JPS63172067A - 浸透気化膜モジユ−ルにおけるシ−ル構造 - Google Patents
浸透気化膜モジユ−ルにおけるシ−ル構造Info
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- JPS63172067A JPS63172067A JP31170686A JP31170686A JPS63172067A JP S63172067 A JPS63172067 A JP S63172067A JP 31170686 A JP31170686 A JP 31170686A JP 31170686 A JP31170686 A JP 31170686A JP S63172067 A JPS63172067 A JP S63172067A
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Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はアルコール濃縮等に使用される浸透気化膜モジ
ュールにおけるシール構造に関するものである。
ュールにおけるシール構造に関するものである。
浸透気化膜は、膜の一次側に供給した溶液中の特定成分
を膜の二次側に浸透、気化させ蒸気状で取り出す分離方
法に使用されるものであり、この分離方法はその性能上
の観点から近来注目されている。
を膜の二次側に浸透、気化させ蒸気状で取り出す分離方
法に使用されるものであり、この分離方法はその性能上
の観点から近来注目されている。
ところで、この分離方法に使用される浸透気化膜モジュ
ールは、通常第4図に示すようにプレート1に平板状の
浸透気化膜2を取付け、この浸透気化膜2の外方(二次
側)に有孔板3及びスペーサー4を配置するとともに、
プレート1と浸透気化膜2との接触部にはゴム等のガス
ケット5が配設されて、構成されている。
ールは、通常第4図に示すようにプレート1に平板状の
浸透気化膜2を取付け、この浸透気化膜2の外方(二次
側)に有孔板3及びスペーサー4を配置するとともに、
プレート1と浸透気化膜2との接触部にはゴム等のガス
ケット5が配設されて、構成されている。
そしてプレート1に設けられた流入口6から溶液りがプ
レート1内、即ち浸透気化膜の一次側に流入し、この溶
液りが流出ロアから流出する間に、例えば水分等の特定
成分が浸透気化膜2を通過し、気化し蒸気となって二次
側へ分離されるようになっている。
レート1内、即ち浸透気化膜の一次側に流入し、この溶
液りが流出ロアから流出する間に、例えば水分等の特定
成分が浸透気化膜2を通過し、気化し蒸気となって二次
側へ分離されるようになっている。
ところで、このような浸透気化膜モジュールには、ガス
ケット5のシール性に問題がある。
ケット5のシール性に問題がある。
即ち、通常ガスケット5はそのシール性の問題からゴム
等が使用されているが、溶液りが有機溶剤である場合、
耐溶剤性、耐薬品性に欠けるため、プラントを長期運転
することができず、そのため効率が悪くかつ保守、点検
に多大の時間と労力を必要とすることとなっていた。
等が使用されているが、溶液りが有機溶剤である場合、
耐溶剤性、耐薬品性に欠けるため、プラントを長期運転
することができず、そのため効率が悪くかつ保守、点検
に多大の時間と労力を必要とすることとなっていた。
本発明は前記したような従来の問題点を解決するために
なされたものであって、その目的とするところは有機溶
剤を浸透気化膜モジュールで分離する場合において、モ
ジュールにおける有機溶剤のシール性を向上させ、もっ
てプラントの長期運転を可能にするばかりでなく、保守
、点検作業を少なくしようとする点にある。
なされたものであって、その目的とするところは有機溶
剤を浸透気化膜モジュールで分離する場合において、モ
ジュールにおける有機溶剤のシール性を向上させ、もっ
てプラントの長期運転を可能にするばかりでなく、保守
、点検作業を少なくしようとする点にある。
本考案は前記した目的を達成するために、流体の出入口
を有するプレートの周囲に凸部を形成し、この凸部ある
いはこの凸部に接当される膜側に耐溶剤性材料よりなる
薄膜材を取付けてなる浸透気化膜モジュールにおけるシ
ール構造である。
を有するプレートの周囲に凸部を形成し、この凸部ある
いはこの凸部に接当される膜側に耐溶剤性材料よりなる
薄膜材を取付けてなる浸透気化膜モジュールにおけるシ
ール構造である。
即ち、プレートに膜を取付け、該プレート内に被分離流
体を通過させるとともに膜を浸透気化した流体を取出す
ようにした浸透気化膜モジュールにおいて、前記プレー
トと膜の接触面の少なくとも何れか一方に耐溶剤性材料
よりなる薄膜材を取付け、かつプレートに弾力性を与え
た浸透気化膜モジュールにおけるシール構造を提供せん
とするものである。
体を通過させるとともに膜を浸透気化した流体を取出す
ようにした浸透気化膜モジュールにおいて、前記プレー
トと膜の接触面の少なくとも何れか一方に耐溶剤性材料
よりなる薄膜材を取付け、かつプレートに弾力性を与え
た浸透気化膜モジュールにおけるシール構造を提供せん
とするものである。
浸透気化膜としては、例えばポリビニルアルコール膜、
ポリエチレン膜、酢酸セルローズ膜、シリコン膜等が使
用される。
ポリエチレン膜、酢酸セルローズ膜、シリコン膜等が使
用される。
プレートと浸透気化膜との間をシールする耐溶剤性材料
よりなる薄膜材としては、前記浸透気化膜と同一材料か
ポリ弗化エチレン樹脂、ポリビニールアルコール樹脂、
フェノール膜等が使用される。
よりなる薄膜材としては、前記浸透気化膜と同一材料か
ポリ弗化エチレン樹脂、ポリビニールアルコール樹脂、
フェノール膜等が使用される。
プレートは、例えばステンレス板あるいはその他の耐蝕
材をプレス成形した縦×横が約50cmの大きさの皿状
のものであって、一方に処理流体の入口と他方に処理後
の流体の出口を有するものが主として使用される。
材をプレス成形した縦×横が約50cmの大きさの皿状
のものであって、一方に処理流体の入口と他方に処理後
の流体の出口を有するものが主として使用される。
このプレートは通常は薄板材で構成されているので、前
記シール材である薄膜材を押圧する部分に環状に凸部を
形成して弾性力を与えておくことが好ましい。その凸部
が突出する高さと幅としては、例えばプレートが0.5
〜1.5flのステンレス板材をプレス成形した縦が約
50ca+で横が約50c+aの皿状のものである場合
には、幅が5〜10龍で高さが0.5〜1.5flが適
当である。
記シール材である薄膜材を押圧する部分に環状に凸部を
形成して弾性力を与えておくことが好ましい。その凸部
が突出する高さと幅としては、例えばプレートが0.5
〜1.5flのステンレス板材をプレス成形した縦が約
50ca+で横が約50c+aの皿状のものである場合
には、幅が5〜10龍で高さが0.5〜1.5flが適
当である。
シール材である薄膜材の厚さは50〜200μが適当で
あり、通常は前記プレート側にコーティングあるいはラ
イニングによって設けられているが、場合によってはこ
のプレート上に積層される浸透気化膜側に接着しても同
様な効果を得ることができる。
あり、通常は前記プレート側にコーティングあるいはラ
イニングによって設けられているが、場合によってはこ
のプレート上に積層される浸透気化膜側に接着しても同
様な効果を得ることができる。
コーティングとしては、それぞれの樹脂に合ったもので
かつ、プレートに歪を生じさせないコーティング法であ
れば良(、また、ライニングとしては溶剤に応じた耐溶
剤性接着剤によって行なわれる。
かつ、プレートに歪を生じさせないコーティング法であ
れば良(、また、ライニングとしては溶剤に応じた耐溶
剤性接着剤によって行なわれる。
以下、第1図ないし第3図に基づき本発明による浸透気
化膜モジュールにおけるシール構造の一実施例を説明す
る。
化膜モジュールにおけるシール構造の一実施例を説明す
る。
これらの図において第4図と同一符号は同一名称を示す
。
。
第1図においてプレート1と浸透気化膜2との接触面に
はシール材である薄膜材8が設けられている。具体的に
はこの薄膜材8は第2図に示されるようにプレート1の
周囲にプレート1に弾性力と局部的なシール性を与える
ための断面が突出した凸部9をプレート1の周囲に沿っ
て環状に形成し、該凸部9の表面に、例えば浸透気化膜
2と同−材料又はテフロン、ポリビニール等の耐溶剤性
・耐薬品性良好な材料をコーティング又はライニング施
工して形成される。
はシール材である薄膜材8が設けられている。具体的に
はこの薄膜材8は第2図に示されるようにプレート1の
周囲にプレート1に弾性力と局部的なシール性を与える
ための断面が突出した凸部9をプレート1の周囲に沿っ
て環状に形成し、該凸部9の表面に、例えば浸透気化膜
2と同−材料又はテフロン、ポリビニール等の耐溶剤性
・耐薬品性良好な材料をコーティング又はライニング施
工して形成される。
この薄膜材8は、例えば第3図に示すように浸透気化膜
2側に予め形成させておいてもよいし、又はプレート1
及び浸透気化膜2の両方に予め施工して設けておいても
よい。
2側に予め形成させておいてもよいし、又はプレート1
及び浸透気化膜2の両方に予め施工して設けておいても
よい。
こ9薄膜材8は、シート材を貼付又は加熱圧着させるか
、粉末材を加熱溶融させることにより容易に形成させる
ことができる。
、粉末材を加熱溶融させることにより容易に形成させる
ことができる。
前記構成によれば、被分離流体である溶液Lの温度変化
により薄膜材8が変形するが、このときプレート1の凸
部9により弾性力が与えられているため、その押圧力に
より接触面をシールすることができる。
により薄膜材8が変形するが、このときプレート1の凸
部9により弾性力が与えられているため、その押圧力に
より接触面をシールすることができる。
以上説明の如く、本発明による浸透気化膜モジュールに
よるシール構造によれば、シール材である薄膜材8がプ
レート1と浸透気化膜2との凹凸に容易に追随するため
シール性がよく、かつ耐溶剤性、耐薬品性の材料で形成
されるため、プラントの連続運転が可能で、しかも、保
守、点検作業を最少限に押えることができるという効果
がある。
よるシール構造によれば、シール材である薄膜材8がプ
レート1と浸透気化膜2との凹凸に容易に追随するため
シール性がよく、かつ耐溶剤性、耐薬品性の材料で形成
されるため、プラントの連続運転が可能で、しかも、保
守、点検作業を最少限に押えることができるという効果
がある。
第1図ないし第3図は本発明による浸透気化膜モジュー
ルにおけるシール構造の実施例を示すものであって第1
図は断面図、第2図は第1図のA部拡大図、第3図は第
2図の他の実施例の説明図、第4図は従来の浸透気化膜
モジュールの断面図である。 1・・・プレート、2・・・浸透気化膜、3・・・有孔
板、4・・・スペーサー、5・・・ガスケット、6・・
・流入口、7・・・流出口、8・・・薄膜材、9・・・
凸部。
ルにおけるシール構造の実施例を示すものであって第1
図は断面図、第2図は第1図のA部拡大図、第3図は第
2図の他の実施例の説明図、第4図は従来の浸透気化膜
モジュールの断面図である。 1・・・プレート、2・・・浸透気化膜、3・・・有孔
板、4・・・スペーサー、5・・・ガスケット、6・・
・流入口、7・・・流出口、8・・・薄膜材、9・・・
凸部。
Claims (1)
- 流体の出入口を有するプレートの周囲に凸部を形成し、
この凸部あるいはこの凸部に接当される膜側に耐溶剤性
材料よりなる薄膜材を取付けてなる浸透気化膜モジュー
ルにおけるシール構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31170686A JPS63172067A (ja) | 1986-12-30 | 1986-12-30 | 浸透気化膜モジユ−ルにおけるシ−ル構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31170686A JPS63172067A (ja) | 1986-12-30 | 1986-12-30 | 浸透気化膜モジユ−ルにおけるシ−ル構造 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63172067A true JPS63172067A (ja) | 1988-07-15 |
Family
ID=18020486
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31170686A Pending JPS63172067A (ja) | 1986-12-30 | 1986-12-30 | 浸透気化膜モジユ−ルにおけるシ−ル構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63172067A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000073194A (ja) * | 1998-08-27 | 2000-03-07 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 電解槽およびこれを使用する濃縮オゾン発生装置 |
-
1986
- 1986-12-30 JP JP31170686A patent/JPS63172067A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000073194A (ja) * | 1998-08-27 | 2000-03-07 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 電解槽およびこれを使用する濃縮オゾン発生装置 |
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