JPS63190633A - 有機薄膜層の作製方法 - Google Patents
有機薄膜層の作製方法Info
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- JPS63190633A JPS63190633A JP62022318A JP2231887A JPS63190633A JP S63190633 A JPS63190633 A JP S63190633A JP 62022318 A JP62022318 A JP 62022318A JP 2231887 A JP2231887 A JP 2231887A JP S63190633 A JPS63190633 A JP S63190633A
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Classifications
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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- B05D1/18—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by dipping
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- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、有機薄膜層の作製方法に関する。さらに詳し
くは、い才）ゆるラングミュア・プロジェット法をその
作製原理とする、有機薄膜層の作製方法に関する。
くは、い才）ゆるラングミュア・プロジェット法をその
作製原理とする、有機薄膜層の作製方法に関する。
ラングミュア・プロジェット法による有機薄膜層の作製
は、第二３図ａ−Ｃに示すように、液面；３上に展開し
た分子膜１を横切る形で基板２を上下させて行うが基板
が液相中で下降運動から上昇運動に転するとき、及び、
基板の最下部が液面から離れるとき、及び基板の最下部
が液相に入りこむときには、液相と基板とがなすメニス
カスの形がきわめて複雑に変化するため、薄膜層が不規
則につみ重なったり、あるいはまた、前に累積されてい
た層が剥離してしまったりすることがしばしばあり、ラ
ングミュア・プロジェット法による有機薄膜層の作製に
おいてきわめて重大な問題となっていた。すなオ）ち、
第４図に示すように、基板Ｚ上に移しとられた有機薄膜
層４の上端部分５と下端部分５′の膜質が、上記のよう
な理由から膜の中央部分に比べてかなり悪いという事態
は、ラングミュア・プロジェット法を原理とする製膜法
ではどうしても避けられないことであると考えられでき
た。このような上・下端部分での膜質低下は、特に、液
面上から固体基板上に移しとりにくい分子膜を累積させ
る場合や、あるいは、分子膜を多数層つみ重ねる際には
、きオ）めで深刻な問題となっていた。
は、第二３図ａ−Ｃに示すように、液面；３上に展開し
た分子膜１を横切る形で基板２を上下させて行うが基板
が液相中で下降運動から上昇運動に転するとき、及び、
基板の最下部が液面から離れるとき、及び基板の最下部
が液相に入りこむときには、液相と基板とがなすメニス
カスの形がきわめて複雑に変化するため、薄膜層が不規
則につみ重なったり、あるいはまた、前に累積されてい
た層が剥離してしまったりすることがしばしばあり、ラ
ングミュア・プロジェット法による有機薄膜層の作製に
おいてきわめて重大な問題となっていた。すなオ）ち、
第４図に示すように、基板Ｚ上に移しとられた有機薄膜
層４の上端部分５と下端部分５′の膜質が、上記のよう
な理由から膜の中央部分に比べてかなり悪いという事態
は、ラングミュア・プロジェット法を原理とする製膜法
ではどうしても避けられないことであると考えられでき
た。このような上・下端部分での膜質低下は、特に、液
面上から固体基板上に移しとりにくい分子膜を累積させ
る場合や、あるいは、分子膜を多数層つみ重ねる際には
、きオ）めで深刻な問題となっていた。
本発明の目的はこのような問題を一挙に解決し、有機分
子膜を基板、特に光記録に最も適した円盤状の基板に、
均一に、かつ効率よく累積する方法を提供することにあ
る。
子膜を基板、特に光記録に最も適した円盤状の基板に、
均一に、かつ効率よく累積する方法を提供することにあ
る。
本発明と類似の方法に回転円筒法と呼ばれる方法がある
が、この方法では円筒の腹部に分子膜を累積するのが主
眼であるのに対して、本方法は。
が、この方法では円筒の腹部に分子膜を累積するのが主
眼であるのに対して、本方法は。
盤状基板の上下面に均一に分子膜を累積することを主眼
とする。すなわち本発明による方法は、光記ｆＥｋ媒体
などにおけろ盤状基板に適した方法である。
とする。すなわち本発明による方法は、光記ｆＥｋ媒体
などにおけろ盤状基板に適した方法である。
この目的は、基板上に移しとるべき分子膜が展開されて
いる液面下に、基板の一部分をつねに浸漬させた状態で
、基板面と垂直に交オ）る直線を回転軸とする回転運動
を基板にとらせることによって達成されろ。
いる液面下に、基板の一部分をつねに浸漬させた状態で
、基板面と垂直に交オ）る直線を回転軸とする回転運動
を基板にとらせることによって達成されろ。
本発明による方法では、基板を液相中に入れたり出した
りすることがないので、メニスカスを大きく乱すことが
なく、そのために、全面にオ）たって均質な有機薄膜層
が累積される。
りすることがないので、メニスカスを大きく乱すことが
なく、そのために、全面にオ）たって均質な有機薄膜層
が累積される。
以下１本発明の実施例を図面により詳述する。
第１図は本発明による有機薄膜層の作製方法を示す図で
ある。
ある。
図において、基板２は、直径１２５ｎｍ、厚さ２ｍの円
盤状透明ガラス板である。この円盤状基板を、圧縮バリ
ア１０で仕切られた水槽１１に満たされた２回蒸留水１
２中に、図のように円盤面の中心長６が、水面３の位装
置に来るまで静かに沈めた。この円盤状ガラス基板２は
中央部がくり抜かれており、この穴に円盤を回転させろ
ための軸１；３が通されている。軸１３は、直流回転モ
ーター（図示略）と結ばれている。水槽１１中の２回蒸
留水１２には、塩化カドミウムと炭酸水素カリウムを、
各々４）ｎｏ−’モル／Ｑと５Ｘ１０−Ｉ！１モル／Ｑ
の濃度で溶解した。
盤状透明ガラス板である。この円盤状基板を、圧縮バリ
ア１０で仕切られた水槽１１に満たされた２回蒸留水１
２中に、図のように円盤面の中心長６が、水面３の位装
置に来るまで静かに沈めた。この円盤状ガラス基板２は
中央部がくり抜かれており、この穴に円盤を回転させろ
ための軸１；３が通されている。軸１３は、直流回転モ
ーター（図示略）と結ばれている。水槽１１中の２回蒸
留水１２には、塩化カドミウムと炭酸水素カリウムを、
各々４）ｎｏ−’モル／Ｑと５Ｘ１０−Ｉ！１モル／Ｑ
の濃度で溶解した。
円盤状ガラス基板２と水面３とが、第１図に示すような
位置関係にある状態で、（［）式で表わされるメロシア
ニン色素と、アラキシン酸とを１：２の割合で含むクロ
ロホルム溶液を、水面上に静かに滴下した。クロロホル
ムが揮発するのを待って、圧縮バリア１０を静かに動か
し、水面上に展開されているメロシアニン色素とアラキ
シン酸の１：２混合分子膜１に２５ｍＮ／ｍの表面圧が
かかるようにした。この状態で円盤状載板を、その中心
点を円盤面に垂直に通る軸６を回転軸として５分間に１
回転の割合で回転させた。最初の半回転では、基板が水
中から出てくる側でのみ、基板上に分子膜１がうつし取
られたが、それ以後は、水中から出て来る側でも、水中
に没する側でも、水 ・面上の分子膜が基板ヒに移しと
られた。
位置関係にある状態で、（［）式で表わされるメロシア
ニン色素と、アラキシン酸とを１：２の割合で含むクロ
ロホルム溶液を、水面上に静かに滴下した。クロロホル
ムが揮発するのを待って、圧縮バリア１０を静かに動か
し、水面上に展開されているメロシアニン色素とアラキ
シン酸の１：２混合分子膜１に２５ｍＮ／ｍの表面圧が
かかるようにした。この状態で円盤状載板を、その中心
点を円盤面に垂直に通る軸６を回転軸として５分間に１
回転の割合で回転させた。最初の半回転では、基板が水
中から出てくる側でのみ、基板上に分子膜１がうつし取
られたが、それ以後は、水中から出て来る側でも、水中
に没する側でも、水 ・面上の分子膜が基板ヒに移しと
られた。
円盤状４ル板に移しとられた膜の吸収スペクトルを測定
したところ５９７同に吸収ピークが１７５１８１Ｍされ
た。
したところ５９７同に吸収ピークが１７５１８１Ｍされ
た。
以上は、基板の中心点が水面の位置にある場合であった
が、水面より高い位置、又は低い位置にある場合には、
それぞれ第２図の斜線部で示すような形で、円盤上に分
子膜が移しとられろ。
が、水面より高い位置、又は低い位置にある場合には、
それぞれ第２図の斜線部で示すような形で、円盤上に分
子膜が移しとられろ。
本発明の方法により、水面上に展開した有機分子膜を、
基板、特に光記録に最も適した円盤状の基板に、メニス
カスによる擾乱を受けることなく均一に、かつ効率よく
堆積することが可能になった。
基板、特に光記録に最も適した円盤状の基板に、メニス
カスによる擾乱を受けることなく均一に、かつ効率よく
堆積することが可能になった。
第１図は本発明の一実施例による、分子膜の累積方法を
示す側断面図、第２図は回転軸と水面との相対的な位置
関係のちがいにより、基板上のどの部分に分子膜が移し
とられるかを示す側面図、第３図の（ａ）、（ｂ）、（
ｃ）は水面上の分子膜が置板基板上に移し、とｒ）れろ
様子を示す概略図、第４図は、従来例における基板上に
累積された分子膜の模式的な外観図である。 １・・・単分子１漠、２・・・基板、１０・・・圧縮バ
リア、１］・・・水槽、１２・・・２回蒸留水、１３・
・・回転軸。 ■・・ ′ 寥 ／ 区 囁４ 凹 毛 ２ 圀 （久） 職 ３ 区 仏） （ｅ） −：三＝ （Ｃ）
示す側断面図、第２図は回転軸と水面との相対的な位置
関係のちがいにより、基板上のどの部分に分子膜が移し
とられるかを示す側面図、第３図の（ａ）、（ｂ）、（
ｃ）は水面上の分子膜が置板基板上に移し、とｒ）れろ
様子を示す概略図、第４図は、従来例における基板上に
累積された分子膜の模式的な外観図である。 １・・・単分子１漠、２・・・基板、１０・・・圧縮バ
リア、１］・・・水槽、１２・・・２回蒸留水、１３・
・・回転軸。 ■・・ ′ 寥 ／ 区 囁４ 凹 毛 ２ 圀 （久） 職 ３ 区 仏） （ｅ） −：三＝ （Ｃ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、液面上に展開した分子膜を順次固体基板上に移し取
ることによって有機薄膜層を形成させる方法において、
該基板の一部分をつねに該液面下に浸漬させておき、該
基板面内の一点で該基板面と垂直に交わる直線を回転軸
として、該基板を回転させることにより、液面上の分子
膜を固体基板上に累積させることを特徴とする有機薄膜
層の作製方法。 ２、固体基板の形状が円盤状であることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の有機薄膜層の作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62022318A JPS63190633A (ja) | 1987-02-04 | 1987-02-04 | 有機薄膜層の作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62022318A JPS63190633A (ja) | 1987-02-04 | 1987-02-04 | 有機薄膜層の作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63190633A true JPS63190633A (ja) | 1988-08-08 |
Family
ID=12079375
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62022318A Pending JPS63190633A (ja) | 1987-02-04 | 1987-02-04 | 有機薄膜層の作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63190633A (ja) |
-
1987
- 1987-02-04 JP JP62022318A patent/JPS63190633A/ja active Pending
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