルにより洗浄し、そして乾燥せしめ、3−カル
ボキシ−4−シクロヘキシル−ピリジンN−オキシド(
融点:168〜169°)を得る。
、エーテルにより洗浄し、そして乾燥せしめ、3−カル
ボキシ−4−シクロヘキシル−ピリジンN−オキシド(
融点:168〜169°)を得る。
c)無水ジメチルホルムアミド(50aZ)中、3−カ
ルボキシ−4−シクロヘキシル−ピリジンN−オキシド
(3,09g 、 0.014モル)、シアン化ナト
リウム(2,47g 、 0.05モル)及びトリエチ
ルアミン(7,08g、0.07モル)の溶液に、クロ
ロトリメチルシラン(7,6g 、 0.07モル)を
添加する。
ルボキシ−4−シクロヘキシル−ピリジンN−オキシド
(3,09g 、 0.014モル)、シアン化ナト
リウム(2,47g 、 0.05モル)及びトリエチ
ルアミン(7,08g、0.07モル)の溶液に、クロ
ロトリメチルシラン(7,6g 、 0.07モル)を
添加する。
次に、その反応混合物を85℃で28時間、加熱する。
冷却した後、無機塩を濾過し、ジエチルエーテルにより
洗浄し、そしてその濾液を50℃で真空蒸発せしめる。
洗浄し、そしてその濾液を50℃で真空蒸発せしめる。
薄黒い残渣をFlorisilO(酢酸エチル/メタノ
ール、4:l)上でクロマトグラフィー処理し、5−カ
ルボキシ−2−シアノ−4−シクロヘキシル−ピリジン
(融点:225〜230°、R,=0.55)を得る。
ール、4:l)上でクロマトグラフィー処理し、5−カ
ルボキシ−2−シアノ−4−シクロヘキシル−ピリジン
(融点:225〜230°、R,=0.55)を得る。
無水酢酸1〇−中、5−カルボキシ−2−(3−テトラ
ゾリル)−とリジン500■(2,6mモル)及び過塩
素酸マグネシウム50■の混合物を、1時間、還流する
。冷却した後、その溶液を蒸発乾燥せしめる。その残渣
をジクロロメタン中でスラリし、濾過し、そして乾燥せ
しめ、標記化合物(融点:305〜308°)を得る。
ゾリル)−とリジン500■(2,6mモル)及び過塩
素酸マグネシウム50■の混合物を、1時間、還流する
。冷却した後、その溶液を蒸発乾燥せしめる。その残渣
をジクロロメタン中でスラリし、濾過し、そして乾燥せ
しめ、標記化合物(融点:305〜308°)を得る。
・トルエン50aj中、5−カルボキシ−2−(3−テ
トラゾリル)−ピリジン1.65g (8,6mモル)
濃硫酸0.1@l及び1−ヘキサデカノール3.64
g(15mモル)の混合物を、48時間還流する。
トラゾリル)−ピリジン1.65g (8,6mモル)
濃硫酸0.1@l及び1−ヘキサデカノール3.64
g(15mモル)の混合物を、48時間還流する。
その熱い溶液を濾過し、非反応性出発原料を除去する。
冷却した後、その濾液は標記化合物(融点=139〜1
40°)の結晶を与える。
40°)の結晶を与える。
以下金白
■ハ:ヘキサー゛シル2−2−イミ ゛ゾリル ピ5−
カルボキシ−2−(2−イミダゾリル)−ピリジン(1
,89g 、 0.01モル)を、塩化チオニルlロー
中で2時間、還流する。その溶液を蒸発乾燥せしめ、そ
してその残渣をジクロロメタン20−中に溶解する。後
者の溶液を、ピリジン1.6 mf中、l−ヘキサデカ
ノール(2,68g 、 0.011モル)の混合物
に滴下する。室温で17時間後、その沈殿物を濾過し、
そしてその濾液を蒸発乾燥せしめる。その得られた残渣
をトルエン中で結晶化し、標記化合物(融点:97〜9
8°)を得る。
カルボキシ−2−(2−イミダゾリル)−ピリジン(1
,89g 、 0.01モル)を、塩化チオニルlロー
中で2時間、還流する。その溶液を蒸発乾燥せしめ、そ
してその残渣をジクロロメタン20−中に溶解する。後
者の溶液を、ピリジン1.6 mf中、l−ヘキサデカ
ノール(2,68g 、 0.011モル)の混合物
に滴下する。室温で17時間後、その沈殿物を濾過し、
そしてその濾液を蒸発乾燥せしめる。その得られた残渣
をトルエン中で結晶化し、標記化合物(融点:97〜9
8°)を得る。
5−カルボキシ−2−N−ヒドロキシカルバモイル−ピ
リジン(1,82g 、 0.01モル)を、1−ヘキ
サデカノール(2,66g、0.011モル)及び濃硫
酸0.1−と共にトルエン50aj中で一晩還流する。
リジン(1,82g 、 0.01モル)を、1−ヘキ
サデカノール(2,66g、0.011モル)及び濃硫
酸0.1−と共にトルエン50aj中で一晩還流する。
次にその溶液を濾過し、その濾液を蒸発乾燥甘しめ、そ
してその残渣をn−ヘキサン/酢酸エチル中で再結晶化
し、標記化合物(融点:93〜95°)を得る。
してその残渣をn−ヘキサン/酢酸エチル中で再結晶化
し、標記化合物(融点:93〜95°)を得る。
イソキノリン−1,4−ジカルボン酸(1,08g。
5mモル)を、塩化チオニル10m!中で2時間、還流
する。その溶液を蒸発乾燥せしめ、そしてその残渣をジ
クロロメタン20mZ中に溶解する。その後者の溶液を
、ピリジン1社中、1−ヘキサデカノール(2,90g
、 12mモル)の混合物に滴下する。室温で19時
間後、その沈殿物を濾過し、そしてその濾液を蒸発乾燥
せしめる。その得られた残渣をトルエン/エタノール中
で結晶化する。その得られた結晶を、シリカゲルフラッ
シュ−カラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン)に
より精製する。このようにして標記化合物(融点:80
.7〜81.4°)を得る。
する。その溶液を蒸発乾燥せしめ、そしてその残渣をジ
クロロメタン20mZ中に溶解する。その後者の溶液を
、ピリジン1社中、1−ヘキサデカノール(2,90g
、 12mモル)の混合物に滴下する。室温で19時
間後、その沈殿物を濾過し、そしてその濾液を蒸発乾燥
せしめる。その得られた残渣をトルエン/エタノール中
で結晶化する。その得られた結晶を、シリカゲルフラッ
シュ−カラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン)に
より精製する。このようにして標記化合物(融点:80
.7〜81.4°)を得る。
以下・々肉
1−:u−エトキシカルボニル−1−エト4−カルボキ
シ−1−(3−テトラゾリル)−イソキノリン(0,6
9g、2.9mモル)を、ジクロロメタン15−中に溶
解する。トリエチルアミン1.2N及びエチル2−ブロ
モ−2−エトキシ−アセテート1.8nd(8,6mモ
ル)の混合物をこの溶液に滴下する。その反応混合物を
室温で4時間撹拌する。この後、ジクロロメタン溶液を
水により抽出し、有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥せ
しめ、濾過し、そして蒸発乾燥せしめる。その残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン)
により精製し、標記化合物の2種の偏左右異性体を得る
: (a) : Rt =0.68、融点97℃及
び(b):Rr =0.5、/樹脂(IR(Na(J!
フィルム): 1730(Co)、1755(Co)c
+a−’)。
シ−1−(3−テトラゾリル)−イソキノリン(0,6
9g、2.9mモル)を、ジクロロメタン15−中に溶
解する。トリエチルアミン1.2N及びエチル2−ブロ
モ−2−エトキシ−アセテート1.8nd(8,6mモ
ル)の混合物をこの溶液に滴下する。その反応混合物を
室温で4時間撹拌する。この後、ジクロロメタン溶液を
水により抽出し、有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥せ
しめ、濾過し、そして蒸発乾燥せしめる。その残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン)
により精製し、標記化合物の2種の偏左右異性体を得る
: (a) : Rt =0.68、融点97℃及
び(b):Rr =0.5、/樹脂(IR(Na(J!
フィルム): 1730(Co)、1755(Co)c
+a−’)。
ば下余内
五冊ニジ(1−エトキシカルボニル−1−エトキ2.5
−ジカルボキシ−ピリジン(1,67g 。
−ジカルボキシ−ピリジン(1,67g 。
0.01モル)を、ジクロロメタン4〇−中に懸濁する
。トリエチルアミン2.8−を滴下し、続いてエチル2
−ブロモ−2−エトキシ−アセテート4.02g (0
,02モル)を添加する。その溶液を室温で2時間撹拌
する。この後、そのジクロロメタン溶液を濾過し、水に
より洗浄し、硫酸マグネシラ、ム上で乾燥せしめ、そし
て蒸発乾燥せしめる。その残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(ジクロロメタン/酢酸エチル)によっ
て精製し、樹脂として標記化合物を得る: IR(Na
Cffiフィルム):1730 (CO) 、 176
5 (Co) cra −’。
。トリエチルアミン2.8−を滴下し、続いてエチル2
−ブロモ−2−エトキシ−アセテート4.02g (0
,02モル)を添加する。その溶液を室温で2時間撹拌
する。この後、そのジクロロメタン溶液を濾過し、水に
より洗浄し、硫酸マグネシラ、ム上で乾燥せしめ、そし
て蒸発乾燥せしめる。その残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(ジクロロメタン/酢酸エチル)によっ
て精製し、樹脂として標記化合物を得る: IR(Na
Cffiフィルム):1730 (CO) 、 176
5 (Co) cra −’。
以下奈古
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記の式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、Aは、カルバモイル、N−低級アルキルカルバ
モイル、N,N−ジ−低級アルキルカルバモイル、遊離
形又は保護形でのN−ヒドロキシカルバモイル、N−(
C_1〜C_2_0)アルコキシ−N−(C_1〜C_
2_0)アルキルカルバモイル、基−C(=N−OH)
−NH_2、アミジノ基−C(=NH)−NH_2、N
−低級アルキルアミジノ基−C(=NH)−NH(低級
アルキル)、基−C(=NH)−O(低級アルキル)、
1−(C_1〜C_1_5−アルコキシカルボニル)−
1−(低級アルコキシ)−メトキシカルボニル、C_3
〜C_7−アルカノイル、(N−ヒドロキシイミノ)−
低級アルキル、4,5−ジヒドロ−2−(チア、オキサ
、イミダ)ゾリル、2−(チア、オキサ)ゾリル、1−
低級アルキル−4,5−ジヒドロ−2−イミダゾリル、
イミダゾリル、1−アシル−イミダゾリル、2−ベンズ
(オチア、オキサ、イミダ)ゾリル、1−アシル−2−
ベンズイミダゾリル、遊離形又は保護形での5−テトラ
ゾリルを表わし;又はR_2が水素、フェニル、ニトロ
−フェニル、カルボキシ−フェニル及びC_1〜C_2
−アルコキシカルボニル−フェニル以外のものである場
合、Aはカルボキシ又は医薬的に許容されるそのエステ
ル基を表わし; R_1は、カルボキシ又は医薬的に許容されるそのエス
テル基を表わし、そして R_2は、水素又は低級アルキル、シクロアルキル、ア
リール−低級アルキル、ヘテロアリール−低級アルキル
及びアリール(これらのそれぞれは置換されていなくて
もよく又は置換されていてもよい)から成る群の基を表
わし;そして R_3は水素を表わし;あるいは R_2及びR_3は、一緒になって▲数式、化学式、表
等があります▼(1,3−ブタジエン−1,4−イレン
)を表わし; 但し、AはN−ヒドロキシカルバモイルを表わし、そし
てR_1はメトキシカルボニルである場合、又はAはN
−ヒドロキシイミノメチルを表わし、そしてR_1はメ
トキシカルボニル又はエトキシカルボニルである場合;
又はAは2−ベンズイミダゾリルであり、そしてR_1
はエトキシカルボニルである場合、R_2は水素以外の
ものであり;そしてAはカルバモイルであり、そしてR
_1はメトキシカルボニル又はエトキシカルボニルであ
る場合、R_2はフェニル以外のものである。〕で表わ
される化合物又はその互変異体もしくは塩。 2、R_2が水素、又は低級アルキル、シクロアルキル
、アリール−低級アルキル、ヘテロアリール−低級アル
キル及びアリールから成る群の基を表わし、そして前記
基のそれぞれは、置換されていなくてもよく、又はアミ
ノ、低級アルキルアミノ、ジ−低級アルキルアミノ、N
−ピペリジノ、N−モルホリノ、N−チオモルホリノ、
N−ピペラジノ、4−(低級アルキル又は低級アルカノ
イル)−N−ピペラジノ、低級アルコキシ、C_3〜C
_1_4のアルコキシ(ここでアルキル鎖が1〜5個の
オキシ基によって中断されている)、又はC_3〜C_
1_4−アルキルアミノ(ここでアルキル鎖が1〜5個
のオキシ基及び/又はイミノ基によって中断されている
)によって置換されていてもよく;そしてR_3が水素
を表わし;又はR_2及びR_3が一緒になって1,3
−ブタジエン−1,4−イレンを表わす請求項1記載の
式( I )の化合物。 3、AがN−低級アルキルカルバモイル、N,N−ジ−
低級アルキルカルバモイル、N−ヒドロキシカルバモイ
ル、N−(C_1〜C_2_0)アルコキシ−N−(C
_1〜C_2_0)アルキルカルバモイル、基−C(=
N−OH)−NH_2、N−低級アルキルアミジノ基−
C(=NH)−NH−(低級アルキル)、基−C(=N
H)−O(低級アルキル)、1−低級アルコキシカルボ
ニル−1−低級アルコキシ−メトキシカルボニル、C_
3〜C_7−アルカノイル、1−(N−ヒドロキシイミ
ノ)−低級アルキル、4,5−ジヒドロ−2−(チア、
オキサ、イミダ)ゾリル、2−(チア、イミダ)ゾリル
、1−低級アルキル−4,5−ジヒドロ−2−イミダゾ
リル、2−ベンゾチアゾリル、5−テトラゾリル、2−
低級アルカノイル−5−テトラゾリル又は2−(1−低
級アルコキシカルボニル−1−低級アルコキシ−メチル
)−5−テトラゾリルを表わし;あるいはR_2が水素
及び置換されていないフェニル以外のものである場合、
Aがカルボキシ又はC_1〜C_2_0−アルコキシカ
ルボニルを表わし;R_1がカルボキシ、C_1〜C_
2_0−アルコキシカルボニル又は1−低級アルコキシ
カルボニル−1−低級アルコキシ−メトキシカルボニル
を表わし、そして R_2が水素、低級アルキル、C_5−C_7−シクロ
アルキル、フェニル−低級アルキル又はフェニルを表わ
し、後者の2種の基において、フェニルは置換されてお
らず又は低級アルキル、ヒドロキシ、低級アルコキシ及
び/又はハロゲンによって置換されており、但し、Aが
N−ヒドロキシカルバモイルを表わし、そしてR_1が
メトキシカルボニルである場合、R_2は水素以外のも
のであり;そしてR_3は水素を表わし;又は R_2及びR_3は一緒になって1,3−ブタジエン−
1,4−イレンを表わす式( I )の化合物;又はその
互変異体又は医薬的に許容されるその塩である請求項1
記載の式( I )の化合物。 4、AがN−ヒドロキシカルバモイル、N−(C_1〜
C_2_0)アルコキシ−N−(C_1〜C_2_0)
アルキルカルバモイル、基−C(=N−OH)−NH_
2、N−低級アルキルアミジノ基−C(=NH)−NH
(低級アルキル)、基−C(=NH)−O(低級アルキ
ル)、1−低級アルコキシカルボニル−1−低級アルコ
キシ−メトキシカルボニル、C_3〜C_7−アルカノ
イル、1−(N−ヒドロキシイミノ)−低級アルキル、
4,5−ジヒドロ−2−(チア、オキサ、イミダ)ゾリ
ル、2−(チア、イミダ)ゾリル、1−低級アルキル−
4,5−ジヒドロ−2−イミダゾリル、2−ベンゾチア
ゾリル、5−テトラゾリル、2−低級アルカノイル−5
−テトラゾリル又は2−(1−低級アルコキシカルボニ
ル−1−低級アルコキシ−メチル)−5−テトラゾリル
を表わし;又はR_2が水素及びフェニル以外のもので
ある場合には、Aはカルボキシ又はC_1〜C_2_0
−アルコキシカルボニルを表わし; R_1はカルボキシ、C_1〜C_2_0−アルコキシ
カルボニル又は1−低級アルコキシカルボニル−1−低
級アルコキシ−メトキシカルボニルを表わし、そして R_2は水素、低級アルキル、C_5〜C_7−シクロ
アルキル又はフェニルを表わし、但し、AがN−ヒドロ
キシカルバモイルを表わし、そしてR_1がメトキシカ
ルボニルである場合、R_2は水素以外のものであり;
そしてR_3は水素を表わし;又は R_2及びR_3は一緒になって1,3−ブタジエン−
1,4−イレンを表わす式( I )の化合物;又はその
互変異体又は医薬的に許容されるその塩である請求項1
記載の式( I )の化合物。 5、Aが遊離形又は保護形でのN−ヒドロキシカルバモ
イル、遊離形又は保護形での5−テトラゾリルもしくは
カルボキシ又は医薬的に許容されるそのエステル基を表
わし、R_1がカルボキシ又は医薬的に許容されるその
エステル基を表わし、R_2及びR_3が水素を表わし
、又はR_2及びR_3が一緒になって1,3−ブタジ
エン−1,4−イレンを表わし;但し、AがN−ヒドロ
キシカルバモイルであり、そしてR_1がメトキシカル
ボニルである場合、あるいはAがカルボキシ又は低級ア
ルコキシカルボニルである場合、R_2及びR_3は一
緒になって1,3−ブタジエン−1,4−イレンでなけ
ればならない式( I )の化合物;又は医薬的に許容さ
れるその塩である請求項1記載の式( I )の化合物。 6、AがN−低級アルキルカルバモイル、N,N−ジ−
低級アルキルカルバモイル、N−ヒドロキシカルバモイ
ル、基−C(=N−OH)−NH_2、N−低級アルキ
ルアミジノ基−C(=NH)−NH(低級アルキル)、
基−C(=NH)−O(低級アルキル)、C_3〜C_
7−アルカノイル、1−(N−ヒドロキシイミノ)−C
_2〜C_7−アルキル、4,5−ジヒドロ−2−チア
ゾリル、2−チアゾリル、4、5−ジヒドロ−2−イミ
ダゾリル、1−低級アルキル−4,5−ジヒドロ−2−
イミダゾリル、2−イミダゾリル、4,5−ジヒドロ−
2−オキサゾリル、2−ベンゾチアゾリル又は5−テト
ラゾリルを表わし、R_1がカルボキシ又は低級アルコ
キシカルボニルを表わし、R_2が水素、低級アルキル
、シクロアルキル、フェニル−低級アルキル又はフェニ
ルであり、後者の2種の基において、フェニルは置換さ
れておらず又は低級アルキル、ヒドロキシ、低級アルコ
キシ及び/又はハロゲンによって置換されており、但し
、AがN−ヒドロキシカルバモイルを表わし、そしてR
_1がメトキシカルボニルである場合、R_2は水素以
外のものであり;そしてR_3は水素を表わし;又はR
_2及びR_3は一緒になって1,3−ブタジエン−1
,4−イレンを表わす式( I )の化合物;又はその互
変異体又は医薬的に許容されるその塩である請求項1記
載の式( I )の化合物。 7、AがN−ヒドロキシカルバモイル、5−テトラゾリ
ル又はカルボキシを表わし、R_1がカルボキシ又は低
級アルコキシカルボニルであり、R_2が水素又は低級
アルキルであり、但し、AがN−ヒドロキシカルバモイ
ルであり、そしてR_1がメトキシカルボニルである場
合、又はAがカルボキシである場合、R_2は低級アル
キルであるべきであり;そしてR_3が水素を表わす式
( I )の化合物;又は医薬的に許容されるその塩であ
る請求項1記載の式( I )の化合物。 8、請求項1記載の5−カルボキシ−2−N−ヒドロキ
シカルバモイル−ピリジン。 9、請求項1記載の4−カルボキシ−1−(5−テトラ
ゾリル)−イソキノリン。 10、請求項1記載の5−カルボキシ−2−(5−テト
ラゾリル)−ピリジン。 11、請求項1記載のヘキサデシル2−(5−テトラゾ
リル)−ピリジン−5−カルボキシレート。 12、請求項1記載のジ(1−エトキシカルボニル−1
−エトキシ−メチル)ピリジン−2,5−ジカルボキシ
レート。 13、請求項1〜12のいづれか1項記載の式( I )
の化合物及び1又はそれよりも多くの医薬的に許容され
る担体を含む医薬製剤。 14、動物又は人体の予防及び/又は治療的な処置のた
めの方法に使用するための請求項1〜12のいづれか1
項記載の式( I )の化合物。 15、抗線維症剤として使用するための請求項1〜12
のいづれか1項記載の式( I )の化合物。 16、線維症の治療のための医薬製剤の製造のための請
求項1〜12のいづれか1項記載の式( I )の化合物
の使用。 17、請求項1〜12のいづれか1項に記載の式( I
)の化合物の製造のための方法であって、下記一般式(
II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、基B及びCの少なくとも1つが式( I )の基
A及びR_1以外のものであるという条件で、Bは、基
Aに転位され得る基であり、又は式( I )下で定義さ
れたような基Aであり、Cは、基R_1に転位され得る
基であり、又は式( I )下で定義されたような基Aで
あり、そしてR_2及びR_3が式( I )下で定義さ
れたものである〕で表わされる化合物と基A及び/又は
R_1を形成する試薬とを反応せしめ;そして/又は所
望により、得られた式( I )の化合物をもう1つの式
( I )の化合物に転換し、そして/又は得られた塩を
遊離化合物又は他の塩に転換し、そして/又は塩形成特
性を有する、得られた式( I )の遊離化合物を塩に転
換し、そして/又は得られた立体異性体又は光学異性体
の混合物、たとえばジアステレオマーの混合物をそれぞ
れ個々の立体異性体、光学異性体又は鏡像体混合物に分
離し、そして/又は鏡像体混合物、たとえばラセミ化合
物を光学異性体に分離することを含んで成る方法。
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