JPS63181741A - X線透過像測定方法 - Google Patents
X線透過像測定方法Info
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- JPS63181741A JPS63181741A JP62014506A JP1450687A JPS63181741A JP S63181741 A JPS63181741 A JP S63181741A JP 62014506 A JP62014506 A JP 62014506A JP 1450687 A JP1450687 A JP 1450687A JP S63181741 A JPS63181741 A JP S63181741A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、人体のX線透過平面像を得て診断を行なうX
線診断装置に関するものである。
線診断装置に関するものである。
従来の技術
X線透過平面像を得る従来の典型的な技術はX線写真法
である。
である。
近年、との銀塩写真法に代って、Xfsに感応する固体
素子のアレイを用いる方法や輝壺蛍光体を用いる非銀塩
法が開発されている。そして、前者としては、X線感応
固体素子として蛍光材料と組合わせたシリコン素子を用
い光電溝で生じた電流量を測定するもの(特開昭53−
105179号公報、特開昭53−96787号公報)
、半導体放射線検出器アレイを用いるもの(特開昭59
−94046号公報)が知られている。また、後者は、
X線フィルムの代シに蓄積性蛍光板を用いX線潜像を作
りレーザーによる順次刺激により画素信号を取シ出すも
の(特開昭55−15025号公報)が知られている。
素子のアレイを用いる方法や輝壺蛍光体を用いる非銀塩
法が開発されている。そして、前者としては、X線感応
固体素子として蛍光材料と組合わせたシリコン素子を用
い光電溝で生じた電流量を測定するもの(特開昭53−
105179号公報、特開昭53−96787号公報)
、半導体放射線検出器アレイを用いるもの(特開昭59
−94046号公報)が知られている。また、後者は、
X線フィルムの代シに蓄積性蛍光板を用いX線潜像を作
りレーザーによる順次刺激により画素信号を取シ出すも
の(特開昭55−15025号公報)が知られている。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、固体素子のアレイを用いた方法は銀塩法
に比してX線感度は良いが、面解像度の点でやや不充分
、素子間の感度ばらつきに起因した画面が乱れなどの問
題があった。また、非銀塩法を用いた方法は銀塩法と比
し、画質は同程度であるがX線被曝量は少ないという問
題があった。
に比してX線感度は良いが、面解像度の点でやや不充分
、素子間の感度ばらつきに起因した画面が乱れなどの問
題があった。また、非銀塩法を用いた方法は銀塩法と比
し、画質は同程度であるがX線被曝量は少ないという問
題があった。
また、非銀塩法の中でも最もXa感度の良好な半導体放
射線検出器アレイを用いる方法があるが、この方法は、
放射線感応素子を一線上に多数個並べたものであり、個
々の素子はその感度にばらつきがある。これが画質を左
右する最も大きな要因となる。また、X線発生装置から
のX線の強度も面分布を有しており、これも画質に大き
く影響する。均一でかつ精度のよい放射性物質(例えば
241 Am )を用いてそのばらつきを補正する方法
もあるが放射線強度が不充分で補正のために長時間の照
射が必要であり、実用的でないという問題点を有してい
た。
射線検出器アレイを用いる方法があるが、この方法は、
放射線感応素子を一線上に多数個並べたものであり、個
々の素子はその感度にばらつきがある。これが画質を左
右する最も大きな要因となる。また、X線発生装置から
のX線の強度も面分布を有しており、これも画質に大き
く影響する。均一でかつ精度のよい放射性物質(例えば
241 Am )を用いてそのばらつきを補正する方法
もあるが放射線強度が不充分で補正のために長時間の照
射が必要であり、実用的でないという問題点を有してい
た。
この問題を解決するため本発明は、放射線半導体検出器
アレイの素子感度のばらつきをそれを構成するX線発生
装置からのX線を用いて補正するX線透過像測定方法を
提供することを目的とする。
アレイの素子感度のばらつきをそれを構成するX線発生
装置からのX線を用いて補正するX線透過像測定方法を
提供することを目的とする。
問題点を解決するだめの手段
この目的を構成するため本発明はX線発生装置からの扇
状ビームを被写体に照射し、透過したビームを半導体放
射線検出器アレイに入射させ、該扇状ビームと該半導体
放射線検出器アレイとを被写体にほぼ平行に駆動させて
線順次のX線画素信号を得てX線透過平面像を得る装置
において、該X線発生装置からの扇状ビームを画素信号
を得る時間よりも充分に長く該アレイ中の半導体放射線
検出素子に同時照射し、この信号結果に基いて該アレイ
中の個々の半導体放射線検出器の感度のバラツキのM正
とXa扇状ビームのアレイ配列方向5ヘ一/ の強度分布の補正とを行なうものである。
状ビームを被写体に照射し、透過したビームを半導体放
射線検出器アレイに入射させ、該扇状ビームと該半導体
放射線検出器アレイとを被写体にほぼ平行に駆動させて
線順次のX線画素信号を得てX線透過平面像を得る装置
において、該X線発生装置からの扇状ビームを画素信号
を得る時間よりも充分に長く該アレイ中の半導体放射線
検出素子に同時照射し、この信号結果に基いて該アレイ
中の個々の半導体放射線検出器の感度のバラツキのM正
とXa扇状ビームのアレイ配列方向5ヘ一/ の強度分布の補正とを行なうものである。
作用
X線管より発したX線はスリットにより扇状のビームと
され、被写体(人体)を通して放射線半導体検出器アレ
イに丁度入射するように制御される。スリットと検出器
アレイは被写体に沿って駆動され、1画素列の信号が同
時に(並列に)測定され、つぎに隣接した画素列の信号
が測定される。
され、被写体(人体)を通して放射線半導体検出器アレ
イに丁度入射するように制御される。スリットと検出器
アレイは被写体に沿って駆動され、1画素列の信号が同
時に(並列に)測定され、つぎに隣接した画素列の信号
が測定される。
このような1画素列毎の測定が順次行なわれ、1枚のX
線透過平面像が得られる。
線透過平面像が得られる。
このX線透過平面像測定の前または後に、検出器アレイ
の素子感度のばらつき補正が行なわれる。
の素子感度のばらつき補正が行なわれる。
1画素列の測定時間は、1000分の1秒程度であるが
、これより充分長い時間、例えば1秒程度の曝射が被写
体無しで行なわれる。アレイ中の各素子の出力値は、各
素子の感度SiとX線強度Iiに比例する。従って、こ
の測定結果の逆数1/Si×11はそのまま補正定数と
なる。
、これより充分長い時間、例えば1秒程度の曝射が被写
体無しで行なわれる。アレイ中の各素子の出力値は、各
素子の感度SiとX線強度Iiに比例する。従って、こ
の測定結果の逆数1/Si×11はそのまま補正定数と
なる。
放射線半導体検出器からの出力は、素子に入射。
吸収されたX線光子の数に比例した電気パルス信6ベー
、゛ 号であり、長時間曝射することによってこのパルス数は
充分に大きな数となるので誤差の少ない補正定数を得る
。
、゛ 号であり、長時間曝射することによってこのパルス数は
充分に大きな数となるので誤差の少ない補正定数を得る
。
実施例
第1図は、本発明のX線透過平面像測定方法の一実施例
における装置の主要部構成図である。1はX線管球であ
り、ここから発したX線はスリット2によって扇状のビ
ームとされる。放射線半導体検出器アレイである。検出
器素子材料には、硫化テルルCdTe 、ガリウム砒素
GaAsのように原子番号が比較的大きい物質の単結晶
が用いられる。
における装置の主要部構成図である。1はX線管球であ
り、ここから発したX線はスリット2によって扇状のビ
ームとされる。放射線半導体検出器アレイである。検出
器素子材料には、硫化テルルCdTe 、ガリウム砒素
GaAsのように原子番号が比較的大きい物質の単結晶
が用いられる。
この単結晶にX線光子1個が入射して吸収されると、励
起電子、正孔対による電気信号パルスが発生する。単結
晶に電界を印加し、このパルスを外部回路に取り出す。
起電子、正孔対による電気信号パルスが発生する。単結
晶に電界を印加し、このパルスを外部回路に取り出す。
外部回路は、単結晶の素子1個に対し、1個が接続され
、単結晶に入射吸収された光子の数が増幅カウントされ
る。素子と回路の組は複数個から成シ、この組でアレイ
が形成される。扇状のX線ビームは、丁度このアレイに
入射するように構成される。4は寝台の天板であり、7
/、−7 被験者はこの上に横たわる。被検者の各部位での吸収信
号を含んだX線が検出器アレイで測定される。検出器ア
レイとスリットとは連動して天板とほぼ平行に送られる
。ある位置で静止させて1画素列の透過X線の測定をし
、続いて次の隣接位置へ段階状に送りここで静止させて
次の1画素列の測定するというステップ送りをとる場合
と、これらを連続的に送り1画素列の巾が送られる時間
にその1画素列の透過X線測定をする連続送りをとる場
合とがある。いづれにしろ、1画素列毎の測定が順次行
なわれ、全体として平面透過像が得られる。
、単結晶に入射吸収された光子の数が増幅カウントされ
る。素子と回路の組は複数個から成シ、この組でアレイ
が形成される。扇状のX線ビームは、丁度このアレイに
入射するように構成される。4は寝台の天板であり、7
/、−7 被験者はこの上に横たわる。被検者の各部位での吸収信
号を含んだX線が検出器アレイで測定される。検出器ア
レイとスリットとは連動して天板とほぼ平行に送られる
。ある位置で静止させて1画素列の透過X線の測定をし
、続いて次の隣接位置へ段階状に送りここで静止させて
次の1画素列の測定するというステップ送りをとる場合
と、これらを連続的に送り1画素列の巾が送られる時間
にその1画素列の透過X線測定をする連続送りをとる場
合とがある。いづれにしろ、1画素列毎の測定が順次行
なわれ、全体として平面透過像が得られる。
補正作業を画像測定の前に行なう場合の実施例について
述べる。検出器アレイとスリットを定められた位置に止
め、画像測定の場合とほぼ同程度の定められた線量のX
線照射を開始する。照射時間は、1画素列の測定時間(
1ミリ秒)の約1000倍の約1秒とする。1画素列の
照射時間が約1ミリ秒の場合、1素子に入射するX線光
子の数は1000〜1oOoo個であるので、この10
00倍の時間を照射すると106〜107個の光子を計
数することになる。X線光子は不規則に入射する粒子で
あるからゆらぎ雑音を有している。このゆらぎの巾は、
標準偏差で表わして、入射粒子数nの平方根、すなわち
α−f「であり、このゆらぎの率は入射粒子の数が多く
なれば小さくなる。今、入射粒子の数をn=1o6〜1
07個とすると、α=1〜3X103個となQ、入射粒
子数の約0.1 %以下となし得る。
述べる。検出器アレイとスリットを定められた位置に止
め、画像測定の場合とほぼ同程度の定められた線量のX
線照射を開始する。照射時間は、1画素列の測定時間(
1ミリ秒)の約1000倍の約1秒とする。1画素列の
照射時間が約1ミリ秒の場合、1素子に入射するX線光
子の数は1000〜1oOoo個であるので、この10
00倍の時間を照射すると106〜107個の光子を計
数することになる。X線光子は不規則に入射する粒子で
あるからゆらぎ雑音を有している。このゆらぎの巾は、
標準偏差で表わして、入射粒子数nの平方根、すなわち
α−f「であり、このゆらぎの率は入射粒子の数が多く
なれば小さくなる。今、入射粒子の数をn=1o6〜1
07個とすると、α=1〜3X103個となQ、入射粒
子数の約0.1 %以下となし得る。
このようにして得たアレイ中の各素子の出力は、素子の
感度SiとX線の線方向の強度分布Iiとに比例した値
と々っている。この逆数をとれば、素子感度とX線強度
分布の補正係数となる。その精度はゆらぎ雑音で決まる
ので、これを0・1%以下になし得るということは、精
度の高い補正係数を得たということである。
感度SiとX線の線方向の強度分布Iiとに比例した値
と々っている。この逆数をとれば、素子感度とX線強度
分布の補正係数となる。その精度はゆらぎ雑音で決まる
ので、これを0・1%以下になし得るということは、精
度の高い補正係数を得たということである。
この補正測定は、1画面の測定の前に行なうのがよいが
、1画面測定の後で行なってもよい。また、素子感度の
経時変化が非常に少なく、X線強度分布の変化も無いと
予想されるときには、この補正測定はシステム系の点火
する都度、あるいは1日に1度来の割合(10〜100
画面に1度程度の割合い)で行なってもよい。
、1画面測定の後で行なってもよい。また、素子感度の
経時変化が非常に少なく、X線強度分布の変化も無いと
予想されるときには、この補正測定はシステム系の点火
する都度、あるいは1日に1度来の割合(10〜100
画面に1度程度の割合い)で行なってもよい。
上述の実施例で述べた放射線半導体検出器の単結晶と回
路の組についての補足説明を行なう。第2図は、その主
要構成要素を説明するブロック図である。5は半導体単
結晶で、これに電極6をとりつけ、直流電界を電源7に
よって印加する。この単結晶素子から出力されるパルス
信号は、パルス増幅器8で増幅された後、カウンタ回路
9で計数され、各素子で受けたX線量がデジタル計数値
として出力される。
路の組についての補足説明を行なう。第2図は、その主
要構成要素を説明するブロック図である。5は半導体単
結晶で、これに電極6をとりつけ、直流電界を電源7に
よって印加する。この単結晶素子から出力されるパルス
信号は、パルス増幅器8で増幅された後、カウンタ回路
9で計数され、各素子で受けたX線量がデジタル計数値
として出力される。
放射線半導体検出器素子の結晶として、0dTeやGa
Asのように原子番号の大きい物質を用いた場合には、
I W11以下の厚さでもX線吸収率は1に近い。した
がって、X線光子1個の入射吸収によって1個の信号パ
ルスを出力するわけであり、X線感度は理論限界に近い
。それゆえ、1ミリ秒程度の照射時間の微少なX線量が
測定できるのであるが、本例のようにこの照射時間を長
くすること10、−ノ によって、精度の高い補正係数を得ることができるので
ある。
Asのように原子番号の大きい物質を用いた場合には、
I W11以下の厚さでもX線吸収率は1に近い。した
がって、X線光子1個の入射吸収によって1個の信号パ
ルスを出力するわけであり、X線感度は理論限界に近い
。それゆえ、1ミリ秒程度の照射時間の微少なX線量が
測定できるのであるが、本例のようにこの照射時間を長
くすること10、−ノ によって、精度の高い補正係数を得ることができるので
ある。
発明の効果
CdTθやGaAsなどの高原子番号の材料による半導
体検出器アレイを用いたX線透過平面画像測定装置は、
従来知られたX線画像装置の中で最高の感度を有する。
体検出器アレイを用いたX線透過平面画像測定装置は、
従来知られたX線画像装置の中で最高の感度を有する。
そして、光子計数法でデジタル式に測定できるので、そ
の再現精度は抜群である。
の再現精度は抜群である。
ただ、この方式の画像信号の誤差要因としては、検出器
アレイ中の素子感度のばらつきが最も大きかったが、本
発明の方法により、0.1%以下にまで補正することが
できるようになった。画素信号出力の誤差が0・1%以
下ということは、従来に実現し得なかった精度であシ、
このような画素間感度差の少ない画像では、微小なX線
吸収率の差を有する物質、物体を識別することが可能と
なる。
アレイ中の素子感度のばらつきが最も大きかったが、本
発明の方法により、0.1%以下にまで補正することが
できるようになった。画素信号出力の誤差が0・1%以
下ということは、従来に実現し得なかった精度であシ、
このような画素間感度差の少ない画像では、微小なX線
吸収率の差を有する物質、物体を識別することが可能と
なる。
そのX線診断分野に与える影響は多大なものが期待でき
る。
る。
第1図は本発明の一実施例におけるX線透過像11A−
7、 受像装置の要部構成図、第2図は放射線半導体検出器の
ブロック構成図である。 5・・・・・・半導体結晶、6・・・・・・電極、7・
・・・・・電界印加用電源、8・・・・・・パルス増幅
器、9・・・・・・カウンタ回路、10・・・・・・X
線計数出力。
7、 受像装置の要部構成図、第2図は放射線半導体検出器の
ブロック構成図である。 5・・・・・・半導体結晶、6・・・・・・電極、7・
・・・・・電界印加用電源、8・・・・・・パルス増幅
器、9・・・・・・カウンタ回路、10・・・・・・X
線計数出力。
Claims (3)
- (1)X線発生装置からの扇状ビームを被写体に照射し
、透過したビームを半導体放射線検出器アレイに入射さ
せ、該扇状ビームと該半導体放射線検出器アレイをと被
写体にほぼ平行に駆動させて線順次のX線画素信号を得
てX線透過平面像を得る装置において、該X線発生装置
からの扇状ビームを画素信号を得る時間よりも充分に長
く該アレイ中の半導体放射線検出素子に同時照射し、こ
の信号結果に基いて該アレイ中の個々の半導体放射線検
出器の感度のバラツキの補正とX線扇状ビームのアレイ
配列方向の強度分布の補正とを行なうことを特徴とした
X線透過像測定方法。 - (2)X線透過平面像を1枚または複数枚以上撮影する
毎に補正を行なうことを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載のX線透過像測定方法。 - (3)半導体放射線検出器アレイの半導体結晶材料とし
て、テルル化カドミウムCdTe、砒化ガリウムGaA
s、またはゲルマニウムGeを用いることを特徴とした
特許請求の範囲第1項記載のX線透過像測定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62014506A JP2604736B2 (ja) | 1987-01-23 | 1987-01-23 | X線透過像測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62014506A JP2604736B2 (ja) | 1987-01-23 | 1987-01-23 | X線透過像測定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63181741A true JPS63181741A (ja) | 1988-07-26 |
JP2604736B2 JP2604736B2 (ja) | 1997-04-30 |
Family
ID=11862953
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62014506A Expired - Lifetime JP2604736B2 (ja) | 1987-01-23 | 1987-01-23 | X線透過像測定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2604736B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6900453B2 (en) | 1999-01-26 | 2005-05-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Image sensing apparatus |
US8556570B2 (en) | 2009-05-29 | 2013-10-15 | Hakko Corporation | Smoke and fume removal assembly with dual suction modes |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS558733A (en) * | 1978-07-04 | 1980-01-22 | Hitachi Medical Corp | Xxray tomography device |
JPS5568358A (en) * | 1978-11-17 | 1980-05-23 | Hitachi Medical Corp | Xxray tomogram device |
JPS6141440A (ja) * | 1984-08-02 | 1986-02-27 | 松下電器産業株式会社 | X線診断装置 |
-
1987
- 1987-01-23 JP JP62014506A patent/JP2604736B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPS5568358A (en) * | 1978-11-17 | 1980-05-23 | Hitachi Medical Corp | Xxray tomogram device |
JPS6141440A (ja) * | 1984-08-02 | 1986-02-27 | 松下電器産業株式会社 | X線診断装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6900453B2 (en) | 1999-01-26 | 2005-05-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Image sensing apparatus |
US8556570B2 (en) | 2009-05-29 | 2013-10-15 | Hakko Corporation | Smoke and fume removal assembly with dual suction modes |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2604736B2 (ja) | 1997-04-30 |
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