JPS63170613A - バーコードシンボル読取り機のための走査パターン発生器 - Google Patents

バーコードシンボル読取り機のための走査パターン発生器

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JPS63170613A
JPS63170613A JP62323627A JP32362787A JPS63170613A JP S63170613 A JPS63170613 A JP S63170613A JP 62323627 A JP62323627 A JP 62323627A JP 32362787 A JP32362787 A JP 32362787A JP S63170613 A JPS63170613 A JP S63170613A
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scanning
axis
light
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般にバーコードシンボルを読み取るための
レーザー走査システムに関し、特に読み取るべきシンボ
ルを横切って延びる走査パターンを発生するための走査
パターン発生器に関する。
米国特許隘4.251.798 ;4.360.798
 ; 4,369,361;4.387,297  i
 4.593,186 ;4,496.831 i 4
,409,470;4.460.120および4.60
7.156ならびに米国出願一連番号519.523 
; 831,415 ; 706,502および883
、93−前記特許および特許出願のすべては本発明の譲
り受は人により所有されている−により例示された形式
のレーザー走査システムや構成要素ば、特にユニバーサ
ル・プロダクト・コード(U、PC)型のバーコードシ
ンボルを、手で保持されるまたは固定の走査装置から或
る作用距離または読取り距離をおいて、かつ走査線を引
くように各シンボルの上を走査される或る大きさの読取
リスポットで読み取るように一般に設計されている。
以前に、一または二方向に沿って延びる互いに平行な走
査線の走査パターン、ならびに交差する走査線の二方向
走査パターンや曲線からなる走査パターンさえも発生さ
せて、読み取るべきシンボルの上へ重ね合わせ、たとえ
どんなそれぞれのシンボルの角度配向が所定の限界内に
あろうとも、走査線の少なくとも一つまたはパターンの
部分がそれぞれのシンボルの全長にわたって走査される
ように保証することが提案された。しかし、周知のパタ
ーンは高度に複雑な費用のかがる装置により発生される
また、読み取るべきシンボルの角度配向は全く別として
も、一つのシンボルが走査装置に近接して位置すると共
に、他のシンボルが走査装置から遠方に位置し、つまり
連続的なシンボルが走査装置から種々の作用距離に位置
しうる。或る範囲の作用距離内でシンボルを読み取るよ
うに設計された走査装置の場合に、特別なシンボルがこ
の範囲の外側に落ちることが起こるならば、走査装置と
シンボルの間の距離を常に短かい時間間隔で調節しなけ
ればならない。というのは、さもないとシンボルが読み
取られないからである。手で保持される走査装置の場合
には、走査装置を常に手でシンボルに対し近接または離
隔するように動かして走査装置とシンボルの間の距離を
調節する。これは、骨の折れる手順であり、かつ多数の
読取る試みを必要とする。それ故、走査中作用距離が自
動的に変化される、いわゆる「ズーム」特性を走査パタ
ーン発生器に組み込むのが望ましい。
本発明の全搬的な目的は、バーコードシンボルを読み取
るためのレーザー走査システムの技術状態を進歩させる
ことである。
本発明の他の目的は、シンボルの上に互いに平行な線の
または交差する線の走査パターンを比較的簡単なパター
ン発生システムで、選択的に同時に、出て行くレーザー
ビームの作用距離を変化させて発生させることである。
本発明のさらに続く目的は、一方向に走査する少なくと
も一つの走査線および反対方向に走査する少なくともも
う一つの走査線である、互いに平行な走査線の二方向走
査パターンを発生させることである。
これらの目的、および以下間らかになる他の目的を念頭
において、本発明の一つの特徴は、簡単に云えば、解読
されたときに、シンボルが添付された物体を識別する、
パターンに配列されたシンボル、特に交互のバーとスペ
ースを有するバーコードシンボルを読み取るためのレー
ザー走査システムに使用される光学装置にある。走査シ
ステムは、出口ポートを有するハウジングと、レーザー
ビームを発生するためのレーザー源、例えばガスレーザ
ー管または半導体レーザーダイオードと、ハウジングの
外部に位置する連続的なシンボルを横切る走査でレーザ
ービームを走査するためのハウジング内の走査手段とを
有する。光学装置は、走査ビームを出口ポートを通って
光路に沿って指向させるために、および走査ビームを、
所定のウェスト寸法の横断面ビームスポットで、かつハ
ウジングの出口ポートから所定の距離を置いて光学的に
形成するためにハウジングに設けられた光学手段を有す
る。
特に、本発明は、各シンボルを横切って直線状に延びる
互いに平行な走査線の走査パターンを発生させるための
パターン手段に具体化される。走査線はシンボルの高さ
の上に配列される。走査線の少なくとも一つが各シンボ
ルを横切って一つの掃引方向に沿って掃引し、−力走査
線の少なくとももう一つは各シンボルを横切って前記一
つの掃引方向と逆流の反対掃引方向に沿って掃引し、そ
れによりその掃引方向がどうであれ、それぞれのシンボ
ルを第一の利用できる走査線により読み取ることができ
る二方向走査を形成する。これによって読取り速さが改
善される。
有利な一実施例では、パターン発生手段は、屈折率を有
する、光を屈折する材料で構成された遊星回転鏡を有し
、この鏡は、鏡の厚さにより隔てられた対向する主鏡面
を有する。鏡面は走査駆動部の出力軸の軸線にほぼ平行
に延びている。鏡面のうちの一面は、その上に光を反射
する被覆を有する。鏡にレーザービームが或る入射角で
突き当り、一対のフォールディング鏡が鏡から反射され
た光をハウジングの出口ポートを通って反射するために
配置されている。走査線は、屈折率、回転鏡の厚さ、お
よび回転鏡に突き当たるレーザービームの入射角により
、軸線に平行な方向に互いに隔置される。
パターン発生手段の他の実施例では、回転鏡の両方の対
向する主鏡面に、光を反射する被覆が設けられている。
鏡面が軸線に対し鋭角で延びている。走査中出力軸が回
転する間、レーザービームが両方の鏡面に突き当って、
各シンボルの高さを横切って位置する走査線を発生する
さらにもう一つの特徴は、各シンボルの上で交差する走
査線の二方向走査パターンを発生することにある。回転
鏡が軸に、走査中その軸線を中心として回転可能に取り
つけられている。この鏡は、軸線に対し或る角度で延び
る面に光反射被覆を有する。複数のフォールディング鏡
が、二方向パターンを発生するように回転鏡の周りに等
しい角度で配置されている。フォールディング鏡の一つ
は、出て行(レーザービームの光路の長さを変えるよう
に可動であることができる。光路の長さを変えることに
より、ビームスポットの所定の作用距離が走査中変化す
る。このいわゆる「ズーム」の特徴により走査パターン
が、近接したおよび遠く離れたシンボルを読むことがで
きる。
本発明の特性として考えられる新規な特徴は、特に特許
請求の範囲に示されている。しかしながら、発明それ自
体は、その構造およびその作用方法の両方に関して、そ
の付加的な目的や利益と共に、特定の実施例の次の記載
を付図と関連して読んだときに最も良く分かるだろう。
以下、本発明を実施例について図面により説明する。
図面を参照すると、第1図の参照数字10は、シンボル
、特にUPCバーコードシンボルを読み取るための、上
記の特許および特許出願に大体記載された型式のレーザ
ー走査システムの装置を全体的に識別する。この明細書
と特許請求の範囲に用いられているように、「シンボル
」という用語は広義に解釈され、かつ交互のバーとスペ
ースで構成されたシンボルパターンだけではなく、他の
パターン並びに文字数字式の記号もカバーするように意
図されている。
装置10は、一点鎖線で示されたハウジング12を有し
、このハウジングは手で握られる小型のワークステーシ
ョンまたは固定走査装置のハウジングを表わしているつ
もりであり、ハウジング12は出口ポート14があり、
この出口ポートを通って出て行くレーザー光ビームが、
ハウジングの外に位置するシンボルに突き当たって走査
するように向けられ、各シンボルは走査されてそのそれ
ぞれの順番に読み取られる。レーザー源、例えばガスレ
ーザー管16または半導体レーザーダイオードがハウジ
ングに取りつけられており、付勢されたときに、源16
がレーザービームを発生する。
多線走査パターン発生器120が第1図と第2A−F図
に示されており、かつ読み取るべきシンボルを横切る多
走査線または掃引線を発生するためだけではなく、発生
器120が収容されているハウジング12から種々の作
用距離をおいて少なくともいくつかの走査線を位置決め
するためにも作用する。発生器120の他の特徴は、そ
の結果として生ずる走査パターンの二方向性にある。
レーザー源16はレーザービームを光学レンズ122を
通って指向させてビームを回転主鏡124の上へ向ける
。この回転主鏡は、モータ駆動部128により垂直軸線
を中心として回転される垂直軸126に取りつけられて
いる。第3B図の拡大図に示されているように、鏡12
4は、鏡の厚さ寸法T3により分離された対向する主平
坦面130と132を有する。光を反射する被覆134
が表面の一つ、例えば132の上に施されている。
発生器120はまた、軸126の垂直軸線に対し或る角
度で傾斜した一対の固定筒−面側方鏡136.138を
有し、これらは互いに対しても角度をもっている。側方
鏡136.138は、光反射被覆140,142がそれ
ぞれ施されている前面を有する。傾斜した側方鏡136
,138は主鏡124に対して次のように、すなわち鏡
124の回転中、鏡124に突き当たるレーザー光が、
鏡124の各回転中の或る時に、側方鏡の一つに向けら
れてそこから前方へ外部のシンボルへ反射されるように
位置している。
第1図に示した二方向多走査線パターン144は次のよ
うに発生される。鏡124が初めに第2A図に示したよ
うに、その被覆面134が直接レーザー源16に面して
位置していると仮定する。
源16により放射されたレーザービームが同じ光路(例
示しやすいようにわずかに分離して示した)に沿って戻
されて距離29を置いて位置したシンボルに突き当たる
。第2A図の位置について鏡124の回転中、走査線1
50が発生される。ついに、矢印146の周方向に鏡1
24が運動後、鏡124が第2B図に示したように配向
され、そこで鏡124がその上に入射するレーザービー
ムを側方鏡136へ向け、その被覆面140により前方
へ反射して距離210に位置したシンボルに突き当たる
。210は、ビームが側方鏡136へそれるので29よ
り短かい。第2B図の位置について鏡1240回転中、
走査線152が発生される。走査線152は走査線15
0の方向と反対方向に掃引される。
ついに、鏡124が矢印146の方向にさらに続いて回
転する間に、第2C図の位置に向けられ、そこで被覆面
134がレーザー源16と反対方向に面するので、レー
ザービームは後方の被覆面134に倒達する前に初めに
!! 124の被覆されてない面130を通らなければ
ならない。第3B図の拡大図に示したように、この入射
ビームが入射角θで突き当たり、そこでビームが、a1
24の屈折率n′により決められた程度まで角θ′で屈
折される。屈折されたビームは被覆面134から反射し
、ついには再び鏡/空気面130で屈折される。第3A
図と第3B図を比較すると、第2B図の位置で被覆面1
34から単に反射したビームと、そこで屈折された後読
124を出るビームとの間の位置の移動△Dは次の通り
である。
cos  θ 第2C図に戻ると、鏡124を出る屈折したビームが側
方鏡38の被覆面142に向けられ、前方に反射して作
用距離210に位置するシンボルに至る。第2C図の位
置について鏡124の回転により走査線154が発生し
、この走査線が走査線152と同じ方向に掃引される。
第2A図と関連して述べた仕方と類似した仕方で、鏡1
24がさらに続いて回転すると、ついに鏡124が第2
D図の位置に配向され、そこで被覆面134が鏡124
を第二の表面鏡に変換する。
この場合には、入って来るビームが被覆面134により
作用位置29へ前方へ反射される前に鏡の厚さT、を通
過しなければならない。第2D図の位置について鏡12
4の回転により発生した走査線156が走査線150と
同じ方向に掃引される。
走査線158が、第2C図と関連して前述した仕方に類
似した仕方で第2E図について鏡124の回転により発
生されるが、但し鏡124を出るビームが、その代わり
として、作用距離210に位置するシンボルへ前方に反
射する前に他方の側方鏡136へ向けられる。
走査線160が第2B図と関連して前述した仕方と類似
した仕方で第2F図の位置について鏡124の回転によ
り発生されるが、但し鏡124を出るビームが、作用距
離21−0に位置するシンボルへ前方へ反射する前に他
方の側方鏡138へ向けられる。走査8ii!160な
らびに走査線158が走査線152と同じ方向に掃引さ
れる。
第1図に最も良く示されているように、走査パターン1
44は、走査線150,156が左から右へ掃引され、
かつ残りの走査線152,154゜158および160
が右から左へ掃引された状態の互いに平行な複数の走査
線からなる。すべての走査線がシンボルの高さにわたっ
て離れて広がる。
この広がりは鏡124の厚さT:+、rL124へのレ
ーザービームの入射角θおよび鏡124の屈折率n′に
より制御され、かつこれらの函数である。
鏡はガラスで構成されるのが望ましい。また第2A図か
ら第2F図に示されているように、ビームスポットが作
用距M29または210で焦点に集められ、かつ交互に
位置し、それによりズーム作用が得られる。
多走査線を互いに離して広げる他の方法は、単一の被覆
面を有する垂直に延びる&Jt124を、対向する側に
二つの光反射被覆面164,166を有する、第4−6
図に示した傾斜した鏡162と置き代えることである。
傾斜した鏡162はモータ駆動部128の軸126に垂
直線に対しある角度で取りつけられている。レーザー源
16により放射される光ビームにより突き当てられたと
きに、角度φで配向された被覆面164またはφの補角
で配向された被覆166が源16に面する。鏡162の
被覆面の傾斜角が異なるので、走査線の間で所望の角度
に広がる。
二方向走査線パターン発生器170が第7図に示されて
おり、交差する線パターンを発生するように作用する。
発生器170は構造が筒車であり、かつ垂直な出力軸1
74を有する駆動モータ172を含み、出力軸には前面
平坦鏡176が矢印178の周方向に回転可能に固着さ
れている。
複数の傾斜した反射側方鏡180,182゜184が垂
直軸174の周りに等しい角度で分配されている。側方
鏡は、源16から放射されかつ頭上のフォールディング
鏡186により中心鏡176へ指向されるレーザービー
ムの光路に位置する。
中心境176が回転すると、レーザービームが鏡180
,182,184へ各々その順番で連続的に向けられて
読み取るべきシンボルに向かって反射する。その結果と
して生ずる多線パターン188が第7図の実施例のシン
ボルを三つの交差する線でおおう。四つ、八つ、六つま
たは五つの鏡が垂直軸174の周りに等角度に分配され
ている場合には、第7A、7B、7Cおよび7B図にそ
れぞれ示したパターンが中心境176の各回転中発生す
るだろう。
頭が二つの矢印185の方向に沿ってシリンダ183に
対して往復運動可能なピストンロッド181のような駆
動部が側方鏡のどれか一つ、例えば180に連結されて
いる。側方鏡180が中心鏡176の回転軸線に対して
半径方向に近接または離隔するように動かされるので、
側方鏡180と関連した焦点に集められた走査線が種々
の作用距離に位置し、それによりズーム作用が達成され
る。
他の二方向走査線パターン発生器190が第8図と第9
図に示されており、交差する走査線パターンだけではな
く、ハウジングから種々の作用距離に位置する個々の走
査線も発生し、それによりズーム作用が達成される。前
のように、駆動モータ172が、垂直に配向された出力
軸174を回転させる。複数の傾斜した側方の反射鏡1
80゜182.184が軸174の周りに等角度で配置
されている。出口孔14を有するハウジング12も、光
源16からのレーザービームが向けられる頭上のフォー
ルディング鏡186を支持している。
以前の実施例により提案されたように軸174の単独の
鏡を回転させないで、この実施例は軸174に鏡組立体
を取りつけることを提案する。
この鏡組立体は細長い上方および下方棒192゜194
を有し、これらの内端が互いに平行に軸174に固定さ
れかつこれと共に回転可能である。
棒192.194がスペーサ196により軸方向に間隔
を置いている。棒192.194の外端にそれぞれ鏡1
98.200が支持されている。鏡198が棒192の
外端に固定して取りつけられている。鏡200が、軸1
74の垂直軸線204に平行な軸線202を中心として
回転可能に取りつけられている。鏡200が棒194の
外端で遊星歯車206の中心軸に取りつけられており、
遊星歯車は、固定太陽歯車208の外歯と噛み合う外歯
を有する。太陽歯車208は軸174を同軸に囲んでい
て、かつモータ172のハウジングに固定状態に取りつ
けられている。歯車206゜208は円形であり、太陽
歯車208は遊星歯車206の直径より非常に大きい直
径を有するので、鏡200がその軸線202を中心とし
て高い角速度で回転する。
もう一つの鏡210が棒192の内端に固定状態に取り
つけられ、かつ頭上の鏡186から反射される光線の光
路に位置している。鏡210から反射された光は固定鏡
198に向けられ、そこで反射された光は棒192の孔
212を通って、孔212の下に位置する回転鏡200
へ向けられる。
作用においては、源16からの光線が、側方鏡180.
182,184へ向けられる前に鏡186.210,1
98および200から連続的に反射することにより光路
に沿って向けられる。
鏡210と198の相対位置は鏡組立体の回転中圧いに
相対的に固定されている。その軸174が回転すると同
時に、鏡200が二重の運動を経験する。第一に、鏡2
00がその軸線202を中心として、歯車206.20
8の直径の比に比例した角速度で回転する。第二に、鏡
200が軸線204と同心の円形の輪に沿って動かされ
る。従って、鏡200から反射した光は、軸線202を
中心とする鏡202の各回転中、連続的な走査ビームを
ポート14より外へ向けるように傾斜した側方鏡180
,182,184に引き続いて突き当たる。どの瞬間で
も、光線がわきへそれかつ回転鏡200と側方鏡180
,182,184の間に種々の光路があるため、少なく
ともいくつかの走査線が他の走査線よりハウジング12
にいっそう近く位置し、それによりズーム作用がなしと
げられる。また、鏡200が軸線204を中心として旋
回しているので、どれか一つの側方鏡からの反射により
発生される作用距離は常に変化している。
このように、シンボルの三次元の適用範囲を、ズーム作
用と共に非常に複雑なパターンで達成できる。もちろん
、三つより多い鏡を用いてもって多くの適用範囲を得る
ことができよう。出口ポート14は、いわゆる「上方走
査」システムに使用するために第8図と第9図に示した
ように、発生器190より上に位置させる必要はない。
これに代わる方法として、ポート14を、「下方走査コ
システムまたは「外方走査」システムさえ形成するよう
に位置させることができよう。
以上の記載は、レーザービームを光学的に変更するため
のレーザー走査システムや装置に関して述べたけれども
、本発明をそのように限定するつもりはなく、光放射ダ
イオード源、白熱光源、ガス排出源などのような非干渉
性および干渉性の光源を含む非レーザー光源やビームを
含むつもりであることは明瞭に理解されよう。
上記の要素の各々、または二つ以上の要素は、上記の種
類と異なる他の種類の構造に有用な用途を見出だせるこ
とが分かるだろう。
本発明を、バーコードシンボル読取り機のための走査パ
ターン発生器に具体化して例示しかつ述べたけれども、
図示した細部に限定するつもりはない。なぜなら、本発
明の精神から逸脱せずに種々の改変と構造上の変更をす
ることができるからである。
さらに分析しないでも、上記のことが本発明の要旨を十
分に示しているので、他の人が、従来技術の観点から本
発明の一般的および特定の面の本質的な特性をかなり構
成する特徴を省略せずに本発明を種々の応用に容易に適
用でき、従ってそのような応用は特許請求の範囲の意味
と均等の範囲内に包含されなければならいし、かつ包含
されるように意図されている。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明によるレーザー走査システムにおいて多
走査線を発生させるための走査パターン発生器の概略図
、第2A図は走査の一段階中の第1図の走査パターン発
生器の概略平面図、第2B図は第2A図に類似した図で
あるが、走査の他の段階にある図、第2C図は第2B図
に類似した図であるが、走査のなお他の段階にある図、
第2D図は第2C図に類似した図であるが、走査のさら
に他の段階にある図、第2E図は第2D図に類似した図
であるが、走査の付加的な段階にある図、第2F図は第
2E図に類似した図であるが、走査のさらに続く段階に
ある図、第3A図は走査の一段階中の他の走査パターン
発生器の概略図、第3B図は走査の他の段階中の第3A
図の走査パターン発HE器の概略図、第4図はなお他の
走査パターン発生器の斜視図、第5図は走査の一段階中
の第4図の走査パターン発生器の正面図、第6図は第5
図に類似した図であるが、走査の他の段階中の図、第7
図は本発明によるさらに他の走査パターン発生器の斜視
図で、一つの走査パターンを概略的に示す図、第7A図
は他の走査パターンの概略図、第7B図はさらに他の走
査パターンの概略図、第7C図はなお他の走査パターン
の概略図、第7D図はさらに続く走査パターンの概略図
、第8図は本発明によるさらに続く走査パターン発生器
の斜視図、第9図は第8図のさらに続く走査パターン発
生器の断面図である。 12・・・・・・ハウジング、 14・・・・・・出口
ポート、16・・・・・・レーザー源、 120;170;190・・・・・・二方向走査パター
ン発生器、 122・・・・・・光学レンズ、 128;172・・・・・・駆動部、 124i162i176i1.98,200゜210・
・・・・・回転鏡、 136、 138;180. 182. 184・・・
・・・・・・・・・側方鏡、 144;188・・・・・・二方向多走査線パターン、
150−160・・・・・・走査線。 FIG、 / IG3B

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(a)出口ポートを有するハウジングと、 (b)光ビームを発生させるためにハウジングに設けら
    れた光手段と、 (c)光ビームを光路に沿って出口ポートを通って指向
    させるためにハウジングに設けられた光学手段と、 (d)ハウジングの外部に位置した連続的なシンボルを
    横切る走査で光ビームを走査するためにハウジングに設
    けられた走査手段とを有する型式の、シンボルを読み取
    るための光走査システムにおける装置において、 読み取るべき各シンボルを横切って直線状に延びる互い
    に平行な走査線の二方向走査パターン、すなわち一つの
    掃引方向に沿って延びる走査線のうちの少なくとも一つ
    の走査線と、前記一つの掃引方向と逆流の反対掃引方向
    に沿って延びる走査線のうちの少なくとももう一つの走
    査線の二方向走査パターンを発生させるためのパターン
    手段が設けられていることを特徴とする装置。
  2. (2)走査手段が、軸線に沿って延びる出力軸を有する
    駆動部を含み、前記パターン手段は、屈折率を有する、
    光を屈折する材料で構成された遊星回転鏡を有し、この
    回転鏡は鏡の厚さにより隔てられた対向する主鏡面を有
    し、前記鏡面が軸線に対しほぼ平行に延びており、鏡面
    のうちの一方がその上に光を反射する被覆を有し、前記
    回転鏡は、光ビームが或る入射角で突き当たるような光
    路に、走査中駆動部により軸線を中心として回転可能な
    軸に取りつけられ、前記パターン手段は、ハウジングに
    固定して取りつけられた一対の光反射フォールディング
    鏡を有し、この鏡は、回転鏡から反射された光を出口ポ
    ートを通って反射させるように配置され、前記パターン
    手段は、屈折率、回転鏡の厚さおよびその上に突き当た
    る光ビームの入射角により、軸線に平行な方向に走査線
    を互いに隔置するように作用する、特許請求の範囲第1
    項に記載の装置。 3、前記走査手段が、軸線に沿って延びている出力軸を
    有する駆動部を有し、前記パターン手段は、両方に光反
    射被覆が施された対向する主鏡面を有する平坦な回転鏡
    を有し、前記回転鏡は、走査中駆動部により軸線を中心
    として回転可能な軸に、光ビームが突き当たるように取
    りつけられ、前記鏡面が軸線に対し鋭角で延びている、
    特許請求の範囲第1項に記載の装置。 4、前記走査手段は、軸線に沿って延びる出力軸を有す
    る駆動部を有し、前記パターン手段は、読み取るべき各
    シンボルを横切って延びる交差する走査線の二方向走査
    パターンを発生するように作用し、前記パターン手段は
    、走査中駆動部により軸線を中心として回転可能な軸に
    取りつけられた平坦な回転鏡を有し、前記回転鏡は、軸
    線に対し或る角度で延びる主鏡面に光反射被覆を有し、
    前記パターン手段はさらに、ハウジングに取りつけられ
    た光を反射する複数のフォールディング鏡を有し、これ
    らの鏡が回転鏡の周りに互いに対し等しい角度で配置さ
    れている、特許請求の範囲第1項に記載の装置。 5、光学手段は、ハウジングの出口ポートから所定の距
    離を置いて各走査線を形成し、さらに走査中少なくとも
    一つの走査線の所定の距離を変えるための手段を有する
    、特許請求の範囲第4項に記載の装置。 6、所定の距離を変える手段は、少なくとも一つのフォ
    ールディング鏡を軸線に向かっておよび軸線から離れる
    ように半径方向に動かすための手段を有する、特許請求
    の範囲第5項に記載の装置。 7、少なくとも一つのフォールディング鏡が光を反射す
    る面を有し、さらに光ビームが移動する光路の長さを変
    えるように光反射面を動かすための手段を有する、特許
    請求の範囲第4項に記載の装置。
JP62323627A 1986-12-22 1987-12-21 バーコードシンボル読取り機のための走査パターン発生器 Granted JPS63170613A (ja)

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