JPS63167205A - 回転軸の回転誤差のインプロセス測定法 - Google Patents
回転軸の回転誤差のインプロセス測定法Info
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- JPS63167205A JPS63167205A JP31019686A JP31019686A JPS63167205A JP S63167205 A JPS63167205 A JP S63167205A JP 31019686 A JP31019686 A JP 31019686A JP 31019686 A JP31019686 A JP 31019686A JP S63167205 A JPS63167205 A JP S63167205A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 42
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 24
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract description 11
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 101100194003 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) rco-3 gene Proteins 0.000 description 2
- 230000033764 rhythmic process Effects 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）発明の目的
［産業上の利用分野〕
この発明は工作機械等の回転軸の回転精度を測定するた
めの測定装置に関するものである。
めの測定装置に関するものである。
近年の精密光学工業、精密光学工業の分野における要求
加工精度の高まりに伴い、超精密工作機械の開発が盛ん
に試みられるようになってきた。
加工精度の高まりに伴い、超精密工作機械の開発が盛ん
に試みられるようになってきた。
超精密工作機械においては回転軸は最も重要な構成要素
であり、回転軸の性能のいかんにより加工面の形状精度
、表面粗さの程度が決定されるといっても過言ではない
ので、回転軸を製作し、その回転精度を正しく評価する
技術の確立が要請されている。
であり、回転軸の性能のいかんにより加工面の形状精度
、表面粗さの程度が決定されるといっても過言ではない
ので、回転軸を製作し、その回転精度を正しく評価する
技術の確立が要請されている。
また研削盤等の工作機械においても、主軸の回転精度が
被削材の加工精度と密接な関連をもつため、主軸の回転
精度を向上させるために多くの努力が払われてきており
、またこれに伴って主軸の回転精度を測定し主軸の回転
精度が良くなるように設計に反映させることが必要とさ
れる。
被削材の加工精度と密接な関連をもつため、主軸の回転
精度を向上させるために多くの努力が払われてきており
、またこれに伴って主軸の回転精度を測定し主軸の回転
精度が良くなるように設計に反映させることが必要とさ
れる。
［従来の技術］
主軸の回転精度を測定する技術としては従来から各種の
ものが開発°されてきているが、例えば、マスターボー
ルの変位を変位計によって測定する回転精度測定法や３
点法回転精度測定法（特開昭６０−１１１９１３号公報
参照）がある。
ものが開発°されてきているが、例えば、マスターボー
ルの変位を変位計によって測定する回転精度測定法や３
点法回転精度測定法（特開昭６０−１１１９１３号公報
参照）がある。
［発明が解決しようとする問題点］
しかるに、これら従来の測定法はいずれもマスター（球
等）を被測定回転軸端にとりつけ、これに変位計苫を近
接させて回転誤差によって生ずるマスターの変位量を検
出し、その検出した変位量の中のマスターの形状成分を
分離して回転誤差を求めるものであるために、計測のた
めにマスターを用意することが必要であり、かつ被測定
回転軸端のマスターに１〜３台の変位計を接近させて配
置しなければならず、加工空間がこれら変位計やその取
付台等により占拠されて、加工作業が著しく妨げられる
結果となり、インプロセス測定が困難であった。
等）を被測定回転軸端にとりつけ、これに変位計苫を近
接させて回転誤差によって生ずるマスターの変位量を検
出し、その検出した変位量の中のマスターの形状成分を
分離して回転誤差を求めるものであるために、計測のた
めにマスターを用意することが必要であり、かつ被測定
回転軸端のマスターに１〜３台の変位計を接近させて配
置しなければならず、加工空間がこれら変位計やその取
付台等により占拠されて、加工作業が著しく妨げられる
結果となり、インプロセス測定が困難であった。
この発明は上記の如き事情に鑑みてなされたものであっ
て、測定にマスターを必要とすることなく、従ってマス
ターの形状成分を考慮する必要がなく、更に、加工空間
を測定ｉ器等で占拠することがなく、また加工の妨げと
なることなく、インプロセス測定が容易な回転誤差の測
定方法を提供することを目的とするものである。
て、測定にマスターを必要とすることなく、従ってマス
ターの形状成分を考慮する必要がなく、更に、加工空間
を測定ｉ器等で占拠することがなく、また加工の妨げと
なることなく、インプロセス測定が容易な回転誤差の測
定方法を提供することを目的とするものである。
（０）発明の構成
［問題を解決するだめの手段］
この目的に対応して、この発明の回転軸の回転Ｗ４差の
インプロセス測定法は、被測定回転軸端にコーナーキュ
ーブプリズムを取り付け、前記被測定回転軸の軸方向に
対して傾斜した光軸を形成りるレーザ干渉計で、前記コ
ーナーキューブプリズムからの反射光の光路長の変化を
検出することを特徴としている。
インプロセス測定法は、被測定回転軸端にコーナーキュ
ーブプリズムを取り付け、前記被測定回転軸の軸方向に
対して傾斜した光軸を形成りるレーザ干渉計で、前記コ
ーナーキューブプリズムからの反射光の光路長の変化を
検出することを特徴としている。
以下、この発明の詳細をその一実施例において使用する
測定装酋とともに説明する。
測定装酋とともに説明する。
第１図は研削盤の砥石部を示しており、研削盤１は主軸
２の先端に砥石３を取り付けている。この主軸２がこの
発明の測定法によって軸方向の回転誤差（アキシャルモ
ーション）及び半径方向の回転誤差（ラジアルモーショ
ン）が測定される被測定体である。主軸２の先端にはコ
ーナーキ’１−ププリズム１１が反射面を前方（紙面の
右方向）に向けて取付けられている。コーナーキューブ
プリズム１１の中心５は主軸２の中心と一致している。
２の先端に砥石３を取り付けている。この主軸２がこの
発明の測定法によって軸方向の回転誤差（アキシャルモ
ーション）及び半径方向の回転誤差（ラジアルモーショ
ン）が測定される被測定体である。主軸２の先端にはコ
ーナーキ’１−ププリズム１１が反射面を前方（紙面の
右方向）に向けて取付けられている。コーナーキューブ
プリズム１１の中心５は主軸２の中心と一致している。
４は被削材である。コーナーキュー１７リズム１１は第
２図に示す測定波Ｍ１０の光学系の一部材を構成してい
る。測定波！！１０は第２図に示すように、測定光学系
１２．１３及び１４とビーム生成光学系１８とを備えて
いる。
２図に示す測定波Ｍ１０の光学系の一部材を構成してい
る。測定波！！１０は第２図に示すように、測定光学系
１２．１３及び１４とビーム生成光学系１８とを備えて
いる。
測定光学系１２はコーナーキューブプリズム１１の中心
５と平行な往復光路１５に沿って設番プられた干渉計Ｉ
Ｍ レシーバＲ６を備えている。
５と平行な往復光路１５に沿って設番プられた干渉計Ｉ
Ｍ レシーバＲ６を備えている。
Ｏゝ
測定光学系１３はコーナーキューブプリズム１１の中心
５と角度θ１をなす往復光路１６に沿って設けられた干
渉計ＩＭ１、レシーバＲ１を備えている。
５と角度θ１をなす往復光路１６に沿って設けられた干
渉計ＩＭ１、レシーバＲ１を備えている。
測定光学系１４はコーナーキューブプリズム１１の中心
５と角度θ２をなす往復光路１７に沿って設けられた干
渉計ＩＭ レシーバＲ２を備えている。
５と角度θ２をなす往復光路１７に沿って設けられた干
渉計ＩＭ レシーバＲ２を備えている。
但し中心５方向の往復光路１５に沿った測定光学系１２
は、コーナーキューブプリズム１１の取り付けその他の
装置のアライメント（＾ＬＩＧＮＨ［ＮＴ ）を行った
り、或いは測定光学系１３．１４での測定結果を検証し
たりする場合に使用すると便利であるが、回転誤差の直
接の測定には必ずしも必要ではないので、省略してもよ
い。また、この第２図に示す装置はＸ軸方向の回転誤差
であるアキシャルモーションと、Ｙ軸方向の回転誤差で
あるラジアルモーションを測定することを想定した構成
であるが、これに加えて、Ｘ軸、Ｙ軸に直角なＺ軸方向
の回転ｌＲ差であるラジアルモーションを測定する場合
には、コーナーキューブプリズム１１のＸＹ面に対して
傾斜して入射、反射する往復光路及びそれに沿った測定
光学系を準備す必要がある。それぞれの往復光路１５．
１６．１７を構成するコーナーキューブプリズム１１へ
の入射光２１とコーナーキューブプリズム１１からの反
射光２２とはコーナーキュー１７リズム１１の反射面の
特性により平行である。
は、コーナーキューブプリズム１１の取り付けその他の
装置のアライメント（＾ＬＩＧＮＨ［ＮＴ ）を行った
り、或いは測定光学系１３．１４での測定結果を検証し
たりする場合に使用すると便利であるが、回転誤差の直
接の測定には必ずしも必要ではないので、省略してもよ
い。また、この第２図に示す装置はＸ軸方向の回転誤差
であるアキシャルモーションと、Ｙ軸方向の回転誤差で
あるラジアルモーションを測定することを想定した構成
であるが、これに加えて、Ｘ軸、Ｙ軸に直角なＺ軸方向
の回転ｌＲ差であるラジアルモーションを測定する場合
には、コーナーキューブプリズム１１のＸＹ面に対して
傾斜して入射、反射する往復光路及びそれに沿った測定
光学系を準備す必要がある。それぞれの往復光路１５．
１６．１７を構成するコーナーキューブプリズム１１へ
の入射光２１とコーナーキューブプリズム１１からの反
射光２２とはコーナーキュー１７リズム１１の反射面の
特性により平行である。
入射光２１はビーム生成光学系１８によって生成される
。
。
ビーム生成光学系１８はレーザ光源２３とビームスプリ
ッタＢＳ１．ＢＳ２、ビームベンダ８８１．８８２ 、
光路折曲用ミラーＭ１Ｇ” １１゜Ｍ２ｏ０Ｍ２１を備
えていて、レーザ光源２３で発生したレーザビームを３
本の入射光２１に分割生成する。
ッタＢＳ１．ＢＳ２、ビームベンダ８８１．８８２ 、
光路折曲用ミラーＭ１Ｇ” １１゜Ｍ２ｏ０Ｍ２１を備
えていて、レーザ光源２３で発生したレーザビームを３
本の入射光２１に分割生成する。
［作用］
このように構成され測定装ｆｆ１１０を用いた回転軸の
回転誤差のインプロセス測定は次のようにしてなされる
。
回転誤差のインプロセス測定は次のようにしてなされる
。
被削材４の研削時に砥石３を支持している主軸２が回転
する。主軸２の先端にはコーナーキューブプリズム１１
が取付けられていて回転する。レーザ光源２３を作動さ
せ、発生したレーザ光を２つのビームスプリッタＢＳ、
ＢＳ２で分割して３木の入射光２１を生成し、コーナー
キューブプリズム１１に入射する。コーナーキューブプ
リズム１１からの反射光２２は入射光２１と同じ方向に
反射する。
する。主軸２の先端にはコーナーキューブプリズム１１
が取付けられていて回転する。レーザ光源２３を作動さ
せ、発生したレーザ光を２つのビームスプリッタＢＳ、
ＢＳ２で分割して３木の入射光２１を生成し、コーナー
キューブプリズム１１に入射する。コーナーキューブプ
リズム１１からの反射光２２は入射光２１と同じ方向に
反射する。
往復光路１５における反射光２２は干渉計ＩＭｏに入っ
て入射光２１と干渉して干渉縞を形成し、その干渉縞は
レシーバＲ８で計測される。
て入射光２１と干渉して干渉縞を形成し、その干渉縞は
レシーバＲ８で計測される。
同様に往復光路１６における反射光２２は干渉計１Ｍ１
に入って入射光２１と干渉して干渉縞を形成し、その干
渉縞はレシーバＲ１で計測される。
に入って入射光２１と干渉して干渉縞を形成し、その干
渉縞はレシーバＲ１で計測される。
また同様に、往復光路１７における反射光２２は干渉計
ＩＭ２に入って入射光２１と干渉して干渉縞を形成いそ
の干渉縞はレシーバＲ１で計測される。
ＩＭ２に入って入射光２１と干渉して干渉縞を形成いそ
の干渉縞はレシーバＲ１で計測される。
主軸２の回転誤差により、コーナーキューブプリズム１
１が変位し、これによって入射光と反射光の光路長が変
化し、これによりレシーバＲ８、Ｒ１，Ｒ２の干渉縞の
測定から、コーナーキューブプリズム１１との距離変化
隋を検出することができる。距離変化ｍが検出されれば
、下記の（９）式、（１０）式のような計算式で演算し
てコーナーキューブプリズム１１のｘ軸方向変位Ｘ及び
Ｙ軸方向変位ｙを求めることができる。
１が変位し、これによって入射光と反射光の光路長が変
化し、これによりレシーバＲ８、Ｒ１，Ｒ２の干渉縞の
測定から、コーナーキューブプリズム１１との距離変化
隋を検出することができる。距離変化ｍが検出されれば
、下記の（９）式、（１０）式のような計算式で演算し
てコーナーキューブプリズム１１のｘ軸方向変位Ｘ及び
Ｙ軸方向変位ｙを求めることができる。
すなわち、コーナーキューブプリズム１１の中心を原点
０とし、原点Ｏを中心にした３つの座標系（Ｘ、Ｙ）、
（Ｕ 、Ｖ ）、 （ｔＪ２．Ｖ２）を第３図、
第４図、第５図に示すように考える。
０とし、原点Ｏを中心にした３つの座標系（Ｘ、Ｙ）、
（Ｕ 、Ｖ ）、 （ｔＪ２．Ｖ２）を第３図、
第４図、第５図に示すように考える。
（設定）
１）ＸＹ平面内での砥石軸の回転中心０゜（０，Ｏ）の
変位をＰ（ｘ、ｙ）とする。
変位をＰ（ｘ、ｙ）とする。
２）光源１からコーナーキューブまでの光路（光軸）・
・・Ｉ１ ３）光源２からコーナーキューブまでの光路（光軸）・
・・Ｉ２ ４）光源１からコーナーキューブへの入射光とＸ軸とな
す角度 ・・・θ１５）光源
２からコーナーキューブへの入射光とＸ軸となず角度
・・・θ２６）ＯＰの長さ
・・・ｒ（測定するもの） １）コーナーキューブからの反射光（１１軸方向）の増
分 ・・・ΔＲ１２）コー
ナーキューブからの反射光（■２＠方向）の増分
・・・ΔＲ２（求めるもの） １）砥石軸心のラジアルモーション 〜・・・ｙ２
）砥石軸心のアキシセルモーション ・・・Ｘと
すると、 第３図、第４図及び第５図から幾何学的に次の関係式が
成立つ ｙ＝ｒｓｉｎβ ・・・（１
）ｘ＝ｒｃｏｓβ ・（２）
ΔＲ＝ｒＣＯ３（β＋θ１） ・ （３）Δ
Ｒ＝ｒＣＯ３（β−０２） ・・・（４）よっ
て ｓｉｎβ−（ΔＲｃｏｓθ −ΔＲＣＯ２Ｏ３）／（ｒ
ｓｉｎ（θ１＋θ２）） −（５）ｃｏｓβ＝（Δ
Ｒ２５ｔｎθ１＋ΔＲ１５ｉｎθ２）／（ｒｓｔｎ（θ
１＋θ２）＞ ・ （６）これより ｘ＝（ΔＲｓｉｎθ ＋ΔＲｓｉｎθ２）／（ｓｉｎ（
θ１＋θ２）） ・ （７）ｙ＝（ΔＲ２ＣＯ
３θ１−ΔＲ１ＣＯ５θ２）／（ｓｔｎ（θ１＋θ２）
） ・ （８）特に、θ１＝θ２−θのとき ｘ＝（△Ｒ＋ΔＲ）／２ｃｏｓθ ・ （９）ｙ
＝（ΔＲ２−ΔＲ１）／２ ｓｉｎθ ・（１０）
これらの式より、（ｘ、ｙ）の座標は光軸１１゜■ 方
向の増分ΔＲ、ΔＲ２により求められる。
・・Ｉ１ ３）光源２からコーナーキューブまでの光路（光軸）・
・・Ｉ２ ４）光源１からコーナーキューブへの入射光とＸ軸とな
す角度 ・・・θ１５）光源
２からコーナーキューブへの入射光とＸ軸となず角度
・・・θ２６）ＯＰの長さ
・・・ｒ（測定するもの） １）コーナーキューブからの反射光（１１軸方向）の増
分 ・・・ΔＲ１２）コー
ナーキューブからの反射光（■２＠方向）の増分
・・・ΔＲ２（求めるもの） １）砥石軸心のラジアルモーション 〜・・・ｙ２
）砥石軸心のアキシセルモーション ・・・Ｘと
すると、 第３図、第４図及び第５図から幾何学的に次の関係式が
成立つ ｙ＝ｒｓｉｎβ ・・・（１
）ｘ＝ｒｃｏｓβ ・（２）
ΔＲ＝ｒＣＯ３（β＋θ１） ・ （３）Δ
Ｒ＝ｒＣＯ３（β−０２） ・・・（４）よっ
て ｓｉｎβ−（ΔＲｃｏｓθ −ΔＲＣＯ２Ｏ３）／（ｒ
ｓｉｎ（θ１＋θ２）） −（５）ｃｏｓβ＝（Δ
Ｒ２５ｔｎθ１＋ΔＲ１５ｉｎθ２）／（ｒｓｔｎ（θ
１＋θ２）＞ ・ （６）これより ｘ＝（ΔＲｓｉｎθ ＋ΔＲｓｉｎθ２）／（ｓｉｎ（
θ１＋θ２）） ・ （７）ｙ＝（ΔＲ２ＣＯ
３θ１−ΔＲ１ＣＯ５θ２）／（ｓｔｎ（θ１＋θ２）
） ・ （８）特に、θ１＝θ２−θのとき ｘ＝（△Ｒ＋ΔＲ）／２ｃｏｓθ ・ （９）ｙ
＝（ΔＲ２−ΔＲ１）／２ ｓｉｎθ ・（１０）
これらの式より、（ｘ、ｙ）の座標は光軸１１゜■ 方
向の増分ΔＲ、ΔＲ２により求められる。
（ハ）発明の効果
第６図（ａ）はこの発明の測定法において、電動機軸心
（６００ｒｌ）ｌ）のアキシャルモーションを斜光軸の
干渉計ＩＭ、ＩＭ２によって測定しま た測定結果を示すグラフであるが、同じものを光軸中心
の干渉計［Ｍｏによる測定結果を示す第６図（ｂ）と比
較すると両結果はよく一致していることがわかる。
（６００ｒｌ）ｌ）のアキシャルモーションを斜光軸の
干渉計ＩＭ、ＩＭ２によって測定しま た測定結果を示すグラフであるが、同じものを光軸中心
の干渉計［Ｍｏによる測定結果を示す第６図（ｂ）と比
較すると両結果はよく一致していることがわかる。
第７図はこの発明の測定法において、電動機軸心（６０
０ｒｐ議）のラジアルモーションを斜光軸の干渉計ＩＭ
、ＩＭ２によって測定した測定結果を示すグラフであり
、ラジアルモーションが高精度に測定されていることが
わかる。
０ｒｐ議）のラジアルモーションを斜光軸の干渉計ＩＭ
、ＩＭ２によって測定した測定結果を示すグラフであり
、ラジアルモーションが高精度に測定されていることが
わかる。
このように、この発明によれば測定にマスターを必要と
することなく、従ってマスターの形状成分を考慮する必
要がなく、更に加工空間を測定機器等で占拠することが
なく、加工の妨げとなることがなく、インプロセス測定
が容易な回転誤差の測定法を得ることができる。
することなく、従ってマスターの形状成分を考慮する必
要がなく、更に加工空間を測定機器等で占拠することが
なく、加工の妨げとなることがなく、インプロセス測定
が容易な回転誤差の測定法を得ることができる。
第１図はコーナーキューブプリズムを研削盤の主軸に取
付けた状態を示す正面説明図、第２図はこの発明におい
て使用する測定装置の光学系を示すブロック図、第３図
はコーナーキューブプリズム中心を原点とした（Ｘ、Ｙ
）座標上の光路を示す説明図、第４図はコーナーキュー
ブプリズムの中心を原点とした（Ｕｌ、Ｖｌ）座標上の
光路な示す説明図、第５図はコーナーキューブプリズム
の中心を原点とした（Ｕ２ 、 Ｖ２ ）座標上の光路
を示す説明図、第６図は電動機軸心のアキシャルモーシ
ョンの測定例を示すグラフ、及び第７図は電動機軸心の
ラジアルモーラ１ンの測定例を示すグラフである。
付けた状態を示す正面説明図、第２図はこの発明におい
て使用する測定装置の光学系を示すブロック図、第３図
はコーナーキューブプリズム中心を原点とした（Ｘ、Ｙ
）座標上の光路を示す説明図、第４図はコーナーキュー
ブプリズムの中心を原点とした（Ｕｌ、Ｖｌ）座標上の
光路な示す説明図、第５図はコーナーキューブプリズム
の中心を原点とした（Ｕ２ 、 Ｖ２ ）座標上の光路
を示す説明図、第６図は電動機軸心のアキシャルモーシ
ョンの測定例を示すグラフ、及び第７図は電動機軸心の
ラジアルモーラ１ンの測定例を示すグラフである。
Claims (1)
- 被測定回転軸にコーナーキューブプリズムを取り付け、
前記被測定回転軸の軸方向に対して傾斜した光軸を形成
するレーザ干渉計で、前記コーナーキューブプリズムか
らの反射光の光路長の変化を検出することを特徴とする
回転軸の回転誤差のインプロセス測定法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31019686A JPS63167205A (ja) | 1986-12-27 | 1986-12-27 | 回転軸の回転誤差のインプロセス測定法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31019686A JPS63167205A (ja) | 1986-12-27 | 1986-12-27 | 回転軸の回転誤差のインプロセス測定法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63167205A true JPS63167205A (ja) | 1988-07-11 |
| JPH05642B2 JPH05642B2 (ja) | 1993-01-06 |
Family
ID=18002327
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31019686A Granted JPS63167205A (ja) | 1986-12-27 | 1986-12-27 | 回転軸の回転誤差のインプロセス測定法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63167205A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101927403A (zh) * | 2010-08-02 | 2010-12-29 | 东阳市双燕设备有限公司 | 一种恒定式飞行光路激光切割机 |
| CN102322795A (zh) * | 2011-05-19 | 2012-01-18 | 浙江大学 | 主轴五自由度回转误差的光学测量方法与装置 |
-
1986
- 1986-12-27 JP JP31019686A patent/JPS63167205A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101927403A (zh) * | 2010-08-02 | 2010-12-29 | 东阳市双燕设备有限公司 | 一种恒定式飞行光路激光切割机 |
| CN102322795A (zh) * | 2011-05-19 | 2012-01-18 | 浙江大学 | 主轴五自由度回转误差的光学测量方法与装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05642B2 (ja) | 1993-01-06 |
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