JPS63186013A - 流量制御装置及びそのための弁装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 本発明は流体制御装置及びその流体制御装置のための弁
装置に関する。

（ロ）従来技術 自動車変速機内のクラッチ機構又はブレーキ機構のよう
な流体応答アクチュエータヘの流体の流れを制御するた
めに種々の弁装置が使用されてきた。一つの方法は電気
的入力信号が弁要素を正確に移動させるサーボ弁を備え
た２ステ一ジ弁組立体を使用することである。一つのス
テージでオン−オフ電磁弁を使用しかつ第２のステージ
で自由に取り付けられたスプールを使用する２ステ一ジ
弁組立体が米国特許第４，１１６，３２１号に示されて
いる。この特許された装置は流量を制御するのではなく
てむしろ圧力を制御するものである。この特許された装
置により弁出力流量は制御信号に比例せず、制御信号の
積分に比例する。したがって、出力流型は制御された開
ループではない。その代わりに特許された装置は閉ルー
プ装置に使用されるべきである。上記米国特許に示され
た弁は積分器と機能的に等しいので、常に９０°の位相
遅れがある。制御されるべき装置がかなりの量の時間遅
れを有するときに使用される場合、信号フィードバック
・ループによる制御を安定させることは困難である。

（ハ）発明が解決しようとする問題点 本発明の主目的は、流体供給源と自動車変速装置に使用
されている装置のような流体に応答するアクチュエータ
との間の流量を調整するための改良された制御装置を提
供することである。

本発明の他の目的は、サーボ型の弁の利点を有している
がかなり安価である制御装置を提供することである。

本発明の更に他の目的は、これまではサーボ弁でのみ得
られる直線比例出力を弁組立体から発生するようにオン
−オフ・ソレノイドを使用する２ステ一ジ弁組立体を備
えた制御装置を提供することである。

（ニ）問題を解決するための手段 本願の一つの発明は、流体に応答するアクチュエータを
作動するように流体の流れを変えるための制御装置にお
いて、２ステージ制御弁装置であって、一つのステージ
が流体源と前記アクチュエータとの間で流儀を、一方が
他方に対して優先する力を決定する反対に向けられた圧
力に基づく位置によって決定される直線位置の関数とし
て調整するだめの、弾性のフィードバック装置のある圧
力応答可動閉鎖部材を備え、他のステージが前記位置決
定力の一つを制御するための巻線のある電磁弁を備えて
いる制御弁装置と、前記閉鎖部材の位置を決めかつそれ
によって前記アクチュエータヘ流すように前記電磁弁の
巻線に加えられるパルス幅調整可能信号を発生するため
の装置と、を備えて構成されている。

本願の他の発明は、弁組立体において、滑り通路、流体
源に接続可能な入口ポート、前記入口ポートから隔てら
れかっ液圧アクチュエータに接続可能な出口ポートを有
する弁本体と、前記入口ポートと出口ポートとの間の流
量を前記滑り通路内の位置の関数として制御するために
前記滑り通路内に移動可能に配置された弾性フィードバ
ック装置付きの中央閉鎖スプール装置と、前記スプール
装置を第１の軸方向に偏倚する圧力を発生する方法で流
体が充填される、前記流体源と通じる第１の流体受容チ
ャンバと、前記スプール装置を第２の軸方向に偏倚する
圧力を発生する方法で流体が充填される、前記流体源と
通じる第２の流体受容チャンバであって、電磁弁が前記
流体源と前記第２の流体受容チャンバとの間に配置され
ている第２の流体受容チャンバと、前記第２の流体受容
チャンバ内の圧力を制御しかつそれによって前記液圧ア
クチュエータヘの流量を制御する方法で前記電磁弁を動
作させるためにパルス幅が調整された信号の周期的連続
を生起するための装置と、を備えて構成されている。

（ホ）作用 本発明によれば、流体応答アクチュエータヘの流体の流
れを制御するための制御装置が設けられる。その制御装
置は２ステ一ジ弁組立体を備え、その弁組立体におい、
一つのステージが流体供給源と流体応答アクチュエータ
との間の流体の流れをスプールの直線位置の関数として
制御するために弾性フィードバック装置のある圧力応答
スプールを備えている。スプールの直線位置は一方が他
方に優先する、反対に向けられた圧力に基づく位置決定
力によって決定される。弁組立体の他のステージは一つ
の一決定力を制御するためにオン−オフ電磁弁を備えて
いる。オン−オフ電磁弁を使用することにより弁組立体
は直線比例流量を発生させることが可能である。パルス
幅が制御された（ＰＷＭ）回路は出力部が電磁弁の巻線
に接続されている。ＰＷＭ装置は交流の出力信号を与え
ることが可能であり、その出力信号の衝撃係数（ｄｕｔ
ｙｃｙｃｌｅ）はスプールの位置を決めるそれによって
アクチュエータヘの流量を決めるように変えられ得る。

本発明の弁は機能的には積分器ではなくて時間遅れ要素
である。このように弁組立体は低周波数で積分器よりも
位相遅れが少ない制御装置を提供する。時間遅れ又はバ
ンド幅は特定の応用に合うように変形され得る弁の設計
に依存する。

（へ）実施例 以下、図面を参照して本発明の実施例について説明する
。

第１図において、液圧装置１２の動作を調整するための
制御装置１０が示されている。液圧装置１２は連続可変
（ＣＷＴ）変速機の可動ベルト車又は流体の流量の関数
として応答するあらゆるユニットでよい。制御装置の顕
著な特徴は流体源１６と液圧装置すなわちアクチュエー
タ１２との間の流体の流れを調整するための制御弁組立
体１４を備えていることである。流体源はポンプ又は流
体供給ユニットの形式でよい。弁組立体は流体源１６か
らライン１８を介して圧力流体を受けるようになってい
る。この実施例では弁組立体は複数の出口を有している
。これらの出口の一つ又はそれ以上は流体を溜めすなわ
ち槽２０に排出する。たの出口はアクチュエータ１２に
ライン２２を介して接続されている。以下で詳細に記載
されているように、弁組立体１４はオリフィスを通る有
効流量を変える巻線２４を備えている。

フィードバック又は閉ループ制御装置を有する他の知ら
れた弁装置とは違って、本発明の制御装置１０は開ルー
プである。好ましい実施例において、予め選ばれた制御
信号はライン２６を介して制御装置のパルス幅調整（Ｐ
ＷＭ）ステージ２８に加えられる。これは、周期が一定
であるが衝撃係数が電位差計又は他の変調可能なコント
ローラ（図示せず）によって調整される形式の自由運転
マルチバイブレータ又は電圧で制御される発振器でよい
。２１Ｍステージ２８のようなステージは技術的に知ら
れている。衝撃係数（ｄｕｔｙ　ｃｙｃｌｅ）が制御さ
れ或は予め決められた出力方形−波形信号は弁組立体１
４の巻線２４にライン３０を介して加えられる。弁組立
体が制御装置内に組み込まれているこの構造において、
弁組立体の構造及び動作は以下で記載する。

第２図は２ステ一ジ弁組立体Ｉ４の概略図である。示さ
れているように、圧力流体はライン１８を介して弁組立
体の入口ポート３２で受けられ、かつ流体は出力ポート
３４及び３６を通して弁組立体から溜めに排出される。

供給ライン圧力はライン１８及び３８を通り、弁組立体
のパイロットすなわち第１ステージ４２の第１のオリフ
ィス４０を通り、かつそれから第２のオリフィス４４を
通る。オリフィス４４を通過する流体はライン４５を介
して溜め２０に排出される。オリフィス４４を通る流量
は巻線２４で受ける信号によって調節される。オリフィ
ス４０及び４４は共通点すなわち接続部４６で接続され
かつこの共通点は弁組立体１４の一定圧力点を示す。

弁組立体のステージ４８は、アクチュエータ１２へのラ
イン２２を介した流れをスプール位置の関数として制御
し、ＣＶＴ変速機の可変ベルト車のようなユニットを動
作するので流量制御ステージである。弁組立体１４のス
テージ４８は弁組立体の本体部分に設けられた長い滑り
通路内に滑動可能に設けられた中央閉鎖’（ｃｌｏｓｅ
ｄ　ｃｅｎｔｅｒ）スプールすなわち閉鎖部材５０を備
えている。スプールすなわち弁手段は入口ポート３２と
示された実施例では軸方向に隔てられた出力ポート３４
及び３６のいずれかとの間の流量を調節する。このよう
に、ステージ　４８は、本発明の範囲から外れる事なく
追加のポートを容易に加えることができるけれども、三
方向装置である。戻りオリフィ、　　スでもある出力ポ
ート（以下戻りポート）３４は流体を溜め２０に送るラ
イン５６に接続され、−力出力オリフイスすなわち出力
ポート３６はアクチュエータ１２に導くライン２２に接
続されている。

弁のスプールは比較的小さな直径のステム６２によって
接続されたランド５８及び６０ををするように示されて
いる。このように、環状の間隙６４はランド５８及び６
０の相対位置により出力ポートを３６を人力ポートすな
わち入口ポート３２又は戻りポート３４のいずれかに連
通ずるようにステムを囲んでいる。ランド５８及び６０
の両端面は直角の環状の隅とほぼ平坦な側面とを有して
いる。ランド５８及び６０の端面は戻りポート３４と出
力ポート３６との間の間隔と同じ軸方向間隔を存してい
る。

液圧装置は弁手段すなわちスプール５０の位置を制御し
それによって制御流体ポートでもある出力ポート３６に
おける流量を制御するために弁組立体内に備えられてい
る。この液圧装置は流体源に通じかつスプール５０の両
端に反対向きの位置決定力を加える作用をするフルディ
ック装置を備えている。このようなフルディック装置は
端部チャンバ６６及び６８を備え、それらのチャンバは
この実施例では弁本体５４内に設けられた滑り通路５２
の横方向の延長部にある。弁組立体１４のステージ４８
は弁組立体のための弾性フィードバック装置を限定する
機械的弾性装置７０及び７２を更に含んでいる。機械的
弾性装置７０及び７２は各端部チャンバ内に配置された
圧縮ばねを含み、そのばねの端部は端部チャンバ及びス
プール端部の端壁に当っている。各端部チャンバは圧力
下の入力流体を受けるようになっている。すなわち、圧
力流体はライン７４を介して端部チャンバ６８内に通さ
れ、そのチャンバ内でスプール５０の端面７６に対して
作用する流体圧を生起する。共通点４２における流体は
ライン７８を介して他の端部チャンバ６６内に通りその
中でスプール５０の端面８０に作用する流体圧を生起す
る。第２図、第３図及び第５図に示される実施例におい
てスプールの端面８０の作用面積はスプールの他端の面
積よりも約１／３大きい（すなわち４７３倍ある）。端
部チャンバ６６と６８との間で生起される圧力差は機械
的フィードバック装置の影響とともに滑り通路　５２内
のスプール５０を位置決めする。

滑り通路内のスプール５０の位置は圧力ではなくて流量
を制御する。動作においてスプール５０は滑り通路内に
置かれかつ中立位置をとる。スプール５０の中立位置は
第２図に示されている。スプール５０が第２図に示され
ている位置の右又は左に移動すると一つ又はそれ以上の
動作位置をとる。スプール５０のランド５８及び６０は
端部チャンバ６６と６８との間の圧力差の関数として一
体になって左又は右に移動し、流体に対する流路を限定
する。例えば、スプールのランド５８及び６０が第２図
に示された位置の右に移動すると、排出すなわち戻りポ
ート３４を閉鎖した状態で入口ポート３２、環状の間隙
６４及び制御ライン２２の間に第１の流体流路が形成さ
れる。代わりに、スプールが第２図に示される位置の左
に動くと、入口ポート３２を閉鎖した状態で制御ライン
２２、環状の間隙６４及び戻りポート３４の間で流体流
路が形成される。本発明の弾性フィードバック装置はス
プール５０を中立位置に戻すように移動させる。

ステージ４８の中央が閉鎖した装置に比較して、第３図
に概略的に示されたパイロットステージ４２は共通点４
６において中央が開いた装置である。パイロットステー
ジ４２は三方向装置として機能する。スプールの代わり
に弁組立体のパイロットステニジは二つのオリフィス４
０及び４４の組み合わせを使用し、そのオリフィスの一
つを通る流れは所望の流量制御を行うようにパルス幅が
制御された信号によって制御される。第１のオリフィス
４０と第２のオリフィス４４との間の関係は式％式％ で表され、そこにおいてＡ、はオリフィス４０の開口の
大きさでありかつＡ、はオリフィス４４の開口の大きさ
である。この実施例において、オリフィス４０を通る流
量は実質的に固定され、一定である。それ故、共通点４
６は、摩擦損失及びその他の小さな損失を無視すると、
供給ライン１８及び３８の圧力に実質的に等しい圧力に
「遭遇し」或はその圧力に露される。オリフィス４４を
通る流量はオリフィス４０を通る流れを変える。このよ
うに平均流量はライン７８を介して端部チャンバ６６に
加えられる。このような構造により、端部チャンバ６６
は可変圧力チャンバであり、−万端部チャンバ６８は実
質的に一定圧力のチャンバである考えられ得る。

第６図、第７図及び第８図に示されているように、ＰＷ
Ｍ信号の衝撃係数は自動車の運転者によって望まれるよ
うに独立に調整可能である。弁組立体はＰＷＭ回路すな
わちステージ２８によって与えられかつソレノイド巻線
２４に加えられる交流信号の衝撃係数に応答する。第６
図、第７図及び第８図に示されるように、ＰＷＭ信号は
一定の時間間隔（又は周期）と可変の衝撃係数を有する
。破線８６の上の波形の部分はソレノイド巻線２４の附
勢時間を示す。オリフィス４４を通る流量はＰＩＮ信号
の衝撃係数の関数として増減される。一つの好ましい形
において、衝撃係数を減少するとオリフィス４４を通る
流量が有効に増加する。オリフィス４４を通る流れが調
節されると、共通点４６における流量も変化し、その結
果端部チャンバ６６内の圧力も変化する。動作において
、ライン３０の交流のＰＷＭ信号の衝撃係数は端部チャ
ンバへの平均流量を制御する。これは、流量制御弁組立
体がこのような目的で通常使用されているより高価なサ
ーボ形式の弁でなくて１ステージ又は２ステージ制御弁
におけるパルス幅が制御された信号によって制御される
簡単で経済的な電磁弁を使用で・きることを意味する。

第２図及び第３図に示される弁組立体１４の詳細は第４
図及び第５図に示されている。二つの弁本体のカバー８
４及び８６は弁本体５４の両端に固定されている。電磁
弁８８は、電磁弁８８のソレノイド巻線２４に加えるた
めにパルス幅調整回路すなわち１４Ｍステージ２８から
の出力信号を送る電気回路すなわちライン３０とともに
示されている。上述のように、巻線２４に加えられたＰ
ＷＭ信号は端部チャンバ６６への有効流量及び端部チャ
ンバ６６と６８との間の圧力差を決定し或は調節し、閉
鎖部材すなわちスプール５０を位置決めしそれによって
制御ライン２２を通る流量を決定する。スプール５０は
、両端に端部チャンバ６６及び６８が形成されるように
して弁組立体の本体５４に設けられた円筒状リセスすな
わち滑り通路５２内に滑動可能に収容されている。各端
部チャンバ内にはアジャスタ９０が同軸に設けられ、そ
のアジャスタの軸方向位置すなわち直線位置は各カバー
に設けられたねじ付き穴を通して伸びるねじ９２によっ
て決定され得る。このように、アジャスタ９０は各圧縮
ばねの一端が係合する端部チャンバの壁を限定する。こ
のような構造により、スプールへの機械的フィードバッ
ク装置の影響はねじ９２の軸方向の調整によって変えら
れ得る。

圧力流体は入口ポート３２を通して制御弁組立体に通さ
れ、そこから端部チャンバ６８内に流れる。これにより
スプールのこの端部にある圧力が生起される。流体はオ
リフィス４０を通して流れる。オリフィス４０を通過し
た後大部分の流体がオリフィス４４に流れる。オリフィ
ス４０を通過した後いくらかの流体は共通点４６に流れ
かつそこから端部チャンバ６６内に流れる。端部チャン
バ６６内に流れた流体はその中で圧力を生起し、その圧
力はスプール５０のその端部にスプールの反対端に加え
られる圧力に反対の方向に作用する。

ＰＷＭ信号によって調節される、端部チャンバ６６と６
８との間に生起された圧力差はスプール５０の位置をか
っそれによってアクチュエータヘの流体の流れを制御す
る。

別の弁スプールの実施例が第９図及び第１０図に示され
ている。この別の実施例は前述の実施例と似ているので
、同じ部品には同じ参照番号が付されている。この第２
の実施例において、弁組立体用の真の三方向パイロット
ステージ設けられている。

この実施例において、端部チャンバ６８はその中で比較
的一定の圧力が生起されるように比較的一定の流体流が
供給される。他の端部チャンバ６６はその中で平均の制
御された圧力を生起する流体流が供給される。第１の実
施例のように、この平均の制御された圧力は電磁弁９４
の衝撃係数の関数として生起され、その電磁弁は弁組立
体のパイロットステージに使用されている１４Ｍ信号に
よって制御される。

第２の実施例のパイロットステージの概略図が第１０図
に記載され、全体の弁組立体の詳細は第９図に示されて
いる。第９図に示されように、供給圧力下の流体は入口
ポート３２において制御弁組立体に通され、そこから流
体は端部チャンバ６８内に流れる。これにより、スプー
ルの端部に圧力が生起され、スプール５０を第９図に示
されるように左に偏倚する。流体はまた通路９６及び９
７を通して電気巻線を有する電磁弁９４に通される。電
磁弁９４の動作は第１Ｏ図の液圧フォーマットで表され
る。この実施例において、電磁弁９４はライン９９を介
しての端部チャンバ６６への流体の流れ及びライン４５
を介しての溜め２０への流体の流れをソレノイド巻線２
４の附勢の関数として制御する。事実、第２の実施例に
従って作られたパイロットステージでは、端部チャンバ
６６に案内する常時開きオリフィス９８と溜め２０に案
内する常時閉じオリフィス１００とがある。前述したよ
うに、オリフィス９８及び１００を通る流体の流れはＰ
ＷＭ信号の衝撃係数の関数として比例的に増減する。オ
リフィス９８及び１００を通る流れが調節されると、端
部チャンバ６６への流量も調節される。この実施例にお
いて、圧力に露されるスプール端部の区域８０及び７６
は好ましくはそれぞれ２：１の面積比で設計される。

（効果） いずれかの弁装置により、パルス幅が調整された信号で
中央閉鎖スプールに加えられた圧力の調整は経済的で比
較的簡単な弁が１ステージ又は２ステ一ジ制御弁組立体
として組み込まれることを可能にしている。弁の他のス
テージにおいて、機械的フィードバック装置はスプール
が適当に釣り合いの取れた位置を取るのを可能にしてい
る。このような弾性のフィードバック装置を設けること
によって従来通常使用されている高価な流体制御弁より
もコストを低くかつ製造を容易にできる。

このように、前述の目的を十分に達成しかつ効果を発揮
する流量制御装置及びそのための弁装置が提供された。

本発明は上記特定の実施例は関連して説明されたが、当
業１者には種々の変形、改良が可能である。したがって
、そのような変形、改良は本発明の範囲内である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に従って作られた制御装置のブロック図
、第２図は本発明に有用な弁装置の概略図、第３図は第
２図に示された２ステージ弁の一つのステージを示す図
、第４図は第２図及び第３図に示された弁組立体の端面
の図、第５図は第４図の線５−５に沿って切断した図で
あって、本発明の有用な弁組立体の実施例の詳細の断面
図、第６図ないし第８図は第２図ないし第５図に示され
た弁組立体の動作を理解するのに有用なグラフ図、第９
図は本発明の有用な弁組立体の第２の実施例の第５図に
似た断面図、第１Ｏ図は第９図の２ステージ弁組立体の
パイロットステージを示す図である。

Claims (40)

【特許請求の範囲】
1. １．流体に応答するアクチュエータ（１２）を作動する
   ように流体の流れを変えるための制御装置（１０）にお
   いて、 ２ステージ制御弁装置であって、一つのステージが流体
   源（１６）と前記アクチュエータ（１２）との間で流量
   を、一方が他方に対して優先する力を決定する反対に向
   けられた圧力に基づく位置によって決定される直線位置
   の関数として調整するための、弾性のフィードバック装
   置（７０、７２）のある圧力応答可動の閉鎖部材（５０
   ）を備え、他のステージが前記位置決定力の一つを制御
   するための巻線（２４）のある電磁弁を備えている制御
   弁装置と、 前記閉鎖部材（５０）の位置を決めかつそれによって前
   記アクチュエータヘ流すように前記電磁弁の巻線（２４
   ）に加えられるパルス幅調整可能信号を発生するための
   装置（２８）と、 を備えた制御装置。
2. ２．前記電磁弁が前記圧力決定力の一つを制御するため
   に固定オリフィス（４０）と組み合わせて動作する二方
   向オン−オフ電磁弁（８８）である特許請求の範囲１に
   記載の制御装置。
3. ３．前記パルス幅調整可能信号（２８）が独立に調整可
   能である特許請求の範囲１に記載の制御装置。
4. ４．前記弾性フィードバック装置が機械的弾性装置（７
   ０、７２）を含む特許請求の範囲１に記載の制御装置。
5. ５．前記機械的弾性装置が各チャンバ（６６、６８）内
   に配置された圧縮ばねを含み、各ばねの端部が前記チャ
   ンバの端壁とスプール端とに当接している特許請求の範
   囲４に記載の制御装置。
6. ６．前記端チャンバの一つが可変圧力チャンバ（６６）
   でありかつ他方がほぼ一定圧力のチャンバ（６８）であ
   る特許請求の範囲１に記載の制御装置。
7. ７．一つのスプール端（８０）が前記スプールの反対端
   （７６）よりもほぼ１／３倍ないし２倍大きい範囲であ
   る有効面積を有する特許請求の範囲１に記載の制御装置
   。
8. ８．前記他のステージが共通点（４６）において第２の
   オリフィス（４４）に接続された第１のオリフィス（４
   ０）と、共通点（４６）を前記閉鎖部材（５０）の一端
   に接続しそれによって閉鎖部材に前記共通点における流
   量として変化する大きさを有する位置決定力を加える装
   置とを備え、第２のオリフィス（４４）を通る平均流量
   が電磁弁の巻線（２４）に加えられるパルス幅調整可能
   信号（２８）によって調整される特許請求の範囲１に記
   載の制御装置。
9. ９．前記閉鎖部材（５０）がスプール弁である特許請求
   の範囲１に記載の制御装置。
10. １０．流体を受ける入口（３２）及び出口（３６）を有
    する弁本体（１４）と、 前記入口（３２）と出口（３４）との間の連通をスプー
    ル位置の関数として制御するために前記弁本体（５４）
    に関して滑動可能に配置された、ばねで中心決めされた
    スプール（５０）と、前記スプールの位置を制御しかつ
    それによって流体の出口を制御するための液圧装置（１
    ８、３８、７４）であって、前記スプール（５０）に対
    して反対に向けられたスプール位置決定力を加えるため
    のフルデイック装置（３８、７４）、及び反対に向けら
    れたスプール位置決定力のどちらが他方に優先するかを
    決定するためのパルス幅調整可能信号で制御される装置
    （２８）を備えた液圧装置と、 を備えた流体出力を調整するための流量制御装置。
11. １１．前記弁本体（５４）が長い滑り通路（５２）を備
    え、前記滑り通路の中に前記スプール（５０）が滑動可
    能に収容されている特許請求の範囲１０に記載の流量制
    御装置。
12. １２．前記フルデイック装置が前記スプール（５０）の
    両端に設けられた流体受容チャンバ（６６、６８）によ
    って限定されている特許請求の範囲１１に記載の流量制
    御装置。
13. １３．前記一つのチャンバ（６６）が可変圧力チャンバ
    でありかつ他方（６８）が比較的一定圧力のチャンバで
    ある特許請求の範囲１２に記載の流量制御装置。
14. １４．前記スプールを中心決めするために弾性ばね（７
    ０、７２）が前記チャンバの各々に設けられている特許
    請求の範囲１２に記載の流量制御装置。
15. １５．前記流体受容チャンバ（６６、６８）の各々が入
    口（３２）において弁本体に受けられた流体と通じてい
    る特許請求の範囲１２に記載の流量制御装置。
16. １６．前記流体受容チャンバの一つ（６６）が共通点（
    ４６）において第２のオリフィス（４４）と接続されて
    いる第１のオリフィス（４０）を通して入口において弁
    本体に受けられた流体と通じ、第２のオリフィス（４４
    ）の平均流量がパルス幅調整可能信号（２８）と、共通
    点（４６）を前記一つの流体受容チャンバ（６６）に接
    続する装置とによって調整される特許請求の範囲１５に
    記載の流量制御装置。
17. １７．前記パルス幅調整可能信号（２８）が独立に調整
    可能である特許請求の範囲１６に記載の流量制御装置。
18. １８．前記パルス幅調整可能信号で制御される装置（２
    ８）が、反対に向けられたスプール位置決定力のどちら
    が他方に優先するかを決定するために巻線（２４）のあ
    る電磁弁（８８）を備えている特許請求の範囲１０に記
    載の流量制御装置。
19. １９．前記電磁弁（８８）が、反対に向けられたスプー
    ル位置決定力のどちらが他方に優先するかを決定するた
    めに第１のオリフィス（４０）と組み合わせて動作する
    二方向オン−オフ電磁弁である特許請求の範囲１８に記
    載の流量制御装置。
20. ２０．滑り通路（５２）、流体源（１６）に接続可能な
    入口ポート（３２）、前記入口ポートから隔てられかつ
    液圧アクチュエータ（１２）に接続可能な出口ポート（
    ３６）を有する弁本体（５４）と、 前記入口ポート（３２）と出口ポート（３６）との間の
    流量を前記滑り通路内の位置の関数として制御するため
    に前記滑り通路内に移動可能に配置された弾性フィード
    バック装置（７０、７２）付きの中央閉鎖スプール装置
    （５０）と、 前記スプール装置（５０）を第１の軸方向に偏倚する圧
    力を発生する方法で流体が充填される、前記流体源（１
    ６）と通じる第１の流体受容チャンバ（６８）と、 前記スプール装置（５０）を第２の軸方向に偏倚する圧
    力を発生する方法で流体が充填される、前記流体源（１
    ６）と通じる第２の流体受容チャンバ（６６）であって
    、電磁弁（８８）が前記流体源と前記第２の流体受容チ
    ャンバとの間に配置されている第２の流体受容チャンバ
    と、 前記第２の流体受容チャンバ（６６）内の圧力を制御し
    かつそれによって前記液圧アクチュエータ（１２）への
    流量を制御する方法で前記電磁弁（８８）を動作させる
    ためにパルス幅が調整された信号の周期的連続を生起す
    るための装置（２８）と、 を備えた弁組立体。
21. ２１．前記第１の流体受容チャンバ（６８）が比較的一
    定圧力のチャンバでありかつ前記第２の流体受容チャン
    バ（６６）が可変圧力チャンバである特許請求の範囲２
    ０に記載の弁組立体。
22. ２２．前記弾性フィードバック装置が機械的弾性装置（
    ７０、７２）を含む特許請求の範囲２０に記載の弁組立
    体。
23. ２３．前記機械的弾性装置が各流体受容チャンバ内に配
    置された圧縮ばね（７０、７２）を含み、前記ばねの端
    部が前記チャンバの端壁及びスプール端に係合している
    特許請求の範囲２２に記載の弁組立体。
24. ２４．一方のスプール端が反対のスプール端区域（７６
    ）の有効面積よりも１／３倍ないし２倍大きい範囲にあ
    る有効面積を有している特許請求の範囲２０に記載の弁
    組立体。
25. ２５．前記電磁弁（８８）が前記第２の流体受容チャン
    バ内の圧力を制御するために固定オリフィス（４０）と
    組み合わせて動作するオン−オフ電磁弁である特許請求
    の範囲２０に記載の弁組立体。
26. ２６．前記電磁弁（８８）が共通点（４６）において第
    ２のオリフィス（４４）に接続された第１のオリフィス
    （４０）及び共通点（４６）を前記第２の流体受容チャ
    ンバ（６６）に接続する装置と組み合わせて動作し、第
    ２のオリフィス（４４）を通る平均流量が調整された信
    号に応答するパルス幅装置（２８）のつながりによって
    調整される特許請求の範囲２０に記載の弁組立体。
27. ２７．流体源（１６）と液圧アクチュエータ（１２）と
    の間の流体の流れを調節するための制御弁装置（１０）
    において、 前記流体源（１６）と前記アクチュエータ（１２）との
    間の流体の流れを変位の関数として制御するために前記
    流体源とアクチュエータとの間に配置された、往復運動
    するように支持されかつばねにより中心決めされた制御
    スプール（５０）と、 前記制御スプール装置の各端に設けられた制御圧力チャ
    ンバ（６６、６８）であって、各々が前記チャンバ内に
    圧力を生起するように流体が供給さるべく前記流体源に
    連通しかつ配置され、かつ前記スプール装置の位置が前
    記チャンバの間の圧力差により決定される制御圧力チャ
    ンバと、前記圧力チャンバへの流量を調整することによ
    って前記圧力チャンバの一つ内の圧力を調整し、それに
    よって前記制御スプール（５０）の位置を制御しかつそ
    れによって前記アクチュエータ（１２）への流量を制御
    するために前記流体源と前記圧力チャンバの一つとの間
    に作動するように配置された開きループ流体制御装置（
    １０）と、 を備えた制御弁装置。
28. ２８．前記制御スプール用の弾性フィードバック装置（
    ７０、７２）を限定するばねが前記圧力制御チャンバ（
    ６６、６８）内に配置されている特許請求の範囲２７に
    記載の制御弁装置。
29. ２９．前記制御スプール（５０）の一端が他端（７６）
    よりも大きな圧力に露される表面積を有する特許請求の
    範囲２７に記載の制御弁装置。
30. ３０．前記開きループ流体制御装置（１０）がパルス幅
    が調整された信号（２８）によって制御される巻線（２
    ４）付きの電磁弁（８８）を備えている特許請求の範囲
    ２７に記載の制御弁装置。
31. ３１．更に、共通点（４６）において第２のオリフィス
    （４４）に接続された第１のオリフィス（４０）と、共
    通点を前記圧力チャンバ（６６）に接続しそれによって
    前記制御スプール装置（５０）の一端に前記共通点にお
    ける流量を変化する圧力を加える装置とを備え、第２の
    オリフィス（４４）を通る平均流量が前記電磁弁の巻線
    （２４）に加えられるパルス幅が調整された信号によっ
    て調整される特許請求の範囲３０に記載の制御弁装置。
32. ３２．前記パルス幅が調整された信号（２８）が独立に
    調整可能である特許請求の範囲３０に記載の制御弁装置
    。
33. ３３．流体源（１６）と流体に応答するアクチュエータ
    （１２）との間で流量を制御するように動作可能な弁装
    置（１４）において、 滑り通路（５２）、前記流体源に接続された少なくとも
    一つの流体入口（３２）及び前記アクチュエータ（１２
    ）に接続された少なくとも一つの流体出口（３６）を有
    する弁本体（５４）と、前記流体出口を介しての流体の
    流出を制御するように前記滑り通路内に移動可能に配置
    されたばねで中心決めされた中央閉鎖弁スライダ（５０
    ）であって、前記弁スライダは端部チャンバ（６６、６
    ８）が前記弁スライダの両端に限定されるようにして前
    記滑り通路内に配置され、各端部チャンバはそれぞれが
    そのチャンバ内で圧力を生起する流体が供給されるよう
    にして前記流体源（１６）と連通し、前記スライダの位
    置が前記チャンバの間の圧力差によって決定される弁ス
    ライダと、パルス幅が調整された信号（２８）を生起す
    る装置と、 前記端部チャンバの一つ（６６）内の圧力を制御しそれ
    によって前記弁スライダ（５０）の位置を制御するため
    の、前記パルス幅が調整された信号に応答可能な装置（
    ２４）と、 を備えた弁装置。
34. ３４．前記弁スライダ用の弾性フィードバック装置を限
    定するばね（７０、７２）が前記端部チャンバ（６６、
    ６８）内に配置されている特許請求の範囲３３に記載の
    弁装置。
35. ３５．前記弁スライダの一端が他端（７６）よりも大き
    な、圧力に露される表面積（８０）を有する特許請求の
    範囲３３に記載の弁装置。
36. ３６．前記装置（２４）が巻線のある電磁弁（８８）を
    備えている特許請求の範囲３３に記載の弁装置。
37. ３７．前記電磁弁（８８）が前記端部のチャンバの一つ
    （６６）内の圧力を制御するためにオリフィス（４４）
    と組み合わせて動作する特許請求の範囲３６に記載の弁
    装置。
38. ３８．更に、共通点（４６）において第２のオリフィス
    （４４）に接続された第１のオリフィス（４０）と、共
    通点を前記圧力チャンバ（６６）に接続しそれによって
    前記弁スライダの反力を決定する装置とを備え、第２の
    オリフィス（４４）を通る平均流量が前記電磁弁の巻線
    （２４）に加えられるパルス幅調整可能信号（２８）に
    よって調整される特許請求の範囲３６に記載の制御弁装
    置。
39. ３９．前記端部のチャンバが可変圧力チャンバでありか
    つ他方が比較的一定圧力のチャンバ（６８）である特許
    請求の範囲３３に記載の弁装置。
40. ４０．加圧流体の流体源（１６）から流体圧作動装置へ
    の流体の流れを制御するように動作可能な流体制御装置
    （１４）において、 流体源（１６）に接続するための入口ポート（３２）、
    流体槽（２０）に接続するための戻しポート（３４）及
    び流体圧で作動される装置（１２）に接続するための少
    なくとも一つの制御流体ポート（３６）を有するハウジ
    ング（５４）と、前記ハウジング内に滑動可能に配置さ
    れかつ中立位置と少なくとも一つの動作位置とを限定す
    る弁手段（５０）であって、前記弁手段が動作位置にあ
    るとき前記制御流体ポートを前記入口ポート又は戻りポ
    ートのいずれかと連通する第１の流路を限定するように
    前記ハウジングと協働する弁手段と、 流体で動作される装置からの又はその装置への流体流に
    応答して前記弁手段を前記中立位置に戻すように移させ
    るための装置（７０、７２）と、前記弁手段の位置に影
    響を与えかつそれによって前記制御流体ポートにおける
    流れに影響を与えるための液圧装置（４８）であって、
    前記弁手段（５０）に対して反対に向けられた位置決定
    力を加えるためのフルデイック装置（３８、７４）およ
    び反対に向けられた位置決定力のどちらが他方に優先す
    るかを決定するためのパルス幅が調整された信号により
    制御される装置（２８）と、を備えた流体制御装置。