JPS63216656A - 運動誤差補正制御摺動案内装置 - Google Patents
運動誤差補正制御摺動案内装置Info
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- JPS63216656A JPS63216656A JP4997587A JP4997587A JPS63216656A JP S63216656 A JPS63216656 A JP S63216656A JP 4997587 A JP4997587 A JP 4997587A JP 4997587 A JP4997587 A JP 4997587A JP S63216656 A JPS63216656 A JP S63216656A
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- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 45
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 10
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 9
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 abstract description 10
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002706 hydrostatic effect Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
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- Machine Tool Units (AREA)
- Magnetic Bearings And Hydrostatic Bearings (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、摺動体の摺動中の揺動誤差を補正する運動
誤差補正制御摺動案内装置に関する。
誤差補正制御摺動案内装置に関する。
[従来の技術]
摺動案内装置においては、摺動体がX軸線方向の摺動中
にx、y、z各軸線回りの揺動、即ち、ローリング(X
軸線回り)、ヨーイング(Y軸線回り)、ピッチング(
2軸線回り)をし、それらが走行精度の障害となる。
にx、y、z各軸線回りの揺動、即ち、ローリング(X
軸線回り)、ヨーイング(Y軸線回り)、ピッチング(
2軸線回り)をし、それらが走行精度の障害となる。
従来の技術における摺動案内装置においては、その走行
精度を高めるべく案内部分の加工精度や剛性の向上を図
ってその製作が行なわれている。
精度を高めるべく案内部分の加工精度や剛性の向上を図
ってその製作が行なわれている。
[発明が解決しようとする問題点コ
案内部分の加工精度や剛性の向上を図るだけでは、十分
な走行精度1例えば走行全長に亘って0゜01μmオー
ダの走行精度を得ることが困難である。
な走行精度1例えば走行全長に亘って0゜01μmオー
ダの走行精度を得ることが困難である。
[問題点を解決するための手段]
この発明においては、摺動案内体上を一直線方向に案内
されて摺動する摺動体の案内摺動中の揺動により案内面
との距離が相互に増減する対向した流体ポケットを摺動
体に設け、案内摺動中の摺動体の揺動変位を検測する摺
動体外にレーザ干渉測長器を設置する。そうして、レー
ザ干渉測長器からの検測信号に応じて流体ポケットへの
流体流量を制御して揺動変位を補償する補正変位を摺動
体に与えるように流体制御装置で制御するのである。
されて摺動する摺動体の案内摺動中の揺動により案内面
との距離が相互に増減する対向した流体ポケットを摺動
体に設け、案内摺動中の摺動体の揺動変位を検測する摺
動体外にレーザ干渉測長器を設置する。そうして、レー
ザ干渉測長器からの検測信号に応じて流体ポケットへの
流体流量を制御して揺動変位を補償する補正変位を摺動
体に与えるように流体制御装置で制御するのである。
[作 用]
摺動案内体上を流体ポケットの静圧流体で支承されなが
ら一直線方向に案内されて、摺動体は摺動するのである
が、摺動中に揺動すると摺動体の揺動による変位量が摺
動体外のレーザ干渉測長器で検測される。レーザ干渉測
長器からの検測信号に応じて流体制御装置が作動し、対
向した流体ポケットの一方、即ち揺動変位で案内面と接
近した方の流体ポケットへの流体流量が揺動変位を補償
するように増量されるのである。
ら一直線方向に案内されて、摺動体は摺動するのである
が、摺動中に揺動すると摺動体の揺動による変位量が摺
動体外のレーザ干渉測長器で検測される。レーザ干渉測
長器からの検測信号に応じて流体制御装置が作動し、対
向した流体ポケットの一方、即ち揺動変位で案内面と接
近した方の流体ポケットへの流体流量が揺動変位を補償
するように増量されるのである。
か′<シて、摺動中の摺動体の揺動による運動誤差は補
正される。
正される。
[実 施 例]
この発明の実施例を図面に従って説明する。
摺動案内体1には、断面十字状の上方に開放した案内溝
がX軸線方向に形成されている。即ち、案内溝は、中央
竪溝2、左側横溝3.右側横溝4から構成されている。
がX軸線方向に形成されている。即ち、案内溝は、中央
竪溝2、左側横溝3.右側横溝4から構成されている。
そうして、摺動案内体1の案内溝に案内されて、例えば
移動用サーボモータにより摺動案内体1上を摺動する摺
動体5は、下面に中央竪溝2、左側横溝3、右側横溝4
の夫々に嵌合する中央凸部6、左側横曲部7、右側横曲
部8を具備した断面十字状の案内凸部が形成されている
。
移動用サーボモータにより摺動案内体1上を摺動する摺
動体5は、下面に中央竪溝2、左側横溝3、右側横溝4
の夫々に嵌合する中央凸部6、左側横曲部7、右側横曲
部8を具備した断面十字状の案内凸部が形成されている
。
各凸部6,7.8の両面には、摺動体5の外部から圧力
流体が夫々の流路を介して供給され放出される流体ポケ
ット9 、9 ’ : 10,10’ ; 11,11
’ ; 12゜12’ : 13,13’ : 14,
14″が適宜箇所、例えば摺動力向に間隔をおいて2個
ずつ穿設され、静圧流体支承面を構成している(第3図
参照)。そうして、摺動体の運動誤差に基づくレーザ干
渉測長器からの測長信号から演算される差信号により作
動するサーボ弁が各流体ポケットへの流路中の流量を制
御するようになっている。
流体が夫々の流路を介して供給され放出される流体ポケ
ット9 、9 ’ : 10,10’ ; 11,11
’ ; 12゜12’ : 13,13’ : 14,
14″が適宜箇所、例えば摺動力向に間隔をおいて2個
ずつ穿設され、静圧流体支承面を構成している(第3図
参照)。そうして、摺動体の運動誤差に基づくレーザ干
渉測長器からの測長信号から演算される差信号により作
動するサーボ弁が各流体ポケットへの流路中の流量を制
御するようになっている。
第1図には、この発明の理解を容易にするべく、摺動体
の運動誤差となるX軸線方向の摺動中のX。
の運動誤差となるX軸線方向の摺動中のX。
Y、Z各軸線回りの揺動、即ち、ローリング(X軸線回
り)、ヨーイング(Y軸線回り)、ピッチング(Z軸線
回り)のうち、ヨーイングのみが代表されて開示されて
いる。
り)、ヨーイング(Y軸線回り)、ピッチング(Z軸線
回り)のうち、ヨーイングのみが代表されて開示されて
いる。
摺動体の摺動力向に平行に外側方に反射面を向けて摺動
体5の上面に平面鏡15が取付けられ、同反射面に対向
して摺動体の摺動力向(X軸線方向)に間隔をおいて2
個所に干渉計16.16″が固定側に設置されている。
体5の上面に平面鏡15が取付けられ、同反射面に対向
して摺動体の摺動力向(X軸線方向)に間隔をおいて2
個所に干渉計16.16″が固定側に設置されている。
摺動体5が正常位置ある場合の平面鏡15の反射面と両
干渉計16.16’との距離Q。
干渉計16.16’との距離Q。
Q′は所定距離りに等しい。そうして、両干渉計16、
16’に同時にレーザ光を送るようにレーザ発振器17
が設けられている。
16’に同時にレーザ光を送るようにレーザ発振器17
が設けられている。
各干渉計16 、16’にはレシーバ18.18’が設
けられ、それらからの各距離Q、Q’の距離検出信号が
入力されるようにレーザシステム19が接続されている
。
けられ、それらからの各距離Q、Q’の距離検出信号が
入力されるようにレーザシステム19が接続されている
。
そうして、レーザシステム19において、各距離Q。
Q′は、所定距離りと比較され、それとの各差信号出力
L −fl 、 L −F、 ’は、D/A変換され、
且つ増幅され、ヨーイング補正用サーボ弁20に入力さ
れるようにD/A変換器21,2F及びサーボアンプ2
2 、22’が夫々接続されている。
L −fl 、 L −F、 ’は、D/A変換され、
且つ増幅され、ヨーイング補正用サーボ弁20に入力さ
れるようにD/A変換器21,2F及びサーボアンプ2
2 、22’が夫々接続されている。
他方、圧力流体源23は、2つの固定絞り40.41と
ヨーイング補正用サーボ弁20とに接続され、2つの固
定絞り40.41とヨーイング補正用サーボ弁20とか
らは、中央凸部6の流体ポケット9.10’への流路2
4と、同じく流体ポケット9’、10への流路25とが
出ている。ヨーイング補正用サーボ弁20への入力信号
がない正常時には、圧力流体源23からヨーイング補正
用サーボ弁20を介さずに所定圧力・同一流量の流体が
2つの固定絞り40.41を介して両流路24 、25
へ送られるようになっている。そうして、ヨーイングが
生じて、ヨーイング補正用サーボ弁20への入力信号が
あるときには、ヨーイング補正用サーボ弁20が作動さ
れ、流路24又は流路25へ選択的に圧力流体の流量が
増加されるようになっている。
ヨーイング補正用サーボ弁20とに接続され、2つの固
定絞り40.41とヨーイング補正用サーボ弁20とか
らは、中央凸部6の流体ポケット9.10’への流路2
4と、同じく流体ポケット9’、10への流路25とが
出ている。ヨーイング補正用サーボ弁20への入力信号
がない正常時には、圧力流体源23からヨーイング補正
用サーボ弁20を介さずに所定圧力・同一流量の流体が
2つの固定絞り40.41を介して両流路24 、25
へ送られるようになっている。そうして、ヨーイングが
生じて、ヨーイング補正用サーボ弁20への入力信号が
あるときには、ヨーイング補正用サーボ弁20が作動さ
れ、流路24又は流路25へ選択的に圧力流体の流量が
増加されるようになっている。
以上は、ヨーイングに対する補正装置であるが、ローリ
ングやピッチングに対する補正装置も夫々同様の構成部
材が配置を変えて配備されいるのである。
ングやピッチングに対する補正装置も夫々同様の構成部
材が配置を変えて配備されいるのである。
平面鏡、その反射面及び干渉計の配置については、第2
図に示すように、ローリング補正用には。
図に示すように、ローリング補正用には。
平行してX軸線方向に配置された平面鏡26と平面鏡2
7との夫々の上方に向いた反射面に夫々対向して2軸線
方向に2個の干渉計28.28’が固定側に設置されて
いる。ピッチング補正用には、平面鏡27の反射面に夫
々対向してX軸線方向に間隔をおいて2個の干渉計29
.29’が固定側に設置されている。
7との夫々の上方に向いた反射面に夫々対向して2軸線
方向に2個の干渉計28.28’が固定側に設置されて
いる。ピッチング補正用には、平面鏡27の反射面に夫
々対向してX軸線方向に間隔をおいて2個の干渉計29
.29’が固定側に設置されている。
平面鏡の反射面と干渉計との距離についてはヨーイング
補正の場合と同じである。
補正の場合と同じである。
サーボ弁と流体ポケットとの関係については、ローリン
グ補正用サーボ弁30からは、左側横曲部7の下面の流
体ポケット11.11’への流路31と、右側機′凸部
8の下面の流体ポケット13.13’への流路32とが
出ており、ピッチング補正用サーボ弁33からは、左側
横曲部7の上面の流体ポケット12及び右側横曲部8の
上面の流体ポケット14への流路34と左側横曲部7の
上面の流体ポケット12′及び右側横曲部8の上面の流
体ポケット14″への流路35とが出ている。
グ補正用サーボ弁30からは、左側横曲部7の下面の流
体ポケット11.11’への流路31と、右側機′凸部
8の下面の流体ポケット13.13’への流路32とが
出ており、ピッチング補正用サーボ弁33からは、左側
横曲部7の上面の流体ポケット12及び右側横曲部8の
上面の流体ポケット14への流路34と左側横曲部7の
上面の流体ポケット12′及び右側横曲部8の上面の流
体ポケット14″への流路35とが出ている。
そうして、ローリング補正装置もピッチング補正装置も
制御構成は、ヨーイング補正装置の場合と同じである。
制御構成は、ヨーイング補正装置の場合と同じである。
なお、前記の3種の補正装置の他に、摺動体の摺動方向
(X軸線方向)の位置決め検出用として、摺動体の摺動
方向端部に同方向に反射面を向けて摺動体5の上面に平
面鏡36が取付けられ、同反射面に対向して摺動体の摺
動方向(X軸線方向)に干渉計37が固定側に設置され
ている。干渉計37にレーザ光を送るようにレーザ発振
器17の光路中にビームスプリブタ38が設けられ、干
渉計37にはレシーバ39が具備されている。
(X軸線方向)の位置決め検出用として、摺動体の摺動
方向端部に同方向に反射面を向けて摺動体5の上面に平
面鏡36が取付けられ、同反射面に対向して摺動体の摺
動方向(X軸線方向)に干渉計37が固定側に設置され
ている。干渉計37にレーザ光を送るようにレーザ発振
器17の光路中にビームスプリブタ38が設けられ、干
渉計37にはレシーバ39が具備されている。
上記の運動誤差補正制御案内装置の作用について、既述
の実施例の説明の場合と同様に3種の運動誤差の内、ヨ
ーイングを代表にして説明する。
の実施例の説明の場合と同様に3種の運動誤差の内、ヨ
ーイングを代表にして説明する。
摺動体5の案内凸部の全流体ポケット9,9′乃至1.
4 、14°に圧力流体源23から左右、前後均等に同
圧同量の圧力流体が供給され、案内凸部が案内溝に静圧
流体で支承され、摺動体5は、移動用サーボモータに駆
動されて摺動案内体1上をX軸線力−7= 向に摺動する。
4 、14°に圧力流体源23から左右、前後均等に同
圧同量の圧力流体が供給され、案内凸部が案内溝に静圧
流体で支承され、摺動体5は、移動用サーボモータに駆
動されて摺動案内体1上をX軸線力−7= 向に摺動する。
ヨーイングが生じない場合には、干渉計16と干渉計1
6′とから平面鏡15の反射面への距離Qと距離Q′と
は所定距離りに等しく、そのような検測信号がレーザシ
ステム19に入力され、レーザシステム19から差信号
が出力されない。
6′とから平面鏡15の反射面への距離Qと距離Q′と
は所定距離りに等しく、そのような検測信号がレーザシ
ステム19に入力され、レーザシステム19から差信号
が出力されない。
ヨーイングが生じた場合には、干渉計16と干渉計16
′とから平面鏡15の反射面への距離Qと距離α′とに
差が生じ、両者は所定距離りどの間にも差が生じる。夫
々検出された検測信号は、レーザシステム19に入力さ
れ、演算されて、レーザシステム19から出力される差
信号L−111及び同L’−111’は、D/A変換器
2]、21’でD/A変換され、サーボアンプ22.2
2’で増幅されてL−fi及びL−fl’に比例した作
動信号としてヨーイング補正用サーボ弁20に入力され
る。
′とから平面鏡15の反射面への距離Qと距離α′とに
差が生じ、両者は所定距離りどの間にも差が生じる。夫
々検出された検測信号は、レーザシステム19に入力さ
れ、演算されて、レーザシステム19から出力される差
信号L−111及び同L’−111’は、D/A変換器
2]、21’でD/A変換され、サーボアンプ22.2
2’で増幅されてL−fi及びL−fl’に比例した作
動信号としてヨーイング補正用サーボ弁20に入力され
る。
L−Q>01L−12’<Oとなるヨーイングの場合に
は、その差信号に応じたヨーイング補正用サーボ弁20
の作動により流路24から流体ポケット9.10’/\
の流量か増量される。
は、その差信号に応じたヨーイング補正用サーボ弁20
の作動により流路24から流体ポケット9.10’/\
の流量か増量される。
L−11<01L−ff’>Oとなるゴーイングの場合
には、その差信号に応じたヨーイング補正用サーボ弁2
0の作動により流路25から流体ボなット9’、10へ
の流量が増量される。
には、その差信号に応じたヨーイング補正用サーボ弁2
0の作動により流路25から流体ボなット9’、10へ
の流量が増量される。
かくして、流体ポケットにおける流体の作動によりQ=
Q、’となるまでヨーイングと逆方向に揺動が生じ、ヨ
ーイングに対する補正が行なわれる。
Q、’となるまでヨーイングと逆方向に揺動が生じ、ヨ
ーイングに対する補正が行なわれる。
ローリング補正装置及びピッチング補正装置の場合もヨ
ーイング補正装置と同様の作用が行なわれることは、容
易に理解されよう。
ーイング補正装置と同様の作用が行なわれることは、容
易に理解されよう。
そうして、平面鏡36と干渉計37とによるレーザ干渉
測長による測長信号は、摺動体5のX軸線方向の位置決
め作用に供せられる。
測長による測長信号は、摺動体5のX軸線方向の位置決
め作用に供せられる。
[発明の効果コ
この発明による運動誤差補正制御摺動案内装置は、摺動
中のローリング、ヨーイング、ピッチングという運動誤
差をレーザ干渉測長し、その検測信号により摺動体の流
体ポケットへの流体流量を制御して運動を補正するので
、従来の技術の摺動案内装置のような装置の加工精度や
剛性の向りによる走行精度より遥に高い走行精度を得る
ことができる。従って、この発明による運動誤差補正制
御摺動案内装置の精密加工機や計測器への適用は、それ
らの精度向上に有効である。
中のローリング、ヨーイング、ピッチングという運動誤
差をレーザ干渉測長し、その検測信号により摺動体の流
体ポケットへの流体流量を制御して運動を補正するので
、従来の技術の摺動案内装置のような装置の加工精度や
剛性の向りによる走行精度より遥に高い走行精度を得る
ことができる。従って、この発明による運動誤差補正制
御摺動案内装置の精密加工機や計測器への適用は、それ
らの精度向上に有効である。
第1図は、この発明による運動誤差補正制御案内装置の
原理斜視図、 第2図は、この発明による運動誤差補正制御案内装置に
おける反射鏡及び干渉計の配置図、第3図は、この発明
による運動誤差補正制御案内装置における圧力流体回路
図である。 l:摺動案内体 2:中央間溝 3;左側横溝 4:右側横溝 5:摺動体 6:中央凸部 7:左側様凸部 8:右側横曲部9.9′乃至1
4.14’ :流体ポケット15.26,27,36
:平面鏡 16.16’ 、28.28’ 、29.29’ 、3
7 :干渉計17:レーザ発振器 18,18’
、39 :レシーバ19:レーザシステム
原理斜視図、 第2図は、この発明による運動誤差補正制御案内装置に
おける反射鏡及び干渉計の配置図、第3図は、この発明
による運動誤差補正制御案内装置における圧力流体回路
図である。 l:摺動案内体 2:中央間溝 3;左側横溝 4:右側横溝 5:摺動体 6:中央凸部 7:左側様凸部 8:右側横曲部9.9′乃至1
4.14’ :流体ポケット15.26,27,36
:平面鏡 16.16’ 、28.28’ 、29.29’ 、3
7 :干渉計17:レーザ発振器 18,18’
、39 :レシーバ19:レーザシステム
Claims (1)
- 摺動案内体;摺動案内体上を一直線方向に案内されて摺
動し、案内摺動中の摺動体の揺動により案内面との距離
が相互に増減する対向した流体ポケットを備えた摺動体
;案内摺動中の摺動体の揺動変位を検測する摺動体外に
設置されたレーザ干渉測長器;及びレーザ干渉測長器か
らの検測信号に応じて流体ポケットへの流体流量を制御
して揺動変位を補償する補正変位を摺動体に与える流体
制御装置から構成された運動誤差補正制御摺動案内装置
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4997587A JPS63216656A (ja) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | 運動誤差補正制御摺動案内装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4997587A JPS63216656A (ja) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | 運動誤差補正制御摺動案内装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63216656A true JPS63216656A (ja) | 1988-09-08 |
Family
ID=12846015
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4997587A Pending JPS63216656A (ja) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | 運動誤差補正制御摺動案内装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63216656A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013011711A1 (ja) * | 2011-07-15 | 2013-01-24 | 株式会社安川電機 | ステージ装置及びステージ制御システム |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5623737A (en) * | 1979-08-04 | 1981-03-06 | Tohoku Metal Ind Ltd | Manufacture of buried type semiconductor element substrate |
-
1987
- 1987-03-06 JP JP4997587A patent/JPS63216656A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5623737A (en) * | 1979-08-04 | 1981-03-06 | Tohoku Metal Ind Ltd | Manufacture of buried type semiconductor element substrate |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013011711A1 (ja) * | 2011-07-15 | 2013-01-24 | 株式会社安川電機 | ステージ装置及びステージ制御システム |
CN103648714A (zh) * | 2011-07-15 | 2014-03-19 | 株式会社安川电机 | 工作台装置以及工作台控制系统 |
JP5618263B2 (ja) * | 2011-07-15 | 2014-11-05 | 株式会社安川電機 | ステージ装置及びステージ制御システム |
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