JPS63192874A - 金属被膜品の製造方法 - Google Patents
金属被膜品の製造方法Info
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/105—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by conversion of non-conductive material on or in the support into conductive material, e.g. by using an energy beam
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/14—Decomposition by irradiation, e.g. photolysis, particle radiation or by mixed irradiation sources
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
この発明は、電子材料の製造等に好適な金属被膜品の製
造方法に関する。
造方法に関する。
〈従来の技術及びその問題点〉
従来より、カルボン酸の金属塩を含む前処理剤を対象物
の表面に塗布し、そしてその対象物に紫外線を照射して
、前処理剤中に含まれる金属を対象物の表面へ被膜状に
形成させる所謂“光化学金属膜形成技術”は知られてい
た。
の表面に塗布し、そしてその対象物に紫外線を照射して
、前処理剤中に含まれる金属を対象物の表面へ被膜状に
形成させる所謂“光化学金属膜形成技術”は知られてい
た。
しかしながら、この形成された金属被膜は化学メッキや
電気メッキ等のための下地(メッキ核)としてしか利用
されていなかった。(特開昭51−8574号公報参照
)。
電気メッキ等のための下地(メッキ核)としてしか利用
されていなかった。(特開昭51−8574号公報参照
)。
く問題点を解決するための手段〉
そこで本発明者は、このような金属被膜でも対象物に対
する密着性を与えれば、前処理剤のみで最終製品として
通用する金属被膜を得ることができる点に着目し、長年
にわたって鋭意研究を重ねてきた。そして、その研究の
結果、高分子カルボン酸金属塩に増粘剤と適量の水を混
合しておくことにより、密着性のある金属被膜を形成す
ることができるという本発明を知見するに至ったもので
ある。
する密着性を与えれば、前処理剤のみで最終製品として
通用する金属被膜を得ることができる点に着目し、長年
にわたって鋭意研究を重ねてきた。そして、その研究の
結果、高分子カルボン酸金属塩に増粘剤と適量の水を混
合しておくことにより、密着性のある金属被膜を形成す
ることができるという本発明を知見するに至ったもので
ある。
即ち、この発明に係る金属被成品の製造方法は、1種又
は2種以上の金属塩を含む高分子カルボン酸金属塩と増
粘剤と適量の水とから成る乳剤を、対象物の表面へ施し
、次いで該乳剤に紫外線を照射し、前記高分子カルボン
酸金属塩中の金属による被膜を対象物の表面に形成する
ものであり〔第1発明(特許請求の範囲第1項に記載の
発明)〕、11種は2種以上の金属塩を含む高分子カル
ボン酸金属塩と増粘剤と適量の水と、そして増感剤又は
消光剤の少なくとも一方とからなる乳剤を、対象物の表
面へ施し、次いで該乳剤に紫外線を照射し、前記高分子
カルボン酸金属塩中の金属による被膜を対象物の表面に
形成するものである〔第2発明(特許請求の範囲第2項
に記載の発明)〕。
は2種以上の金属塩を含む高分子カルボン酸金属塩と増
粘剤と適量の水とから成る乳剤を、対象物の表面へ施し
、次いで該乳剤に紫外線を照射し、前記高分子カルボン
酸金属塩中の金属による被膜を対象物の表面に形成する
ものであり〔第1発明(特許請求の範囲第1項に記載の
発明)〕、11種は2種以上の金属塩を含む高分子カル
ボン酸金属塩と増粘剤と適量の水と、そして増感剤又は
消光剤の少なくとも一方とからなる乳剤を、対象物の表
面へ施し、次いで該乳剤に紫外線を照射し、前記高分子
カルボン酸金属塩中の金属による被膜を対象物の表面に
形成するものである〔第2発明(特許請求の範囲第2項
に記載の発明)〕。
゛ここで「対象物」としては、従来の化学メッキを行っ
ていた全てのものが含まれる。例えば、プラスチック、
セラミック等が好適である。
ていた全てのものが含まれる。例えば、プラスチック、
セラミック等が好適である。
そして「高分子カルボン酸」としては、各種のものが考
えられるが、代表的なものを列挙すると、アルギン酸、
ペクチン酸、アクリル酸、メタアクリル酸、などが好適
である。
えられるが、代表的なものを列挙すると、アルギン酸、
ペクチン酸、アクリル酸、メタアクリル酸、などが好適
である。
「金属塩」としても、種々のものが考えられるが、その
代表的なものとしては、金、銀、銅、パラジウム等及び
これらの合金を含む貴金属が好適である。
代表的なものとしては、金、銀、銅、パラジウム等及び
これらの合金を含む貴金属が好適である。
そして、本発明においては、上記高分子カルボン酸と金
属塩との組合せによる高分子カルボン酸金属塩が用いら
れるもので、金属塩としては1種でも2種以上でも良く
、2種以上の金属塩を含む場合は、それらの金属塩から
なる合金被膜を形成できるものである。
属塩との組合せによる高分子カルボン酸金属塩が用いら
れるもので、金属塩としては1種でも2種以上でも良く
、2種以上の金属塩を含む場合は、それらの金属塩から
なる合金被膜を形成できるものである。
また、「増粘剤」としては、乳酸、プロピオン酸等のカ
ルボン酸、及びギ酸アンモニウム、酢酸アンモニウム等
のカルボン酸アンモニウム、そしてエチレングリコール
、可溶性澱粉、ゼラチン、PVA等を用いることができ
る。この増粘剤を高分子カルボン酸金属塩に混合するこ
とが、本発明の1つの特徴であり、その明確なメカニズ
ムは判明していないが、この増粘剤を混合することによ
り、内部応力が抑制された密着性の高い金属被膜を得る
ことができるものであり、この増粘剤は乳剤の粘度を調
整する機能に加えて応力抑制剤としての機能も発揮する
ものである。
ルボン酸、及びギ酸アンモニウム、酢酸アンモニウム等
のカルボン酸アンモニウム、そしてエチレングリコール
、可溶性澱粉、ゼラチン、PVA等を用いることができ
る。この増粘剤を高分子カルボン酸金属塩に混合するこ
とが、本発明の1つの特徴であり、その明確なメカニズ
ムは判明していないが、この増粘剤を混合することによ
り、内部応力が抑制された密着性の高い金属被膜を得る
ことができるものであり、この増粘剤は乳剤の粘度を調
整する機能に加えて応力抑制剤としての機能も発揮する
ものである。
そして本発明では、乳剤を対象物の表面全体に施し、後
でネガフィルム等のスクリーンを介して紫外線の照射を
行い、ネガフィルムに応じて所望のパターンに紫外線照
射された部分だけに金属被膜を形成することができる。
でネガフィルム等のスクリーンを介して紫外線の照射を
行い、ネガフィルムに応じて所望のパターンに紫外線照
射された部分だけに金属被膜を形成することができる。
また、乳剤を予め所望のパターンに塗布し、その上から
紫外線を照射して所望パターンの金属被膜を形成するこ
ともできる。この場合、増粘剤の混合により乳剤の粘性
を調整でき、精度の高い正確なパターンを作成すること
ができる。また、望ましい効果(密着性)を得るための
増粘剤の含有量としては、金属塩1maltに対して0
.03 m o 1以上の増粘剤が必要である。
紫外線を照射して所望パターンの金属被膜を形成するこ
ともできる。この場合、増粘剤の混合により乳剤の粘性
を調整でき、精度の高い正確なパターンを作成すること
ができる。また、望ましい効果(密着性)を得るための
増粘剤の含有量としては、金属塩1maltに対して0
.03 m o 1以上の増粘剤が必要である。
「適量の水」とは、高分子カルボン酸金属塩1gに対し
て0.5 m 1以上の量である。この適量の水を混合
することも前記増粘剤と同様に密着性を高めるうえで大
事なことであり、この適量の水がないと望ましい効果(
密着性)を得にくい。
て0.5 m 1以上の量である。この適量の水を混合
することも前記増粘剤と同様に密着性を高めるうえで大
事なことであり、この適量の水がないと望ましい効果(
密着性)を得にくい。
「増感剤」とは、パラホルムアルデヒド、ホルマリン、
グルコース、臭化セリウム、などで、この増感剤を加え
ることにより、一定の金属被膜を形成するのに要する紫
外線の照射時間を短縮化させることができし、逆に言え
ば、少ない量(エネルギー)の紫外線でも金属被膜を形
成することができるようになる。
グルコース、臭化セリウム、などで、この増感剤を加え
ることにより、一定の金属被膜を形成するのに要する紫
外線の照射時間を短縮化させることができし、逆に言え
ば、少ない量(エネルギー)の紫外線でも金属被膜を形
成することができるようになる。
「消光剤」とは、チオシアン酸カリウム、チオシアン酸
ナトリウム、チオシアン酸アンモニウム、チオシアン酸
リチウム等のチオシアン酸イオンを含むものなどで、こ
の消光剤を加えることにより、先の増感剤とは逆に、一
定の金属被膜を形成するための紫外線照射時間を長くす
ることができる。
ナトリウム、チオシアン酸アンモニウム、チオシアン酸
リチウム等のチオシアン酸イオンを含むものなどで、こ
の消光剤を加えることにより、先の増感剤とは逆に、一
定の金属被膜を形成するための紫外線照射時間を長くす
ることができる。
そして、これら増感剤及び/又は消光剤を任意に添加混
合することにより、一定の紫外線照射時間に応じた最適
の乳剤を調整することが可能となる。
合することにより、一定の紫外線照射時間に応じた最適
の乳剤を調整することが可能となる。
そして、以上説明した乳剤は、自然光(太陽光線)によ
り、乳剤中の金属塩が還元されて金属及び二酸化炭素に
自然分解し、金属がイオンの形で存在しなくなるので公
害上問題となることもない。
り、乳剤中の金属塩が還元されて金属及び二酸化炭素に
自然分解し、金属がイオンの形で存在しなくなるので公
害上問題となることもない。
〈実 施 例〉
以下本発明に実施例について説明する。以下の実施例は
、絶縁基板表面に所望パターンの銀被膜を形成してプリ
ント基板を製造する例を示している。
、絶縁基板表面に所望パターンの銀被膜を形成してプリ
ント基板を製造する例を示している。
第1】口1医
・アルギン酸銀・−・・−・−一−−−−・−−−−−
−−−−−−−−−1,0g(高分子カルボン酸金属塩
) ・ギ酸アンモニウム−・−・−・−0,063g(増粘
剤) ・水−・−−−−一−−−−・−・−−一−−−−−−
−〜・−−−−−−−−−・−・−2,0m lまず、
上記の成分を混練・混合し、そして得られた乳剤を絶縁
基板上に厚さ2mmで所望のパターンに塗布した。「増
粘剤」としてのギ酸アンモニウムを含んでいるので、粘
性のある乳剤が得られ、塗布作業が容易であり且つ精度
の高いパターンを得ることができた。また、このパター
ンはその粘性により塗布後もくずれない。次いで、二の
塗布した乳剤に紫外線を15分間照射した。そして、紫
外線照射後の絶縁基板表面を確認したところ、塗布した
パターン通りに光沢のある銀被膜が形成されていた。こ
の銀被膜の絶縁基板に対する密着性をテストするために
、セロハンテープ(商標名)を銀被膜の上から貼付して
剥がしてみたが、銀被膜は確実に絶縁基板の表面に密着
しており、全く剥離しなかった。
−−−−−−−−−1,0g(高分子カルボン酸金属塩
) ・ギ酸アンモニウム−・−・−・−0,063g(増粘
剤) ・水−・−−−−一−−−−・−・−−一−−−−−−
−〜・−−−−−−−−−・−・−2,0m lまず、
上記の成分を混練・混合し、そして得られた乳剤を絶縁
基板上に厚さ2mmで所望のパターンに塗布した。「増
粘剤」としてのギ酸アンモニウムを含んでいるので、粘
性のある乳剤が得られ、塗布作業が容易であり且つ精度
の高いパターンを得ることができた。また、このパター
ンはその粘性により塗布後もくずれない。次いで、二の
塗布した乳剤に紫外線を15分間照射した。そして、紫
外線照射後の絶縁基板表面を確認したところ、塗布した
パターン通りに光沢のある銀被膜が形成されていた。こ
の銀被膜の絶縁基板に対する密着性をテストするために
、セロハンテープ(商標名)を銀被膜の上から貼付して
剥がしてみたが、銀被膜は確実に絶縁基板の表面に密着
しており、全く剥離しなかった。
星主叉隻皿
・アルギン酸銀・−・−−−−−・−・・−−−−−−
−−−−−−1,0g(高分子カルボン酸金属塩) ・ギ酸アンモニウムー−−−−−−−−−0,063g
(増粘剤) ・パラホルムアルデヒド−0,030g(増感剤) ・水・・−一−−−−−−−−・−・−・−・−・−−
一−−−−−−−・−・−2,0m j2上記の成分を
用いて、前記第1実施例と同様の操作を行った。但し、
「増悪剤」としてのパラホルムアルデヒドを含有してい
ることから、紫外線の照射時間を10分間に短縮して行
った。結果としては、紫外線照射時間を短縮したにもか
かわらず、前記第1実施例と全く同様な密着性及び光沢
性のある銀被膜を形成することができた。従って、この
パラホルムアルデヒド(増感剤)により、銀被膜の形成
速度が速くなったことを確認することができた。
−−−−−−1,0g(高分子カルボン酸金属塩) ・ギ酸アンモニウムー−−−−−−−−−0,063g
(増粘剤) ・パラホルムアルデヒド−0,030g(増感剤) ・水・・−一−−−−−−−−・−・−・−・−・−−
一−−−−−−−・−・−2,0m j2上記の成分を
用いて、前記第1実施例と同様の操作を行った。但し、
「増悪剤」としてのパラホルムアルデヒドを含有してい
ることから、紫外線の照射時間を10分間に短縮して行
った。結果としては、紫外線照射時間を短縮したにもか
かわらず、前記第1実施例と全く同様な密着性及び光沢
性のある銀被膜を形成することができた。従って、この
パラホルムアルデヒド(増感剤)により、銀被膜の形成
速度が速くなったことを確認することができた。
憂」】口1桝
・アルギン酸銀・−・・−・−・−−−−−−−−−−
−−−・−1,0g(高分子カルボン酸金属塩) ・ギ酸アンモニウム−=・−・−0,063g(増粘剤
) ・臭化セリウム・−−−−一−−−−−−−−−−・・
・−−−−−0,47g(増感剤) ・水−m−−−−−−・−−−−−−−m−−−・−−
一−−−−−−・−・−−−−−−−−−・−2,0m
l上記の成分を用いて、前記第2実施例と同様の操作
を行った。先の第2実施例同様に、「増感剤」としての
臭化セリウムを含有していることから、紫外線照射が1
0分と短いにもかかわらず、密着性及び光沢性のある銀
被膜を形成することができた。
−−−・−1,0g(高分子カルボン酸金属塩) ・ギ酸アンモニウム−=・−・−0,063g(増粘剤
) ・臭化セリウム・−−−−一−−−−−−−−−−・・
・−−−−−0,47g(増感剤) ・水−m−−−−−−・−−−−−−−m−−−・−−
一−−−−−−・−・−−−−−−−−−・−2,0m
l上記の成分を用いて、前記第2実施例と同様の操作
を行った。先の第2実施例同様に、「増感剤」としての
臭化セリウムを含有していることから、紫外線照射が1
0分と短いにもかかわらず、密着性及び光沢性のある銀
被膜を形成することができた。
】」」口1ガ
・アルギン酸銀・−−−一−・−−−−−−−−−−−
・−−−−−−−−−1、Og(高分子カルボン酸金属
塩) ・乳酸(増粘剤)・−・−−一−−−−−−−−・−−
−−−0,5m l・水・−・−−−−−一−−−−・
−・−・・・・・−・−・−一一−−−−−−・・・2
.0 m l上記の成分を用いて、前記第1実施例と同
様の操作を行った。そして、先の第1実施例同様に、密
着性及び光沢性のある銀被膜を形成することができた。
・−−−−−−−−−1、Og(高分子カルボン酸金属
塩) ・乳酸(増粘剤)・−・−−一−−−−−−−−・−−
−−−0,5m l・水・−・−−−−−一−−−−・
−・−・・・・・−・−・−一一−−−−−−・・・2
.0 m l上記の成分を用いて、前記第1実施例と同
様の操作を行った。そして、先の第1実施例同様に、密
着性及び光沢性のある銀被膜を形成することができた。
遅1虻桝
・アルギン酸銀−−−−−−−−一一−−−−−−−−
・・・−・・−1,0g(高分子カルボン酸金属塩) ・エチレングリコール・・−−−−0,062g(増粘
剤) ・水・−・−・−−−一−−−−−−−−−−−−−−
−・−・・・−−−−−−−2,0m l上記の成分を
用いて、前記第1実施例と同様の操作を行った。そして
、先の第1実施例同様に、密着性及び光沢性のある銀被
膜を形成することができた。
・・・−・・−1,0g(高分子カルボン酸金属塩) ・エチレングリコール・・−−−−0,062g(増粘
剤) ・水・−・−・−−−一−−−−−−−−−−−−−−
−・−・・・−−−−−−−2,0m l上記の成分を
用いて、前記第1実施例と同様の操作を行った。そして
、先の第1実施例同様に、密着性及び光沢性のある銀被
膜を形成することができた。
几−」[−桝
・アルギン酸銀・−・−・−・−−−−一・−−−−−
・−・−・1.0g(高分子カルボン酸金属塩) ・水・・−・−・−−−−−−−一−−−−−−−−−
−−−−−−・−・−・−2,0ml上記の成分を混練
・混合し、そして得られた乳剤を絶′4&基板上に厚さ
2mmで所望のパターンに塗布して、前記第1実施例と
同様の試験を行った。
・−・−・1.0g(高分子カルボン酸金属塩) ・水・・−・−・−−−−−−−一−−−−−−−−−
−−−−−−・−・−・−2,0ml上記の成分を混練
・混合し、そして得られた乳剤を絶′4&基板上に厚さ
2mmで所望のパターンに塗布して、前記第1実施例と
同様の試験を行った。
この比較例における乳剤は「増粘剤」を含有していない
ので、セロハンテープによる密着性のテストを行なった
結果、形成された銀被膜がセロハンテープと共に絶縁基
板から剥がれてしまった。
ので、セロハンテープによる密着性のテストを行なった
結果、形成された銀被膜がセロハンテープと共に絶縁基
板から剥がれてしまった。
以上「高分子カルボン酸金属塩」としてアルギン酸銀を
例に説明したが、その他の高分子カルボン酸金属塩でも
ほぼ同様の結果を得ることができる。また、金属塩の異
なる高分子カルボン酸金属塩を一緒に用いればそれらの
合金被膜を形成することもできる。また、プリント基板
を例に説明したが、これに限定されず、各種の対象物に
対して本発明を適用することができる。
例に説明したが、その他の高分子カルボン酸金属塩でも
ほぼ同様の結果を得ることができる。また、金属塩の異
なる高分子カルボン酸金属塩を一緒に用いればそれらの
合金被膜を形成することもできる。また、プリント基板
を例に説明したが、これに限定されず、各種の対象物に
対して本発明を適用することができる。
〈効 果〉
この発明の第1発明及び第2発明に係る金属被脱晶の製
造方法は、以上説明してきた如き内容のものであって、
対象物の表面に密着性及び光沢性のある金属被膜を確実
に形成することができるので、そのまま各種の金属被膜
形成による表面処理を行うことができる。従って、プリ
ント基板等のパターン印刷等に極めて有用であり、化学
メッキ等の余計な工程を要しないことから作業面及びコ
スト面でのメリットが顕著である。
造方法は、以上説明してきた如き内容のものであって、
対象物の表面に密着性及び光沢性のある金属被膜を確実
に形成することができるので、そのまま各種の金属被膜
形成による表面処理を行うことができる。従って、プリ
ント基板等のパターン印刷等に極めて有用であり、化学
メッキ等の余計な工程を要しないことから作業面及びコ
スト面でのメリットが顕著である。
また、従来通り化学メッキ等の下地としても利用するこ
とができるし、紫外線の照射エリアを各種パターンに応
じたネガフィルム等のスクリーンで制御することにより
、複雑なパターンに金属被膜を形成することも容易に為
しえるという効果もある。
とができるし、紫外線の照射エリアを各種パターンに応
じたネガフィルム等のスクリーンで制御することにより
、複雑なパターンに金属被膜を形成することも容易に為
しえるという効果もある。
更に、この発明での乳剤は自然光により自然分解するの
で、公害上問題となることもない。
で、公害上問題となることもない。
そして、第2発明に係る金属被脱晶の製造方法にあって
は、増悪剤又は消光剤の少なくとも一方を混合している
ので、一定の金属被膜の形成に要する紫外線照射時間を
任意に調整することができ、金属により異なる被膜形成
時間の調整や、作業時間の短縮化を図ることができる。
は、増悪剤又は消光剤の少なくとも一方を混合している
ので、一定の金属被膜の形成に要する紫外線照射時間を
任意に調整することができ、金属により異なる被膜形成
時間の調整や、作業時間の短縮化を図ることができる。
Claims (2)
- (1)1種又は2種以上の金属塩を含む高分子カルボン
酸金属塩と増粘剤と適量の水とから成る乳剤を、対象物
の表面へ施し、次いで該乳剤に紫外線を照射し、前記高
分子カルボン酸金属塩中の金属による被膜を対象物の表
面に形成することを特徴とする金属被膜品の製造方法。 - (2)1種又は2種以上の金属塩を含む高分子カルボン
酸金属塩と増粘剤と適量の水と、そして増感剤又は消光
剤の少なくとも一方とからなる乳剤を、対象物の表面へ
施し、次いで該乳剤に紫外線を照射し、前記高分子カル
ボン酸金属塩中の金属による被膜を対象物の表面に形成
することを特徴とする金属被膜品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62024846A JPS63192874A (ja) | 1987-02-06 | 1987-02-06 | 金属被膜品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62024846A JPS63192874A (ja) | 1987-02-06 | 1987-02-06 | 金属被膜品の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63192874A true JPS63192874A (ja) | 1988-08-10 |
Family
ID=12149580
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62024846A Pending JPS63192874A (ja) | 1987-02-06 | 1987-02-06 | 金属被膜品の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63192874A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02154064A (ja) * | 1988-11-29 | 1990-06-13 | Agency Of Ind Science & Technol | 金塩による着色方法 |
JPH04272182A (ja) * | 1990-11-05 | 1992-09-28 | Abb Patent Gmbh | 部分金属層製造方法および装置 |
JPH0711480A (ja) * | 1990-03-16 | 1995-01-13 | Heraeus Noblelight Gmbh | 電気メッキ方法 |
US6017841A (en) * | 1987-08-06 | 2000-01-25 | Targor Gmbh | Process for the preparation of 1-olefin polymers |
US6106906A (en) * | 1994-08-01 | 2000-08-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Material for forming electroconductive film, method of forming electroconductive film by using the same and method of manufacturing electron-emitting device, electron source and image-forming apparatus |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59124189A (ja) * | 1982-12-29 | 1984-07-18 | 松下電器産業株式会社 | 銀膜形成方法 |
JPS6224847A (ja) * | 1985-07-23 | 1987-02-02 | Toshiba Ceramics Co Ltd | ガス吹出型溶融金属注入ノズルの通気量測定方法および装置 |
-
1987
- 1987-02-06 JP JP62024846A patent/JPS63192874A/ja active Pending
Patent Citations (2)
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---|---|---|---|---|
JPS59124189A (ja) * | 1982-12-29 | 1984-07-18 | 松下電器産業株式会社 | 銀膜形成方法 |
JPS6224847A (ja) * | 1985-07-23 | 1987-02-02 | Toshiba Ceramics Co Ltd | ガス吹出型溶融金属注入ノズルの通気量測定方法および装置 |
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US6172168B1 (en) | 1987-08-06 | 2001-01-09 | Targor Gmbh | Process for the preparation of 1-olefin polymers |
JPH02154064A (ja) * | 1988-11-29 | 1990-06-13 | Agency Of Ind Science & Technol | 金塩による着色方法 |
JPH0711480A (ja) * | 1990-03-16 | 1995-01-13 | Heraeus Noblelight Gmbh | 電気メッキ方法 |
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US6106906A (en) * | 1994-08-01 | 2000-08-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Material for forming electroconductive film, method of forming electroconductive film by using the same and method of manufacturing electron-emitting device, electron source and image-forming apparatus |
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