JPS6318938B2 - - Google Patents
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- JPS6318938B2 JPS6318938B2 JP56042835A JP4283581A JPS6318938B2 JP S6318938 B2 JPS6318938 B2 JP S6318938B2 JP 56042835 A JP56042835 A JP 56042835A JP 4283581 A JP4283581 A JP 4283581A JP S6318938 B2 JPS6318938 B2 JP S6318938B2
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は新規なエーテル化合物およびその合
成法に関するものであり、これを式で示すと次の
通りである。
成法に関するものであり、これを式で示すと次の
通りである。
（式中、R1およびR2は水素原子または低級ア
ルキル基、CO−R3 aおよびCO−R4 aはエステル基、
Z1 aおよびZ2 aはアミノ保護基をそれぞれ意味する） この発明の目的物質であるエーテル化合物
（）および（）は新規であり、上記の反応式
で示すように化合物（）に化合物（）をルイ
ス酸の存在下に作用させて化合物（）を得、次
いでアミノ保護基およびエステル基の脱離反応に
付すことにより化合物（）を製造することがで
きる。
ルキル基、CO−R3 aおよびCO−R4 aはエステル基、
Z1 aおよびZ2 aはアミノ保護基をそれぞれ意味する） この発明の目的物質であるエーテル化合物
（）および（）は新規であり、上記の反応式
で示すように化合物（）に化合物（）をルイ
ス酸の存在下に作用させて化合物（）を得、次
いでアミノ保護基およびエステル基の脱離反応に
付すことにより化合物（）を製造することがで
きる。
この明細書において、基R1およびR2で表わさ
れる低級アルキル基としては、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、
第３級ブチル、ペンチル、ヘキシル等が例示さ
れ、基CO−R3，CO−R3 a，CO−R4およびCO−
R4 aで表わされるエステル基としてはメチルエス
テル、エチルエステル、プロピルエステル、イソ
プロピルエステル、ブチルエステル、イソブチル
エステル、ペンチルエステル、ヘキシルエステル
等のアルキルエステル、ベンジルエステル、ベン
ズヒドリルエステル、トリチルエステル、フエネ
チルエステル等のアラルキルエステルなどが例示
される。
れる低級アルキル基としては、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、
第３級ブチル、ペンチル、ヘキシル等が例示さ
れ、基CO−R3，CO−R3 a，CO−R4およびCO−
R4 aで表わされるエステル基としてはメチルエス
テル、エチルエステル、プロピルエステル、イソ
プロピルエステル、ブチルエステル、イソブチル
エステル、ペンチルエステル、ヘキシルエステル
等のアルキルエステル、ベンジルエステル、ベン
ズヒドリルエステル、トリチルエステル、フエネ
チルエステル等のアラルキルエステルなどが例示
される。
また基Z1，Z1 a，Z2およびZ2 aで表わされるアミノ
保護基としては、第３級ブトキシカルボニル、ベ
ンジルオキシカルボニル等の通常のアミノ保護基
が例示される。
保護基としては、第３級ブトキシカルボニル、ベ
ンジルオキシカルボニル等の通常のアミノ保護基
が例示される。
この発明の方法の前段で使用されるルイス酸と
しては三フツ化ホウ素のエーテル付加物がその好
ましい例として挙げられる。
しては三フツ化ホウ素のエーテル付加物がその好
ましい例として挙げられる。
この反応は通常クロロホルムのような有機溶媒
中、室温〜加温下に行われる。得られる反応生成
物（）は常法により単離、精製できるが、特に
精製することなく、次のアミノ保護基およびエス
テル基の脱離反応に付してもよい。
中、室温〜加温下に行われる。得られる反応生成
物（）は常法により単離、精製できるが、特に
精製することなく、次のアミノ保護基およびエス
テル基の脱離反応に付してもよい。
アミノ保護基およびエステル基の脱離反応は、
保護基の種類に応じて常法により行われる。例え
ばアミノ保護基がベンジルオキシカルボニル基で
ある場合には、パラジウム炭素のような接触還元
用金属触媒の存在下に水素化する、いわゆる接触
還元による方法が便利である。生成する化合物
（）は常法により、単離、精製される。
保護基の種類に応じて常法により行われる。例え
ばアミノ保護基がベンジルオキシカルボニル基で
ある場合には、パラジウム炭素のような接触還元
用金属触媒の存在下に水素化する、いわゆる接触
還元による方法が便利である。生成する化合物
（）は常法により、単離、精製される。
この発明の方法により得られるエーテル化合物
（）および（）は新規物質であり、ランチオ
ニン類似体の合成中間体として有用である。
（）および（）は新規物質であり、ランチオ
ニン類似体の合成中間体として有用である。
次に、この発明の方法を実施例により説明す
る。
る。
実施例 １
１−ベンジルオキシカルボニルアジリジン−２
−カルボン酸ベンジルエステル（311mg）とＮ−
ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−セリンベンジル
エステル（1.01g）をクロロホルム（10ml）に溶
解する。これに触媒量の三フツ化ホウ素・エーテ
ラートを加え、室温で12時間放置する。反応液を
水洗、乾燥後、減圧下に溶媒を留去する。残留物
をシリカゲルカラムクロマトグラフイーに付して
精製すると、油状の３，3′−オキサービス（２−
ベンジルオキシカルボニルアミノプロピオン酸ベ
ンジルエステル）を得る。収率約50％。
−カルボン酸ベンジルエステル（311mg）とＮ−
ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−セリンベンジル
エステル（1.01g）をクロロホルム（10ml）に溶
解する。これに触媒量の三フツ化ホウ素・エーテ
ラートを加え、室温で12時間放置する。反応液を
水洗、乾燥後、減圧下に溶媒を留去する。残留物
をシリカゲルカラムクロマトグラフイーに付して
精製すると、油状の３，3′−オキサービス（２−
ベンジルオキシカルボニルアミノプロピオン酸ベ
ンジルエステル）を得る。収率約50％。
［α］24 D＝−11.5゜（Ｃ＝1.0，CH3OH）
元素分析：C36H36N2O9
計算値：C37.50，H6.29，N14.58
実験値：C37.45，H6.17，N14.39
本品をパラジウム黒の存在下に水素化すると、
３，3′−オキサービス（２−アミノプロピオン
酸）の白色結晶を定量的に得る。
３，3′−オキサービス（２−アミノプロピオン
酸）の白色結晶を定量的に得る。
融点：145〜153℃
［α］24 D＝＋9.1°（Ｃ＝0.95，1N HCl）
（物性値は二塩酸塩のものである）
実施例 ２
１−ベンジルオキシカルボニル−３−メチルア
ジリジン−２−カルボン酸メチルエステル（200
mg）、Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−スレ
オニンメチルエステル（2.14g）および触媒量の
三フツ化ホウ素を用いて、実施例１と同様に処理
すると、油状の３，3′−オキサービス（２−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ酪酸メチルエステ
ル）を得る。収率約65％。
ジリジン−２−カルボン酸メチルエステル（200
mg）、Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−スレ
オニンメチルエステル（2.14g）および触媒量の
三フツ化ホウ素を用いて、実施例１と同様に処理
すると、油状の３，3′−オキサービス（２−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ酪酸メチルエステ
ル）を得る。収率約65％。
［α］24 D＝−19.0゜（Ｃ＝1.1，CH3OH）
元素分析：C26H32N2O9
計算値：C43.63，H7.32，N12.72
実験値：C43.42，H7.21，N12.69
本品を実施例１と同様に水素化すると、３，
3′−オキサービス（２−アミノ酪酸）の白色結晶
を定量的に得る。
3′−オキサービス（２−アミノ酪酸）の白色結晶
を定量的に得る。
融点：198〜201℃
［α］24 D＝−53.0゜（Ｃ＝1.0，1N HCl）
（物性値は二塩酸塩のものである。）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中、R1およびR2は水素原子または低級ア
ルキル基をそれぞれ意味し、Z1およびZ2がアミノ
保護基、CO−R3およびCO−R4はエステル基を
それぞれ意味するか、またはZ1およびZ2が水素原
子、CO−R3およびCO−R4はカルボキキシ基を
それぞれ意味する） で示されるエーテル化合物。 ２ 一般式 （式中、R1は水素原子または低級アルキル基、
CO−R3 aはエステル基、Z1 aはアミノ保護基をそれ
ぞれ意味する） で示される化合物に、一般式 （式中、R2は水素原子または低級アルキル基、
CO−R4 aはエステル基、Z2 aはアミノ保護基をそれ
ぞれ意味する） で示される化合物をルイス酸の存在下に作用させ
て、一般式 （式中、R1，R2，CO−R3 a，CO−R4 a，Z1 aおよ
びZ2 aはそれぞれ前と同じ意味） で示される化合物を得、これを次いでアミノ保護
基およびエステル基の脱離反応に付して、一般式 （式中、R1およびR2はそれぞれ前と同じ意味）
で示されるエーテル化合物を得ることを特徴とす
るエーテル化合物の合成法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56042835A JPS57156447A (en) | 1981-03-23 | 1981-03-23 | Ether compound and its synthesis |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56042835A JPS57156447A (en) | 1981-03-23 | 1981-03-23 | Ether compound and its synthesis |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57156447A JPS57156447A (en) | 1982-09-27 |
| JPS6318938B2 true JPS6318938B2 (ja) | 1988-04-20 |
Family
ID=12647022
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56042835A Granted JPS57156447A (en) | 1981-03-23 | 1981-03-23 | Ether compound and its synthesis |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57156447A (ja) |
-
1981
- 1981-03-23 JP JP56042835A patent/JPS57156447A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57156447A (en) | 1982-09-27 |
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