JPS63185923A - 抗炎症剤 - Google Patents
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Landscapes
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、フェノール誘導体を含有する新規抗炎症剤に
関する。
関する。
炙困Ω呈頂
米国特許第3787174号、第3905761号、第
3953508号、第4008043号、第40089
99号、、第4042627号、第4054147号、
第4112229号、第4170452号、第4200
432号、第4222958号、第4233241@、
第4496590号、第4510139号、第4515
980号及び特開昭50−88040号、特公昭59−
27329@、)zv. Akad.Nauk
SSSR。
3953508号、第4008043号、第40089
99号、、第4042627号、第4054147号、
第4112229号、第4170452号、第4200
432号、第4222958号、第4233241@、
第4496590号、第4510139号、第4515
980号及び特開昭50−88040号、特公昭59−
27329@、)zv. Akad.Nauk
SSSR。
Ser. Khim.、 1 97 1, 609,及
びzh。
びzh。
Obshch.Khim.、 5 5, 64 8 (
1 98 5 ) ニル、各種のフェノール誘導体が記
載されている。しかし上記従来技術文献においては、こ
れらフェノール誘導体が抗炎症作用を有することは全く
開示されていない。
1 98 5 ) ニル、各種のフェノール誘導体が記
載されている。しかし上記従来技術文献においては、こ
れらフェノール誘導体が抗炎症作用を有することは全く
開示されていない。
及皿少皿j
本発明者は、一定のフェノール誘導体につき研究を重ね
たところ、これらが前記従来技術文献には全く開示のな
い抗炎症作用を有し、従って、炎症を低減することに基
き、例えば急性炎症、関節炎等の疾病の治療に有用であ
ることを見出し、本発明を完成するに至った。
たところ、これらが前記従来技術文献には全く開示のな
い抗炎症作用を有し、従って、炎症を低減することに基
き、例えば急性炎症、関節炎等の疾病の治療に有用であ
ることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、(a)一般式
R3
[式中R1aは、シアノ基、カルバモイル基、ニトロ基
、スルファモイル基、ヒドロキシC+ Csアルキル
基、CI CsアルコキシカルボニルCI Csアル
キル キシC+ Caアルキル基、ハロゲノ置換C1 Cs
アルキル基、C1 、Csアシル基、CI Csアル
キルチオ基、フェニルチオ基、C1−C6アルキルスル
ホニル基、アミノ基、ハロゲン原子、C1−C6アルコ
キシ基、水酸基及びCI Csアルキル基から選ばれ
る置換基の1〜3個を有するフェニル基或は非置換フェ
ニル基を示す。R2及びR3は同−又は異なってCI
Ceアルキル基を示す。]で表わされるフェノール誘
導体及びその塩並びに (b)一般式 [式中、R4及びR5は同−又は異なってCI Cs
アルキル基を示し、R8は水素原子又はCI Csアル
キル基を示す。また、R5及びR6は、互いに結合して
それらが結合するベンゼン環と共に なる縮合環を形成していてもよい。Aaは、水素原子、
CI C6アルキルスルホニル基、CI Csアル
コキシカルボニル基、ピペリジノカルボニル基、フェニ
ルCI 06アルキルカルバモイル基、C1−CI
2アルキルカルバモイル イル基、置換基として01〜C6アルコキシカルボニル
基、カルボキシル基、C1−C6アシル基、CI C
sアルキルカルバモイル基及び03 CBシクロアル
キルカルバモイル選ばれた基を有するC2〜C6アルケ
ニル基、置換基としてC3 Coシクロアルキルカル
バモイル、CI Ceアルキルカルバモイル、)工二
ルC1−C6アルキルカルバモイルリジノカルボニル、
モルホリノカルボニル及びヒドラジノカルボニル基から
選ばれた基を有するCI Csアルキル基、カルボキ
シC+−C6アルキル 二ルC+ Csアルキル基、CI Csアルキル基
、カルボキシル 基、ハロケン原子、又は−NR7R8aI (R7は、
水素原子又はCI Caアルキル基を、またR8aは
CI 06アルキル基、置換基としてフェニル基を有す
るCI Ceアルキル基、)工二ル基、置換基として
CI Csアルキル基を有することのあるベンゾイル
基、置換基としてCI Csアルコキシカルボニル基
を有することのあるC1−C6アシル基、Ct Cs
アルキルスルホニル基又はフェニルスルホニル基を示す
)を示す。但しR6が水素原子のときは基Aaは、水素
原子、カルボキシC+ CeアルキルLLC+ C
sアルコキシカルボニルC+ Csアルキル基、CI
Csアルキル基、カルボキシル基、C1 Csアル
コキシ基又はハロゲン原子であってはならない。1 3表わされるフェノール誘導体及びその塩を有効成分と
することを特徴とする抗炎症剤に係わるものである。
、スルファモイル基、ヒドロキシC+ Csアルキル
基、CI CsアルコキシカルボニルCI Csアル
キル キシC+ Caアルキル基、ハロゲノ置換C1 Cs
アルキル基、C1 、Csアシル基、CI Csアル
キルチオ基、フェニルチオ基、C1−C6アルキルスル
ホニル基、アミノ基、ハロゲン原子、C1−C6アルコ
キシ基、水酸基及びCI Csアルキル基から選ばれ
る置換基の1〜3個を有するフェニル基或は非置換フェ
ニル基を示す。R2及びR3は同−又は異なってCI
Ceアルキル基を示す。]で表わされるフェノール誘
導体及びその塩並びに (b)一般式 [式中、R4及びR5は同−又は異なってCI Cs
アルキル基を示し、R8は水素原子又はCI Csアル
キル基を示す。また、R5及びR6は、互いに結合して
それらが結合するベンゼン環と共に なる縮合環を形成していてもよい。Aaは、水素原子、
CI C6アルキルスルホニル基、CI Csアル
コキシカルボニル基、ピペリジノカルボニル基、フェニ
ルCI 06アルキルカルバモイル基、C1−CI
2アルキルカルバモイル イル基、置換基として01〜C6アルコキシカルボニル
基、カルボキシル基、C1−C6アシル基、CI C
sアルキルカルバモイル基及び03 CBシクロアル
キルカルバモイル選ばれた基を有するC2〜C6アルケ
ニル基、置換基としてC3 Coシクロアルキルカル
バモイル、CI Ceアルキルカルバモイル、)工二
ルC1−C6アルキルカルバモイルリジノカルボニル、
モルホリノカルボニル及びヒドラジノカルボニル基から
選ばれた基を有するCI Csアルキル基、カルボキ
シC+−C6アルキル 二ルC+ Csアルキル基、CI Csアルキル基
、カルボキシル 基、ハロケン原子、又は−NR7R8aI (R7は、
水素原子又はCI Caアルキル基を、またR8aは
CI 06アルキル基、置換基としてフェニル基を有す
るCI Ceアルキル基、)工二ル基、置換基として
CI Csアルキル基を有することのあるベンゾイル
基、置換基としてCI Csアルコキシカルボニル基
を有することのあるC1−C6アシル基、Ct Cs
アルキルスルホニル基又はフェニルスルホニル基を示す
)を示す。但しR6が水素原子のときは基Aaは、水素
原子、カルボキシC+ CeアルキルLLC+ C
sアルコキシカルボニルC+ Csアルキル基、CI
Csアルキル基、カルボキシル基、C1 Csアル
コキシ基又はハロゲン原子であってはならない。1 3表わされるフェノール誘導体及びその塩を有効成分と
することを特徴とする抗炎症剤に係わるものである。
本発明の抗炎症剤の有効成分である一般式(1)及びく
2)のフェノール誘導体には、前記従来技術文献に記載
の化合物が一部包含されているが、かかる化合物が抗炎
症作用を有することは本発明者により初めて見出された
ものである。
2)のフェノール誘導体には、前記従来技術文献に記載
の化合物が一部包含されているが、かかる化合物が抗炎
症作用を有することは本発明者により初めて見出された
ものである。
また、本発明の一般式(1)及び(2)の化合物は、そ
の作用持続時間が長く、胃かいよう形成作用及び腎障害
作用がほとんど無く、且つ低毒性である。
の作用持続時間が長く、胃かいよう形成作用及び腎障害
作用がほとんど無く、且つ低毒性である。
本発明の一般式(1)及び(2)の化合物のうちでも、
下記化合物を有効酸°分として使用するのが好ましい。
下記化合物を有効酸°分として使用するのが好ましい。
(a)一般式
[式中、R2及びR3は同−又は異なってC1−C6ア
ルキル基を示し、Rlaは、置換基としてヒドロキシC
+ Csアルキル基及びハロゲン原子を有するフェニ
ル基、置換基としてヒドロキシC+ Csアルキル基
を有するフェニル基、シアノフェニル基又はへロフェニ
ル基又は非置換フェニル基をを示す。〕及び (b)一般式 %式% [式中、R4、R5及びR6は一般式(2)におけると
同一の意味を有し、Aaは置換基としてカルボキシル基
を有する02 06アルケニル基を示す。] 上記好ましい化合物の代表例としては、例えば次のもの
を例示できる。
ルキル基を示し、Rlaは、置換基としてヒドロキシC
+ Csアルキル基及びハロゲン原子を有するフェニ
ル基、置換基としてヒドロキシC+ Csアルキル基
を有するフェニル基、シアノフェニル基又はへロフェニ
ル基又は非置換フェニル基をを示す。〕及び (b)一般式 %式% [式中、R4、R5及びR6は一般式(2)におけると
同一の意味を有し、Aaは置換基としてカルボキシル基
を有する02 06アルケニル基を示す。] 上記好ましい化合物の代表例としては、例えば次のもの
を例示できる。
02.6−シーtert−ブチル−4−(4−クロロ−
2−ヒドロキシメチルフェニルアミノ)フェノール o2,6−シーtert−ブチル−4−(2−ヒドロキ
シメチルフェニルアミノ)フェノール02− (3,5
−ジーtert−ブチルー4−ヒドロキシフェニルアミ
ノ)ケイ皮酸 o2,6−シーtert−ブチル−4−(4−シアノフ
ェニルアミノ)フェノール o2,6−シーtert−ブチル−4−(4−フルオロ
フェニルアミノ)フェノール 02.6−シーtert−ブチル−4−フェニルアミノ
フェノール 本明細書において、C+ Csアルキル基としては、
例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル基等の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。
2−ヒドロキシメチルフェニルアミノ)フェノール o2,6−シーtert−ブチル−4−(2−ヒドロキ
シメチルフェニルアミノ)フェノール02− (3,5
−ジーtert−ブチルー4−ヒドロキシフェニルアミ
ノ)ケイ皮酸 o2,6−シーtert−ブチル−4−(4−シアノフ
ェニルアミノ)フェノール o2,6−シーtert−ブチル−4−(4−フルオロ
フェニルアミノ)フェノール 02.6−シーtert−ブチル−4−フェニルアミノ
フェノール 本明細書において、C+ Csアルキル基としては、
例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル基等の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。
フェニルC+ Csアルキル基としては、例えばベン
ジル、1−フェニルエチル、2−フェニルエチル、3−
フェニルプロピル、2−フェニル−1−メチルエチル、
4−フェニルブチル、2−フェニル71,1−ジメチル
エチル、5−フェニルペンチル、6−フェニルヘキシル
基等を例示できる。
ジル、1−フェニルエチル、2−フェニルエチル、3−
フェニルプロピル、2−フェニル−1−メチルエチル、
4−フェニルブチル、2−フェニル71,1−ジメチル
エチル、5−フェニルペンチル、6−フェニルヘキシル
基等を例示できる。
C+ Csアルコキシカルボニル
例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロ
ポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキ
シカルボニル、tert−ブトキシカルボニル、ペンチ
ルオキシカルボニル、ヘキシルオキジカルボニル基等を
例示できる。
ポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキ
シカルボニル、tert−ブトキシカルボニル、ペンチ
ルオキシカルボニル、ヘキシルオキジカルボニル基等を
例示できる。
CI Csアシル基としては、例えばアセチル、プロ
ピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバ
レリル、ピバロイル、ヘキサノイル基等を例示できる。
ピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバ
レリル、ピバロイル、ヘキサノイル基等を例示できる。
CI C6アルキルカルバモイル
例えばメチルカルバモイル、エチルカルバモイル、プロ
ピルカルバモイル ル ル シクロアルキルカルバモイル基としては、例えばシクロ
プロピルカルバモイル、シクロブチルカルバモイル、シ
クロペンチルカルバモイル、シクロヘキシルカルバモイ
ル モイル、シクロオクチルカルバモイル基等のC3Ceシ
クロアルキルカルバモイル基を例示できる。
ピルカルバモイル ル ル シクロアルキルカルバモイル基としては、例えばシクロ
プロピルカルバモイル、シクロブチルカルバモイル、シ
クロペンチルカルバモイル、シクロヘキシルカルバモイ
ル モイル、シクロオクチルカルバモイル基等のC3Ceシ
クロアルキルカルバモイル基を例示できる。
アルキルカルバモイル基としては、上記例示のCI
06アルキルカルバモイル基の外、例えばヘプチルカル
バモイル、オクチルカルバモイルノナニルカルバモイル
、2−メチールオクチル力ルバモイル、デカニルカルバ
モイル、ウンデカニルカルバモイル、ドデカニルカルバ
モイル基等の07 C+2アルキルカルバモイル基を
例示できる。
06アルキルカルバモイル基の外、例えばヘプチルカル
バモイル、オクチルカルバモイルノナニルカルバモイル
、2−メチールオクチル力ルバモイル、デカニルカルバ
モイル、ウンデカニルカルバモイル、ドデカニルカルバ
モイル基等の07 C+2アルキルカルバモイル基を
例示できる。
ピペリジノカルボニル基としては、例えば1−ピペリジ
ノカルボニル ル、3丁ピペリジノカルボニル、4−ピペリジノカルボ
ニル基等を例示できる。
ノカルボニル ル、3丁ピペリジノカルボニル、4−ピペリジノカルボ
ニル基等を例示できる。
フェニルC+ Csアルキルカルバモイル基としては
、例えばベンジルカルバモイル、1−フェニルエチルカ
ルバモイル、2−フェニルエチルカルバモイル、3−フ
ェニルプロピルカルバモイル、2−フェニル−1−メチ
ルエチルカルバモイル4−フェニルブチルカルバモイル
、2−フェニル−1.1ージメチルエチルカルバモイル
ェニルペンチルカルバモイル、6−フェニルエチルカル
バモイル基等を例示できる。
、例えばベンジルカルバモイル、1−フェニルエチルカ
ルバモイル、2−フェニルエチルカルバモイル、3−フ
ェニルプロピルカルバモイル、2−フェニル−1−メチ
ルエチルカルバモイル4−フェニルブチルカルバモイル
、2−フェニル−1.1ージメチルエチルカルバモイル
ェニルペンチルカルバモイル、6−フェニルエチルカル
バモイル基等を例示できる。
C2 Csアルケニル基としては、例えばビニル、ア
リル、イソプロペニル、1−ブテニル、2−ブテニル、
3−ブテニル、1−ペンテニル、2−ペンテニル、3−
ペンテニル、4−ペンテニル、1−へキセニル、2−へ
キセニル、3−へキセニル、4−へキセニル、5−へキ
セニル基等を例示できる。
リル、イソプロペニル、1−ブテニル、2−ブテニル、
3−ブテニル、1−ペンテニル、2−ペンテニル、3−
ペンテニル、4−ペンテニル、1−へキセニル、2−へ
キセニル、3−へキセニル、4−へキセニル、5−へキ
セニル基等を例示できる。
モルホリノカルボニル基としては、例えば2−モルホリ
ノカルボニル、3−モルホリノカルボニル基4−モルホ
リノカルボニル基等を例示できる。
ノカルボニル、3−モルホリノカルボニル基4−モルホ
リノカルボニル基等を例示できる。
置換基としてCI Csアルキル基を有することのあ
るベンゾイル基としては、ベンゾイル基の外、例えば2
−メチルベンゾイル、3−メチルベンゾイル、4−メチ
ルベンゾイル、3−エチルベンゾイル、4−プロピルベ
ンゾイル、4−ブチルベンゾイル、3−ペンチルベンゾ
イル、4−へキシルベンゾイル基等を例示できる。
るベンゾイル基としては、ベンゾイル基の外、例えば2
−メチルベンゾイル、3−メチルベンゾイル、4−メチ
ルベンゾイル、3−エチルベンゾイル、4−プロピルベ
ンゾイル、4−ブチルベンゾイル、3−ペンチルベンゾ
イル、4−へキシルベンゾイル基等を例示できる。
置換基としてCI Csアルコキシカルボニル基を有
することのあるC1−C6アシル基としては、前記例示
のCI Csアシル基の外、例えばメトキシカルボニ
ルアセチル アセブール オニル、3−(エトキシカルボニル)プロピオニル、2
−(メトキシカルボニル)プロピオニル基等を例示でき
る。
することのあるC1−C6アシル基としては、前記例示
のCI Csアシル基の外、例えばメトキシカルボニ
ルアセチル アセブール オニル、3−(エトキシカルボニル)プロピオニル、2
−(メトキシカルボニル)プロピオニル基等を例示でき
る。
C1−7C6アルキルスルホニル基としては、例えばメ
チルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニ
ル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニル、te
rt−ブチルスルホニル、ペンチルスルホニル、ヘキシ
ルスルホニル基等を例示できる。
チルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニ
ル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニル、te
rt−ブチルスルホニル、ペンチルスルホニル、ヘキシ
ルスルホニル基等を例示できる。
ハロゲン原子には、弗素、塩素、臭素及び沃素原子が包
含される。
含される。
ヒドロキシ01 C6アルキル基の例としてはヒドロキ
シメチル、1−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシエチ
ル、1−ヒドロキシプロピル、2−ヒドロキシプロピル
、3−ヒドロキシプロピル、2−ヒドロキシ−1−メチ
ルエチル、1−ヒドロキシブチル、2−ヒドロキシブチ
ル、3−ヒドロキシブチル、4−ヒドロキシブチル、1
−ヒドロキシペンチル、2−ヒドロキシペンチル、3−
ヒドロキシペンチル、4−ヒドロキシペンチル、5−ヒ
ドロキシペンチル、1−ヒドロキシヘキシル、2−ヒド
ロキシヘキシル、6−ヒドロキシヘキシル基等を例示で
きる。
シメチル、1−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシエチ
ル、1−ヒドロキシプロピル、2−ヒドロキシプロピル
、3−ヒドロキシプロピル、2−ヒドロキシ−1−メチ
ルエチル、1−ヒドロキシブチル、2−ヒドロキシブチ
ル、3−ヒドロキシブチル、4−ヒドロキシブチル、1
−ヒドロキシペンチル、2−ヒドロキシペンチル、3−
ヒドロキシペンチル、4−ヒドロキシペンチル、5−ヒ
ドロキシペンチル、1−ヒドロキシヘキシル、2−ヒド
ロキシヘキシル、6−ヒドロキシヘキシル基等を例示で
きる。
C+ CsアルコキシカルボニルC+ Csアルキ
ル基の例としては、例えばメトキシカルボニルメチル、
エトキシカルボニルメチル、プロポキシカルボニルメチ
ル、イソプロポキシカルボニルメチル、ブトキシカルボ
ニルメチル、ペンチルオキシカルボニルメチル、ヘキシ
ルオキシカルボニルメチル、1−メトキシカフレボニル
エチル、2−メトキシカルボニルエチル、3−メトキシ
カルボニルプロピル、2−メトキシカルボニルブチル、
4−メトキシカルボニルブチル、3−メトキシカルボニ
ルペンチル、5−メトキシカルボニルペンチル、4−メ
トキシカルボニルヘキシル、6−メトキシカルボニルヘ
キシル、4−エトキシカルボニルブチル、3−(1−ブ
トキシ)カルボニルプロピル、6− (1−プロポキシ
)カルホニルヘキシル基等を例示できる。
ル基の例としては、例えばメトキシカルボニルメチル、
エトキシカルボニルメチル、プロポキシカルボニルメチ
ル、イソプロポキシカルボニルメチル、ブトキシカルボ
ニルメチル、ペンチルオキシカルボニルメチル、ヘキシ
ルオキシカルボニルメチル、1−メトキシカフレボニル
エチル、2−メトキシカルボニルエチル、3−メトキシ
カルボニルプロピル、2−メトキシカルボニルブチル、
4−メトキシカルボニルブチル、3−メトキシカルボニ
ルペンチル、5−メトキシカルボニルペンチル、4−メ
トキシカルボニルヘキシル、6−メトキシカルボニルヘ
キシル、4−エトキシカルボニルブチル、3−(1−ブ
トキシ)カルボニルプロピル、6− (1−プロポキシ
)カルホニルヘキシル基等を例示できる。
カルボキシC+ Csアルキル基の例としては、例え
ばカルボキシメチル、1−カルボキシエチル、2−カル
ボキシエチル、2−カルボキシプロピル、3−カルボキ
シプロピル、2−カルボキシブチル、4−カルボキシブ
チル 5−カルボキシペンデル、3−カルボキシヘキシル、5
−カルボキシヘキシル キシル基等を例示できる。
ばカルボキシメチル、1−カルボキシエチル、2−カル
ボキシエチル、2−カルボキシプロピル、3−カルボキ
シプロピル、2−カルボキシブチル、4−カルボキシブ
チル 5−カルボキシペンデル、3−カルボキシヘキシル、5
−カルボキシヘキシル キシル基等を例示できる。
ハロゲン置換C+ Csアルキル基の具体例としては
、例えばフルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフル
オロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロ
ロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモ
メチル、ヨードメチル、ショートメチル、トリヨードメ
チル、1−フルオロエチル、2−フルオロエチル、1.
2−ジフルオロエチル、2,2−ジフルオロエチル、1
,2−ジクロロエチル、2,2−ジクロロエチル、2−
クロロ−2−フルオロエチル、2−ブロモエチル、2,
2−ジブロモエチル、2,2.2−トリフルオロエチル
、1,3−ジフルオロプロピル、3、3.3−トリフル
オロプロピル、3,3−ジクロロプロピル、2,4−ジ
ブロモブチル、4。
、例えばフルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフル
オロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロ
ロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモ
メチル、ヨードメチル、ショートメチル、トリヨードメ
チル、1−フルオロエチル、2−フルオロエチル、1.
2−ジフルオロエチル、2,2−ジフルオロエチル、1
,2−ジクロロエチル、2,2−ジクロロエチル、2−
クロロ−2−フルオロエチル、2−ブロモエチル、2,
2−ジブロモエチル、2,2.2−トリフルオロエチル
、1,3−ジフルオロプロピル、3、3.3−トリフル
オロプロピル、3,3−ジクロロプロピル、2,4−ジ
ブロモブチル、4。
4、4−トリブロモブチル、4,4−ジフルオロブチル
、3,5−ジクロロペンチル、5,5−ジフルオロペン
チル、5,5.5−トリフルオロペンチル、6,6−ジ
ブロモヘキシル、6,6.ロートリフルオロヘキシル基
等を例示できる。
、3,5−ジクロロペンチル、5,5−ジフルオロペン
チル、5,5.5−トリフルオロペンチル、6,6−ジ
ブロモヘキシル、6,6.ロートリフルオロヘキシル基
等を例示できる。
C+ Csアルキルチオ基の具体例としては、例えば
メチルチオ、エチルチオ、1−プロピルチオ、2−プロ
ピルチオ、1−ブチルチオ、2−ブチルチオ、tert
−ブチルチオ、1−ペンチルチオ、2−ペンチルチオ、
3−ペンチルチオ、1−へキシルチオ、2−へキシルチ
オ、3−へキシルチオ等を例示できる。
メチルチオ、エチルチオ、1−プロピルチオ、2−プロ
ピルチオ、1−ブチルチオ、2−ブチルチオ、tert
−ブチルチオ、1−ペンチルチオ、2−ペンチルチオ、
3−ペンチルチオ、1−へキシルチオ、2−へキシルチ
オ、3−へキシルチオ等を例示できる。
CI Csアルコキシ基としては例えば、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、ブトキシ、tert−ブトキシ、
ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の直鎖状又は分校
状のアルコキシ基を例示できる。
トキシ、プロポキシ、ブトキシ、tert−ブトキシ、
ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の直鎖状又は分校
状のアルコキシ基を例示できる。
更に、上記各基の1〜3個を置換基として有するフェニ
ル基の具体例としては、次に示す如ぎ各基を例示するこ
とができる。
ル基の具体例としては、次に示す如ぎ各基を例示するこ
とができる。
2−フルオロフェニル、3−フルオロフェニル、4−フ
ルオロフェニル、2−クロロフェニル、3−クロロフェ
ニル、4−クロロフェニル、2−ブロモフェニル、3−
ブロモフェニル、4−ブロモフェニル、2−ヨードフェ
ニル、3−ヨードフェニル、4−ヨードフェニル、2,
4−ジフルオロフェニル、2,4−ジクロロフェニル、
2,4゜ロートリフルオロフェニル、2,4.6−ドリ
クロロフエニル、2−ヒドロキシフェニル、3−ヒドロ
キシフェニル、4−ヒドロキシフェニル、2゜4−ジヒ
ドロキシフェニル、2,4.6−ドリヒドロキシフエニ
ル、2−トリフルオロメチルフェニル、3−トリフルオ
ロメチルフェニル、4−トリフルオロメチルフェニル、
3,5−ジ(トリフルオロメチル)フェニル、2−カル
ボキシメチルフェニル、3−カルボキシメチルフェニル
、4−カルボキシメチルフェニル、2.4−ジカルボキ
シメチルフェニル、2−エトキシカルボニルメチルフェ
ニル、3−エトキシカルボニルメチルフェニル、4−エ
トキシカルボニルメチルフェニル、2.4−ジェトキシ
カルボニルメチルフェニル、2.4.6−ドリエトキシ
カルボニルメチルフエニル、2−メトキシフェニル、3
−メトキシフェニル、4−メトキシフェニル、2,4−
ジメトキシフェニル、2,4.6−トリメトキシフェニ
ル、3.4.5−トリメトキシフェニル、2−エトキシ
フェニル、4−エトキシフェニル、2,4−ジェトキシ
フェニル、2,4.6−ドリエトキシフエ二ル、2,4
.6−ドリカルポキシメチルフエニル、2−アセチルフ
ェニル、3−アセチルフェニル、4−アセチルフェニル
、2,4−ジアセチルフェニル、2−(1−カルボキシ
エチル)フェニル、3− (1−カルボキシエチル)フ
ェニル、4−(1−カルボキシエチル)フェニル、2,
4−ジ(1−カルボキシエチル)フェニル、2−(2−
カルボキシエチル)フェニル、3− (2−カルボキシ
エチル)フェニル、4− (2−カルボキシエチル)フ
ェニル、2,4−ジ(2−カルボキシエチル)フェニル
、2−メチルチオフェニル、3−メチルチオフェニル、
4−メチルチオフェニル、2,4−ジメチルチオフェニ
ル、2,4.6−トリメチルチオフェニル、3,4.5
−トリメチルチオフェニル、2−アミノフェニル、3−
アミノフェニル、4−7ミノフエニル、2,4−ジアミ
ノフェニル、2,4.6−トリアミノフェニル、2−フ
ェニルチオフェニル、3−フェニルチオフェニル、4−
フェニルチオフェニル、2−(1−ペンチルチオ)フェ
ニル、3− (1−ペンチルチオ)フェニル、4−(1
−ペンチルチオ)フェニル、2,4−ジ(1−ペンチル
チオ)フェニル、2−メチルフェニル、3−メチルフェ
ニル、4−メチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル
、2.4.6−ドリメチルフエニル、2−(1−ブチル
)フェニル、3− (’l−ブチル)フェニル、4−(
1−ブチル)フェニル、2,4−ジ(1−ブチル)フェ
ニル、2,4.6−トリ(1−ブチル)フェニル、3−
クロロ−2−ヒドロキシフェニル、4−クロロ−2−ヒ
ドロキシフェニル、5−クロロ−2−ヒドロキシフェニ
ル、6−クロロ−2−ヒドロキシフェニル、4−クロロ
−3−ヒドロキシフェニル、5−クロロ−3−ヒドロキ
シフェニル、2−(3−カルボキシプロピルニル、3−
(3−カルボキシプロピル)フェニル、4−(3−カ
ルボキシプロピル 4−ジ(3−カルボキシプロピル)フェニル、2−ヒド
ロキシ−4−カルボキシメチルフェニル、2−ヒドロキ
シ−5−カルボキシメチルフェニル2−ヒドロキシ−6
−カルボキシメチルフェニル、3−ヒドロキシ−5−カ
ルボキシメチルフェニル、2−シアノフェニル、3−シ
アノフェニル、4−シアノフェニル、3,5−ジシアノ
フェニル、2。
ルオロフェニル、2−クロロフェニル、3−クロロフェ
ニル、4−クロロフェニル、2−ブロモフェニル、3−
ブロモフェニル、4−ブロモフェニル、2−ヨードフェ
ニル、3−ヨードフェニル、4−ヨードフェニル、2,
4−ジフルオロフェニル、2,4−ジクロロフェニル、
2,4゜ロートリフルオロフェニル、2,4.6−ドリ
クロロフエニル、2−ヒドロキシフェニル、3−ヒドロ
キシフェニル、4−ヒドロキシフェニル、2゜4−ジヒ
ドロキシフェニル、2,4.6−ドリヒドロキシフエニ
ル、2−トリフルオロメチルフェニル、3−トリフルオ
ロメチルフェニル、4−トリフルオロメチルフェニル、
3,5−ジ(トリフルオロメチル)フェニル、2−カル
ボキシメチルフェニル、3−カルボキシメチルフェニル
、4−カルボキシメチルフェニル、2.4−ジカルボキ
シメチルフェニル、2−エトキシカルボニルメチルフェ
ニル、3−エトキシカルボニルメチルフェニル、4−エ
トキシカルボニルメチルフェニル、2.4−ジェトキシ
カルボニルメチルフェニル、2.4.6−ドリエトキシ
カルボニルメチルフエニル、2−メトキシフェニル、3
−メトキシフェニル、4−メトキシフェニル、2,4−
ジメトキシフェニル、2,4.6−トリメトキシフェニ
ル、3.4.5−トリメトキシフェニル、2−エトキシ
フェニル、4−エトキシフェニル、2,4−ジェトキシ
フェニル、2,4.6−ドリエトキシフエ二ル、2,4
.6−ドリカルポキシメチルフエニル、2−アセチルフ
ェニル、3−アセチルフェニル、4−アセチルフェニル
、2,4−ジアセチルフェニル、2−(1−カルボキシ
エチル)フェニル、3− (1−カルボキシエチル)フ
ェニル、4−(1−カルボキシエチル)フェニル、2,
4−ジ(1−カルボキシエチル)フェニル、2−(2−
カルボキシエチル)フェニル、3− (2−カルボキシ
エチル)フェニル、4− (2−カルボキシエチル)フ
ェニル、2,4−ジ(2−カルボキシエチル)フェニル
、2−メチルチオフェニル、3−メチルチオフェニル、
4−メチルチオフェニル、2,4−ジメチルチオフェニ
ル、2,4.6−トリメチルチオフェニル、3,4.5
−トリメチルチオフェニル、2−アミノフェニル、3−
アミノフェニル、4−7ミノフエニル、2,4−ジアミ
ノフェニル、2,4.6−トリアミノフェニル、2−フ
ェニルチオフェニル、3−フェニルチオフェニル、4−
フェニルチオフェニル、2−(1−ペンチルチオ)フェ
ニル、3− (1−ペンチルチオ)フェニル、4−(1
−ペンチルチオ)フェニル、2,4−ジ(1−ペンチル
チオ)フェニル、2−メチルフェニル、3−メチルフェ
ニル、4−メチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル
、2.4.6−ドリメチルフエニル、2−(1−ブチル
)フェニル、3− (’l−ブチル)フェニル、4−(
1−ブチル)フェニル、2,4−ジ(1−ブチル)フェ
ニル、2,4.6−トリ(1−ブチル)フェニル、3−
クロロ−2−ヒドロキシフェニル、4−クロロ−2−ヒ
ドロキシフェニル、5−クロロ−2−ヒドロキシフェニ
ル、6−クロロ−2−ヒドロキシフェニル、4−クロロ
−3−ヒドロキシフェニル、5−クロロ−3−ヒドロキ
シフェニル、2−(3−カルボキシプロピルニル、3−
(3−カルボキシプロピル)フェニル、4−(3−カ
ルボキシプロピル 4−ジ(3−カルボキシプロピル)フェニル、2−ヒド
ロキシ−4−カルボキシメチルフェニル、2−ヒドロキ
シ−5−カルボキシメチルフェニル2−ヒドロキシ−6
−カルボキシメチルフェニル、3−ヒドロキシ−5−カ
ルボキシメチルフェニル、2−シアノフェニル、3−シ
アノフェニル、4−シアノフェニル、3,5−ジシアノ
フェニル、2。
4、6−ドリシアノフエニル、2−ヒドロキシメチルフ
ェニル、3−ヒドロキシメチルフェニル、4−ヒドロキ
シメチルフェニル、2,6ージくヒドロキシメチル)フ
ェニル、2,4.6−トリ(ヒドロキシメチル)フェニ
ル、2− (2−ヒドロキシエチル)フェニル、3−
(2−ヒドロキシエチル)フェニル、4−(2−ヒドロ
キシエチル)フェニル、3,5−ジ(2−ヒドロキシエ
チル)フェニル、2−(1−ヒドロキシエチル)フェニ
ル、3−(1−ヒドロキシエチル)フェニル、4−(1
−ヒドロキシエチル)フェニル、2.4−ジ(1−ヒド
ロキシエチル)フェニル、2,4゜6−トリ(1−ヒド
ロキシエチル)フェニル、2−(3−ヒドロキシプロピ
ル)フェニル、3−(3−ヒドロキシプロピル)フェニ
ル、4−(3−ヒドロキシプロピル)フェニル、3,5
−ジ(3−ヒドロキシプロピル)フェニル、2.4−ジ
(3−ヒドロキシプロピル)フェニル、2−(4−ヒド
ロキシブチル)フェニル、3− (4−ヒドロキシブチ
ル)フェニル、4− (4−ヒドロキシブチル)フェニ
ル、2,4−ジ(4−ヒドロキシブチル)フェニル、2
−(1−ヒドロキシイソプロピル)フェニル、3−(1
−ヒドロキシイソプロピル)フェニル、4−(1−ヒド
ロキシイソプロピル)フェニル、2,6−ジ(1−ヒド
ロキシイソプロピル)フェニル、2−クロロ−6−ヒド
ロキシメチルフェニル、3−クロロ−6−ヒドロキシメ
チルフェニル、4−クロロ−6−ヒドロキシメチルフェ
ニル、2−クロロ−4−ヒドロキシメチルフェニル、2
−クロロ−5−ヒドロキシメチルフェニル、2−ヒドロ
キシ−4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル、2−ヒ
ドロキシ−5−(2−ヒドロキシエチル)フェニル、2
−ヒドロキシ−6−(2−ヒドロキシエチル)フェニル
、3−ヒドロキシ−5−(2−ヒドロキシエチル)フェ
ニル、6−メチル−2−(ヒドロキシメチル)フェニル
、5−メチル−2−(ヒドロキシメチル)フェニル、4
−メヂルー2−(ヒドロキシメチル)フェニル、2−メ
チル−4−(ヒドロキシメチル)フェニル基等。
ェニル、3−ヒドロキシメチルフェニル、4−ヒドロキ
シメチルフェニル、2,6ージくヒドロキシメチル)フ
ェニル、2,4.6−トリ(ヒドロキシメチル)フェニ
ル、2− (2−ヒドロキシエチル)フェニル、3−
(2−ヒドロキシエチル)フェニル、4−(2−ヒドロ
キシエチル)フェニル、3,5−ジ(2−ヒドロキシエ
チル)フェニル、2−(1−ヒドロキシエチル)フェニ
ル、3−(1−ヒドロキシエチル)フェニル、4−(1
−ヒドロキシエチル)フェニル、2.4−ジ(1−ヒド
ロキシエチル)フェニル、2,4゜6−トリ(1−ヒド
ロキシエチル)フェニル、2−(3−ヒドロキシプロピ
ル)フェニル、3−(3−ヒドロキシプロピル)フェニ
ル、4−(3−ヒドロキシプロピル)フェニル、3,5
−ジ(3−ヒドロキシプロピル)フェニル、2.4−ジ
(3−ヒドロキシプロピル)フェニル、2−(4−ヒド
ロキシブチル)フェニル、3− (4−ヒドロキシブチ
ル)フェニル、4− (4−ヒドロキシブチル)フェニ
ル、2,4−ジ(4−ヒドロキシブチル)フェニル、2
−(1−ヒドロキシイソプロピル)フェニル、3−(1
−ヒドロキシイソプロピル)フェニル、4−(1−ヒド
ロキシイソプロピル)フェニル、2,6−ジ(1−ヒド
ロキシイソプロピル)フェニル、2−クロロ−6−ヒド
ロキシメチルフェニル、3−クロロ−6−ヒドロキシメ
チルフェニル、4−クロロ−6−ヒドロキシメチルフェ
ニル、2−クロロ−4−ヒドロキシメチルフェニル、2
−クロロ−5−ヒドロキシメチルフェニル、2−ヒドロ
キシ−4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル、2−ヒ
ドロキシ−5−(2−ヒドロキシエチル)フェニル、2
−ヒドロキシ−6−(2−ヒドロキシエチル)フェニル
、3−ヒドロキシ−5−(2−ヒドロキシエチル)フェ
ニル、6−メチル−2−(ヒドロキシメチル)フェニル
、5−メチル−2−(ヒドロキシメチル)フェニル、4
−メヂルー2−(ヒドロキシメチル)フェニル、2−メ
チル−4−(ヒドロキシメチル)フェニル基等。
本発明化合物は、例えば下記各反応工程式に示す方法に
より製造することができる。
より製造することができる。
く反応工程式−1〉
R2R2
R3R3
〔式中R1a、R2及びR3は前記に同じ。〕上記反応
工程式−1に示す縮合反応は、例えば塩化アルミニウム
、塩化第二鉄、四塩化チタン、塩化第二錫、塩化亜鉛等
のハロゲン化物系ルイス酸の存在下に、ベンゾキノン誘
導体(3)と、脱散剤を兼ねたアニリン誘導体(4)と
を、不活性有機溶媒、例えば1,2−ジクロロエタン、
クロロホルム、トルエン、ベンゼン等の溶媒中で、室温
〜約120℃の温度で反応させることにより実施される
。上記反応系には又脱散剤として例えばピリジン、トリ
エチルアミン等の不活性有機塩基を添加使用することも
できる。ベンゾキノン誘導体(3)とアニリン誘導体(
4)との使用割合は、特に制限はないが、通常前者に対
して後者を約1〜10倍モル量、好ましくは約1〜3倍
モル量使用するのが望ましい。
工程式−1に示す縮合反応は、例えば塩化アルミニウム
、塩化第二鉄、四塩化チタン、塩化第二錫、塩化亜鉛等
のハロゲン化物系ルイス酸の存在下に、ベンゾキノン誘
導体(3)と、脱散剤を兼ねたアニリン誘導体(4)と
を、不活性有機溶媒、例えば1,2−ジクロロエタン、
クロロホルム、トルエン、ベンゼン等の溶媒中で、室温
〜約120℃の温度で反応させることにより実施される
。上記反応系には又脱散剤として例えばピリジン、トリ
エチルアミン等の不活性有機塩基を添加使用することも
できる。ベンゾキノン誘導体(3)とアニリン誘導体(
4)との使用割合は、特に制限はないが、通常前者に対
して後者を約1〜10倍モル量、好ましくは約1〜3倍
モル量使用するのが望ましい。
尚、上記において四塩化チタンを利用する反応は、例え
ばジャーナル オブ オーガニック ケミストリー[J
、、 Org、 Chem、、 32.3246(19
76)]に記載のエイチ・ワインガルテン(H,wer
ngarten )らの方法に準じて実施テキる。
ばジャーナル オブ オーガニック ケミストリー[J
、、 Org、 Chem、、 32.3246(19
76)]に記載のエイチ・ワインガルテン(H,wer
ngarten )らの方法に準じて実施テキる。
また上記縮合反応は、公知の方法例えば、ニー・ライカ
ー(A、Re1ker )及びエイチ・ケスラー(H,
Kessler)によるテトラヘドロン(Tetrah
edron) 、第23巻、3723頁(1967年)
に記載の方法やジエー・フイグエラスら(J、 Fi(
IueraS et al )によるジャーナル オブ
オーガニック ケミストリー(J、0rtJ。
ー(A、Re1ker )及びエイチ・ケスラー(H,
Kessler)によるテトラヘドロン(Tetrah
edron) 、第23巻、3723頁(1967年)
に記載の方法やジエー・フイグエラスら(J、 Fi(
IueraS et al )によるジャーナル オブ
オーガニック ケミストリー(J、0rtJ。
Chem 、 ) 、 36.3497 (1971)
ニ記載の方法に準じて実施できる。より詳細には上記
縮合反応は、酢酸、三弗化硼素エチルエーテル[(C2
Hs )20・BF31等を触媒として、化合物(3)
に対して化合物(4)を1〜5倍モル量使用し、無溶媒
もしくは例えばテトラヒドロフラン(TI−(F)、エ
チルエーテル、ジオキサン、クロロホルム、1,2−ジ
クロロエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の適当
な溶媒中、約30〜200℃の温度範囲で実施される。
ニ記載の方法に準じて実施できる。より詳細には上記
縮合反応は、酢酸、三弗化硼素エチルエーテル[(C2
Hs )20・BF31等を触媒として、化合物(3)
に対して化合物(4)を1〜5倍モル量使用し、無溶媒
もしくは例えばテトラヒドロフラン(TI−(F)、エ
チルエーテル、ジオキサン、クロロホルム、1,2−ジ
クロロエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の適当
な溶媒中、約30〜200℃の温度範囲で実施される。
上記により得られる化合物(5)は、これを反応系内よ
り単離することなく、引続く還元反応に供することがで
きるが、勿論単離してもよい。
り単離することなく、引続く還元反応に供することがで
きるが、勿論単離してもよい。
還元反応は、通常の方法に従い、例えば上記反応生成物
をTHF中に移し、2〜50倍モル最のへイドロサルフ
ァイトナトリウム (Na2 S204 >水溶液を添加することにより、
実施できる。また上記還元反応は、化合物(5)の有す
るR1a基の置換基の種類に応じて、例えば酢酸中で亜
鉛末を用いる方法、酢酸エチル、アルコール、THF、
水等の溶媒中でパラジウム−炭素や二酸化白金を触媒と
して接触水添する方法、THFと水との混合物中、水素
化硼素ブ用・リウム(NaBHa >を用いる方法等に
よっても添加することができる。
をTHF中に移し、2〜50倍モル最のへイドロサルフ
ァイトナトリウム (Na2 S204 >水溶液を添加することにより、
実施できる。また上記還元反応は、化合物(5)の有す
るR1a基の置換基の種類に応じて、例えば酢酸中で亜
鉛末を用いる方法、酢酸エチル、アルコール、THF、
水等の溶媒中でパラジウム−炭素や二酸化白金を触媒と
して接触水添する方法、THFと水との混合物中、水素
化硼素ブ用・リウム(NaBHa >を用いる方法等に
よっても添加することができる。
更に本発明化合物(1)においてRlaがヒドロキシC
+ Ceアルキル基を有するフェニル基でおる化合物
は、上記方法に従い得られるRlaがカルボキシC+
Ceアルキル基を有するフェニル基又はC+ Os
アルコキシカルボニルC+−C6アルキル基を有するフ
ェニル基でおる化合物(1)を、例えばエチルエーテル
、THE等の適当な溶媒中、約1〜7倍モル量の水素化
リチウムアルミニウム(LtAQHz>で還元するか、
或はRlaがC1Csアシル基を有するフェニル基であ
る化合物(1)を、例えばメタノール、エタノール、イ
ソプロパツール及びこれ等とTHF。
+ Ceアルキル基を有するフェニル基でおる化合物
は、上記方法に従い得られるRlaがカルボキシC+
Ceアルキル基を有するフェニル基又はC+ Os
アルコキシカルボニルC+−C6アルキル基を有するフ
ェニル基でおる化合物(1)を、例えばエチルエーテル
、THE等の適当な溶媒中、約1〜7倍モル量の水素化
リチウムアルミニウム(LtAQHz>で還元するか、
或はRlaがC1Csアシル基を有するフェニル基であ
る化合物(1)を、例えばメタノール、エタノール、イ
ソプロパツール及びこれ等とTHF。
ジオキサン等との混合溶媒等の適当な溶媒中、約1.5
〜5倍モル量のNaBH4で還元することによっても収
得することができる。
〜5倍モル量のNaBH4で還元することによっても収
得することができる。
また、ベンゾキノン誘導体(3)に代えて、一般式
%式%
[式中、R4、R5及びR6は前記と同一の意味を有す
る。] で表わされる化合物を用い、更にアニリン誘導体(4)
に代えて、一般式 [式中、Aaは前記と同一の意味を有ターる。]で表わ
されるアミンを用いる以外は、上記と同様にして、前記
一般式(2)の本発明化合物を製造できる。
る。] で表わされる化合物を用い、更にアニリン誘導体(4)
に代えて、一般式 [式中、Aaは前記と同一の意味を有ターる。]で表わ
されるアミンを用いる以外は、上記と同様にして、前記
一般式(2)の本発明化合物を製造できる。
尚、上記反応において、原料であるベンゾキノン誘導体
(3)及び(6)並びにアニリン誘導体(4)及びアミ
ン(7)は、いずれも公知であるか又は公知方法に従い
′fA造できる。
(3)及び(6)並びにアニリン誘導体(4)及びアミ
ン(7)は、いずれも公知であるか又は公知方法に従い
′fA造できる。
〈反応工程式−2〉
(2a ) エステル化反
応R5R8 (2b) 〔式中R4、R5及びR6は前記に同じ。Bは−NHR
7(式中R7は前記に同じ)、カルボキシC+ Cs
アルキル基、カルボキシル基、カルボキシ置換C2C6
アルケニル基を示す。Cは−NR7R基(R7は前記に
同じ。R8bは置換b 基としてIC+ 06アルキル基を有することのある
ベンゾイル基、置換基としてCI Csアルコキシカ
ルボニル基を有することのあるCI Csアシル基、
C1Csアルキルスルホニル基又はフェニルスルホニル
基を示す。)、CI Csアルコキシカルボニル基、
フェニルCI Ceアルキルカルバモイル基、C1−C
12アルキルカルバモイル基、C3C8シクロアルキル
カルバモイル基、置換基としてCI Csアルキルカ
ルバモイル、CI Csアルコキシカルボニル及び0
3 08シクロアルキルカルバモイルばれた基を有する
C2 CSアルケニル基、置換基としてC3 C8
シクロアルキルカルバモイル、CI Osアルキルカ
ルバモイル ルコキシカルボニル、フェニルC+ Csアルキルカ
ルバモイル、ピペリジノカルボニル、モルホリノカルボ
ニル及びヒドラジノカルボニル基から選ばれた基を有す
るCI 06アルキル基を示す。
応R5R8 (2b) 〔式中R4、R5及びR6は前記に同じ。Bは−NHR
7(式中R7は前記に同じ)、カルボキシC+ Cs
アルキル基、カルボキシル基、カルボキシ置換C2C6
アルケニル基を示す。Cは−NR7R基(R7は前記に
同じ。R8bは置換b 基としてIC+ 06アルキル基を有することのある
ベンゾイル基、置換基としてCI Csアルコキシカ
ルボニル基を有することのあるCI Csアシル基、
C1Csアルキルスルホニル基又はフェニルスルホニル
基を示す。)、CI Csアルコキシカルボニル基、
フェニルCI Ceアルキルカルバモイル基、C1−C
12アルキルカルバモイル基、C3C8シクロアルキル
カルバモイル基、置換基としてCI Csアルキルカ
ルバモイル、CI Csアルコキシカルボニル及び0
3 08シクロアルキルカルバモイルばれた基を有する
C2 CSアルケニル基、置換基としてC3 C8
シクロアルキルカルバモイル、CI Osアルキルカ
ルバモイル ルコキシカルボニル、フェニルC+ Csアルキルカ
ルバモイル、ピペリジノカルボニル、モルホリノカルボ
ニル及びヒドラジノカルボニル基から選ばれた基を有す
るCI 06アルキル基を示す。
但し、R6が水素原子のとき、Cは、CI C6アル
コキシカルボニルC1 Csアルキル基であってはなら
ない。] 反応工程式−2によれば、化合物(2a)のアシル化、
アミド化、スルホニル化又はエステル化反応により化合
物(2b)を収得できる。
コキシカルボニルC1 Csアルキル基であってはなら
ない。] 反応工程式−2によれば、化合物(2a)のアシル化、
アミド化、スルホニル化又はエステル化反応により化合
物(2b)を収得できる。
上記アシル化及びスルホニル化反応は、基Bがアミン基
である化合物(2a)について行なわれるものである。
である化合物(2a)について行なわれるものである。
アシル化により、一般式(2b)の化合物であって、基
Cが基−NR7R8b(式中、R7は前記に同じであり
、R8bは置換基としてCI Csアルキル基を有す
ることのおるベンゾイル基又は置換基としてC+’Cs
アルコキシカルボニル基を有することのある01 Cs
アシル基を示す。)を示す化合物を得ることができる。
Cが基−NR7R8b(式中、R7は前記に同じであり
、R8bは置換基としてCI Csアルキル基を有す
ることのおるベンゾイル基又は置換基としてC+’Cs
アルコキシカルボニル基を有することのある01 Cs
アシル基を示す。)を示す化合物を得ることができる。
またスルホニル化により、一般式(2b)の化合物でお
って、基Cが基−NR7R8b(式中、R7は前記に同
じであり、R8bがCI Csアルキルスルホニル基
又はフェニルスルホニル基を示す。)を示す化合物を1
qることができる。上記アシル化反応及びスルホニル化
反応は各々以下の如くして実施される。
って、基Cが基−NR7R8b(式中、R7は前記に同
じであり、R8bがCI Csアルキルスルホニル基
又はフェニルスルホニル基を示す。)を示す化合物を1
qることができる。上記アシル化反応及びスルホニル化
反応は各々以下の如くして実施される。
即ち、アシル化反応は、適当なアシル化剤を用いて、不
活性溶媒中で実施される。アシル化剤としては、例えば
アセチルクロライド、アセチルブロマイド、プロピオニ
ルクロライド、ブチリルクロライド、イソバレリルクロ
ライド、バレリルクロライド、イソバレリルクロライド
、ピバロイルクロライド、ヘプタノイルクロライド等の
CI −CBアシルハライド:モノエチルマロン酸クロ
ライド、モノメチルマロン酸クロライド、モノメチルコ
ハク酸クロライド、モノプロピルゲルタール酸クロライ
ド、モノエチルアジピン酸クロライド、モノメチルスペ
リン酸クロライド等のCI Ceアルコキシカルボニ
ルC+ Csアシルハライド;C1−06アルキル基
で置換されていてもよいベンゾイルクロライド等を使用
できる。不活性溶媒としては、THF1エチルエーテル
、クロロホルム、ジクロロメタン、N,N−ジメチルホ
ルムアミド(DMF) 、N、N−ジメチルアセトアミ
ド(DMA)等を使用できる。アシル化反応は、例えば
トリエチルアミン、ピリジン、コリジン等の適当な塩基
の存在下に、一般に約−20℃〜30℃の温度範囲で良
好に進行する。アシル化剤の原料化合物に対する使用割
合は、適宜決定できるが、通常約1〜3倍モル量、好ま
しくは約1〜1.1倍モル量の範囲から選択されるのが
適当である。
活性溶媒中で実施される。アシル化剤としては、例えば
アセチルクロライド、アセチルブロマイド、プロピオニ
ルクロライド、ブチリルクロライド、イソバレリルクロ
ライド、バレリルクロライド、イソバレリルクロライド
、ピバロイルクロライド、ヘプタノイルクロライド等の
CI −CBアシルハライド:モノエチルマロン酸クロ
ライド、モノメチルマロン酸クロライド、モノメチルコ
ハク酸クロライド、モノプロピルゲルタール酸クロライ
ド、モノエチルアジピン酸クロライド、モノメチルスペ
リン酸クロライド等のCI Ceアルコキシカルボニ
ルC+ Csアシルハライド;C1−06アルキル基
で置換されていてもよいベンゾイルクロライド等を使用
できる。不活性溶媒としては、THF1エチルエーテル
、クロロホルム、ジクロロメタン、N,N−ジメチルホ
ルムアミド(DMF) 、N、N−ジメチルアセトアミ
ド(DMA)等を使用できる。アシル化反応は、例えば
トリエチルアミン、ピリジン、コリジン等の適当な塩基
の存在下に、一般に約−20℃〜30℃の温度範囲で良
好に進行する。アシル化剤の原料化合物に対する使用割
合は、適宜決定できるが、通常約1〜3倍モル量、好ま
しくは約1〜1.1倍モル量の範囲から選択されるのが
適当である。
スルホニル化反応は、適当なスルホニル化剤を利用して
、上記アシル化反応と同様にして、同様の不活性有機溶
媒中、塩基の存在下に実施することができる。ここで用
いられるスルホニル化剤としては、例えばメタンスルホ
ニルクロライド、エタンスルホニルクロライド、ブタン
スルホニルクロライド、ヘキサンスルホニルクロライド
等のC+ Csアルカンスルホニルハライドンスルホ
ニルクロライド、ベンゼンスルホニルブロマイド等のベ
ンゼンスルホニルハライド等を例示できる。
、上記アシル化反応と同様にして、同様の不活性有機溶
媒中、塩基の存在下に実施することができる。ここで用
いられるスルホニル化剤としては、例えばメタンスルホ
ニルクロライド、エタンスルホニルクロライド、ブタン
スルホニルクロライド、ヘキサンスルホニルクロライド
等のC+ Csアルカンスルホニルハライドンスルホ
ニルクロライド、ベンゼンスルホニルブロマイド等のベ
ンゼンスルホニルハライド等を例示できる。
また、上記反応工程式−2に示すアミド化反応は、基B
がカルボキシル基、カルボキシCIー〇6アルキル基、
カルボキシ02 C6アルケニル基である化合物(2
a)について実施されるものである。このアミド化反応
により、IBがカルボキシル基である場合、一般式(2
b)において、基CがフェニルCt Csアルキルカ
ルバモイル基、C+ C+2アルキルカルバモイル基
又は03 CBシクロアルキルカルバモイル基を示す
化合物が得られる。基BがカルボキシC+ Csアル
キル基である場合、一般式(2b)において基Cが置換
基としてC3 C8シクロアルキルカルバモイル、C
1 Csアルキルカルバモイル、フェニルC1−C6ア
ルキルカルバモイルリジノカルボニル、モルホリノカル
ボニル及びヒドラジノカルボニル基から選ばれた基を有
するC+ Ceアルキル基を示す化合つを得ることが
できる。また、基BがカルボキシC2 C6アルケニ
ル基でおる場合、一般式(2b)において基Cが置換基
としてC1 Csアルキルカルバモイル基又は03
08シクロアルキルカルバモイル基を有するC2 C
eアルケニル基を示す化合物を得ることができる。
がカルボキシル基、カルボキシCIー〇6アルキル基、
カルボキシ02 C6アルケニル基である化合物(2
a)について実施されるものである。このアミド化反応
により、IBがカルボキシル基である場合、一般式(2
b)において、基CがフェニルCt Csアルキルカ
ルバモイル基、C+ C+2アルキルカルバモイル基
又は03 CBシクロアルキルカルバモイル基を示す
化合物が得られる。基BがカルボキシC+ Csアル
キル基である場合、一般式(2b)において基Cが置換
基としてC3 C8シクロアルキルカルバモイル、C
1 Csアルキルカルバモイル、フェニルC1−C6ア
ルキルカルバモイルリジノカルボニル、モルホリノカル
ボニル及びヒドラジノカルボニル基から選ばれた基を有
するC+ Ceアルキル基を示す化合つを得ることが
できる。また、基BがカルボキシC2 C6アルケニ
ル基でおる場合、一般式(2b)において基Cが置換基
としてC1 Csアルキルカルバモイル基又は03
08シクロアルキルカルバモイル基を有するC2 C
eアルケニル基を示す化合物を得ることができる。
上記アミド化反応は、通常のアミド結合形成反応、例え
ば酸ハライド法、混合酸無水物法、活性エステル法、N
,N’−ジシクロへキシルカルボジイミド(DCC>法
、アジド法、シアノリン酸ジエチル(DEPC>法等に
従い実施することができる。シアノリン酸ジエチル法に
つき詳述すれば、該方法は、例えばDMF,THF、酢
酸エチル等の適当な溶媒中、化合物(2a)に対して約
1〜1.5倍モル量の対応するアミン類、例えばCI
C12アルキルアミン、フェニルC+−06アルキル
アミン、C3 C8シクロアルキルアミン、ヒドラジ
ン、モルホリン、ピペリジン等を用い、約1〜1.2倍
モル量のシアノリン酸ジエチル及び約1〜5倍モル量の
有機アミン、例えばトリエチルアミン、ピリジン等を用
いて行なわれる。該反応は、通常的O〜30℃にて約2
〜20時間撹拌することにより実施できる。
ば酸ハライド法、混合酸無水物法、活性エステル法、N
,N’−ジシクロへキシルカルボジイミド(DCC>法
、アジド法、シアノリン酸ジエチル(DEPC>法等に
従い実施することができる。シアノリン酸ジエチル法に
つき詳述すれば、該方法は、例えばDMF,THF、酢
酸エチル等の適当な溶媒中、化合物(2a)に対して約
1〜1.5倍モル量の対応するアミン類、例えばCI
C12アルキルアミン、フェニルC+−06アルキル
アミン、C3 C8シクロアルキルアミン、ヒドラジ
ン、モルホリン、ピペリジン等を用い、約1〜1.2倍
モル量のシアノリン酸ジエチル及び約1〜5倍モル量の
有機アミン、例えばトリエチルアミン、ピリジン等を用
いて行なわれる。該反応は、通常的O〜30℃にて約2
〜20時間撹拌することにより実施できる。
なお、基Cがヒドラジノカルボニル基を有するC+
Ceアルキル基である化合物(2b)は、基BがC+
CsアルコキシカルボニルC+−C6アルキル基であ
る化合物(2a)と、ヒドラジン水和物とを反応させる
ことによっても収1qすることができる。該反応は、よ
り詳しくは通常エタノール、メタノール、tert−ブ
タノール等のアルコール溶媒中で、約50〜300倍モ
ル量のヒドラジン水和物を用いて、約1〜20時間、溶
媒の沸点温度に加熱することにより行なわれる。
Ceアルキル基である化合物(2b)は、基BがC+
CsアルコキシカルボニルC+−C6アルキル基であ
る化合物(2a)と、ヒドラジン水和物とを反応させる
ことによっても収1qすることができる。該反応は、よ
り詳しくは通常エタノール、メタノール、tert−ブ
タノール等のアルコール溶媒中で、約50〜300倍モ
ル量のヒドラジン水和物を用いて、約1〜20時間、溶
媒の沸点温度に加熱することにより行なわれる。
さらに、反応工程式−2に示す化合物(2a)のエステ
ル化反応は、基Bがカルボキシル基、カルボキシCI
Csアルキル基及びカルボキシC2Csアルケニル基で
ある化合物について実施される。このエステル化反応に
より、基Bがカルボキシル基である場合、一般式(2b
)において基CがC+ Csアルコキシカルボニル基
を示す化合物が得られ、基BがカルボキシCI CG
アルキル基の場合、一般式(2b)において基Cが置換
基としてC+ Csアルコキシカルボニル基を有する
CI C6アルキル基を示す化合物(但し、R6は水
素原子ではない)が得られる。
ル化反応は、基Bがカルボキシル基、カルボキシCI
Csアルキル基及びカルボキシC2Csアルケニル基で
ある化合物について実施される。このエステル化反応に
より、基Bがカルボキシル基である場合、一般式(2b
)において基CがC+ Csアルコキシカルボニル基
を示す化合物が得られ、基BがカルボキシCI CG
アルキル基の場合、一般式(2b)において基Cが置換
基としてC+ Csアルコキシカルボニル基を有する
CI C6アルキル基を示す化合物(但し、R6は水
素原子ではない)が得られる。
また、基BがカルボキシC2Ceアルケニル基である場
合、一般式(2b)において、基Cが置換基としてC1
0sアルコキシカルボニル基を有するC2 Csアル
ケニル基を示す化合物が得られる。
合、一般式(2b)において、基Cが置換基としてC1
0sアルコキシカルボニル基を有するC2 Csアル
ケニル基を示す化合物が得られる。
該エステル化反応は、通常の方法、例えば塩酸、硫酸、
p−トルエンスルホン酸、 (C2Hs )20−BF3等の酸触媒の存在下に、化
合物(2a)を01 Csアルコールと共に加熱して反
応させる方法や化合物(2a)に対して約1〜10倍モ
ル量の塩基性化合物、例えばピリジン、トリエチルアミ
ン、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム
等の存在下に、不活性溶媒、例えばDMF、ヘキサメチ
ルリン酸トリアミド(HMPA) 、ジメヂルスルホキ
シド(DMSO> 、ピリジン、クロロホルム、ジクロ
ロメタン、THF、酢酸エチル、ベンゼン、トルエン等
の溶媒中で、C1−06アルキルハライドの約1〉10
倍モル量[対化合物(2a)]を反応させる方法等によ
り実施できる。
p−トルエンスルホン酸、 (C2Hs )20−BF3等の酸触媒の存在下に、化
合物(2a)を01 Csアルコールと共に加熱して反
応させる方法や化合物(2a)に対して約1〜10倍モ
ル量の塩基性化合物、例えばピリジン、トリエチルアミ
ン、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム
等の存在下に、不活性溶媒、例えばDMF、ヘキサメチ
ルリン酸トリアミド(HMPA) 、ジメヂルスルホキ
シド(DMSO> 、ピリジン、クロロホルム、ジクロ
ロメタン、THF、酢酸エチル、ベンゼン、トルエン等
の溶媒中で、C1−06アルキルハライドの約1〉10
倍モル量[対化合物(2a)]を反応させる方法等によ
り実施できる。
尚、一般式(2a)において、Bがカルボキシ ゛ル基
、−Nl−IR7基、カルボキシCt−06アルキル基
、カルボキシC2C6アルケニル基である化合物は、前
記反応工程式−1に示した方法に準じて製造することが
できる。
、−Nl−IR7基、カルボキシCt−06アルキル基
、カルボキシC2C6アルケニル基である化合物は、前
記反応工程式−1に示した方法に準じて製造することが
できる。
く反応工程式−3〉
R5R+3
(2G)
5 Re
(2d)
〔式中R4、R5及びR6は前記に同じ。Dは−NR7
R”基(R7は前記に同じ。R80はC+ Csアシ
ル基又はベンゾイル基を示す)を示す。Eは−NR7R
8d基(R7は前記に同d じ。RはCI CBアルキル基又はベンジル基を示す
)を示す。〕 上記反応工程式−3に示す方法によれば、化合物(2C
)の還元反応により、化合物(2d)を収得できる。該
還元反応は、例えばエチルエーテル、TI−IF等の不
活性溶媒中、LiAQH4を用いて好適に実施できる。
R”基(R7は前記に同じ。R80はC+ Csアシ
ル基又はベンゾイル基を示す)を示す。Eは−NR7R
8d基(R7は前記に同d じ。RはCI CBアルキル基又はベンジル基を示す
)を示す。〕 上記反応工程式−3に示す方法によれば、化合物(2C
)の還元反応により、化合物(2d)を収得できる。該
還元反応は、例えばエチルエーテル、TI−IF等の不
活性溶媒中、LiAQH4を用いて好適に実施できる。
上記LiAQH4の量は、通常化合物(2C)に対して
約1〜10倍モル量の範囲とするのがよく、反応は一般
に約O℃付近−溶媒の沸点範囲の温度条件下に進行する
。
約1〜10倍モル量の範囲とするのがよく、反応は一般
に約O℃付近−溶媒の沸点範囲の温度条件下に進行する
。
また、一般式(1)及び(2)において、ベンゼン環上
の置換基としてカルボキシCI C6アルキル基又は
カルボキシル基を有する化合物は、出発原料として対応
する適当なエステル化合物、例えばC+ Ceアルコ
キシカルボニルCt −C6アルキル基、CI Ceア
ルコキシカルボニル基等をベンゼン環上に有する化合物
を加水分解反応に供することにより得ることができる。
の置換基としてカルボキシCI C6アルキル基又は
カルボキシル基を有する化合物は、出発原料として対応
する適当なエステル化合物、例えばC+ Ceアルコ
キシカルボニルCt −C6アルキル基、CI Ceア
ルコキシカルボニル基等をベンゼン環上に有する化合物
を加水分解反応に供することにより得ることができる。
この加水分解反応は、通常の加水分解反応の条件を広く
適用でき、例えば、イー・エル・エリール(E。
適用でき、例えば、イー・エル・エリール(E。
1、Eliel)らの方法[Organic 3yn
theses 。
theses 。
IV、 169 (1963) ]に準じて実施できる
。
。
即ち、無溶媒又は酢酸等の適当な溶媒中、出発原料のエ
ステル化合物に塩酸、臭化水素酸等の適当な酸を、室温
〜約120℃の温度で作用させることにより、ベンゼン
環上の置換基としてカルボキシC+ Csアルキル基
又はカルボキシル基を有する化合物を得ることができる
。上記エステル化合物に対する使用割合は、特に限定は
ないが、通常、触媒量〜約10倍モル量とするのが好ま
しい。
ステル化合物に塩酸、臭化水素酸等の適当な酸を、室温
〜約120℃の温度で作用させることにより、ベンゼン
環上の置換基としてカルボキシC+ Csアルキル基
又はカルボキシル基を有する化合物を得ることができる
。上記エステル化合物に対する使用割合は、特に限定は
ないが、通常、触媒量〜約10倍モル量とするのが好ま
しい。
上記各反応工程式に示す反応により得られる本発明化合
物は、慣用の分離手段により容易に単離精製するこ、と
ができる。該分離手段としては、例えば溶媒抽出法、再
結晶法、カラムクロマトグラフィー等を例示できる。
物は、慣用の分離手段により容易に単離精製するこ、と
ができる。該分離手段としては、例えば溶媒抽出法、再
結晶法、カラムクロマトグラフィー等を例示できる。
またかくして得られる本発明化合物は、これに常法に従
い適当な酸性化合物を付加反応させることにより、容易
に医薬的に許容される酸付加塩とすることができ、該酸
付加塩は遊離形態の本発明化合物と同様の薬理活性を有
しており、本発明はかかる酸付加塩をも包含する。上記
酸付加塩を形成する酸性化合物としては、例えば塩酸、
硫酸、リン酸、臭化水素酸等の無Ij!酸及びマレイン
酸、フマール酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、安息香
酸、ベンゼンスルホン酸等の有機酸を例示できる。更に
本発明化合物中、@離のカルボキシル基を有するものは
、これを常法に従いアルカリ金属塩、例えばナトリウム
塩、カリウム塩等、アルカリ土類金属塩、例えばカルシ
ウム塩、マグネシウム塩等、その他銅塩等とすることが
でき、これらも遊離形態の本発明化合物と同様の薬理活
性を有しており、本発明範囲内に包含される。
い適当な酸性化合物を付加反応させることにより、容易
に医薬的に許容される酸付加塩とすることができ、該酸
付加塩は遊離形態の本発明化合物と同様の薬理活性を有
しており、本発明はかかる酸付加塩をも包含する。上記
酸付加塩を形成する酸性化合物としては、例えば塩酸、
硫酸、リン酸、臭化水素酸等の無Ij!酸及びマレイン
酸、フマール酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、安息香
酸、ベンゼンスルホン酸等の有機酸を例示できる。更に
本発明化合物中、@離のカルボキシル基を有するものは
、これを常法に従いアルカリ金属塩、例えばナトリウム
塩、カリウム塩等、アルカリ土類金属塩、例えばカルシ
ウム塩、マグネシウム塩等、その他銅塩等とすることが
でき、これらも遊離形態の本発明化合物と同様の薬理活
性を有しており、本発明範囲内に包含される。
本発明化合物は、通常、一般的な医薬製剤の形態で用い
られる。製剤は通常使用される充填剤、増量剤、結合剤
、保湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤等の希釈剤ある
いは賦形剤を用いて調製される。この医薬製剤としては
各種の形態が治療目的に応じて選択でき、その代表的な
ものとして錠剤、荒削、散剤、液剤、懸濁剤、乳剤1、
顆粒剤、カプセル剤、坐剤、注射剤(液剤、懸濁剤等)
、軟膏剤等が挙げられる。錠剤の形態に成形するに際し
ては、担体としてこの分野で従来公知のものを広く使用
でき、例えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、
尿素、デンプン、炭酸カルシウム、カオリン、結晶セル
ロース、ケイ酸等の賦形剤、水、エタノール、プロパツ
ール、単シロップ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼラチン
溶液、カルボキシメチルセルロース、セラック、メチル
セルロース、リン酸カリウム、ポリビニルピロリドン等
の結合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナトリウム、カン
テン末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭酸カル
シウム、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル
類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノグリセ
リド、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステアリン、
カカオバター、水素添加油等の崩壊抑制剤、第4級アン
モニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収促進剤
、グリセリン、デンプン等の保湿剤、デンプン、乳糖、
カオリン、ベントナイト、コロイド状ケイ酸等の吸着剤
、精製タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸末、ポリエチレ
ングリコール等の滑沢剤等を使用できる。ざらに錠剤は
必要に応じ通常の剤皮を施した錠剤、例えば糖衣錠、ゼ
ラチン被包錠、腸溶被錠、フィルムコーティング錠ある
いは二重錠、多層錠とすることができる。荒削の形態に
成形するに際しては、担体としてこの分野で従来公知の
ものを広く使用でき、例えばブドウ糖、乳糖、デンプン
、カカオ脂、硬化植物油、カオリン、タルク等の賦形剤
、アラビアゴム末、トラガント末、ゼラチン、エタノー
ル等の結合剤、ラミナラン、カンテン等の崩壊剤等を使
用できる。坐剤′の形態に成形するに際しては、担体と
して従来公知のものを広く使用でき、例えばポリエチレ
ングリコール、カカオ脂、高級アルコール、高級アルコ
ールのエステル類、ゼラチン、半合成グリセライド等を
使用できる。カプセル剤は公知方法に従い、本発明化合
物と各種担体とを混合し、硬ゼラチンカプセル、軟ゼラ
チンカプセル等中にカプセル化することにより得られる
。注射剤として調製される場合、液剤、乳剤及び懸濁剤
は殺菌され、かつ血液と等張であるのが好ましく、これ
らの形態に成形するに際しては、希釈剤としてこの分野
において慣用されているものを広く使用でき、例えば水
、乳酸水溶液、エチルアルコール、プロピレングリコー
ル、エトキシ化イソステアリルアルコール、ポリオキシ
化イソステアリルアルコール、ポリオキシエチレンソル
ビタン脂肪酸エステル類等を使用できる。なお、この場
合等張性の溶液を調製するに充分な量の食塩、ブドウ糖
あるいはグリセリンを医薬製剤中に含有せしめてもよく
、また通常の溶解補助剤、緩衝剤、無痛化剤等を添加し
てもよい。更に必要に応じて着色剤、保存剤、香料、風
味剤、甘味剤等や他の医薬品を医薬製剤中に含有せしめ
てもよい。ペースト、クリーム及びゲルの形態に成形す
るに際しては、希釈剤として例えば白色ワセリン、パラ
フィン、グリセリン、セルロース誘導体、ポリエチレン
グリコール、シリコン、ベントナイト等を使用できる。
られる。製剤は通常使用される充填剤、増量剤、結合剤
、保湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤等の希釈剤ある
いは賦形剤を用いて調製される。この医薬製剤としては
各種の形態が治療目的に応じて選択でき、その代表的な
ものとして錠剤、荒削、散剤、液剤、懸濁剤、乳剤1、
顆粒剤、カプセル剤、坐剤、注射剤(液剤、懸濁剤等)
、軟膏剤等が挙げられる。錠剤の形態に成形するに際し
ては、担体としてこの分野で従来公知のものを広く使用
でき、例えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、
尿素、デンプン、炭酸カルシウム、カオリン、結晶セル
ロース、ケイ酸等の賦形剤、水、エタノール、プロパツ
ール、単シロップ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼラチン
溶液、カルボキシメチルセルロース、セラック、メチル
セルロース、リン酸カリウム、ポリビニルピロリドン等
の結合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナトリウム、カン
テン末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭酸カル
シウム、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル
類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノグリセ
リド、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステアリン、
カカオバター、水素添加油等の崩壊抑制剤、第4級アン
モニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収促進剤
、グリセリン、デンプン等の保湿剤、デンプン、乳糖、
カオリン、ベントナイト、コロイド状ケイ酸等の吸着剤
、精製タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸末、ポリエチレ
ングリコール等の滑沢剤等を使用できる。ざらに錠剤は
必要に応じ通常の剤皮を施した錠剤、例えば糖衣錠、ゼ
ラチン被包錠、腸溶被錠、フィルムコーティング錠ある
いは二重錠、多層錠とすることができる。荒削の形態に
成形するに際しては、担体としてこの分野で従来公知の
ものを広く使用でき、例えばブドウ糖、乳糖、デンプン
、カカオ脂、硬化植物油、カオリン、タルク等の賦形剤
、アラビアゴム末、トラガント末、ゼラチン、エタノー
ル等の結合剤、ラミナラン、カンテン等の崩壊剤等を使
用できる。坐剤′の形態に成形するに際しては、担体と
して従来公知のものを広く使用でき、例えばポリエチレ
ングリコール、カカオ脂、高級アルコール、高級アルコ
ールのエステル類、ゼラチン、半合成グリセライド等を
使用できる。カプセル剤は公知方法に従い、本発明化合
物と各種担体とを混合し、硬ゼラチンカプセル、軟ゼラ
チンカプセル等中にカプセル化することにより得られる
。注射剤として調製される場合、液剤、乳剤及び懸濁剤
は殺菌され、かつ血液と等張であるのが好ましく、これ
らの形態に成形するに際しては、希釈剤としてこの分野
において慣用されているものを広く使用でき、例えば水
、乳酸水溶液、エチルアルコール、プロピレングリコー
ル、エトキシ化イソステアリルアルコール、ポリオキシ
化イソステアリルアルコール、ポリオキシエチレンソル
ビタン脂肪酸エステル類等を使用できる。なお、この場
合等張性の溶液を調製するに充分な量の食塩、ブドウ糖
あるいはグリセリンを医薬製剤中に含有せしめてもよく
、また通常の溶解補助剤、緩衝剤、無痛化剤等を添加し
てもよい。更に必要に応じて着色剤、保存剤、香料、風
味剤、甘味剤等や他の医薬品を医薬製剤中に含有せしめ
てもよい。ペースト、クリーム及びゲルの形態に成形す
るに際しては、希釈剤として例えば白色ワセリン、パラ
フィン、グリセリン、セルロース誘導体、ポリエチレン
グリコール、シリコン、ベントナイト等を使用できる。
本発明の医薬製剤中に含有されるべき一般式(1)及び
(2)の化合物又はその塩のりは、特に限定されず広範
囲から適宜選択されるが、通常全組成物中1〜70重ω
%とするのがよい。
(2)の化合物又はその塩のりは、特に限定されず広範
囲から適宜選択されるが、通常全組成物中1〜70重ω
%とするのがよい。
本発明の医薬製剤の投与方法は特に制限はなく、各種製
剤形態、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の程度等
に応じて決定される。例えば錠剤、乳剤、液剤、懸濁剤
、乳剤、顆粒剤及びカプセル剤ば経口投与される。注射
剤は単独であるいはブドウ糖、アミノ酸等の通常の補液
と混合して静脈内投与され、更に必要に応じて単独で筋
肉内、皮肉、皮下もしくは腹腔内投与される。坐剤は直
腸内投与される。
剤形態、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の程度等
に応じて決定される。例えば錠剤、乳剤、液剤、懸濁剤
、乳剤、顆粒剤及びカプセル剤ば経口投与される。注射
剤は単独であるいはブドウ糖、アミノ酸等の通常の補液
と混合して静脈内投与され、更に必要に応じて単独で筋
肉内、皮肉、皮下もしくは腹腔内投与される。坐剤は直
腸内投与される。
本発明の医薬製剤の投与量は、用法、患者の年齢、性別
その他の条件、疾患の程度等により適宜選択されるが、
通常有効成分でおる一般式く1)及び(2)の化合物の
量が1日当り体重1kg当り約0.5〜500mり程度
とするのがよく、該製剤は1日に1〜4回に分けて投与
することができる。
その他の条件、疾患の程度等により適宜選択されるが、
通常有効成分でおる一般式く1)及び(2)の化合物の
量が1日当り体重1kg当り約0.5〜500mり程度
とするのがよく、該製剤は1日に1〜4回に分けて投与
することができる。
実 施 例
以下、本発明を更に詳しく説明するため実施例を挙げる
。
。
実施例1
2.6−シーtert−ブチル−4−(4−フルオロフ
ェニルアミノ)フェノールの製造2.6−シーtert
−ブチル−1,4−ベンゾキノン2.2g及びp−フル
オロアニリン3.3gを、THF60m12に溶解し、
これに(C2H5)20”BF3 ’ 0.3mGを加
え6時間還流した。冷後、水50mf2を加え、次いで
Na 2320t 20!Jの水15011112溶液
を、室温下に加え、反応混合物の赤色が消失するまで約
15分間、撹拌を続けた。その後、水に移し、エチルエ
ーテルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫1f
tマグネシウム(Mg304 )で乾燥し、濃縮して得
られる粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(エチルエーテル:ヘキサン=1:10)で精製して
、目的化合物2gを得た。
ェニルアミノ)フェノールの製造2.6−シーtert
−ブチル−1,4−ベンゾキノン2.2g及びp−フル
オロアニリン3.3gを、THF60m12に溶解し、
これに(C2H5)20”BF3 ’ 0.3mGを加
え6時間還流した。冷後、水50mf2を加え、次いで
Na 2320t 20!Jの水15011112溶液
を、室温下に加え、反応混合物の赤色が消失するまで約
15分間、撹拌を続けた。その後、水に移し、エチルエ
ーテルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫1f
tマグネシウム(Mg304 )で乾燥し、濃縮して得
られる粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(エチルエーテル:ヘキサン=1:10)で精製して
、目的化合物2gを得た。
得られた化合物1の物性を第1表に示す。
実施例2〜23
実Qllと同様にして、第1表に示す化合物2〜11を
製造した。
製造した。
また、同様にして化合物12〜23の遊離塩基を製造し
、之等にそれぞれ4N塩化水素の酢酸エチル溶液を加え
て、塩酸塩の形態の目的化合物のそれぞれを得た。
、之等にそれぞれ4N塩化水素の酢酸エチル溶液を加え
て、塩酸塩の形態の目的化合物のそれぞれを得た。
得られた各化合物の物性を第1表に示す。
実施例24
4−(4−シアノフェニルアミノ)−2,6−シーte
rt−ブチルフェノールの製造2.6−シーtert−
ブチル−1,4−ベンゾキノン3.0(II 、4−ア
ミノベンゾニトリル3.29及び酢酸11滴を110℃
で24時間加熱撹拌した。室温に冷却後、反応混合物を
T HF 51 mQに溶解し、これにN323204
41gの水153mf2溶液を加え、赤色が褪色するま
で約15分間撹拌した後、酢酸エチルで抽出した。有機
層を飽和食塩水で洗浄し、M Q S O4で乾燥し、
濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(エチルエーテル:ヘキサン=1:10>
で精製して、目的化合物1.0gを得た。
rt−ブチルフェノールの製造2.6−シーtert−
ブチル−1,4−ベンゾキノン3.0(II 、4−ア
ミノベンゾニトリル3.29及び酢酸11滴を110℃
で24時間加熱撹拌した。室温に冷却後、反応混合物を
T HF 51 mQに溶解し、これにN323204
41gの水153mf2溶液を加え、赤色が褪色するま
で約15分間撹拌した後、酢酸エチルで抽出した。有機
層を飽和食塩水で洗浄し、M Q S O4で乾燥し、
濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(エチルエーテル:ヘキサン=1:10>
で精製して、目的化合物1.0gを得た。
得られた化合物の物性を、第1表に化合物24として示
す。
す。
実施例25
2.6−シーtert−ブチル−4−(3−とドロキシ
メチルフェニルアミノ)フェノール・塩酸塩の1“J造 (1)2.6−シーtert−ブチル−1,4−ベンゾ
キノン6.6g、m−アミン安息香M4.2C7及び酢
酸6滴を150−160’Cで2時間加熱撹拌した。放
冷し、次いで反応混合物に水約501TII2を加え、
更に、THE200戒を加え、更にNa2320450
gの水300mG溶液ヲ至温で加え、赤色が褪色するま
で約15分間撹拌し、その後、水に移し、酢液エチルで
抽出した。
メチルフェニルアミノ)フェノール・塩酸塩の1“J造 (1)2.6−シーtert−ブチル−1,4−ベンゾ
キノン6.6g、m−アミン安息香M4.2C7及び酢
酸6滴を150−160’Cで2時間加熱撹拌した。放
冷し、次いで反応混合物に水約501TII2を加え、
更に、THE200戒を加え、更にNa2320450
gの水300mG溶液ヲ至温で加え、赤色が褪色するま
で約15分間撹拌し、その後、水に移し、酢液エチルで
抽出した。
有機層を実施例1と同様に処理し、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(ジクロロメタン:THF=5 :
1 )で精製して、4−(3〜カルボキシフェニルアミ
ノ)−2,6−シーtert−ブチルフェノール6.7
gを得た。
ロマトグラフィー(ジクロロメタン:THF=5 :
1 )で精製して、4−(3〜カルボキシフェニルアミ
ノ)−2,6−シーtert−ブチルフェノール6.7
gを得た。
(2)上記(1)で得られた4−(3−カルボキシフェ
ニルアミノ)−2,6−シーtert−ブチルフェノー
ル1.80を、THF30鵬に溶解し、その溶液を、L
iAf2Hz 1.7Qのエチルエーテル150回を懸
濁液中に撹拌下、室温にて滴下し、次いで反応混合物を
3.5時開運流した。冷却後、含水エチルエーテル、次
いで水を用いて過剰のLiA2Hzを注意深く分解し、
有機層を分取し、M CJ S O4で乾燥し、濃縮し
た。得られた粗生成物を、再びエチルエーテル100I
TII2に溶かし、これに4N塩化水素の酢酸エチル溶
液6m12を加え、析出した結晶を枦取し、エチルエー
テルで洗浄し、風乾して、目的化合物1.5gを得た。
ニルアミノ)−2,6−シーtert−ブチルフェノー
ル1.80を、THF30鵬に溶解し、その溶液を、L
iAf2Hz 1.7Qのエチルエーテル150回を懸
濁液中に撹拌下、室温にて滴下し、次いで反応混合物を
3.5時開運流した。冷却後、含水エチルエーテル、次
いで水を用いて過剰のLiA2Hzを注意深く分解し、
有機層を分取し、M CJ S O4で乾燥し、濃縮し
た。得られた粗生成物を、再びエチルエーテル100I
TII2に溶かし、これに4N塩化水素の酢酸エチル溶
液6m12を加え、析出した結晶を枦取し、エチルエー
テルで洗浄し、風乾して、目的化合物1.5gを得た。
該化合物の物性を化合物25として第1表に示す。
実施例26〜34
実施例25と同様の操作により、第1表に示す化合物2
5〜34を得た。
5〜34を得た。
実施例35
2.6−シーtert−ブチル−4−[3−(1−ヒド
ロキシエチル)フェニルアミノコフェノール・塩酸塩の
製造 実施例10で得られた4−(3−アセチルフェニルアミ
ノ)−2,6−シーtert−ブチルフェノール(化合
物10)1gを、エタノール’17m12及びTHF3
m12に溶解し、これに水冷撹拌下にNa BHa 2
00mgをゆっくり加え、次いて反応混合物を1時間撹
拌した。反応混合物を水に移し、エチルエーテルで抽出
した。有機層の黄赤色が褪色するまで、有@層を10%
Na 23204水溶液で洗浄し、次に飽和食塩水で洗
浄し、MQSQ<で乾燥し、約100戒に濃縮した。4
N塩化水素の酢酸エチル溶液61TII2を加え、析出
した結晶を枦取し、エチルエーテルで洗浄し、風乾して
目的化合物1gを得た。
ロキシエチル)フェニルアミノコフェノール・塩酸塩の
製造 実施例10で得られた4−(3−アセチルフェニルアミ
ノ)−2,6−シーtert−ブチルフェノール(化合
物10)1gを、エタノール’17m12及びTHF3
m12に溶解し、これに水冷撹拌下にNa BHa 2
00mgをゆっくり加え、次いて反応混合物を1時間撹
拌した。反応混合物を水に移し、エチルエーテルで抽出
した。有機層の黄赤色が褪色するまで、有@層を10%
Na 23204水溶液で洗浄し、次に飽和食塩水で洗
浄し、MQSQ<で乾燥し、約100戒に濃縮した。4
N塩化水素の酢酸エチル溶液61TII2を加え、析出
した結晶を枦取し、エチルエーテルで洗浄し、風乾して
目的化合物1gを得た。
該化合物の物性を下記第1表に化合物35として示す。
第 1 表
t−3U
尚、上記第1表及び以下の表において、結合定数(J)
の単位は、特に断らない限り、r HZ Jであり、r
t−BuJはtert−ブチル基を示す。
の単位は、特に断らない限り、r HZ Jであり、r
t−BuJはtert−ブチル基を示す。
実施例36
2.6−シーtert−ブブルー4−(4−ジメチルア
ミノフェニルアミノ)フェノール・2塩酸塩[化合物3
6]の製造 2.6−シーtert−ブチル−1,4−ベンゾキノン
2.1g及びN、N−ジメチル−1,4−フェニレンジ
アミン2.6qをTHF601TIf2に溶解し、こ口
に(C2Hs )20−BF30.3mQを加え、7時
間加熱還流した。濃縮して得られる粗生成物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(エチルエーテル:ヘキサ
ン=1:5)で精製して、赤紫色結晶を得た。
ミノフェニルアミノ)フェノール・2塩酸塩[化合物3
6]の製造 2.6−シーtert−ブチル−1,4−ベンゾキノン
2.1g及びN、N−ジメチル−1,4−フェニレンジ
アミン2.6qをTHF601TIf2に溶解し、こ口
に(C2Hs )20−BF30.3mQを加え、7時
間加熱還流した。濃縮して得られる粗生成物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(エチルエーテル:ヘキサ
ン=1:5)で精製して、赤紫色結晶を得た。
これをTHF1501TII2に溶かし、得られた液に
室温下にNa2820421Qの水150+p、、Q溶
液を加え、1q分間撹拌した。その後、水を加え、エチ
ルエーテルにて抽出し、有機層を乾燥(Mc+SOa
)L、濃縮した。得られた油状物を少量のエチルエーテ
ルに溶解し、これに4N塩化水素の酢酸エチル溶液3戒
を加え、析出結晶を枦取した。この結晶をエタノール−
エチルエーテルより再結晶して、目的化合物1.8gを
得た。
室温下にNa2820421Qの水150+p、、Q溶
液を加え、1q分間撹拌した。その後、水を加え、エチ
ルエーテルにて抽出し、有機層を乾燥(Mc+SOa
)L、濃縮した。得られた油状物を少量のエチルエーテ
ルに溶解し、これに4N塩化水素の酢酸エチル溶液3戒
を加え、析出結晶を枦取した。この結晶をエタノール−
エチルエーテルより再結晶して、目的化合物1.8gを
得た。
得られた化合物の物性(融点及び’ H−N M R+
ii>を第3表に示す。
ii>を第3表に示す。
実施例37〜45
化合物37〜化合物45の製造
実施例36と同様にして、第2表に記載の目的化合物(
化合物37〜化合物45)を製造した。
化合物37〜化合物45)を製造した。
得られた各化合物の物性を第3表に示す。
実施例46
3−(4−ヒドロキシ−2,3,5−トリメチルフェニ
ルアミノ)ケイ皮酸エチル・塩酸塩[化合物46]の!
4A造 ピリジン2.2mQのジクロロエタン60mQ溶液に、
四塩化チタン0.73mf2を加え、90’Cにて20
分間加熱撹拌し、これに2.3.6−ドリメチルー1,
4−ベンゾキノン2q及び3−アミノケイ皮酸エチル・
塩酸塩3gを加え、ざらに30分間、90’Cにて加熱
した。その後、溶媒を減圧下に留去して濃縮し、油状の
反応混合物を、シリカゲルカラムクロマ1〜グラフイー
(エチルエーテル:ヘキサン=1:9→1:4)にて°
精製して、赤黄色の油状物1gを得た。
ルアミノ)ケイ皮酸エチル・塩酸塩[化合物46]の!
4A造 ピリジン2.2mQのジクロロエタン60mQ溶液に、
四塩化チタン0.73mf2を加え、90’Cにて20
分間加熱撹拌し、これに2.3.6−ドリメチルー1,
4−ベンゾキノン2q及び3−アミノケイ皮酸エチル・
塩酸塩3gを加え、ざらに30分間、90’Cにて加熱
した。その後、溶媒を減圧下に留去して濃縮し、油状の
反応混合物を、シリカゲルカラムクロマ1〜グラフイー
(エチルエーテル:ヘキサン=1:9→1:4)にて°
精製して、赤黄色の油状物1gを得た。
これをTHF150回に溶かし、これに室温下にNa2
S20t 10CIの水150−溶液を加え、10分
間撹拌した。その後、水を加え、酢鼠エチルで抽出し、
有機層を水洗、乾燥(MgSOt )、濃縮して、1q
られた油状物をエチルエーテルに溶解し、4N塩化水素
の酢酸エチル)d液1回を加え、析出した塩を枦取し、
ざらにエタ7ノ−ルーエチルエーテルより再結晶して、
目的化合物0.75gを得た。
S20t 10CIの水150−溶液を加え、10分
間撹拌した。その後、水を加え、酢鼠エチルで抽出し、
有機層を水洗、乾燥(MgSOt )、濃縮して、1q
られた油状物をエチルエーテルに溶解し、4N塩化水素
の酢酸エチル)d液1回を加え、析出した塩を枦取し、
ざらにエタ7ノ−ルーエチルエーテルより再結晶して、
目的化合物0.75gを得た。
得られた化合物の物性を第3表に示す。
実施例47
4−(4−ベンゾイルアミノフェニル7ミノ)−2,6
−シーtert−ブチルフェノール・塩簾塩[化合物4
7コの製造 4−(4−アミノフェニルアミノ>−2,6−シーte
rt−ブチルフェノール(化合物14の遊離塩i)1.
5gをクロロホルム100m12に溶かし、水冷下にト
リエチルアミン538mg、次いで塩化ベンゾイル74
8mgを加え、空温で1.5時間撹拌した。その後、水
を加え、クロロホルムにて抽出し、有機層をM gS
O4で乾燥した。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(エチルエーテル:ヘキサン=1:1)で精製
して得られた油状物を、少量のエチルエーテルに溶解し
、これに4N塩化水素の酢酸エチル溶液3m12を加え
、析出結晶を枦取し、エタノール−エチルエーテルから
再結晶ざぜて、目的化合物1.7gを得た。
−シーtert−ブチルフェノール・塩簾塩[化合物4
7コの製造 4−(4−アミノフェニルアミノ>−2,6−シーte
rt−ブチルフェノール(化合物14の遊離塩i)1.
5gをクロロホルム100m12に溶かし、水冷下にト
リエチルアミン538mg、次いで塩化ベンゾイル74
8mgを加え、空温で1.5時間撹拌した。その後、水
を加え、クロロホルムにて抽出し、有機層をM gS
O4で乾燥した。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(エチルエーテル:ヘキサン=1:1)で精製
して得られた油状物を、少量のエチルエーテルに溶解し
、これに4N塩化水素の酢酸エチル溶液3m12を加え
、析出結晶を枦取し、エタノール−エチルエーテルから
再結晶ざぜて、目的化合物1.7gを得た。
(qられだ化合物の物性を第3表に示す。
実施例48〜51
化合物48〜化合物51の製造
実施例47と同様にして、第2表に記載の目的化合物(
化合物48〜化合物51)を製造した。
化合物48〜化合物51)を製造した。
得られた各化合物の物性を第3表に示す。
実施例52
2.6−シーtert−ブチル−4−(2−フェニルス
ルホニルアミノフェニルアミノ)フェノール・塩酸塩[
化合物52]の製造 (1) 2.、6−シーtert−ブチル−1,4−ベ
ンゾキノン19及びO−フェニレンジアミン0.89を
THF50mi2に溶解し、これに(C2H5)20・
BF30.15mQを加え、15時間加熱還流した。冷
接、Na2S20420gの水250m12溶液を加え
、室温で30分間撹拌した後、酢酸エチルにて抽出した
。有機層をM Q S O4で乾燥し、濃縮して得られ
る生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチ
ルエーテル:ヘキサン=1:5)で精製して、4−(2
−アミノフェニルアミノ)−2゜6−シーtert−ブ
チルフェノール1gを油状物質として得た。
ルホニルアミノフェニルアミノ)フェノール・塩酸塩[
化合物52]の製造 (1) 2.、6−シーtert−ブチル−1,4−ベ
ンゾキノン19及びO−フェニレンジアミン0.89を
THF50mi2に溶解し、これに(C2H5)20・
BF30.15mQを加え、15時間加熱還流した。冷
接、Na2S20420gの水250m12溶液を加え
、室温で30分間撹拌した後、酢酸エチルにて抽出した
。有機層をM Q S O4で乾燥し、濃縮して得られ
る生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチ
ルエーテル:ヘキサン=1:5)で精製して、4−(2
−アミノフェニルアミノ)−2゜6−シーtert−ブ
チルフェノール1gを油状物質として得た。
(2)上記(1)で得た4−(2−アミノフェニルアミ
ノ)−2,6−シーtert−ブチルフェノール1gを
DMA10mf2に溶かし、水冷下にピリジン1.28
g、次いでベンゼンスルホニルクロライド570m(]
を加え、室温で1.5時間撹拌した。その)炎、水を加
え、クロロホルムにて抽出し、有機層をM Q S O
4で乾燥した。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(クロロホルム:ヘキサン=1:1)で精製して
得られた油状物を、少量のエチルエーテルに溶解し、こ
れに4N塩化水素の酢酸エチル溶液3m12を加えて、
目的化合物1gを得た。
ノ)−2,6−シーtert−ブチルフェノール1gを
DMA10mf2に溶かし、水冷下にピリジン1.28
g、次いでベンゼンスルホニルクロライド570m(]
を加え、室温で1.5時間撹拌した。その)炎、水を加
え、クロロホルムにて抽出し、有機層をM Q S O
4で乾燥した。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(クロロホルム:ヘキサン=1:1)で精製して
得られた油状物を、少量のエチルエーテルに溶解し、こ
れに4N塩化水素の酢酸エチル溶液3m12を加えて、
目的化合物1gを得た。
得られた化合物の物性を第3表に示す。
実施例53
化合物53の製造
実施例52と同様にして、第2表に記載の目的とする化
合物(化合物53)を製造した。
合物(化合物53)を製造した。
得られた化合物の物性を第3表に示す。
実施例54
2.6−シーtert−ブチル−4−(2−エトキシカ
ルボニルフェニルアミノ)フェノール・塩酸塩[化合物
54コの製造 (1)2.6−シーtert−ブチル−1,4−ベンゾ
キノン10g、アントラニル醒6.3(7及び酢10、
2111Q(7)1合物を150〜160℃にて1時間
加熱した。得られた反応混合物を冷去、TトIF200
mQに溶解し、これにNa2320450CIの水50
0m12溶液を加え空温で30分間撹拌した。その後、
酢酸エチルにて抽出し、有機層を水洗し、M Q S
O4で乾燥し、濃縮して1qられた結晶をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:エチルエー
テル=8:1)で¥!Fj Vして、4−(2−カルボ
キシフェニルアミノ)−2,6−シーjerT−ブチル
フェノール5.5gを得た。
ルボニルフェニルアミノ)フェノール・塩酸塩[化合物
54コの製造 (1)2.6−シーtert−ブチル−1,4−ベンゾ
キノン10g、アントラニル醒6.3(7及び酢10、
2111Q(7)1合物を150〜160℃にて1時間
加熱した。得られた反応混合物を冷去、TトIF200
mQに溶解し、これにNa2320450CIの水50
0m12溶液を加え空温で30分間撹拌した。その後、
酢酸エチルにて抽出し、有機層を水洗し、M Q S
O4で乾燥し、濃縮して1qられた結晶をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:エチルエー
テル=8:1)で¥!Fj Vして、4−(2−カルボ
キシフェニルアミノ)−2,6−シーjerT−ブチル
フェノール5.5gを得た。
融点:215〜225°C(分解)
(2)上記(1)で4−(2−カルボキシフェニルアミ
ノ)−2,6一ジーtertブチルフエノール1gをD
MF5誰に溶かし、炭酸カリウム500mg及び臭化エ
チル350mClを加え、空温で20時間撹拌した。そ
の後、反応混合物を10%Na23204水溶液に移し
、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗、乾燥(MQSO
4)、濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(エチルエーテル:ヘキサン=1:
5>で精製した後、エチルエーテルに溶解し、これに4
N塩化水素の酢酸エチル溶液2ITI2を加え、結晶を
戸数して、目的化合物0.75gを淡黄色結晶として得
た。
ノ)−2,6一ジーtertブチルフエノール1gをD
MF5誰に溶かし、炭酸カリウム500mg及び臭化エ
チル350mClを加え、空温で20時間撹拌した。そ
の後、反応混合物を10%Na23204水溶液に移し
、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗、乾燥(MQSO
4)、濃縮した。得られた油状物質をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(エチルエーテル:ヘキサン=1:
5>で精製した後、エチルエーテルに溶解し、これに4
N塩化水素の酢酸エチル溶液2ITI2を加え、結晶を
戸数して、目的化合物0.75gを淡黄色結晶として得
た。
得られた化合物の物性を第3表に示す。
実施例55
4−(2−ベンジルアミノカル小ニルフェニルアミノ>
−2,6−シーtert−ブチルフェノール[化合物5
5]の製造 実施例54で得られた4−(2−カルボキシフェニルア
ミノ)−2,6−シーtert−ブチルフェノール1g
をDMF20mGに溶解し、水冷下にベンジルアミン3
40m(]及びDEPC570mc+を加え、ざらにト
リエチルアミン330mgのDMF5戒溶液を20分間
を要して加え、その後、反応混合物を20時間室温で撹
拌した。反応混合物を水に移し、lエチルで抽出し、有
機層を水洗、乾燥(MCJSO4)、濃縮後、得られた
粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチ
ルエーテル:ヘキサン−1:10→1:5)で精製して
、目的化合物1.1gを白色結晶として得た。
−2,6−シーtert−ブチルフェノール[化合物5
5]の製造 実施例54で得られた4−(2−カルボキシフェニルア
ミノ)−2,6−シーtert−ブチルフェノール1g
をDMF20mGに溶解し、水冷下にベンジルアミン3
40m(]及びDEPC570mc+を加え、ざらにト
リエチルアミン330mgのDMF5戒溶液を20分間
を要して加え、その後、反応混合物を20時間室温で撹
拌した。反応混合物を水に移し、lエチルで抽出し、有
機層を水洗、乾燥(MCJSO4)、濃縮後、得られた
粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(エチ
ルエーテル:ヘキサン−1:10→1:5)で精製して
、目的化合物1.1gを白色結晶として得た。
得られた化合物の物性を第3表に示、す。
実施例56〜69
実施例55と同様にして、第2表に示す化合物56〜化
合物69を製造した。
合物69を製造した。
得られた各化合物の物性を第3表に記載する。
実施例70
2.6−シーtcrt−ブチル−4−(4−ヒドラジノ
カルボニルメチルフェニルアミノ)フェノール[化合物
70]の製造 2.6−シーtert−ブチル−4−(4−エトキシカ
ルボニルメチルフェニルアミノ)フェノール(化合物6
)2.4Qを、ヒドラジン水和物25mQ及びエタノー
ル251TIi2に溶解し、100’Cにて40分間加
熱した。反応混合物を水に移し、酢酸エチルで抽出し、
有機層を10% Na2320を水溶液、次いで水で洗浄し、乾燥(Mg
SOa)、濃縮した。1qられる結晶をエチルエーテル
:ヘキサン=1:4から再結晶して、目的化合物1.8
gを白色結晶として得た。
カルボニルメチルフェニルアミノ)フェノール[化合物
70]の製造 2.6−シーtert−ブチル−4−(4−エトキシカ
ルボニルメチルフェニルアミノ)フェノール(化合物6
)2.4Qを、ヒドラジン水和物25mQ及びエタノー
ル251TIi2に溶解し、100’Cにて40分間加
熱した。反応混合物を水に移し、酢酸エチルで抽出し、
有機層を10% Na2320を水溶液、次いで水で洗浄し、乾燥(Mg
SOa)、濃縮した。1qられる結晶をエチルエーテル
:ヘキサン=1:4から再結晶して、目的化合物1.8
gを白色結晶として得た。
得られた化合物の物性を第3表に示す。
実施例71
4−(4−ベンジルアミノフェニルアミノ)−2,6−
シーtert−ブチルフェノール・2塩酸塩[化合物7
1]の製造 L1△9H4466m(]をTHF30+t?に懸濁し
・、水冷下に4−(4−ベンゾイルアミノフェニルアミ
ノ)−2,6−シーtert−ブチルフェノール(化合
物47の@離塩基>1.7gのTHF溶液30回を加え
、その後、5.5時間還流した。冷機、Na2S204
15Qの水60m12?U液ヲ加工、空温で10分間撹
拌した。その後、水を加え、エチルエーテルにて抽出し
、有機層をM Q S O4で乾燥し、濃縮した。得ら
れた油状物を少量のエチルエーテルに溶解し、これに4
N塩化水素の酢酸エチル溶液21Tlfl?を加え、析
出結晶を戸数した。この結晶をイソプロパノ−ルーエチ
ルエーテルより再結晶して、目的化合物450mgを白
色結晶とし・て1qだ。
シーtert−ブチルフェノール・2塩酸塩[化合物7
1]の製造 L1△9H4466m(]をTHF30+t?に懸濁し
・、水冷下に4−(4−ベンゾイルアミノフェニルアミ
ノ)−2,6−シーtert−ブチルフェノール(化合
物47の@離塩基>1.7gのTHF溶液30回を加え
、その後、5.5時間還流した。冷機、Na2S204
15Qの水60m12?U液ヲ加工、空温で10分間撹
拌した。その後、水を加え、エチルエーテルにて抽出し
、有機層をM Q S O4で乾燥し、濃縮した。得ら
れた油状物を少量のエチルエーテルに溶解し、これに4
N塩化水素の酢酸エチル溶液21Tlfl?を加え、析
出結晶を戸数した。この結晶をイソプロパノ−ルーエチ
ルエーテルより再結晶して、目的化合物450mgを白
色結晶とし・て1qだ。
1qられた化合物の物性を第3表に示す。
実施例72
実施例71と同様にして、第2表に示す化合物72を製
造した。
造した。
得られた化合物の物性を第3表に併記する。
第 2 表
実施例73〜91
適当な出発物質を用い、実施例46と同様にして、下記
第4表に化合物73〜91として記載する化合物を得た
。
第4表に化合物73〜91として記載する化合物を得た
。
第4表には、得られた各化合物の物性を併記する。
実施例92
2,6−シーtert−ブチル−4−(3−ヒドロキシ
−4−メトキシフェニルアミノ)フェノール・塩酸塩(
化合物92)の製造 上記実施例1と同様にして標記化合物を19だ。
−4−メトキシフェニルアミノ)フェノール・塩酸塩(
化合物92)の製造 上記実施例1と同様にして標記化合物を19だ。
融点:190℃以上(分解)
’ H−NMRスペクトル(DMS、Oδ6)δ1.3
7 (s、18t−()、 3.71 (s、3H)、 6、 54 (d、 J=3 ト1z、
1t−1) 、6、.68 (dd、J=8Hz、
3Hz、1H)6.85 (d、J=8Hz、ll−1
>、7.02 (s、2H) 実施例93 4−(4−カルボキシメチルフェニルアミノ)−2,3
,6−ドリメチルフエノール・塩酸塩(化合物93)の
製造 4−(4−メトキシカルボニルメチルフェニルアミノ)
−2,3,6−ドリメチルフエノール(化合物80)2
.0g、36%塩酸7.2mQ及び酢酸14.2m12
の混合物を50℃で14.5時間加熱した。反応混合物
を室温に冷却後、析出した結晶を戸数し、アセトニトリ
ルで洗浄し、乾燥して目的化合物1.6gを得た。母液
を減圧下で濃縮し、1りられた固体を上記と同様に処理
して更に目的化合物0.40を得た。
7 (s、18t−()、 3.71 (s、3H)、 6、 54 (d、 J=3 ト1z、
1t−1) 、6、.68 (dd、J=8Hz、
3Hz、1H)6.85 (d、J=8Hz、ll−1
>、7.02 (s、2H) 実施例93 4−(4−カルボキシメチルフェニルアミノ)−2,3
,6−ドリメチルフエノール・塩酸塩(化合物93)の
製造 4−(4−メトキシカルボニルメチルフェニルアミノ)
−2,3,6−ドリメチルフエノール(化合物80)2
.0g、36%塩酸7.2mQ及び酢酸14.2m12
の混合物を50℃で14.5時間加熱した。反応混合物
を室温に冷却後、析出した結晶を戸数し、アセトニトリ
ルで洗浄し、乾燥して目的化合物1.6gを得た。母液
を減圧下で濃縮し、1りられた固体を上記と同様に処理
して更に目的化合物0.40を得た。
得られた化合物の物性を第5表に示す。
実施例94〜97
上記実施例93と同様にして、第5表に記載の化合物9
4〜97を得た。
4〜97を得た。
第5表には、得られた各化合物の物性を示す。
以下、本発明化合物を用いた薬理試験結果を示す。
(1)抗炎症作用:ラットにおけるカラゲニン誘発足浮
腫抑制 S、D、系雄性ラット(170−190g、絶食)1群
5匹を使用し、シー・ニー・ウィンター(C,A、 W
inter )らの方法(PrOC,SOC,Exp、
Biol、Med、 、 111 、544 (’I
962) ]に準じて本試験を行なった。
腫抑制 S、D、系雄性ラット(170−190g、絶食)1群
5匹を使用し、シー・ニー・ウィンター(C,A、 W
inter )らの方法(PrOC,SOC,Exp、
Biol、Med、 、 111 、544 (’I
962) ]に準じて本試験を行なった。
検体の経口投与1時間後に、1%カラゲニン溶液0.1
11112を右足踵皮下に注射した。3時間後における
足容積を測定し、カラゲニン処置前の体積に対する増加
率を求め、これを対照群の増加率と比較して抑制率(%
)を求めた。
11112を右足踵皮下に注射した。3時間後における
足容積を測定し、カラゲニン処置前の体積に対する増加
率を求め、これを対照群の増加率と比較して抑制率(%
)を求めた。
結果を第6表に示す。
製剤例1
化合物32 200mqブドウ糖
250rTIC]注射用蒸留水
適量 全 量 5mQ 注射用蒸留水に化合物32及びブドウ糖を溶解させた後
511tf2のアンプルに注入し、窒素買換後121°
Cで15分間加圧滅菌を行なって上記組成の注射剤を得
る。
250rTIC]注射用蒸留水
適量 全 量 5mQ 注射用蒸留水に化合物32及びブドウ糖を溶解させた後
511tf2のアンプルに注入し、窒素買換後121°
Cで15分間加圧滅菌を行なって上記組成の注射剤を得
る。
製剤例2
化合物32 100Q
結晶性セルロース(商標名:
[アビセルpH101、旭
化成工業(株)製) 40C]コーンスター
チ 30g ステアリン酸マ ネジ ム 2q 全 量 172g ヒドロキシプロピルメチルセル ロース(商標名rTc−5J、 信越化学工業(株)製) IOgボリエヂレン
グリコール 3q色素
0.3Q二酸化チタン 0.2g水
、 86.5C1全
量 100Q 化合物32.結晶性セルロース、コーンスターヂ及びス
テアリン酸マグネシウムを取り混合後詰衣R10mmの
キネで打錠する。得られた錠剤をTC−5、ポリエチレ
ングリコール60001ヒマシ油及びエタノールからな
るフィルムコーティング剤で被覆を行ない上記組成のフ
ィルムコーティング錠を製造する。
チ 30g ステアリン酸マ ネジ ム 2q 全 量 172g ヒドロキシプロピルメチルセル ロース(商標名rTc−5J、 信越化学工業(株)製) IOgボリエヂレン
グリコール 3q色素
0.3Q二酸化チタン 0.2g水
、 86.5C1全
量 100Q 化合物32.結晶性セルロース、コーンスターヂ及びス
テアリン酸マグネシウムを取り混合後詰衣R10mmの
キネで打錠する。得られた錠剤をTC−5、ポリエチレ
ングリコール60001ヒマシ油及びエタノールからな
るフィルムコーティング剤で被覆を行ない上記組成のフ
ィルムコーティング錠を製造する。
製剤例3
化合物73 2q
精製ラノリン 5gサラシミツロウ
5g 白色ワセリン 88C]全量
100CI サラシミツロウを加温して液状となし、次いで化合物7
3、精製ラノリン及び白色ワセリンを加え、液状となる
まで加温後、固化し始めるまで撹拌して、上記組成の軟
膏剤を得る。
5g 白色ワセリン 88C]全量
100CI サラシミツロウを加温して液状となし、次いで化合物7
3、精製ラノリン及び白色ワセリンを加え、液状となる
まで加温後、固化し始めるまで撹拌して、上記組成の軟
膏剤を得る。
(以 上)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 [1](a)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) [式中R^1^aは、シアノ基、カルバモイル基、ニト
ロ基、スルファモイル基、ヒドロキシC_1−C_6ア
ルキル基、C_1−C_6アルコキシカルボニルC_1
−C_6アルキル基、カルボキシC_1−C_6アルキ
ル基、ハロゲノ置換C_1−C_6アルキル基、C_1
−C_6アシル基、C_1−C_6アルキルチオ基、フ
ェニルチオ基、C_1−C_6アルキルスルホニル基、
アミノ基、ハロゲン原子、C_1−C_6アルコキシ基
、水酸基及びC_1−C_6アルキル基から選ばれる置
換基の1〜3個を有するフェニル基或は非置換フェニル
基を示す。R^2及びR^3は同一又は異なってC_1
−C_6アルキル基を示す。]で表わされるフェノール
誘導体及びその塩並びに (b)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(2) [式中、R^4及びR^5は同一又は異なつてC_1−
C_6アルキル基を示し、R^6は水素原子又はC_1
−C_6アルキル基を示す。また、R^5及びR^6は
、互いに結合してそれらが結合するベンゼン環と共に ▲数式、化学式、表等があります▼ なる縮合環を形成していてもよい。Aaは、水素原子、
C_1−C_6アルキルスルホニル基、C_1−C_6
アルコキシカルボニル基、ピペリジノカルボニル基、フ
ェニルC_1−C_6アルキルカルバモイル基、C_1
−C_1_2アルキルカルバモイル基、C_3−C_8
シクロアルキルカルバモイル基、置換基としてC_1−
C_6アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、C_
1−C_6アシル基、C_1−C_6アルキルカルバモ
イル基及びC_3−C_8シクロアルキルカルバモイル
基から選ばれた基を有するC_2〜C_6アルケニル基
、置換基としてC_3−C_8シクロアルキルカルバモ
イル、C_1−C_6アルキルカルバモイル、フエニル
C_1−C_6アルキルカルバモイル、ピペリジノカル
ボニル、モルホリノカルボニル及びヒドラジノカルボニ
ル基から選ばれた基を有するC_1−C_6アルキル基
、カルボキシC_1−C_6アルキル基、C_1−C_
6アルコキシカルボニルC_1−C_6アルキル基、C
_1−C_6アルキル基、カルボキシル基、C_1−C
_6アルコキシ基、ハロゲン原子、又は−NR^7R^
8^a基(R^7は、水素原子又はC_1−C_6アル
キル基を、またR^8^aはC_1−C_6アルキル基
、置換基としてフエニル基を有するC_1−C_6アル
キル基、フェニル基、置換基としてC_1−C_6アル
キル基を有することのあるベンゾイル基、置換基として
C_1−C_6アルコキシカルボニル基を有することの
あるC_1−C_6アシル基、C_1−C_6アルキル
スルホニル基又はフェニルスルホニル基を示す)を示す
。但しR^6が水素原子のときは基Aaは、水素原子、
カルボキシC_1−C_6アルキル基、C_1−C_6
アルコキシカルボニルC_1−C_6アルキル基、C_
1−C_6アルキル基、カルボキシル基、C_1−C_
6アルコキシ基又はハロゲン原子であつてはならない。 ]で表わされるフェノール誘導体及びその塩を有効成分
とすることを特徴とする抗炎症剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62018930A JPS63185923A (ja) | 1987-01-28 | 1987-01-28 | 抗炎症剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62018930A JPS63185923A (ja) | 1987-01-28 | 1987-01-28 | 抗炎症剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63185923A true JPS63185923A (ja) | 1988-08-01 |
Family
ID=11985353
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62018930A Pending JPS63185923A (ja) | 1987-01-28 | 1987-01-28 | 抗炎症剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63185923A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0476846A2 (en) * | 1990-08-27 | 1992-03-25 | Eli Lilly And Company | Method for treating imflammation, ischemia-induced cell damage and muscular dystrophy |
WO1996001253A3 (en) * | 1994-07-01 | 1996-07-18 | Warner Lambert Co | PLA2 inhibitors and their use for inhibition of intestinal cholesterol absorption |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6034934A (ja) * | 1983-04-18 | 1985-02-22 | スターリング・ドラツグ・インコーポレーテツド | フエニルアミノベンゼンアルカノール類およびそれらの製造法 |
JPS6345243A (ja) * | 1985-07-22 | 1988-02-26 | ライカ− ラボラトリ−ス インコ−ポレ−テツド | 置換ジ−t−ブチルフエノ−ル類 |
-
1987
- 1987-01-28 JP JP62018930A patent/JPS63185923A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6034934A (ja) * | 1983-04-18 | 1985-02-22 | スターリング・ドラツグ・インコーポレーテツド | フエニルアミノベンゼンアルカノール類およびそれらの製造法 |
JPS6345243A (ja) * | 1985-07-22 | 1988-02-26 | ライカ− ラボラトリ−ス インコ−ポレ−テツド | 置換ジ−t−ブチルフエノ−ル類 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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WO1996001253A3 (en) * | 1994-07-01 | 1996-07-18 | Warner Lambert Co | PLA2 inhibitors and their use for inhibition of intestinal cholesterol absorption |
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