JPS63175296A - Vertical rom - Google Patents

Vertical rom

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JPS63175296A
JPS63175296A JP62006024A JP602487A JPS63175296A JP S63175296 A JPS63175296 A JP S63175296A JP 62006024 A JP62006024 A JP 62006024A JP 602487 A JP602487 A JP 602487A JP S63175296 A JPS63175296 A JP S63175296A
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JP
Japan
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word line
memory block
memory
selection
circuit
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Application number
JP62006024A
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Japanese (ja)
Inventor
Kikuo Sakai
酒井 菊雄
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Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To realize a high-speed operation with a vertical ROM by providing a pull-up means between the word lines of each memory block and a voltage terminal corresponding to the non-selection level of the word line. CONSTITUTION:Word line selection signals produced from a common decoder circuit XPDCR are selectively transmitted to the word lines W0-Wm of memory blocks MB0 and MB1 via switch MOSFETs Q7-Q9. In such constitution, pull-up means Q10-Q12 are added to set the word line of each memory block at a non-selection level respectively. As a result, the lines W0-Wm are kept at the non-selection levels although the blocks MB0 and MB1 are set under the non- selection states. Then a memory MOSFETQm can be read at a high speed in relevant memory access.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、縦型ROM (リード・オンリー・メモリ
)に関し、例えばメモリアレイが複数のメモリブロック
に分割されることによって、直列MOSFETの数を実
質的に減らしたものに利用して有効な技術に関するもの
である。
Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to a vertical ROM (read-only memory). It relates to techniques that are effective when used to substantially reduce the amount of waste.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

記憶情報に従ってディプレッジラン型かエンハンスメン
ト型にされた記憶MOSFETが直列形態(v/1型)
に接続されてなるROMが公知である。
Memory MOSFETs are series-connected (v/1 type), which are either depression run type or enhancement type depending on the storage information.
A ROM connected to the ROM is known.

このよう縦型ROMに関しては、例えば特開昭59−1
16993号公報がある。
Regarding such a vertical ROM, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-1
There is a publication No. 16993.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

上記縦型ROMにあっては、記憶MOSFETが直列形
態に接続されることによって、実質的にデータ線(ビッ
ト線又はディジット線)を構成するものであるため、大
記憶容量化に適したものである。
In the above-mentioned vertical ROM, the storage MOSFETs are connected in series to essentially constitute a data line (bit line or digit line), so it is suitable for increasing storage capacity. be.

上記縦型ROMにおいては、記憶容量の増大に伴い直列
MOS F ETの数が増加するとそこに流れる読み出
し電流が微小な電流になるため、複数のメモリブロック
に分割することが考えられる。
In the above-mentioned vertical ROM, when the number of series MOSFETs increases as the storage capacity increases, the read current flowing therein becomes a minute current, so it is conceivable to divide it into a plurality of memory blocks.

この場合、第2図に示すように、各メモリブロックMB
O,MB1等のワード線WOないしWmに対して共通の
選択信号を形成するプリデコーダXPDCRを設けて、
その選択信号をスイッチMOSFETを介して選択され
るメモリブロックに伝えることによってデコーダ回路の
共通化が図られる。例えば、メモリブロックMBOのワ
ード線WO〜Wmに対応してスイッチMOSFETQ7
〜Q9を設けて、このスイッチMO5FETQ7〜Q9
のゲートに、メモリブロックMBOに対応して設けられ
るデコーダ回路DCROによって形成される選択信号を
供給する。また、上記デコーダ回路DCROにより形成
される選択信号は、上記メモリブロックMBOの各直列
MOSFETの一端を共通のデータvADOに接続する
スイッチMO5FETQIのゲートにも伝えられる。他
のメモリブロックMBIに対しても同様なスイッチMO
SFET及びデコーダ回路DCR1が設けられる。
In this case, as shown in FIG.
A predecoder XPDCR is provided to form a common selection signal for word lines WO to Wm such as O and MB1,
By transmitting the selection signal to the selected memory block via the switch MOSFET, the decoder circuit can be shared. For example, switch MOSFETQ7 corresponds to word lines WO to Wm of memory block MBO.
~Q9 is provided, and this switch MO5FETQ7~Q9
A selection signal formed by a decoder circuit DCRO provided corresponding to the memory block MBO is supplied to the gate of the memory block MBO. The selection signal formed by the decoder circuit DCRO is also transmitted to the gate of the switch MO5FETQI that connects one end of each series MOSFET of the memory block MBO to the common data vADO. Similar switch MO for other memory blocks MBI
A SFET and a decoder circuit DCR1 are provided.

このような構成においては、非選択状態に置かれるメモ
リブロックのワード線はフローティング状態にされる。
In such a configuration, word lines of memory blocks placed in a non-selected state are placed in a floating state.

上記非選択状態が比較的長い時間にわたって継続すると
、リーク電流等により各ワード線WO〜Wmのレベルは
回路の接地電位のようなロウレベルに低下する。したが
って、そのメモリブロックの読み出し動作において、ワ
ード線WO−Wmのうち、1つがロウレベルの選択レベ
ルにされ、残りの全ワード線がハイレベルの非選択レベ
ルにされることによってメモリセルの読み出しが開始さ
れるため、読み出し動作が遅くなってしまう。すなわち
、メモリセルの読み出しは1つのワード線がロウレベル
にされ、そのワード線に結合される記憶用MOS F 
ETがディプレッション型なら電流が流れ、エンハンス
メント型なら電流がながれない、上記読み出し電流は他
の直列MOSFETのワード線がハイレベルの非選択レ
ベルにされることによってディプレッション型かエンハ
ンスメント型かにかかわらず全てオン状態にされている
ことが必要である。したがって、上記のようにワード線
がロウレベルにされている場合、それがハイレベルにさ
れないと選択された記憶用MOS F ETの読み出し
が行われない。
If the non-selected state continues for a relatively long time, the level of each word line WO to Wm decreases to a low level like the ground potential of the circuit due to leakage current or the like. Therefore, in the read operation of the memory block, one of the word lines WO-Wm is set to a low selection level, and all the remaining word lines are set to a high non-selection level, and reading of the memory cell is started. This slows down the read operation. That is, when reading a memory cell, one word line is set to low level, and the storage MOS F connected to that word line is read.
If the ET is a depletion type, current will flow; if it is an enhancement type, no current will flow.The above read current is generated by setting the word line of the other series MOSFET to a high non-select level, regardless of whether it is a depletion type or an enhancement type. It must be turned on. Therefore, when the word line is set to low level as described above, reading from the selected storage MOS FET will not be performed unless it is set to high level.

この場合、上記のようにスイッチMOS F ETを介
してプリデコーダ回路XPDCRからの非選択レベル(
ハイレベル)をワード線を伝える構成では、ワード線の
ハイレベルに立ち上がりに伴い、スイッチMOSFET
Q7等のゲートとソース間に供給される振り込み電圧が
低下して、そのコンダクタンスが小さくされるため、ワ
ード線の立ち上がりが遅い、したがって、上記非選択の
メモリブロックにおけるワード線レベルの低下は、読み
出し動作を遅くする大きな原因となるものである。
In this case, as described above, the non-selection level (
In a configuration in which a high level) is transmitted through a word line, as the word line rises to a high level, the switch MOSFET
The transfer voltage supplied between the gate and source of Q7 etc. is reduced and its conductance is reduced, so the rise of the word line is slow. Therefore, the drop in the word line level in the unselected memory block is This is a major cause of slow operation.

また、上記多数のワード線を一斉にハイレベルにするた
め、比較的大きなピーク電流が流れて回路の電源線にノ
イズを発生させる。この電源線のノイズは回路の接地電
位線との容量結合によって回路の接地線にも現れ、微小
電流のセンス動作を行うセンスアンプSAの動作マージ
ンも低下させる原因となるものである。
Furthermore, since the many word lines are set to high level all at once, a relatively large peak current flows, generating noise in the power supply line of the circuit. This noise on the power supply line also appears on the ground line of the circuit due to capacitive coupling with the ground potential line of the circuit, causing a reduction in the operating margin of the sense amplifier SA that performs a minute current sensing operation.

この発明の目的は、高速動作化を図った縦型ROMを提
供することにある。
An object of the present invention is to provide a vertical ROM that operates at high speed.

この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は
、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、共通のデコーダ回路により形成されるワード
線選択信号を複数のメモリブロックの各ワード線にスイ
ッチMOS F ETを介して選択的に伝える構成にお
いて、各メモリブロックにおけるワード線を非選択レベ
ルするプルアップ手段を設けるものである。
That is, in a configuration in which a word line selection signal formed by a common decoder circuit is selectively transmitted to each word line of a plurality of memory blocks via a switch MOS FET, a puller is used to set the word line in each memory block to a non-select level. It is provided with a lifting means.

〔作 用〕[For production]

上記した手段によれば、メモリブロックが非選択状態に
置かれても、各ワード線は非選択レベルに維持されるた
め、そのメモリアクセスに際して記憶用MOS F E
Tの読み出しを高速に行うことができる。
According to the above-mentioned means, even if the memory block is placed in a non-selected state, each word line is maintained at a non-selected level.
T can be read out at high speed.

〔実施例〕〔Example〕

第1図には、この発明の一実施例の回路図が示されてい
る。同図の各回路素子は、公知の半導体集積回路の製造
技術によって、特に制限されないが、単結晶シリコンの
ような1つの半導体基板上において形成される。特に制
限されないが、この実施例の縦型ROMは、Nチャンネ
ルMOSFETにより構成される。それ故、集積回路は
、単結晶P型シリコンからなる半導体基板上に形成され
る。NチャンネルMOSFETは、かかる半導体基板表
面に形成されたソース領域、ドレイン領域及びソース領
域とドレイン領域との間の半導体基板表面に薄い厚さの
ゲート絶縁膜を介して形成されたポリシリコンからなる
ようなゲート電極から構成される。
FIG. 1 shows a circuit diagram of an embodiment of the present invention. Each circuit element in the figure is formed on one semiconductor substrate such as, but not limited to, single-crystal silicon using known semiconductor integrated circuit manufacturing techniques. Although not particularly limited, the vertical ROM of this embodiment is composed of an N-channel MOSFET. Integrated circuits are therefore formed on semiconductor substrates consisting of single-crystal P-type silicon. The N-channel MOSFET consists of a source region, a drain region, and a polysilicon film formed on the semiconductor substrate surface between the source region and the drain region with a thin gate insulating film interposed therebetween. It consists of a gate electrode.

メモリアレイは、同図に破線により例示的に示されてい
るようにメモリブロックMBOとMBIを含む。各メモ
リブロックMBO及びMBIは、それぞれ複数の記憶用
MOSFETQmが直列形態に接続されてなる。上記各
記憶用MOS F ETQmは、記憶情報に従ってディ
プレッション型かエンハンスメント型かに形成される。
The memory array includes memory blocks MBO and MBI, as exemplarily shown by broken lines in the figure. Each memory block MBO and MBI is formed by a plurality of storage MOSFETQm connected in series. Each storage MOS FETQm is formed as either a depression type or an enhancement type depending on the storage information.

特に制限されないが、記憶用MOSFETQmは、ディ
プレッション型に形成され、記憶情報に従って選択的に
エンハンスメント型にされる。すなわち、上記ディプレ
ッション型MOSFETのチャンネル領域表面に、アル
ミニュウム等の配線を形成後に、その基板ゲートと逆導
電型の不純物を導入することによって、正のしきい値電
圧を持つようなエンハンスメント型の記憶MOS F 
ETを形成するという書き込みを行う、この場合、半導
体集積回路のぼり最終工程において、上記イオン打ち込
み法により書き込みを行うことができる。これによって
、半導体集積回路の製造工程の共通化が図れるので製造
効率の向上を図ることができる。
Although not particularly limited, the storage MOSFETQm is formed into a depletion type, and is selectively made into an enhancement type according to storage information. That is, by forming a wiring made of aluminum or the like on the surface of the channel region of the depletion type MOSFET and then introducing an impurity of a conductivity type opposite to that of the substrate gate, an enhancement type memory MOS having a positive threshold voltage can be created. F
In this case, writing to form an ET can be performed by the ion implantation method described above in the final step of assembling a semiconductor integrated circuit. This makes it possible to standardize the manufacturing process for semiconductor integrated circuits, thereby improving manufacturing efficiency.

この実施例では、1つのデータ線DOに対して各メモリ
ブロックMBO及びMBIにおいてそれぞれ一つの直列
形態の記憶用MOS F ETが設けられる。1つのデ
ータ線DOに設けられるメモリブロックMBOの直列M
OS F 87回路の一端は、それぞれ後述するデコー
ダ回路DCROにより形成される選択信号を受けるスイ
ッチMOS F ETQlを介して上記データ線DOに
接続される。メモリブロックMBOの他のデータ線り工
ないしDnに対応した直列MOSFETにおいても同様
にスイッチMO5FETQ2ないしQ3が設けられる。
In this embodiment, one series storage MOS FET is provided in each memory block MBO and MBI for one data line DO. Series M of memory blocks MBO provided on one data line DO
One end of the OS F 87 circuit is connected to the data line DO via a switch MOS F ETQl that receives a selection signal formed by a decoder circuit DCRO, which will be described later. Similarly, switches MO5FETQ2 to Q3 are provided in the series MOSFETs corresponding to the other data lines or Dn of memory block MBO.

また、メモリブロックMBIの各直列回路も、それに対
応したデコーダ回路DCR1により形成される選択信号
を受けるスイッチMOS F ETQ4ないしQ6を介
して、上記データ線noないしDnに接続される。
Further, each series circuit of memory block MBI is also connected to the data lines no to Dn via switch MOS FETs Q4 to Q6 that receive a selection signal formed by a corresponding decoder circuit DCR1.

上記メモリブロックMBO及びMBI各直列形態の記憶
用MOSFETのうち、横方向に対応する記憶用M、O
3FETQmのゲートは、ワード線WOないしWmそれ
ぞれ共通に接続される。これらメモリブロックMBO及
びMlの各ワード線WOないしWmは、それぞれスイッ
チM OS F E Ta2ないしQ9及びQ13ない
しQ15を介して、共通のプリデコーダXPDCRの出
力選択線にそ”れぞれ結合される。
Of the memory MOSFETs in series in each of the memory blocks MBO and MBI, the memory MOSFETs corresponding to the horizontal direction
The gates of the 3FETQm are commonly connected to each of the word lines WO to Wm. The word lines WO to Wm of these memory blocks MBO and Ml are respectively coupled to the output selection line of a common predecoder XPDCR via switches MOSFE Ta2 to Q9 and Q13 to Q15, respectively. .

上記メモリブロックMBQに対応したスイッチMOS 
F ETQ 7ないしQ9のゲートには、上記デコーダ
回路DCROにより形成される選択信号が供給される。
Switch MOS compatible with the above memory block MBQ
A selection signal formed by the decoder circuit DCRO is supplied to the gates of FETQ7 to Q9.

また、メモリブロックMBIに対応したスイッチMOS
FETQI 3ないしQ15のゲートには、上記デコー
ダ回路DCR1により形成される選択信号が供給される
In addition, switch MOS compatible with memory block MBI
A selection signal formed by the decoder circuit DCR1 is supplied to the gates of FETQI3 to Q15.

この構成においては、上記共通のプリデコーダ回路XP
DCHによって、メモリブロックMBOとMlのように
複数のメモリブロックに対して、共通の選択信号を形成
するものであるため、回路の簡素化を図ることができる
。また、直列形態の記憶用MOSFETQmのゲート間
のピッチに併せてワード線を配置することができるため
、メモリブロック及びワード線選択信号線を高密度に配
置することができる。
In this configuration, the common predecoder circuit XP
Since the DCH forms a common selection signal for a plurality of memory blocks such as memory blocks MBO and M1, the circuit can be simplified. Furthermore, since the word lines can be arranged in accordance with the pitch between the gates of the series storage MOSFETQm, memory blocks and word line selection signal lines can be arranged with high density.

上記データ線DoないしDnは、カラムデコーダYDC
Rにより形成される選択信号を受けるスイッチMOSF
ETQI 9ないしQ21を介して共通データ線CDに
接続される。特に制限されないが、データ線DOないし
Dnが512本で、ワード線WOないしWmが512本
の場合、1つのメモリブロックMBOで、約256にビ
ットの記憶容量を持つようにされる。それ故、約4Mビ
ットの記憶容量を持つ縦型ROMを構成する場合、上記
同様なメモリブロックが、合計で16個設けられるもの
である。
The data lines Do to Dn are connected to the column decoder YDC.
A switch MOSF receiving a selection signal formed by R
Connected to common data line CD via ETQI 9 to Q21. Although not particularly limited, if there are 512 data lines DO to Dn and 512 word lines WO to Wm, one memory block MBO has a storage capacity of about 256 bits. Therefore, when constructing a vertical ROM having a storage capacity of approximately 4 Mbits, a total of 16 memory blocks similar to those described above are provided.

上記共通データ線CDは、センスアンプSAの入力端子
に接続される。特に制限されないが、上記センスアンプ
SAには、上記メモリブロックの直列形態の記憶用MO
S F ETと同様な記憶回路からなるダミーアレイD
Cによりそれぞれ形成される基準電圧V refを参照
してそのセンス動作を行う。すなわち、ダミーアレイD
Cは、記憶用MOSFETQmが全てエンハンメント型
MOSFETにより構成され、そのゲートには定常的に
電源電圧Vccが供給されることによって定常的にオン
状態にされるものである。そして、その合成コンダクタ
ンスが、メモリブロックの直列形態の記憶用MOS F
 ETの合成コンダクタンスの約1/2に設定される。
The common data line CD is connected to the input terminal of the sense amplifier SA. Although not particularly limited, the sense amplifier SA may include a storage MO in the series form of the memory block.
Dummy array D consisting of a memory circuit similar to SFET
The sensing operation is performed with reference to the reference voltage V ref formed by C. That is, dummy array D
In C, all the storage MOSFETs Qm are constituted by enhancement type MOSFETs, and the power supply voltage Vcc is constantly supplied to the gate thereof, so that the memory MOSFET Qm is constantly turned on. Then, the composite conductance is the memory MOS F in the series form of the memory block.
It is set to approximately 1/2 of the composite conductance of ET.

この実施例の縦型ROMは、スタティック型回路として
構成される。すなわち、上記センスアンプSAは、読み
出し電流源を持ち、共通データ[CD及びデータ線並び
に選択される直列記憶用M OS F E T Q m
を介して電流が流れるか否かを上記ダミーアレイDCに
流れる電流を参照してセンスすることによって、その読
み出し動作が行われる。
The vertical ROM of this embodiment is configured as a static type circuit. That is, the sense amplifier SA has a read current source, and has a read current source, and is connected to the common data [CD and data lines as well as the selected serial storage MOS FET Q m
The read operation is performed by sensing whether or not current flows through the dummy array DC by referring to the current flowing through the dummy array DC.

この実施例では、メモリブロックMBOにおいて、それ
が非選択状態に置かれることによってワード線WOない
しWmの電位が低下してしまうことを防止するため、各
ワード線WOないしWmと電源電圧Vccとの間に、プ
ルアップ用のMOSFETQIOないしQ12が設けら
れる。これらのMOSFETQI OないしQ12をメ
モリブ07りMBOが非選択状態のときにオン状態にす
るため、言い換えるならば、メモリブロックMBOが非
選択状態のときにプルアンプ動作を行うようにするため
、上記デコーダ回路DCROの出力信号を受けるインバ
ータ回路N1が設けられる。このインバータ回路N1の
出力信号は上記MOSFETQIOないしQ12のゲー
トに伝えられる。
In this embodiment, in order to prevent the potential of the word lines WO to Wm from decreasing due to the non-selected state of the memory block MBO, each word line WO to Wm is connected to the power supply voltage Vcc. MOSFETs QIO to Q12 for pull-up are provided between them. In order to turn on these MOSFETs QI O to Q12 when memory block MBO is in a non-selected state, in other words, to perform a pull-amplification operation when memory block MBO is in a non-selected state, the decoder circuit described above is used. An inverter circuit N1 is provided to receive the output signal of the DCRO. The output signal of this inverter circuit N1 is transmitted to the gates of the MOSFETs QIO to Q12.

他のメモリブロックMBIにおいても同様に、それが非
選択状態に置かれることによってワード線WOないしW
mの電位が低下してしまうことを防止するため、各ワー
ド線WOないしWmと電源電圧Vccとの間に、プルア
ップ用のMOSFETQ13ないしQ15が設けられる
。これらのMOSFETQ13ないしQ15は、上記デ
コーダ回路DCRIの出力信号を受けるインバータ回路
N2の出力信号によってスイッチ制御されることによっ
て、メモリブロックMBIが非選択状態のときに各ワー
ド線WOないしWmのプルアップ動作を行う。
Similarly, in other memory blocks MBI, word lines WO to W are placed in a non-selected state.
In order to prevent the potential of m from decreasing, pull-up MOSFETs Q13 to Q15 are provided between each word line WO to Wm and the power supply voltage Vcc. These MOSFETs Q13 to Q15 are switch-controlled by the output signal of the inverter circuit N2 that receives the output signal of the decoder circuit DCRI, so that when the memory block MBI is in a non-selected state, each word line WO to Wm is pulled up. I do.

この実施例における縦型ROMのアドレス選択動作を次
に説明する。
The address selection operation of the vertical ROM in this embodiment will be explained next.

プリデコーダXPDCRは、図示しないロウ(X)系の
アドレス信号を解読して、その選択レベルをロウレベル
とし、非選択レベルをハイレベルとする。すなわち、上
記のようにワード線wO〜Wmが512本からなる場合
、上記512本のワード線に対して選択された1つのワ
ード線をロウレベルに、他の511本のワード線をハイ
レベルにする。また、デコーダ回路DCRO等は、対応
されたメモリブロックMBO等の選択信号を形成する。
The predecoder XPDCR decodes a row (X) system address signal (not shown), sets its selection level to a low level, and sets its non-selection level to a high level. That is, when word lines wO to Wm are composed of 512 as described above, one word line selected from among the 512 word lines is set to low level, and the other 511 word lines are set to high level. . Further, the decoder circuit DCRO and the like form a selection signal for the corresponding memory block MBO and the like.

したがって、例えばデコーダ回路DCROがその出力信
号をハイレベルの選択レベルにすると、上記プリデコー
ダ回路XPOCRにより形成されるワード線選択信号が
スイッチMOSFETQ7〜Q9を介してメモリブロッ
クMBOの各ワードpWQ−Wmに伝えられる。それ故
、メモリブロックMBOにおける選択されたワード線に
結合される記憶MOSFETQmがディプレッシッン型
なら直列回路に電流バスが形成され、エンハンスメント
型なら電流バスが形成されない。このとき、上記デコー
ダ回路DCROの選択レベルによって、インバータ回路
N1の出力信号がロウレベルになり、上記プルアンプ用
MOSFETQ10〜Q12はオフ状態にされる。
Therefore, for example, when the decoder circuit DCRO sets its output signal to a high selection level, the word line selection signal formed by the predecoder circuit XPOCR is applied to each word pWQ-Wm of the memory block MBO via the switch MOSFETs Q7 to Q9. Reportedly. Therefore, if the storage MOSFET Qm coupled to the selected word line in memory block MBO is of the depressing type, a current bus is formed in the series circuit, and if it is of the enhancement type, no current bus is formed. At this time, the output signal of the inverter circuit N1 becomes low level depending on the selection level of the decoder circuit DCRO, and the pull amplifier MOSFETs Q10 to Q12 are turned off.

上記メモリブロックMBOの各直列回路は、上記デコー
ダ回路DCROの選択レベルによってオン状態にされる
スイッチMOSFETQI〜Q3を介してデータ*DO
〜Dnに結合される。
Each series circuit of the memory block MBO outputs data *DO via switches MOSFETQI to Q3, which are turned on according to the selection level of the decoder circuit DCRO.
~Dn.

カラムデコーダYDCRは、例えば、データ線DO〜D
nが上記のように上記512本からなる場合、512本
のデータ線のうち1つのデータ線を選択して共通データ
線CDに結合させる。これによって、1つの記憶MOS
 F ETの記憶情報の読み出しが行われる。
Column decoder YDCR, for example, connects data lines DO to D.
When n is composed of 512 data lines as described above, one data line is selected from among the 512 data lines and coupled to the common data line CD. This allows one memory MOS
The information stored in the FET is read out.

選択される記憶MOSFETQmが上記エンハンスメン
ト型MOS F ETの場合、その実質的な読み出しは
、ワード線のレベルが電源電圧Vccのようなハイレベ
ル(非選択レベル)から回路の接地電位のようなロウレ
ベルに変化し、そのレベルがしきい値電圧vth以下に
達したときに開始される。このとき、他のワード線のレ
ベルが非選択レベルであることが必要である。
When the selected storage MOSFET Qm is the enhancement type MOSFET, the actual reading is performed when the word line level changes from a high level (non-selection level) such as the power supply voltage Vcc to a low level such as the ground potential of the circuit. It is started when the level reaches the threshold voltage vth or lower. At this time, it is necessary that the levels of the other word lines be at the non-select level.

この実施例では、このとき非選択状態に置かれるメモリ
ブロックMBIにあっては、対応するデコーダ回路DC
RIの出力信号が非選択レベルのロウレベルであるため
、インバータ回路N2の出力信号がハイレベルになって
プルアンプ用MO5FETQ16〜Q18がオン状態に
されてる。これによって、非選択のメモリブロックMB
I等にあっては全ワード線WO〜Wmがハイレベルの非
選択レベルにされている。
In this embodiment, in the memory block MBI placed in the non-selected state at this time, the corresponding decoder circuit DC
Since the output signal of RI is at a low level, which is a non-selection level, the output signal of the inverter circuit N2 becomes a high level, and the MO5FETs Q16 to Q18 for pull amplifiers are turned on. As a result, the unselected memory block MB
In I, etc., all word lines WO to Wm are set to a high level, a non-selection level.

したがって、上記メモリブロックMBOにあっても、そ
れが非選択状態に置かれるとき、上記同様に予め全ワー
ド線WO〜Wmがハイレベルの非選択レベルにされてい
たため、プリデコーダ回路XPDCRは、実質的に1つ
の選択されるワード線のレベルをハイレベルからロウレ
ベルに引き抜く動作を行うこととなる。上記のようにス
イッチMOSFET (Q7〜Q9のうち1つのMOS
FET)を介して信号の電圧を行う場合、そのゲートと
ソース間に電源電圧Vccのような駆動電圧(振り込み
電圧)がかかるため、上記スイッチMOSFETを大き
なコンダクタンス特性のもとてオン状態にすることがで
きる。これによって、ワード線の選択レベルへの立ち下
がり、言い換えるならば、選択すべきワード線における
寄生容量に蓄えられた蓄積電荷の引き抜きを高速に行う
ことができる。これによって、選択された記憶用MOS
FETQmの実質的な読み出し開始タイミングを早(す
ることができるものである。
Therefore, even in the memory block MBO, when it is placed in a non-selected state, all the word lines WO to Wm have been set to the high non-selected level in the same way as above, so the predecoder circuit XPDCR is substantially In this case, the level of one selected word line is pulled from high level to low level. As mentioned above, switch MOSFET (one MOS from Q7 to Q9
When applying a signal voltage through a MOSFET (FET), a drive voltage (transfer voltage) such as the power supply voltage Vcc is applied between its gate and source, so the switch MOSFET must be turned on with a large conductance characteristic. Can be done. As a result, the word line can be brought down to the selection level, or in other words, the accumulated charge accumulated in the parasitic capacitance of the word line to be selected can be quickly extracted. This allows the selected storage MOS
This allows the actual reading start timing of FETQm to be earlier.

このように、メモリブロックが非選択状態にされるとき
、プルアップ用MOSFETをオン状態にして、全ワー
ド線WO〜Wmをハイレベルの非選択レベルにさせるこ
とによって、それが選択状態にされたときの記憶用MO
SFETQmの実質的な読み出し動作を早くすることが
できる。
In this way, when a memory block is brought into a non-selected state, it is brought into a selected state by turning on the pull-up MOSFET and bringing all word lines WO to Wm to the high non-selected level. MO for memory of time
The actual read operation of SFETQm can be made faster.

また、メモリアクセスが行われるとき、言い換えるなら
ば、その読み出し動作が行われるとき512本のワード
線のうち1本をハイレベルからロウレベルに引き抜(も
のであるため、回路の接地電位線に流れるピーク電波は
微小なものとなる。
Also, when a memory access is performed, in other words, when a read operation is performed, one of the 512 word lines is pulled from a high level to a low level (because it is a low level, it flows to the ground potential line of the circuit). The peak radio waves will be minute.

それ故、回路の接地電位線に発生するノイズを最小に抑
えることができる。これによって、上記直列回路に電流
が流れるか否かをセンスするセンスアンプSAの動作マ
ージンを大きくすることができる。
Therefore, noise generated in the ground potential line of the circuit can be suppressed to a minimum. This makes it possible to increase the operating margin of the sense amplifier SA that senses whether or not current flows through the series circuit.

上記の実施例から得られる作用効果は、下記の通りであ
る。すなわち、 (1)共通のプリデコーダ回路により形成されるワード
線選択信号を複数のメモリブロックの各ワード線にスイ
ッチMOSFETを介して選択的に伝える構成において
、各メモリブロックにおけるワード線を非選択レベルす
るプルアップ手段を設けることによって、メモリブロッ
クが非選択状態に置かれるとき各ワード線は非選択レベ
ルにして置くことができる。これによって、そのメモリ
ブロックのメモリアクセスに際して記憶用MO5FET
の読み出しを高速に行うことができるという効果が得ら
れる。
The effects obtained from the above examples are as follows. That is, (1) In a configuration in which a word line selection signal formed by a common predecoder circuit is selectively transmitted to each word line of a plurality of memory blocks via a switch MOSFET, the word line in each memory block is set to a non-select level. By providing a pull-up means, each word line can be placed at an unselected level when the memory block is placed in an unselected state. As a result, when accessing the memory block, the storage MO5FET
The effect is that reading can be performed at high speed.

(2)上記(l)により、メモリアクセスが行われると
き、1つのワード線をハイレベルからロウレベルに引き
抜くものであるため、回路の接地電位線に流れる電流を
最小にすることができる。これによって、回路の接地線
に発生するノイズを最小にすることができるから、セン
スアンプの動作マージンを大きくできるという効果が得
られる。
(2) According to (l) above, when a memory access is performed, one word line is pulled from high level to low level, so that the current flowing through the ground potential line of the circuit can be minimized. This makes it possible to minimize the noise generated in the ground line of the circuit, resulting in the effect that the operating margin of the sense amplifier can be increased.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。例えば、プルアップ手段
は、対応するメモリブロックが非選択状態のときにオン
状態にされるMOS F ETを用いるものの他、ワー
ド線におけるリーク電流を補うような微小電流を流すポ
リシリコン層等からなる高抵抗手段からなるものであっ
てもよい。この場合は、ワード線を構成するポリシリコ
ン層等と一体的に形成できることにより抵抗素子のサイ
ズを小さくできることの他、その制御信号線が不用にな
るため、プルアップ手段をワード線の実装密度に併せて
高密度に形成することができる。1つのメモリブロック
において1つのデータ線に対応して設けられる直列形態
の記憶用MOS F ETを一対として、その中央にデ
ータ線を延長させるとともに、データ線に対して左右い
ずれかの直列形態の記憶用MOSFETを選択させるよ
うにするものであってもよい。このような直列形態の選
択は、上記メモリブロックを選択するデコーダ回路と、
左右の直列形態の記憶用MOSFETを択一的に選択す
るデコーダ回路を設ければよい。この構成においては、
1つのデータ線に結合される直列形態の記憶用MOS 
F ETの数を2倍にできるから、少ないメモリブロッ
ク数によって大きな記憶容量を得ることができる。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that the present invention is not limited to the above Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor. For example, the pull-up means may include a MOS FET that is turned on when the corresponding memory block is in a non-selected state, or a polysilicon layer that allows a small current to flow to compensate for leakage current in the word line. It may also consist of high resistance means. In this case, the size of the resistive element can be reduced by being able to form it integrally with the polysilicon layer, etc. that constitutes the word line, and the control signal line is not required, so the pull-up means can be used to reduce the packaging density of the word line. At the same time, it can be formed with high density. A pair of serial storage MOS FETs are provided corresponding to one data line in one memory block, and the data line is extended in the center, and the serial storage MOS FET is connected to either the left or right side of the data line. Alternatively, the MOSFET for use may be selected. Selection of such a serial configuration is performed by a decoder circuit that selects the memory block, and
It is sufficient to provide a decoder circuit that selectively selects the left and right series storage MOSFETs. In this configuration,
Storage MOS in series form coupled to one data line
Since the number of FETs can be doubled, a large storage capacity can be obtained with a small number of memory blocks.

また、縦型ROMのメモリアレイ及びその周辺回路は、
NチャンネルMOSFETとPチャンネルMOS F 
ETとの組み合わせからなるCMOS回路から構成され
てもよい。この場合、上記プリデコード出力をメモリブ
ロックのワード線に伝えるスイッチMOSFETをNチ
ャンネルMOSFETとし、プルアップMOSFETを
PチャンネルMOS F ETとすれば、デコーダ回路
の出力をこれらのMOS F ETのゲートに共通に供
給することができる。言い換えるならば、上記第1図に
示したインバータ回路Nl、N2等を省略できるもので
ある。直列形態の記憶用MOSFETの読み出し方式は
、プリチャージされた電圧が、選択された直列MO5F
ET回路を介してディスチャージされるか否によって読
み出されるというレシオレス型(ダイナミック型)論理
方式により行うものであってもよい。
In addition, the vertical ROM memory array and its peripheral circuits are
N-channel MOSFET and P-channel MOS F
It may be constructed from a CMOS circuit in combination with ET. In this case, if the switch MOSFET that transmits the predecode output to the word line of the memory block is an N-channel MOSFET, and the pull-up MOSFET is a P-channel MOSFET, the output of the decoder circuit can be shared by the gates of these MOSFETs. can be supplied to In other words, the inverter circuits Nl, N2, etc. shown in FIG. 1 can be omitted. The readout method of the series storage MOSFET is such that the precharged voltage is connected to the selected series MOSFET.
It may be performed using a ratioless type (dynamic type) logic system in which reading is performed depending on whether or not it is discharged via an ET circuit.

この発明は、直列形態にされた記憶用MOSFETのゲ
ートがそれぞれ結合されたワード線に、スイッチMOS
FETを介して選択信号を供給する方式の縦型ROMに
広く利用できる。
In the present invention, a switch MOS is connected to a word line to which the gates of storage MOSFETs arranged in series are respectively coupled.
It can be widely used in vertical ROMs that supply selection signals via FETs.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。すなわち、共通のプリデコーダ回路により形成される
ワード線選択信号を複数のメモリブロックの各ワード線
にスイッチMOSFETを介して選択的に伝える構成に
おいて、各メモリブロックにおけるワード線を非選択レ
ベルするプルアップ手段を設けることによって、メモリ
ブロックが非選択状態に置かれるとき各ワード線は非選
択レベルにして置くことができる。これによって、その
メモリブロックのメモリアクセスに際して記憶用MOS
FETの読み出しを高速に行うことができる。
A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows. That is, in a configuration in which a word line selection signal formed by a common predecoder circuit is selectively transmitted to each word line of a plurality of memory blocks via a switch MOSFET, a pull-up is used to set the word line in each memory block to a non-select level. By providing means, each word line can be placed at an unselected level when the memory block is placed in an unselected state. As a result, when accessing the memory block, the storage MOS
FET reading can be performed at high speed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、この発明の一実施例を示す回路図、第2図は
、この発明に先立って考えられる縦型ROMの一例を示
す回路図である。 MBO,MBI・・メモリブロック、XPDCR・・プ
リデコーダ回路、DCRO,DCRI・・デコーダ回路
、YDCR・・カラムデコーダ回路、SA・・センスア
ンプ 、で−\ 代理人弁理士 小川 勝馬<’ ニー、  %。 第1図 第 21S21
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of a vertical ROM considered prior to the present invention. MBO, MBI...Memory block, XPDCR...Pre-decoder circuit, DCRO, DCRI...Decoder circuit, YDCR...Column decoder circuit, SA...Sense amplifier, and -\Representative Patent Attorney Katsuma Ogawa <' Ni, % . Figure 1 21S21

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、複数のメモリブロックの複数のワード線に対応した
複数の選択信号を形成する第1のデコーダ回路と、上記
第1のデコーダ回路により形成された選択信号をメモリ
ブロックの各ワード線に伝える複数からなるスイッチM
OSFETと、スイッチMOSFETのゲートに供給す
る選択信号を形成する第2のデコーダ回路と、上記各メ
モリブロックにおけるワード線とワード線の非選択レベ
ルに対応した電圧端子との間に設けられるプルアップ手
段とを含むことを特徴とする縦型ROM。 2、上記プルアップ手段は、上記第2のデコーダ回路に
より形成された選択信号を受け、上記第1のスイッチM
OSFETと相補的に動作するスイッチMOSFETで
あることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の縦型
ROM。
[Claims] 1. A first decoder circuit that forms a plurality of selection signals corresponding to a plurality of word lines of a plurality of memory blocks, and a first decoder circuit that generates a selection signal formed by the first decoder circuit of the memory block. A switch M consisting of a plurality of switches that communicate to each word line
A pull-up means provided between the OSFET, a second decoder circuit that forms a selection signal to be supplied to the gate of the switch MOSFET, and a voltage terminal corresponding to a word line and a non-selection level of the word line in each memory block. A vertical ROM characterized by comprising: 2. The pull-up means receives the selection signal formed by the second decoder circuit and selects the first switch M.
The vertical ROM according to claim 1, wherein the vertical ROM is a switch MOSFET that operates complementary to an OSFET.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5477500A (en) * 1993-04-28 1995-12-19 Kabushiki Kaisha Toshiba Decode circuit for a semiconductor memory device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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