JPS63192233A - 光量調整装置 - Google Patents

光量調整装置

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JPS63192233A
JPS63192233A JP62023641A JP2364187A JPS63192233A JP S63192233 A JPS63192233 A JP S63192233A JP 62023641 A JP62023641 A JP 62023641A JP 2364187 A JP2364187 A JP 2364187A JP S63192233 A JPS63192233 A JP S63192233A
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JP
Japan
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shutter
light
closing operation
pulse
amount
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JP62023641A
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English (en)
Inventor
Shoichi Tanimoto
昭一 谷元
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Nikon Corp
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Nikon Corp
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、パルス発光する光源の光量調整装置にかか
るものであり、例えばエキシマレーザを用いて半導体ウ
ェハに対するマスクパターンの投影を行う露光装置に好
適な光量調整装置に関するものである。
[従来の技術] 従来、集積回路製造のリソグラフィ一工程で用いられて
いる縮小投影型露光装置、いわゆるステッパーでは、露
光用光源として超高圧水銀ランプが用いられている。
この超高圧水銀ランプは、複数の波長の光を出力するが
、リソグラフィーに必要とされる解像力の向上とともに
利用される光の波長も短かくなり、436nmの波長の
光だけでなく365nmの波長の光も利用されるように
なりてきている。
ところが、これ以下の波長ではそのエネルギーの量が小
さくなり、極めてスルーブツトの低いリソグラフィーし
か実現できない。
このような問題点を補うものとして、最近エキシマ−レ
ーザが注目されている。
エキシマ−レーザを用いると、波長308 nm。
249 nm、  193 nm等で強い光を得ること
ができる。このレーザは、時間幅10ないし20 n5
eCで、パルス状に例えば一定周期で発振出力されると
いう性質がある。
第2図には、従来の露光装置においてエキシマ−レーザ
をほぼ一定間隔で繰り返し発振させ、シャッターの開閉
を行って露光量を制御する場合が示されている。
まず、エキシマレーザの出力は、同図(A)に示すよう
に、パルス状に例えは一定周期で出力される。
他方、シャッターの開閉には一定の時間がかかる。この
ため、シャッターが開いた状態でシャッターを通過する
パルスのエネルギー量をEoとすると、シャッター開閉
途中の通過エネルギー量は、Eo以下となる。
同図(B)には、時刻T1から時刻T2にかけてシャッ
ターの開動作が行われ、時刻T3から時刻T4にかけて
シャッターの閉動作が行われる場合のシャッター透過パ
ルスが示されている。この図において、一連の開閉動作
中にシャッターを通過するパルスの全エネルギー量は、
各パルスのエネルギーの和になる。
同図(C)には、時刻t1から時刻t2にかけてシャッ
ターの開動作が行われ、時刻t3から時刻t4にかけて
シャッターの閉動作が行われる場合のシャッター透過パ
ルスが示されている。この例は、同図(B)の場合と比
較して、開動作開始の時刻がΔを異る。
同図(D)は、以上の(B)および(C)のグラフを重
ねて表示したものである。
[発明が解決しようとする問題点] しかしながら以上のようなシャッター開閉による光量制
御の方式では、シャッター開の時間内に含まれるパルス
数が少ないため、良好に光量制御を行うことができない
という不都合がある。
第2図(D)を参照すると明らかなように、立上りのタ
イミングの僅かな相違によって、シャッターを通過する
全光量すなわち露光量が変化する。
詳述すると、シャッターを通過する一番最初のパルスP
1では、ΔP1の光量の差が生ずる。同様にして、二番
目のパルスP2では、ΔP2の光量差が生じる。シャッ
ターの閉動作時についても同様である。
従って、全体としての光量差ΔPは、 ΔP=ΔP1+ΔP2+ΔP3−ΔP4−ΔP5−ΔP
6となる。
以上のように、仮に1パルス当りの出力エネルギーをE
o一定に制御したとしても、パルス出力と、シャッター
開閉のタイミングのずれにより、シャッター通過エネル
ギーにばらつきが生じるという不都合が生ずる。
この発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、そ
の目的は、パルス毎の光量ないしエネルギーのばらつき
があっても、良好な再現性のよい光量の調整を行うこと
ができる光量調整装置を提供することである。
[問題点を解決するための手段] この発明は、光量制御を行うシャッター手段を、光路閉
動作速度可変に構成するとともに、対象物に所定の周期
で照射される複数の光パルスの光量を検出して、シャッ
ター光路開動作開始時からの積算光量を算出する第一の
演算手段と、算出された積算光量、あらかじめ定められ
た前記対象物の必要光量、および光路閉動作速度を可変
したときにシャッター手段を透過する光量の可変範囲に
基いて、前記シャッター手段の光路閉動作開始のタイミ
ングを決定する第二の演算手段と、前記第一の演算手段
によって算出された積算光量および前記対象物の必要光
量に基いて、前記シャッター手段の光路閉動作速度を決
定する第三の演算手段と、第二の演算手段によって決定
されたタイミングで、第三の演算手段によって決定され
た速度により、前記シャッター手段の光路閉動作を行う
制御手段とを備えたことを特徴とするものである。
この発明の基本的構成例を示すと、例えば第1図のよう
になる。この図において、パルス光源BAから出力され
た光パルスは、シャッター手段BBを介して、第一演算
手段BCの検出器BCIでその一部が受光された後、対
象物BDに照射されるようになっている。 第−演算手
段BCでは、検出器BC1によって検出された複数の光
パルスの光量を用いて、シャッター間動作開始時からの
積算光量が算出されるようになっている。 第一演算手
段BCの演算結果は、第二及び第三の演算手段BE、B
Fに各々出力されるように接続されている。
第二演算手段BEでは、人力された積算光量。
対象物BDの必要光量(適正露光量)、および閉動作速
度を可変したときにシャッター手段BBを透過する光量
の可変範囲に基いて、該シャッター手段BBの閉動作開
始のタイミングが決定されるようになっており、その結
果は、制御手段BGに出力されるように接続されている
第三演算手段BFでは、算出された積算光景および対象
物BDの必要光量に基いて、シャッター手段BBの閉動
作速度が決定されるようになっており、その結果は、制
御手段BGに出力されるように接続されている。
制御手段BGは、第二演算手段BEによって決定された
タイミングで、第三の演算手段BFによって決定された
速度により、前記シャッター手段の閉動作を行う機能を
有するものである。
[作用コ この発明では、シャッター手段BBの閉動作のタイミン
グと、閉動作速度とを制御することによって、対象物B
Dに照射される光量の調整が行われる。
例えば、パルス光源BAから出力された光パルスの光量
は、第一演算手段BCによって積算される。
この積算値が、シャッター手段BBの閉動作速度ないし
閉動作時間幅を制御することによって可変可能な範囲内
となると、第二演算手段BEによって、シャッター閉動
作開始のタイミングが決定される。
他方、シャッター手段BBの閉動作速度は、対象物BD
が必要とする光量の残量に対応して、第三の演算手段B
Fによって決定される。
これらの決定データは、制御手段BGに人力され、制御
手段BGは、かかるデータに基いて、シャッター手段B
Bの閉動作制御を行う。
[実施例] 以下、本発明の実施例を、添付図面を参照しながら詳細
に説明する。
第3図に、は、この発明の一実施例の構成が示されてい
る。この図において、レーザ光源10は、例えばエキシ
マレーザのようなパルス状に発光する光源である。この
レーザ光源10の出力パルスは、第一の照明光学系12
を透過して、シャッタ14に入射するようになっている
第4図(A)には、レーザ光源10の出力レーザパルス
の一例が示されている。この図において、縦軸は強度を
表わしており、横軸は時間を表わしている。この図に示
すように、各パルスの出力周期はほぼ一定であるものの
実際の発光には数%程度の強度のばらつきがあり、平均
強度はeである。
前記第一の照明光学系12は、人力されたパルスレーザ
ビームを必要なビーム断面強度分布及び発散(又は収れ
ん)特、性になるように変形してシャッタ14に出力す
る機能を有する。
また、シャッター14は、シャッタードライバー16に
よって、例えば図の矢印FAの方向に開閉の回転制御駆
動が行われるようになっている。
第4図(B)には、かかるシャッター14の開閉動作の
時間的変化の例が示されている。この図において、横軸
は時間を表わし、縦軸は開状態の程度を表わす。
時刻TAで開の指令が行われ、時刻TBから閉動作が開
始されてレーザ光束が透過し始め、時刻TCで全開の状
態となってレーザ光束が完全に通過する。また、時刻T
Dで閉の指令が行われ、時刻TEから閉動作が開始され
てレーザ光束にシャッター14のブレードがかかり始め
、時刻TFで完全な閉の状態となって、レーザ光束は完
全に遮断される。
以上のようなシャッター14の開閉動作において、開指
令が行われてから閉動作が開始されるまでの時間ta、
閉指令から閉動作開始までの時間tbは、装置構成上の
特性としてあらかじめ決定され、はぼ一定である。
シャッター14におけるレーザ光束の強度分布がほぼ一
様でシャッター14のブレードの回転速度が一定であれ
ば、開閉動作中、すなわち立上がり立ち下がり部分にお
けるレーザ光束通過率変化はほぼ直線的になる。
なお、この直線性を更に改善したい場合には、シャッタ
ー14の可動板の縁に平行な2辺と、可動板の移動軌跡
に沿った2辺で囲まれる断面形状を持ったレーザ光束を
、シャッター14の位置に形成し、かつレーザ光束の強
度分布を一様とすればよい。
次に、かかるシャッター14を通過したパルス光は、ビ
ームスプリッタ18、第二の照明光学系20を各々透過
してレチクルRに入射するようになっている。
この第二の照明光学系20は、入射パルスビームを、レ
チクルR上の必要な回路パターン領域のみに、一様な強
度分布で入射させる機能を有するものである。また、照
明光学系20には、スペックルを低減するための光学系
や2次光源像を作るフライアイレンズ(オプチカルイン
テグレータ)とコンデンサーレンズ等が含まれる。
レチクルRを透過したパルス光、すなわち露光光は、投
影光学系22を介してウェハWに入射しレチクルRの回
路パターンの投影が行われるようになっている。
次に、上述したレーザ光源10およびシャッタードライ
バー16には、露光制御部24が各々接続されている。
そして、この露光制御部24には、上述したビームスプ
リッタ18によって分割されたレーザ光強度を検出する
検出器26の検出出力側が、アンプ28を介して接続さ
れている。
以上のうち、露光制御部24には、外部のホストコンピ
ュータ等(図示せず)から、露光開始信号5exp、適
正露光:に相当する露光量信号S doseが各々人力
されるようになっており、更に、検出器26から出力レ
ーザ光強度を示すモニタ信号Smが入力されるようにな
っている。
この露光制御部24は、人力される露光開始信号5ex
p、露光量信号S doseおよびモニタ信号Smに基
いて、発光トリガー信号Stをレーザ光源10に出力す
るとともに、シャッター開閉信号Ssをシャッタードラ
イバー16に出力する機能を有する。
これらの信号のうち、発光トリガー信号Stは、レーザ
光源10の発光タイミングを指示するものである。また
、シャッター開閉信号Ssには、第4図を参照しながら
説明した開指令、閉指令の信号が各々含まれるとともに
、後述する閉動作の時間幅ないし閉動作速度を設定する
指令信号が含まれる。
次に、上記実施例の全体的動作について説明する。
まず、第4図(A)に示すレーザパルスの出力タイミン
グと、同図CB)に示すシャッター14の開閉動作の関
係について説明する。
第5図には、シャッター14を透過したレーザパルスの
例が示されている。レーザ光源10からの出力パルスP
、、P2.P3.・・・は、一定のエネルギーになるよ
うに制御され、一定周期でt=1、.12,13.・・
・において出力される。
しかし、実際には、周期は一定値に正確に保たれるもの
の、強度ないしエネルギーEはパルス毎にばらつき、平
均値eとは一般に異なった値となる。
ここで、シャッター14の閉動作とパルス出力のタイミ
ングとの関係について説明する。なお、各パルスのエネ
ルギー量をeと仮定する。
第5図において、8番目のパルスからシャッター14が
閉動作を終了するまでの時間は、8番目のパルス直後に
シャッター14の閉指令が行われたとして、遅れ時間t
bと、実際にシャッター14によってレーザ光束がさえ
ぎられ始める時から完全にさえぎられる時までの立ち下
がり部分の時間幅Tβとの和である(以下、「閉動作時
間幅」という)。
ここで、閉動作時間幅(tb +Tβ)が変化した場合
に、その期間中にシャッター14を通過するエネルギー
Eβについて考察する。なお、各パルスのエネルギー量
をeと仮定し、上述した遅れ時間tbの方がパルス発光
の周期τより充分小と仮定している。
まず、0≦tb +Tβくτのときは、第6図(A) 
に示すように、 Eβ=0・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・(1)となる。
次に、τ≦tb +Tβく2τのときは、同図(B) 
に示すように、 となる。
次に、2τ≦tb +Tβく3τのときは、同図(C)
 に示すように、 となる。
そして、一般に、 nτ≦t、+”rβ<(n+t)でのときは、となる。
以上のような閉動作時間幅(tb +Tβ)と、その間
の透過エネルギーEβとの関係を図示すると、第7図の
ようになる。
この図に示すように、閉動作時間幅(tb +Tβ)が
パルス周期τだけ変化する毎に、異なる曲線関数となる
が、0≦(tb +Tβ)で連続であってで≦(tb 
+Tβ)では単調に増加する。
上記遅れ時間tbのうち機械系の動作速度に関する部分
及び立下り時間Tβは、シャッター14の動作速度を制
御することにより可変とすることができる。
また1パルス当りの平均エネルギー量eは、レーザ光源
10側において常に出カ一定の制御を行うことによって
、その値を定数として用いることもできるし、または、
検知器26からのエネルギーモニター量を平均して求め
ることもできる。
従って、必要な透過エネルギーEβが与えられると、第
7図のグラフから閉動作時間幅(tb +Tβ)を一意
的に決めることができる。
すなわち、可変制御可能な閉動作時間幅(tb +Tβ
)の範囲ならば、シャッター14の速度を制御すること
によって、その間のシャッター透過エネルギー量を変化
させることができる。
この可変可能な透過エネルギー量は、第6図中、大実線
で示されている。
具体的には、可変可能な閉動作時間幅 (tb +Tβ)の範囲をあらかじめ定めておき、この
範囲に対応する透過エネルギーEβの範囲をEβ、≦E
βくEβ2とすると、指示された必要露光エネルギーE
 dos@に対し、シャッター14の開状態で実測され
た積算露光エネルギーE5゜がE aos@  Eβ2
≦E sum≦Edose  Eβ1・・・・・・(5
) の範囲になった時のパルスに同期してシャッター14の
閉動作を開始するとともに、このときのシャッター14
の閉動作時間幅(tb +Tβ)を、 Eβ=E dose  E sum・・・・・・・・・
・・・・・・・・・(6)に対応するように第7図によ
って設定すればよい。
次に、第8図のフローチャートを参照しながら、第3図
の装置の全体的動作について説明する。
まず、図示しない外部装置から、露光量信号S dom
eおよび露光開始信号S、8.が露先制御部24に人力
される(第8図ステップSA参照)。
次に、シャッター14の開指令が、露光制御部24から
シャッター開閉信号Ssとしてシャッタードライバー1
6に出力される(ステップSC参照)。なお、第4図に
示したように、開指令が行われても、すぐにシャッター
14の開動作が行われるわけではない。
次に、露光制御部24では、パルス計数値nのリセット
が行われ、n=oにセットされる(ステップSC参照)
。他方、レーザ光源10に対しては、発光トリガー信号
Stが露光制御部24から出力され、これによってレー
ザ光源10が一定の周期τで発光しレーザパルスの出力
が開始される(ステップSC参照)。
次に、第4図に示したようにしてシャッター14の開動
作が開始されると、第5図に示すようにレーザパルスが
シャッター14を透過することとなる。これらのレーザ
パルスは、一方においてウェハW上に照射されて露光が
行われ、他方においてビームスプリッタ18の作用によ
り検知器26に入射して露光制御部24による露光エネ
ルギーの積算、すなわち積算エネルギーE gumの計
算が行われる(ステップSC参照)。
ここで、露光量信号S dog。によって決定される必
要露光エネルギーをE dataとすると、上述した設
定値Eβ1、Eβ2に対して、(5)式のE dose
−Eβ2≦E 、um≦E dose −Eβ1となっ
たかどうかの判定が行われる(ステップSC参照)。
この判定の結果、(5)式が満たされない場合には、上
述したパルス計数値nをn+1としてステップSEに戻
る(ステップSC参照)。そして、次のレーザパルスに
対して同様の処理が繰返行われる。
また、かかる判定の結果、(5)式が満たされた場合に
は、かかる条件を満たした時のパルスに同期してシャッ
ター14の閉動作を開始するとともに、このとぎのシャ
ッター14の閉動作時間幅(tb +Tβ)を、 Eβ−E dosa−E sum・・・・・・・・・・
・・・・・・・・(6)に対応するように第7図によっ
て設定し、露光制御部24からその旨のシャッター開閉
信号Ssがシャッタードライバー16に出力されること
となる(ステップSC参照)。
そして、かかる指令に基くシャッター14の閉動作の後
、レーザ光源10に対する発光トリガー信号Stの出力
が終了し、レーザパルスの発光が停止される(ステップ
Sl参照)。以上の動作により、ウェハWに対する必要
量の露光が終了することとなる(ステップSC参照)。
なお、以上の動作において、レーザパルスの出力指令は
シャッター開指令の後に行われたが、最初のレーザパル
スが出力される時のシャッター14の状態は、まだ完全
に閉じた状態であってもよいし、開いた状態でもよい。
シャッター14の全開に要する時間のロスを防ぐには、
シャッター14を全開にした状態で最初のレーザパルス
を出力した方がよい。
また、ステップS■に示すように、露光を行わない場合
にはレーザ光源10の発光をしていない方が、該光源1
0の構成部品の寿命が長くなってよい。
更に、上記実施例ではビームスプリッタ−18をシャッ
ター14の後に配置し、シャッター通過後のエネルギー
をモニターすることとしたが、ビームスプリッタ−18
をシャッター14の前に配置し、シャッター14の通過
前のパスルエネルギーをモニターしても同様の効果が得
られるし、レーザ光源10にエネルギーモニターを設け
てその出力をモニターするようにしてもよい。
以上説明したように、この実施例によれば、シャッター
間による通過エネルギー量は、各パルス毎のエネルギー
量のバラツキを含めて検知手段により積算検知され、こ
の値と、指令された必要露光エネルギーとを比較して、
シャッター間の動作時間幅ないし動作速度が定められて
露光エネルギ−量の調整が行われるので、シャッター開
動作開始のタイミングや、パルス毎のエネルギーの揺ら
ぎによる露光量の誤差が良好に修正されるという効果が
ある。
また、この実施例では、各パルスのエネルギー量を測定
しているので、例えば、シャッター全開の状態になって
からレーザ光源のパルス出力を行っても良好に光量調整
を行うことができる。
なお、本発明は何ら上記実施例に限定されるものではな
く、例えば、エキシマレーザ以外の他のパルス光源を用
いた場合でもよく、露光装置以外の装置に対しても適用
可能である。
また、エキシマレーザなどのレーザ光源は、発光開始時
の1パルス当りのエネルギー量が必ずしも安定せず、ま
た、発光トリガー信号が一定間隔で入力されているほう
がエネルギー量が安定する。他方、装置には寿命があり
、この点からすれば不必要な発光は避けるべきである。
従って、レーザ光源の発光開始の時期と、シャッター開
動作開始の時期との関係は、以上のような点を考慮して
決定することが好ましい。
また、上記実施例では、透過型のシャッターを使用した
が、反射型のシャッターを使用してもよい。この場合に
は、シャッターの開閉動作と、パルスの照射とが逆の関
係となる。すなわち、シャッターを閉じると、パルスが
反射されて対象物に照射され、シャッターを開くと、パ
ルスが該シャッターを透過して、対象物に照射されなく
なる。この発明は、かかる場合も含むものであり、対象
物に対する光パルスの光路閉動作手段は、どのような態
様のものでもよい。
[発明の効果コ 以上説明したように、この発明によれば、シャッター手
段の閉動作速度を可変に構成し、この閉動作速度ないし
時間幅を制御して光量の調整を行うこととしたので、各
パルス毎のエネルギー量に揺らぎがあっても、良好に再
現性よく光量の調整を行うことができるという効果があ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の基本的構成例を示すブロック図、第2
図は従来技術の作用を示す説明図、第3図は本発明の一
実施例を示すブロック図、第4図はレーザパルスとシャ
ッター開閉の動作の関係を示す線図、第5図はシャッタ
ー透過パルスの例を示す線図、第6図および第7図はシ
ャッター閉動作時間幅と透過エネルギーとの関係を示す
説明図、第8図は実施例の動作を示すフローチャートで
ある。 [主要部分の符号の説明] 10・・・光源、14・・・シャッター、16・・・シ
ャッタードライバー、18・・・ビームスプリッタ−1
24・・・露光制御部、26・・・検知器、W・・・ウ
ェハ。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)対象物に所定の周期で照射される複数の光パルス
    の積算光量を、シャッター手段による光パルスの光路開
    閉制御によつて調整する光量調整装置において、 前記シャッター手段を、光路閉動作速度可変に構成する
    とともに、 各光パルスの光量を検出して、シャッター手段の光路開
    動作開始時からの積算光量を算出する第一の演算手段と
    、 この手段によって算出された積算光量と、あらかじめ定
    められた前記対象物への必要光量と、その光路閉動作速
    度を可変したときにシャッター手段を透過する光量の可
    変範囲とに基いて、前記シャッター手段の光路閉動作開
    始のタイミングを決定する第二の演算手段と、 前記第一の演算手段によって算出された積算光量と、前
    記対象物への必要光量とに基いて、前記シャッター手段
    の光路閉動作速度を決定する第三の演算手段と、 第二の演算手段によって決定されたタイミングで、第三
    の演算手段によって決定された速度により、前記シャッ
    ター手段の光路閉動作を行う制御手段とを備えたことを
    特徴とする光量調整装置。
  2. (2)前記第二の演算手段は、前記シャッター手段の光
    路閉動作開始のタイミングを、前記光パルスの出力タイ
    ミングに同期させて決定する特許請求の範囲第1項記載
    の光量調整装置。
JP62023641A 1987-02-03 1987-02-05 光量調整装置 Pending JPS63192233A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1989000778A1 (en) * 1987-07-13 1989-01-26 Fanuc Ltd System for correcting laser output
JPH0368185A (ja) * 1989-08-07 1991-03-25 Canon Inc エネルギー量制御装置

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