JPS63183320A - 高周波加熱装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高周波加熱装置において、被加熱物の加熱時
間を自動的にコントロールする機構を備えた構成とした
高周波加熱装置に関するものである。

従来の技術 従来この種の高周波加熱装置は、加熱室への吸気温度と
加熱室からの排気温度を検出することにより、被加熱物
の温度を間接的に検知し、自動的に加熱時間をコントロ
ールする制御が考案されている。

例えば、第３図に示すように、加熱室１内におかれた被
加熱物２は、高周波発生装置３から発生する高周波によ
り加熱する。また高周波はアンテナ４から輻射され、攪
拌翼６により加熱室１へ均一に供給さｎる。送風機構６
により加熱室１への送風および高周波発生装置を冷却す
る。加熱室１が加熱されると加熱室１から排気される排
気温本上昇し、排気温度と被加熱物との温度は、１対１
の対応がある。したがって排気温度を排気温度温度検出
手段７で検出することにより被加熱物の加熱温度を推定
することができる。吸入空気検出手段８は、排気ガイド
９を介して、加熱室１に吸入する。空気温度を測定する
。排気温度検出手段７の信号は信号線９、吸入空気温度
検出手段８の信号は、信号線１０を通して制御装置１１
に伝送される。制御装置１１は、あらかじめ設定された
適正加熱温度に対応する温度差になった時、信号線１２
を介して高周波発生装置３を制御するようになっていた
。（例えば特公昭５１−３８４９５号公報） 発明が解決しようとする問題点 しかしながら上記のような構成では、連続使用した場合
、吸気温度はほぼ一定であるが、排気温度は、加熱室内
にこもった水蒸気あるいは、加熱室壁の温度上昇により
除々に初期温度が上昇する。

第４図に連続使用した時の排気温度の変化を示す。

横軸を時間、縦軸を排気温度に取っている。吸気温度は
、連続使用した場合でも、送風機構によりほぼ一定のＴ
ＩＬの温度を示すが、排気温度は、１回目、２回目と、
除々に温度が上昇する。したがって、あらかじめ設定さ
れた適正加熱温度Ｔａ＋ΔＴに対して、１回目は正常な
調理時間ｔ１が得られるが、２回目は、排気温度上昇分
Δで１だけ温度上昇値が減り、調理時間がｔ２となり早
切れ傾向になる。同様に３回目には、排気温度上昇分Δ
Ｔ２だけ温度上昇値が減り調理時間がｔ３となり、なお
早切れ傾向になるという問題点を有していた。

本発明はかかる従来の問題点を解消するもので、連続使
用の際も、適正な調理時間を得ることを目的とする。

問題点を解決するだめの手段 上記問題点を解決するだめに本発明の高周波加熱装置は
、被加熱物を収納する加熱室と、被加熱物を加熱する高
周波発生装置と、加熱室と高周波発生装置へ送風する送
風機構と、加熱室から流出する排気空気温度を検出する
排気温検出手段と、送風機構から高周波発生装置への送
風路上に設けらｎた高周波加熱装置を制御する制御装置
と、この制御装置上に設け、空気温度を検出する送風路
温度検出手段とを備え、制御装置は、排気温度と送風路
温度との差と、送風路温度に依り加用波発生装置を制御
する構成としたものである。

作用 本発明は上記した構成によって、高周波加熱装置を連続
使用した時に、排気温度上昇を送風路温度により補正す
ることにより適正な加熱時間を得ることができるのであ
る。

実施例　　　゛ 以下、本発明の実施例を添付図にもとづいて説明する。

第１図において、加熱室１内に収納さ扛た被加熱物２は
、高周波発生装置３から発生する高凡波により加熱され
る。また高周波はアンテナ４から輻射され、攪拌翼６に
より加熱室１へ均一に供給さ扛る。送風機構６により加
熱室１および高周波発生装置の冷却をする。加熱室１が
加熱さｎると加熱室１からの排気温度も上昇し、またこ
れに従い被加熱物の温度も上昇する。したがって排気空
気温検出手段７により排気温度を検出することにより被
加熱物の温度を推定することができる。送風機構６と高
周波発生装置３への送風路に設けられた、高周波発生装
置を制御する制御装置は上の送風路温度検出手段１３は
、送風機構６から吸入空気温度と、加熱室からの輻射熱
および高周波発生装置からの輻射熱等の熱により加熱室
内の加熱初期温度を推定する。排気空気温度検出手段７
と送風路検出手段１３の信号により、制御装置は、高周
波加熱装置３を制御し、適正な加熱を行う。

第２図にその制御方法を示す。高周波加熱装置を連続使
用した場合、前述の様に加熱室内の温度は上昇する。加
熱初期温度が固定されるならば、加熱回数を増すにつれ
て加熱時間は短かくなる。

この初期温度を補正する送風路温度検出手段１３は、連
続使用した場合加熱室からの輻射熱等の熱により、回数
を増すにつｎて、Ｔｂ線上の温度変化を示す。しかし送
風路温度と、実際の加熱室内の温度は実際には一致しな
いが、一対一の対応があるため、実際の初期温度Ｔｏを
推定することができる。加熱開始点ム、　　Ｂ、　　Ｃ
の初期温度をＴｃとすると、加熱終了温度はＴｃ＋ΔＴ
（ΔＴはあらかじめ与えらｎた適正な定数）となる。し
たがって、加熱時間は、 ｔＩ′主ｔ２′ミｔ、′ になり、連続使用の際の補正ができ適正な加熱時間が得
られるという効果がある。

発明の効果 以上のように本発明の高周波加熱装置によｎば次の効果
がある。

被加熱物の加熱時間を自動的に制御する高周波加熱装置
において、連続使用した場合も加熱室内の温度上昇を補
正する手段を有しているので、適正な加熱時間を得るこ
とができるという効果がある。また、制御装置上に送風
路検出手段を構成しているので信号線が省けるとともに
対ノイズ性も向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例における高周波加熱装置の断
面図、第２図は同排気空気温度を示す特性図、第３図は
従来例の断面図、第４図は同排気温度を示す特性図であ
る。 １・・・・・・加熱室、２・・・・・・被加熱物、３・
・・・・・高周波発生装置、６・・・・・・送風機構、
７・・・・・・排気空気温度検出手段、１１・・・・・
・制御装置、１３・・・・・・送風路温度検出手段。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　被加熱物を収納する加熱室と、被加熱物を加熱する高
   周波発生装置と、前記加熱室および前記高周波発生装置
   へ送風する送風機構と、前記加熱室から流出する空気温
   度を検出する排気温度検出手段と、前記送風機構から前
   記高周波発生装置への送風路上に設けた高周波加熱装置
   の発振を制御する制御装置と、前記制御装置上に設け空
   気温度を検出する送風路温度検出手段とを備え、前記制
   御装置は、排気温度と送風路温度の差と、送風路温度に
   依り前記高周波発生装置を制御する構成とした高周波加
   熱装置。