JPS63165372A - 置換基を有する１−ベンジルスルホニル−３−ヘテロアリール−チオ尿素 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は置換基を有する新規な／−ペンシルスルホニル
−３−ヘテロアリール−（チオ）尿Ｅ、それら全製造す
るための方法並びに新しい中間体、およびそれらを除草
剤として使用することに関するものである。

〔発明の背景〕

或種の／−ベンジルスルホニル−３−ヘテロアリール−
（チオ）尿素、例えば／−（ｊ−メトキシカル？ニルー
ベンジルスルホニル）−３−（≠、乙−ジメトキシーピ
リミジンー２−イルクー尿素が除草作用を有することは
公知である。しかしながら、これらの化合物の作用は必
ずしも満足なものとは限らない（米国特許第１Ａ、４Ｌ
、２０，３．２ｊ号明細書全参照〕。

〔発明の構成および発明の詳細な説明〕ここに、下記の
一般式（１）で表わされる、置換さｉ；ｉ／−ヘンツル
スルホニル−３−ヘテロアリール−（チオ）尿素および
この式（１）の化合物と、金属との塩、および塩基性有
機窒素化合物との塩が発見され次。

式中 Ｑは酸素または硫黄を表わし、 Ｒ１は水素全表わすか、あるいはアルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基およびアラルキル基からなる組から
選ばれた、随意に置換されている基を表わし、 Ｒ２は水素、ハロゲノ、ヒドロキシル基、アルキル基、
ハロゲノアルキル基、アルコキシ基、ハロゲノアルキル
基、アルキルチオ基、ハロゲノアルキル基オ基、アミン
基、アルキルアミノ＄５またはジアルキルアミノ基を表
わし、 Ｒ３は水素またはアルキル基金表わし、Ｒ４はハロゲノ
アルキル基を表わし、 Ｘは窒素″または−ＣＨ基を表わし、 Ｙは窒素ま之は−ＣＨ３基を表わし、 この基の中で Ｒ５は水素、ハロゲン、シアノ基、アルキル基、ホルミ
ル基、アルキル−カルボニル基またはアルコキシ−カル
ブニル基金表わし、そしてＺは窒素または−ＣＲ基を表
わし、 この基の中で Ｒ６は水素、ハロダン、ヒドロキシル基、アルキル基、
ハロゲノアルキル基、アルコキシ基、ハロゲノアルコキ
シ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基またはジアル
キルアミノ基を表わす。

この式（１）で表わされる、置換され之新しい／−ベン
ジルスルホニル−３−ヘテロアリール−（チオ〕尿累は
、下記の式（Ｕ）で表わされる２−ハロダンアルコキシ
ーペンジルスルホニルイソ（チオ）（式中、Ｑ　ｅ　Ｒ
３およびＲ４は前述の意味’ｒ！する）適当ならば希釈
剤の存在下に、また適当ならば触媒の存在下において、
下記の式（２）で表わされるヘテロアリールアミンと反
応させる方法によって得られ、 （式中、Ｒ、Ｒ、Ｘ、Ｙおよび２は前述の意味を有する
〕 そしてこのようにして得られた生成物は、適当ならば、
常法によシ塩に転化される。

式（１）で表わされる新規な、置換された／−ベンジル
スルホニル−３−ヘテロアリール−（チオ〕尿素は強い
除草活性全特徴としている。

驚くべきことに、式（１）の新しい化合物は、既に公知
である同じ作用型の／−ベンジルスルホニル−３−ヘテ
ロアリール−（チオ）尿素よりもかなシすぐれた除草作
用全発揮する。

本発明の式（１）で表わされる化合物を製造できるその
他の方法は以下に示す反応に基づくものであり、ここで
Ｑ　＊　Ｒ’　＃　Ｒ２＊　Ｒ’　＊　Ｒ’　＃　Ｘ　
、　Ｙおよび２は前述の意味を有する。

（ａ）　　２−ハロｒノアルコキシーペンソルスルホン
アミド（ＩＶ）とＮ−ヘテロアリール−ウレタン（ト）
との反応（Ｒ：アルキル基、ベンジル基またはフェニル
基〕： （ｂ）Ｎ−（，２−ハロダンアルコキシーペンジルスル
ホニル〕−ウレタン（Ｍ）（Ｒ，アルキル基、ベンジル
基またはフェニル基）とへテロアリールアミン佃）との
反応： （Ｖ［）　　　　　　　　　　　　　　　（ｍ）（ｅ）
／−ヘンシルスルホニル−３−ヘテロアリール−（チオ
）尿素（■）と「アルキル化剤」（■〕（Ｗ：求核的に
取り除かれる基）との反応：（■〕　　　　　　　　　
（■） 本発明は、好ましくは、式（１）の中で、Ｑが酸素ま友
は硫黄を表わし、 Ｒが水素を表わすか、あるいはＣ１＜６アルキル基〔こ
れは弗素、シアノ基、Ｃ１−ｃ４アルコキシ基またはＣ
、−Ｃ４アルキルチオ基によって随意に置換されている
〕を表わすか、あるいはＣ３＜６アルケニル基１文はＣ
３り、アルキニル基〔これらの基は弗素または塩素によ
って随意に置換されている〕を表わすか、あるいはフェ
ニル−〇、＜２アルキル基〔これに弗素、塩素、ニトロ
基、シアン基、メチル基、メトキシ基またはＣ４り、ア
ルコキクカルメニル基によってフェニル基部分が随意に
置換されている〕を表わし、 Ｒ２が水素、弗素、塩素、臭素、メチル基、エチル基、
トリフルオルメチル基、メトキシ基、エトキシ基、ゾフ
ルオルメトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、アミ
ノ基、メチルアミノ基、エチルアミン基、ツメチルアミ
ノ基才たはソエチルアミノ基？表わし、 Ｒ３が水素または０１り、アルキル基金表わし、Ｒ４が
ハロデノーＣ、−Ｃ４アルキル基を表わし、この基の中
で ハロゲンが弗素および／または塩素全表わし、Ｘが窒素
まｆｒ、は−Ｃ）Ｉ基を表わし、Ｙが窒素または一〇Ｒ
基金表わし、 この基の中で Ｒ５が水素、弗素、塩素、臭素、メチル基、ホルミ／Ｉ
／基、アセチル基、メトキシカルボニルＸｔたけエトキ
シカルがニル基全表わし、そして２が窒素まｆｃは−Ｃ
Ｒ基を表わし、 この基の中で Ｒ６が水素、弗素、塩素、臭素、メチル基、エチル基、
トリフルオルメチル基、メトキシ基、エトキシ基、グロ
ポキシ基、イングロポキシ基、シ゛フルオルメトキシ基
、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルアミン基、エチ
ルアミノ基、ジメチルアミノ基またはジエチルアミノ基
を表わしている式（Ｉ）の化合物に関するものである。

本発明はさらに、好ましくは、式（１）の化合物と、−
前に定義したように−ナトリウム、カリウム、マグネシ
ウムおよびカルシウムとの塩、および６各の場合アルキ
ル基中に≠個までの炭素原子金倉み、かつこれらのアル
キ／Ｉ／基がそれぞれの場合弗素、塩素、ヒドロキシル
基、メトキシ基、エトキシ基およびシアノ基からなる組
から選ばれた７個の置換基全随意に含んでいる、モノア
ルキルアミン、ジアルキルアミン、トリアルキルアミン
、ペンノル−アルキルアミンおよびベンジル−ジアルキ
ルアミンとの塩に関するものである。

本発明は特に、式（１）の中で、 Ｑが酸素を表わし、 Ｒ１が水素またはメチル基金表わし、 Ｒ２が水素、塩素、メチル基、エチル基、トリフルオル
メチル基、メトキシ基、エトキシ基またはジフルオルメ
トキシ基金表わし、 Ｒ３が水素を表わし、 Ｒｄｉハロゲノ−Ｃ４−Ｃ２アルキル基を表わし、この
基の中で ハロゲンが弗素および／ま念は塩素全表わし、Ｘが窒素
または−ＣＨ基を表わし、 Ｙが窒素または−ＣＲ基金表わし− この基の中で Ｒ５が水素、弗素、塩素ま之はメチル基金表わし、そし
て ２が窒素まｆ？：、は−ＣＲ基を表わし、この基の中で Ｒ６が水素、塩素、メチル基、エチル基、トリフルオル
メチル基、メトキシ基、エトキシ基ま友はジフルオルメ
トキシ基を表わしている 式（１）の化合物に関するものである。

例えば、本発明方法の出発物質としてコートリフルオル
メトヤシーペンジルスルホニルイソシアネートおよび２
−アミノ−≠、乙−ジメチルーピリミジン全使用する場
合、その反応過程の概要は次の式によって表わすことが
できる。

Ｈ５ 式（ＩＩ）は本発明方法の出発物質として使用される２
−へロｒノアルコキシー堅ンジルスルホニルイソ（チオ
フシアネートの定ａｔ提供しており、この式の中で、Ｑ
　ｔ　Ｒ３およびＲ４は、好ましくは、あるいは特に、
本発明の式（１）の化合物の説明に関連して、好ましい
もの、あるいは特に好ましいものとして既に述べたこれ
らの基を表わしている。

式（Ｉｔ）で表わされる出発物質の例としては次のもの
、すなわちλ−ジフルオルメトキシー、２−トリフルオ
ルメトキシ−１，２−クロルジフルオルメトキシー１．
２−ジクロルフルオルメトキシ−２！−（２−クロル−
エトキシ）　−、，２−（，２，２，，２−トリフルオ
ル−エトキシ）−、，２−（／、へ２．２−テトラフル
オルーエトキシ）−および、２−（，２−クロル−７、
／、２−　トリフルオル−エトキシ）−ヘンシルスルホ
ニルイソシアネートおよヒーペンジルスルホニルインチ
オシアネート、および！−ゾフルオルメトキシー、２−
トリフルオルメトキシ−１２−クロルジフルオルメトキ
シー１．２−ジクロルフルオルメトキシ−、，２−（，
２−クロル−エトキシ）　−、，２−（／、／、２．コ
ーチドラフルオル−エトキシ〕−および２−（２−クロ
ル−／、／、２−トリフルオル−エトキシクーα−メチ
ル−ベンジルスルホニルイソシアネートおよび−α−メ
チル−ベンジルスルホニルイソチオシアネートを挙げる
ことができる。

式（ｎ）で表わされる出発化合物はまだ文献に記載され
ていない。これらの化合物は、 （ａ）　　Ｑが酸素全表わす場合には、下記の式（ＩＶ
）で表わされる！−八クログツアルコキシ−ベンノルス
ルホンアミド、 （式中、Ｒ５およびＲ４は前述の意味を有する〕適当な
らば触媒、例えばジアゾビシクロ−（２，２Ｊ）−オク
タン（ＤＡＢＣＯ）の存在下に、および希釈剤、例えば
キシレンの存在下において、！θ〜、２００℃、好まし
くはｇＯ〜／ｊ０℃の温度で、約等モル量のフルキルイ
ソシアネート、例えばブチルイソシアネートと反応させ
、かつ同時に少なくとも等モル量のホスゲン全通過させ
る方法、あるいに（ｂ）　　Ｑが硫黄ｔｌ−表わす場合
には、式（［’／）で表わされる２−ハロゲノアルコキ
シ−ベンジルスルホ／アミド全、酸受容体、例えば水酸
化カリウムの存在下に、また適当ならば希釈剤、例えば
ジメチルホルムアミドの存在下において、０〜！θ℃の
温度で二硫化炭素と反応させ、ついでその生成物上、適
当ならば希釈剤、例えば塩化メチレンの存在下において
、０〜ｊＯ℃の温度でホスゲンまたは塩化チオニルと反
応させる方法によって（アークファーム（Ａｒｃｈ、　
Ｐｈａｒｍ、　）　２９り（／り乙乙年〕。

第１７４を頁を参照）、得られる。

式（ＩＶ）は中間体として使用される２−ハロゲノアル
コキシ−ペンジルスルホンアミドの定義を提供し、この
式の中で、ＲおよびＲｆｌ好ましくは、ちるい！″ｉ特
に、本発明の式（１）の化合物の説明に関ま 連してれいもの、あるいは特に好ましいものとして既に
述べた基を表わす。

式（ＩＶ）で表わされる中間体の例としては次のもの、
すなわち！−ノフルオルメトキシー、！−トリフルオル
メトキシ−１，２−クロルジノルオルメトキシ−。２−
ゾクロルフルオルメトキシー、２−（コークロルーエト
キシ）−、，２−（，２，，２，，２−トリフルオルエ
トキシ）　−、，２−（／、／、、２．２−テトラフル
オルエトキシ）−および、２−（，２−クロル−／、／
、２−　）リフルオルエトキシ）−ベンジルスルホンア
ミドおよびこれらに対応するα−メチル−ベンジルスル
ホンアミドを挙げることができる。

式（Ｉ’ｌｌ’）で表わされる中間体はまだ文献に記載
されていない。これらの化合物は下記の式（■）で表わ
される−２−ハロゲノアルコキシ−ペンジルスルホニル
クロリドを、 （式中、ＲおよびＲは前述の意味を宵する）適当ならば
希釈剤、例えば水、ジエチルエーテルまたはテトラヒド
ロフランの存在下において、−，２０〜＋ｉｏｏ℃、好
ましくはθ〜ｆＯ℃の温度で、少なくとも等モル量のア
ンモニアと反応させ、ついでその生成物を常法で仕上処
理する方法によって得られる。

式（ＩＸ）は中間体として使用されるノーハロダンアル
コキシーペンノルスルホニルクロリドの定義全提供し、
この式の中でＲ３およびＲ４は、好ましくはあるいは特
に、本発明の式＜１）の化合物の説明に関連して好まし
いもの、あるいは特に好ましいものとして既に述べた基
を表わす。

式（■）で表わされる中間体の例としては次のもの、す
なわちコーグ２ルオルメトキシー、２−トリフルオルメ
トキシ−９２−クロルジフルオルメトキシー、２−ジク
ロルフルオルメトキシ−２，２−（，２−クロル−エト
キシ）　−、ｊ　−（，２，，２，２−トリフルオル−
エトキシ）　−、，２−（／、／、２．．２−テトラフ
ルオル−エトキシ〕−およびλ−（，２−クロル−ｉ、
ｔ、ｓ−）リフルオルーエトキシ）−ヘンシルスルホニ
ルクロリドおよびこれらに対応するα−メチルーペンジ
ルスルホニルクロリドヲ挙げることができる。

式（ＩＸ）で表わされる中間体はまだ文献に記載されて
いない。これらの化合物は下記の式（Ｘ）で表わサレる
！−ハロゲノアルコキシーベンジルスルホンｅまたはそ
の塩を、 （式中、Ｍは水素またはアルカリ金属を表わし、セして
ＲおよびＲは前述の意味上官する〕適当ならば希釈剤、
例えば塩化メチレン、クロロホルムまたは四塩化炭素の
存在下において、０〜１３０℃、好ましくは２０〜７０
０℃の温度で、少なくとも等モル蓋の塩素化剤、例えけ
五塩化燐、オキシ塩化燐″！ｆｃは塩化チオニルと反応
をせ、ついでその混合物全常法で仕上処理する方法によ
って得られる。

式（Ｘ）　Ｆｉ中間体として使用される２−ハロゲノア
ルコキシ−ベンジルスルホン酸およびその塩の定義全提
供し、この式の中でＲ３およびＲ４は好ましくは、ある
い１１特に、本発明の式（１）の化合物の説明に関連し
て好ましいもの、あるいは特に好ましいものとして既に
述べた基を表わし、セしてＭは好ましくは、そして特に
水素、ナトリウムまたはカリウムを表わす。

式（Ｘ）で表わされる中間体の例としては次のもノ、ス
なわち２−ジフルオルメトキシー、２−トリフルオルメ
トキシ−＃２−クロルジフルオルメトキシー、２−ジク
ロルフルオルメトキシ−１，２−（２−クロル−エトキ
シ）　−、，２−（，２，２，，２−トリフルオル−エ
トキシ）　−、，２−（／、／、２．．２−テトラフル
オル−エトキシ）−および、２−（、！−クロルーへ／
、、２−トリフルオル−エトキシ）−ヘンシルスルホン
酸およびそのナトリウム塩並びにカリウム塩、およびほ
らに、これらに対応するα−メチル−ベンジルスルホン
酸およびそれらのナトリウム塩並びにカリウム塩を挙げ
ることができる。

式（Ｘ）で表わされる中間体はまだ文献に記載されてい
ない。これらの化合物は下記の式（Ｘｌ）で表わされる
２−ハロｒノアルコキシーペンジルクロリ　　ド　１ヒ
　、 （式中、ＲおよびＲは前述の意味を有する〕、２０〜／
１０℃の温度において、水中で少なくとも等モル量のチ
オ硫酸ナトリクムま７’（はチオ硫酸カリウムと反応さ
せ、ついでその生成物を常法にしたがって仕上処理する
方法によって得られる。

式（ＸＩ）は中間体として使用される２−ハロゲノアル
コキシ−ペンジルクロリドの定義全提供し、この式の中
でＲ３およびＲ４は好ましくは、あるいは特に、本発明
の式（１）の化合物の説明に関連して好ましいもの、あ
るいは特に好ましいものとして既に述べ九基を表わす。

式（ＸＩ）で表わされる中間体の例としては次のもの、
すなわちλ−ジフルオルメトキシー、、２−　トリフル
オルメトキシ−、λ−クロルジフルオルメトキシー、２
−ジクロルフルオルメトキシ−１２−（２−クロル−エ
トキシ）−、，２−（ハム２，２−テトラフルオル−エ
トキシ〕−および２−Ｃ，ｌ！−クロル−／、７．２−
　トリフルオル−エトキシクーベンジルクロリドおよび
これらに対応するα−メチル−ペンノルクロリドを挙げ
ることができる。

式（、Ｍ）で表わされる中間体は、場合により、まだ文
献に記載されてなく、例えば、２−　）　ＩＪクロルル
メトキシ−ベンジルクロリドは、今のところ知られてい
ない。これらの化合物は下記の式（Ｘ［Ｉ）で表ワサれ
る２−７１０ｒノアルコキシートルエン、例えばノート
リフルオルメトキシートルエンを、（式中　Ｒ３および
Ｒ４は前述の意味を有する〕紫外線照射の下に、！θ〜
／と０℃の温度で等モル量以下の塩素と反応させ、つい
でその生成物を常法にしたがって仕上処理する方法によ
って得られる（例えば、西ドイツ特許用、頚公開明細ｆ
＠第２ｉｓｏ、り！ｊ号参照〕。

式（Ｘ［Ｉ）　ｆｌ中間体として使用される２−ノ・ロ
グノアルコキシートルエンの定義全提供し、この式の中
でＲおよびＲ１′ｉ好ましくは、あるいは特に、本発明
の式（１）の化合物の説明に関連して好ましいもの、あ
るいは特に好ましいものとして既に述べ九基を表わす。

式（ＸＩりで表わされる化合物の例としては次のもの、
すなわち２−ジフルオルメトキシー、２−トリフルオル
メトキシ−，２−クロルジフルオルメトキシー１．２−
ジクロルフルオルメトキシ−２２−（２−クロル−エト
キシ）−、，２−（ハム、２．．２−テトラフルオルー
エトキシ〕−およびノー（２＝クロル−７、／、、２−
トリフルオル−エトキシクートルエンおよびこれらに対
応するα−メチルトルエンを挙げることができる。

式（ＸＡ）で表わされる中間体は公知であり、かつ／あ
るいはそれ自体公知の方法によって製造できる（例えば
、テトラヘドロンレト（ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｓｔ
ｔ、　）２３　（、／　９７３年〕、第ｊ、２！３頁〜
第λ２よ６頁；および西ドイツ特許出願公開明細書第２
７タ０．９　ｊ　ｊ号参照〕。

式（２）は本発明の製造方法における出発物質としても
使用されるヘテロアリールアミンの定義を提供し、この
式の中でＲ、Ｒ、Ｘ、Ｙおよびｚは、好ましくはあるい
は特に、本発明の式（１）の化合物の説明に関連して好
ましいもの、あるいは特に好ましいものとして既に述べ
た基金表わす。

式＠）で表わされる出発物質の例を下記の第１表に示す
。

第１表 式（ｍ）の化合物は公知であって、それ自体公知の方法
によって製造できる（例えば、ケム　ファーム　プル（
Ｃｈｅｍ、　Ｐｈａｒｍ、　Ｂｕｌｌ、　）　／　／（
／９Ａ３年）、第１３ｇ２頁および米国特許第ｔｈ２ｑ
’ｙ、ｑｔ、ｏ号明細書、欧州特許出願公開明細書箱１
λ／、　Ｏｆ　２号、第１コ！；、２０！号、第１２乙
、７１／号および第１Ｓ２３りｇ号参照）。

式（１）で表わされる新しい化合物を製造するための本
発明方法は、好ましくは希釈剤を使用して遂行される。

ここで使用できる希釈剤は実質的にすべての不活性有機
溶剤であり、これらの溶剤は好ましくは、ペンタン、ヘ
キサン、ヘプタン、シクロヘキサン、石油エーテル、ベ
ンジン、リグロイン、ベンゼン、トルエン、キシレン、
塩化メチレン、塩化エチレン、クロロホルム、四塩化炭
素、クロルベンゼンおよ□ｏ−ジクロルベンゼンのよう
な随意にハロダン化されている脂肪族および芳香族炭化
水素、ジエチルエーテル、ジプチルエーテル、グリコー
ルジメチルエーテルおよびジグリコールジメチルエーテ
ル、テトラヒドロフランおよびジオキサンのようなエー
テル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロ
ピルケトンおよびメチルイソブチルケトンのようなケト
ン〜酢酸メチルおよび酢酸エチルのようなエステル、例
えばアセトニトリルおよびプロピオニトリルのようなニ
トリル、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミドおよびＮ−メチル−ピロリドンのようなアミド、
およびジメチルスルホキシド、テトラメチレンスルホン
およびヘキサメチル燐酸トリアミドを包含している。

適当ならは、本発明方法は触媒の存在下において遂行さ
れ、この触媒は特に、脂肪族、芳香族または複素環式の
アミン、例えばトリエチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルア
ニリン、ピリジン、ツーメチル−５−エテル−ピリジン
、ダージメチルーアミノーピリジン、ノアデビシクロオ
クタン（ＤＡＢＣＯ）、ジアザビシクロノネン（ＤＢＮ
）およびジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）ｌ包含し
ている。

される。

本発明方法は一般に常圧下で遂行されるが、本方法を加
圧下または減圧下で遂行することもできる。

本発明方法を遂行するためには、式（ＩＩＩ）で表わさ
れるヘテロアリールアミン１モルに付き、一般に７．０
〜３．０モル、好ましくは／、０〜．２．０モルの、式
（■）で表わされるλ−ハＰダンアルコキシーベンゼン
スルホニルイソ（チオ）シアネートが使用される。

式（ＩＩ）および式（ｎｌ）で表わされる出発物ノｈお
よび適当な場合に使用される触媒および希釈★１［は、
一般に室温で、あるいは外部から冷やしながら混合し、
ついでその反応混合物を、適当ならば昇温下において、
反応が終わるまで攪拌する。

式（１）の新しい化合＃ｈＩＪハ常法にしたがって仕上
処理されるとともに遊離され、すなわち式（１）の化合
物が結晶の形で得られる場合は、その結晶を吸引濾過に
よって遊離し、他方そうでない場合には一濃縮後適当な
らば一水および実質的に水不混和性である有機溶剤を添
加し、そして徹底的に振とうした後、有機相を分離し、
乾燥し、濾過して濃縮し、そして式（１）の生成物を残
渣の形で残すり不発明の活性化合物は落葉剤、乾燥剤、
広葉植物の撲滅剤、および特に除草剤として使用できる
。

雑草とは、最も広い意味では、それが有害となる場所で
生育するすべての植物と解される。本発明の物質が全除
草剤（ｔｏｔａｌ　ｈｅｒｂｉｃｌｄｅ　）として作用
するか、あるいは選択的除草剤として作用するかは本来
その使用量によって決着る。

本発明の活性化合物は、例えは次の植物に関連して使用
できる。

（Ｌｅｐｉｄｉｕｍ　）　、ヤエムグラ（Ｇａｌｉｕｍ
　）　、ハ＝ｌぺ（５ｔｅｌｌａｒｉａ　）、カミツレ
（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ　）　Ｎ　　Ｃ１−マカミルレ
（Ａｎｔｈｅｍｌｓ　）　、ハキダメギブ（Ｇａｌｉｎ
ｓｏｇａ　）　％アカザ科植物（Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕ
ｎ　）　ｓイラクサ（Ｕｒｔｌｃａ　）、ノ＋％”ＣＩ
ギク（５ｅｎｅａｌｏ　）、アカザ（Ａｍａｒａｎｔｈ
ｕｓ　）　、スベリヒュ（Ｆｏｒｔｕｌａｃａ）、オナ
モミ（Ｘａｎｔｈｉｕｍ　）、ツルマキ植ｑ勿（Ｃｏｎ
ｖｏｌｖｕｌｕｓ　）　ｓアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ　
）　ｓ　ミチヤナギ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ　）　、セス
パニア（５ｅｓｂａｎｉａ　）、ブタフサ属（Ａｍｂｒ
ｏｓｉｍ　）、シルシウム（Ｃｉｒｓｉｕｍ）、カルズ
ウス（Ｃａｒｄｕｕｓ　）　ｓノｒシ（５ｏｎｃｈｕｓ
　）　ｓナス属植物（Ｓｏｌａｎｕｍ　）　、野生レタ
ス（Ｒｏｒｉｐｐａ　）　％ロタラ（Ｒｏｔａｌａ　）
、リンデルニア（Ｌｉｎｄａｒｎｉａ　）、オドリコソ
ウ（Ｌａｍｌｕｍ　）　、クワガタソウ属（Ｖｅｒｏｎ
ｉｅａ　）　、ゼニアオイ（Ａｂｕｔｉｌｏｎ　）、エ
メツクス（Ｅｍｅｘ　）　、チョウセンアサガオ（Ｄａ
ｔｕｒａ　）、スミＬ／　（Ｖｉｏｌｍ　）　、イタチ
ジソ（Ｇａ１ｅｏｐｓｉｓ　）、ケ’／　（Ｐａｐａｖ
ｅｒ　）およびヤグルマギク属（Ｃｅｎｔａｕｒｅａ　
）　。

双子葉の栽培植物：ワタ（Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍ　）　Ｎ
大豆（Ｇｌｙｃｉｎｅ　）、ビート（Ｂｅｔａ　）　、
ニンジン（Ｄａｕｃｕａ　）　、−ｖメ（Ｐｈａｓｅｏ
ｌｕｓ　）　ｓ　ｘンドウ（Ｐｉｓｕｍ　）　、ジャガ
イモ（Ｓｏｌａｎｕｍ　）　、亜麻（Ｌｌｎｕｍ　）　
ｓアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅｓ　）、ソラマメ（Ｖｉｅｉ
ｍ　）、タバコ（Ｎ１ｅｏｔｉａｎａ　）、トマト（Ｌ
ｙｃｏｐｅｒｓｌｃｏｎ　）　ｓ％花生（Ａｒａｃｈｉ
ｓ　）、キャベツ（Ｂｒａｓｓｉｃａ　）　、レタス（
Ｌａｅｔｕｃａ　）、キュウリ（Ｃｕｃｕｍｌｇ　）お
よび西洋カゲチャ（Ｃｕｅｕｒｂｌｔａ　）。

単子葉の雑草：イヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｅｈｌｏａ　）
　、ｘノコログサ（５ｅｔａｒｉａ　）　、ノ４＝クム
（Ｐａｎｌｃｕｍ　）、メヒシバ（Ｄｌｇｉｔａｒｉｍ
　）　、オオアワガエリ（Ｐｈｌｅｕｍ　）　、スズメ
ノカタビラ（Ｐｏａ　）、ト？シガラ（Ｆｅ５ｔｕｃａ
　）　、オヒシバ（Ｅｌｅｕａｉｎａ　）、プラキアリ
ア（Ｂｒａｃｈｌａｒｉｍ　）、ドクムギ（Ｌｏｌｉｕ
ｍ　）　％イヌムギ（Ｂｒｏｍｕｓ　）、カラスムギ（
Ａｖｅｎａ　）、シペルス（Ｃｙｐｅｒｕａ　）、ソル
グフム（Ｓｏｒｇｈｕｍ　）、シバムギ（Ａｇｒｏｐｙ
ｒｏｎ　）　、ギョウギシパ（Ｃｙｎｏｄｏｎ　）　、
モノコリア（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ　）。

フイムプリスチリス（Ｆｉｍｂｒｉｓｔｙｌｌｍ　）　
、クワイ属植物（Ｓａｇｌｔｔａｒｉａ　）　、エレオ
カリス（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｇ　）　％イグサ（５ｅｉ
ｒｐｕｓ　）、パスノ母ルム（Ｐａｓｐａｌｕｍ　）、
イスキャムム（Ｉａｅｈａｅｍｕｍ　）、ヤエムグラ（
５ｐｈｅｎｏｃｌｅ＆　）、ウマノアシガタ（Ｄａｃｔ
ｙｌｏｃｔｅｎｌｕｍ　）　Ｎコヌカグサ（Ａｇｒｏｓ
ｔｌｓ　）％オオスズメノテツポウ（Ａｌｏｐｅｅｕｒ
ｕｓ　）　　およびアペラ（Ａｐａｒａ　）。

シ（Ｚｅａ　）　１小麦（Ｔｒｌｔｉｃｕｍ　）　、、
大麦（Ｗｏｒｄｅｕｍ　）　ｓオート麦（Ａｖｅｎａ　
）、ライ麦（５ｅｃａｌｅ　）、モロコシ（Ｓｏｒｇｈ
ｕｎｉ　）、キビ（Ｐａｎｉｃｕｍ　）　、サトウキビ
（Ｓａｃｃｈａｒｕｍ　）　％　／母インナツゾル（Ａ
ｎａｎａａ　）　Ｓアスノ母うガス（Ａｓｐａｒａｇｕ
ｓ　）およびタマネギ（ＡＡｌｌｌｕ　）。

しかしながら、本発明の活性化合物の使用は決してこれ
らの種類に限られないで、同様にその他の植物にも及ん
でいる◇ 本化合物は１その濃度に応じて、例えば工業地帯および
鉄道線路の上、および樹木を植えであるか、あるいは植
えてない道並びに広場の上の雑草を全て駆除するのに適
している。同様に、本化合物は多年生作物の栽培、例え
ば植林、装飾的樹木の植栽、果樹園、ブドウ園、柑橘園
、堅果園、バナナ園、コーヒー園、茶畑、ゴム園、オイ
ルパーム園、カカオ園、ソフトフルーツの植栽およびホ
ップ園において雑草を駆除するために、また−年生作物
の栽培において雑草を選択的に駆除するために使用でき
る。

式（１）の新しい活性化合物は、発芽前および発芽後に
施用する方法により、単子葉作物中の双子葉雑草を選択
的に駆除するのに適している。

本活性化合物は通常の処方物、例えば溶液、乳剤、湿潤
性粉末、懸濁液、粉剤、微粉剤、ペースト、可溶性粉末
、粒剤、懸濁−乳化濃厚液、活性化合物を含浸させた天
然材料並びに合成材料、および重合体物質中に入れた極
〈微細なカプセルに転化することができる。

これらの処方物は公知の方法により、例えは、乳化剤お
よび／または分散剤および／または発泡剤である表面活
性剤を随意に使用して、活性化合物を、液体の溶剤およ
び／または固体の担体である増量剤と混合することによ
って製造される。

増量剤として水を使用する場合には、例えば、有機溶剤
も補助溶剤として使用することができる。

液体の溶剤としては、主として、キシレン、トルエンま
たはアルキルナフタレンのような芳香族炭化水素、クロ
ルベンゼン、クロルエチレンまたは塩化メチレンのよう
な塩素化芳香族炭化水素および塩素化脂肪族炭化水素、
シクロヘキサンまたは・母ライン、例えば石油留分のよ
うな脂肪族炭化水素、鉱油および植物油、ブタノールま
７’（はグリコールのようなアルコール並びにそれらの
エーテルおよびエステル、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトンまたはシクロヘキサノンの
よりなケトン、ジメチルホルムアミドおよびジメチルス
ルホヤシトのような強い極性溶剤、並びに水が適してい
る。

固体の担体としては、例えばアンモニウム地およびカオ
リン、粘土、メルク、チョーク、石英、ブタノ４ルガイ
ト、モンモリロナイトまたは珪藻土のような粉末状の天
然鉱物、および高度に分散した珪酸、アルミナおよび珪
酸塩゛のような粉末状の合成鉱物が適しており；粒剤の
ための固体担体としては、例えば石灰岩、大理石、軽石
、セピオライトおよびドロマイトのような粉砕して篩分
けした天然岩石並びに無機並びに有機粗粉の合成顆粒、
および鋸屑、ココナツツの殻、トウモロコシノ穂軸およ
びタバコの茎のような有機材料の顆粒が適しており；乳
化剤および／または発泡剤としては、例えば非イオン系
および陰イオン系乳化剤、例えハホリオキシエチレンー
脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン−脂肪族アルコー
ルエーテル、例工ばアルキルアリールポリグリコールエ
ーテル、アルキルスルホネート、アルキルサルフェート
、アリールスルホネート並びにアルブミンの加水分解生
成物が適しており；分散剤としては、例えばリグニン−
亜硫酸廃液およびメチルセルロースカ適している。

カル？キシメチルセルロースのような接着剤および粉末
状の天然並びに合成の重合体、顆粒またはラテックス、
例えばアラビヤゴム、ポリビニルアルコールおよびポリ
酢酸ビニル、並びに天然燐脂質、例えばケファリンおよ
びレシチン、および合成燐脂質を処方物中で使用するこ
とができ、その他の添加剤は鉱物油および植物油であり
得る。

無機顔料のような着色料、例えば酸化鉄、酸化チタンお
よびゾルシアンブルー、および有機染料、例えばアリゾ
リン染料、アゾ染料および金属フタロシアニン染料、お
よび鉄、マンガン、硼素、銅、コバルト、モリブデンお
よび亜鉛の塩のような微量の栄養素を使用することがで
きる。

これらの処方物は一般に０．　／〜ヲ５重世係、好まし
くは０．５〜ｑＱ重量％の活性化合物を含んでいる。

本発明の活性化合物は、除草するために、単独で、ある
いは公知の除草剤との混合物のような、その活性化合物
の処方物の形で使用することもでき、完成された処方物
またはタンク混合を利用することができる〇 混合物のために使用できる成分は公知の除草剤、例えば
５Ｎ−（コーペンゾチアゾリル）−Ｎ、Ｎ’−ジメチル
尿素、３−（３−クロルーダ−メチルフェニル）　−／
、／−ジメチル尿素、３−（ｌＩ−イングロビルフェニ
ル）　−／、／−ジメチル尿素、／−（ｔＪｔ−メチル
−フェニル）−、？−（／−メチル−／−フェニル−エ
チル）−尿ｌコークロルーＮ−（〔グーメトキシ−６−
メチル−／、３．！；　−）リアノン−ターイル）−ア
ミノコ−力ルゴニル）−ベンゼンスルホンアミド１．２
−（［（ｌＩ−クロル−６−メドキシーコー（ピリミジ
ル）アミノカルボニルコアミノスルホニル）−安息香酸
エチル、コーエチルアミノーｇ　−（ｉ、ｉ−ジメチル
エチル−アミノ）−クーメチルチオ〜／、３．！；　−
）リアジン１．２−クロル−弘−エチルアミノ−乙−（
／−メチルーエチル）−八、）、３；　−）リアジン、
グーアミノ−４−（／、／−ツメチル−エチル）−３−
メチルチオ−／、コ滓−トリアシン−５（弘Ｈ）−オン
、クーアミノーＡ　−（／、／　−・ジメチルエチル）
−３−エチルチオ−／、コ滓−トリアジン−ｊ（ｌＩＨ
）−オン、／−アミノ−６−エチルチオー３−（２，コ
ーノメチルプロビル）　−／、Ｊ’、！；　−トリアソ
ンーー滓−（／Ｈ，３Ｈ）−ジオン、ター（２−クロル
−弘−トリフルオルメチル−７エノキシ）−Ｎ−メデル
スルホニルーコ一二トロペンズアミド、ｊ−（２−クロ
ル−タートリフルオルメチル−フェノキシ）−コーニト
ロ安息香酸−−エトキシー／−メチルーコーオキソーエ
チル、！−（１−（２，１Ｉｔ−ジクロルフェノキシ）
−７エノキシ〕−プロピオン酸メチル、コー（４−（：
（、？−りｏ、ｘ−５−トリフルオルメチル−タービリ
ジニル）オキシフ−フェノキシ）−プロピオン酸、２−
（’ｌ−−［３，！−ソクロルーコーピリジニル）オキ
シフ−フェノキシ）−プロピオン酸（トリメチルシリル
）−メチルのＲ−鏡像体、２．＋ｔ−ジクロルフェノキ
シ酢酸、２−（，２，’！タークロルフェノキシ）−プ
ロピオン酸、ダークロルーコーメチルーフェノキシー酢
酸、２−（ｌＩ−クロルーコーメチルーフエノキシ）−
プロピオン酸、３．５−ノヨード・−弘−ヒドロキシ−
ベンゾニトリル、３．、！；−ジブロムー弘−ヒドロキ
シーベンゾニトリル１．２−（５−メチル−３−（／−
メチルエチル）−クーオキソ−λ−イミダゾリンーコー
イル〕−３−ビリジｙ−カル？ン酸、λ−（／−エトキ
シアミノ−！チリデン）−！；−（，２−エチルーチオ
グロビル）−／、３−シクロヘキサンジオン、〔（ター
アミノ−３，！；−ジクロル−６−フルオルーコービリ
ジル）オキシ〕−酢酸、３−イソプロビル−２，フ、３
−ペン！チアジアジンークーオンコ、コーソオキシド、
２−（２−ベンゾチアゾリルオキシ）−Ｎ−メチル−Ｎ
−フェニル−アセトアミド、Ｎ、Ｎ−ジグロピルーテオ
力ルバミン酸Ｓ−エチル、／−エチルチオカルボニル−
へキサヒドロ−／Ｈ−アゼピン、グロピオン酸３．ＩＩ
−ソクロルアニリド、クロル酢酸Ｎ　−（Ｊ、Ａ−ジエ
チル−フェニル）−Ｎ−メトキシメチル−アミド、クロ
ル酢酸Ｎ−（，２−エチル−６−メチル−フェニル）−
Ｎ−ｉ−メトキシ−／−メチル−エチル）−アミド、ク
ロル酢酸Ｎ　−（，２，Ａ−ジメチル−フェニル）　−
Ｎ　−（／　Ｈ−ピラゾール−／−イル−メチル）−ア
ミド、クロｋｔｈｈｌＮ　−（２，ｌｓ−ノエチルフェ
ニル）−Ｎ−（２−ｆロポキシエチル）−アミド、３，
７−ノクロルーｇ−キノリンカルゲン酸、弘−（コ岸−
ヅクロル−フェノキシ）−２−メトキシーアニリン１．
２−（−（１−クロルーペンゾキサゾールーコーイル）
−オキシ）−フェノキシ）−プロピオン酸エチル、（２
，ｔＩ−ジクロルフェニル）　−（７，３−ジメチル−
、！−−（（弘−メチル−フェニル）−スルホニル−オ
キシ）−／Ｈ−ピラゾール−ｐ−イル）−メタノンおよ
びチオ炭酸０−（乙−クロルー３−フェニル−弘−ピリ
ダジニル）Ｓ−オクチルである。驚くべきことには、幾
つかの混合物は相乗作用も示す。

殺菌剤、殺昆虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、鳥忌避剤、植
物栄養素および土壌改良剤のような、その他の公知の活
性化合物との混合物も使用できる。

本活性化合物は単独で、その処方物の形で、あるいはそ
れからさらに希釈することｆよって調製される施用形で
、例えば即用浴液、懸濁液、乳化液、粉末、ペーストお
よび顆粒の形で゛使用することができ、それらは常法に
より、例えば潅水、吹付け、噴霧、またはばらまきによ
って使用される。

本発明の活性化合物は植物の発芽前または発芽後のどち
らでも施用でき、それらはまた種を播く前の土の中に混
ぜることもできる。

活性化合物の使用量はかなりの範囲にわたって変化でき
、それは本来所望の効果によって決まる。

一般に、その使用ｆｔＦｉ土の表面／ヘクタール当ジ０
、００　／〜ｊｆ、好ましくは０．０７〜／ゆの活性化
合物に相当する。

〔実施例〕

本発明の活性化合物の製造法および使用法は以下の実施
例から理解することができる。

製造例 実施例ｌ ７００ｄの塩化メチレンに浴けているλ−トリフルオル
メトキシーぺ／ジルスルホニルイソシアネートの溶液（
ｍ！造法については後記の実施例（ｎ−／）を参照；こ
こでは実施例（■−／）によって得られた物質のｉを使
用する）を、２０℃において、ノ、！；ｉ（０，０２モ
ル）の−一アミノーダ、６−ノメチルーピリミジンとと
もに７２時間攪拌する。ついでこの混合物を濃縮し、残
渣をジエチルエーテルで温浸し、そして結晶の形で得ら
れた反応生成物を吸引濾過によって遊離させる。

／！；／℃の融点（分解）を有する／−（２−トリフル
オルメトキシ−ペンシルスルホニル）−３−（先６−シ
メチルービリミジンーコーイル）−尿素６．０１１（理
論量の７＜４４）が得られる。

下記の第２表に示される式（１）の化合物は実施例１の
例によって説明された方法にしたがって製造することが
できる◇ （以下余白） ０　　　　　　　　　　ｏ　　　　　　　　　　Ｏエ　
　　　　　　　　　エ　　　　　　　　　　工！ 工　　　　　　　　　　　工　　　　　　　　　　　Ｑ
的　　　　　　　　　　−４ト ｏ　　　　　　　　　　　ｏ　　　　　　　　　　　ｏ
　　　　　　　　　　　。

匡　　　　　　　　　　工　　　　　　　　　　工　　
　　　　　　　　ミ０　　　　　　　　０　　　　　　
　　　。

ｆ　　　　　　　　　　閃　　　　　　　　　　工国　
　　　　　　　　　工　　　　　　　　　　匡ロ　　　
　　　　　　　　　ロ　　　　　　　　　　　　ｏ　　
　　　　　　　　　　。

閃　　　　　　　　　　　　閃　　　　　　　　　　　
　工　　　　　　　　　　　　工＃Ｊ　　　　　　　　
国　　　　　　　　　　　　−Ｑ　　　　　　　　　　
　　−工　　　　　　　　　　　　より ｏ　　　　　　　　　　０　　　　　　　　　０ヱ　　
　　　　　　　　ｉ！８０１＋ ：！８　　　　　　　　　　工　　　　　　　　　　工
ロ　　　　　　　　　　　ロ　　　　　　　　　　　ロ
ー　　　　　　　　　　　丑　　　　　　　　　　　匡
＃Ｊ　　　　　　　　≠ υ　　　　　　　　　　　：！８　　　　　　　　　　
　工０　　　　　　　　　　〜 Ｑ　　　　　　’Ｑ　　　　　　　　　　　Ｏ０匡　　
　　　　　　　　ｃ＆ｌｃ＆＋ （、、ＣＪ　　　　　　　　　　　　ｕ国 Ｏミ　　　　　　　　　ヱ　　　　　　　　　工エ　　
　　　　　　ミ　　　　　　　　工　　　　　　　　工
種　　　　　　　　　　　Ｃ−＋− ロ　　　　　　　　　　　Ｏｏ　　　　　　　　　　　
。

′１　　　　　　　　　　　　　　哨　　　　　　　　
　　　　　　ｎ　　　　　　　　　　　　　　哨Ｃａｔ
　　　　　　　　　　　ｌｌ＆Ｉｌ”、　　　　　　　
　　　　Ｃｔ。

Ｑ　　　　　　　　　　　Ｑ　　　　　　　　　　　Ｃ
Ｊ　　　　　　　　　　　　Ｑ工 工　　　　　　　　　　Ｑ　　　　　　　　　　平　　
　　　　　　　　国ロ　　　　　　　　　　　　ｏ　　
　　　　　　　　　　。

工　　　　　　　　　　　工　　　　　　　　　　　ニ
ー　　　　　　　　　　　　ズ　　　　　　　　　　　
　工ＯＯＱ　　　　　　　　　　　（ 工　　　　　　　　　　　頴　　　　　　　　　　　閃
ａ　　　　　工　　　　　　　Ｏ１８工）　　　　　　
　　　　　　　ＯＯＯ 工　　　　　　　　　　　工　　　　　　　　　　　閃
国　　　　　　　　　　　：！８０１＋〜　　　　　　
　　　　　　　鵠 工　　　　　　　　　　工　　　　　　　　　　ヱ仰　
　　　　工　　　　　　　　エ　　　　　　　　−ｏ　
　　　　　　　　　ｏ　　　　　　　　　　ｏ　　　　
　　　　　　〇−エヱー 一　　　　　　　　　　　　工　　　　　　　　　　　
　−工− ｏ　　　　　　　　　　０　　　　　　　　　　０頴　
　　　　　　　　丑　　　　　　　　　；４Ｉ　　　　
　閤　　　　　　　　工　　　　　　　　工ｏ　　　　
　　　　　　ｏ　　　　　　　　　　ｏ　　　　　　　
　　　。

閃　　　　　　　　　８＋：：Ｉ１８　　　　　　　　
　　需工Ｏ１８ニー ９　　　　　　　　　導　　　　　　　　　梢　　　　
　　　　　　喝杓　　　　　　　　的　　　　　　　　
拓　　　　　　　　匂ｏ　　　　　　　　　　　　ｏ　
　　　　　　　　　　　ｏ　　　　　　　　　　　　。

工　　　　　　　　　　　工　　　　　　　　　　　匡
　　　　　　　　　　　。

″　　　　　　Ｏ１８工　　　　　　　　エ　　　　　
　　　エ（）　　　　　　　　　　ＯＯ ＝−− Ｑ　　　　　　　　　　　　　ＯＯ −１：＋：　　　　　　　　　　　　：ｅ仲　　　　　
：１１８　　　　　　　　　需　　　　　　　　平℃ ｏ　　　　　　　　　　　ｏ　　　　　　　　　　　Ｏ
。

国　　　　　　　　　　　　　ゆ　　　　　　　　　　
　　　ユ　　　　　　　　　　　　　エエ ０　　　　　　　　　　　ロ　　　　　　　　　　　０
工　　　　　　　　　　　　　工　　　　　　　　　　
　　　匡ｏ　　　　　　　　　　　　　　ｏ　　　　　
　　　　　　　　　。

ヱ　　　　　　　　　　　　エ　　　　　　　　　　　
　国　　　　　　　　　　　　工０　　　　　　　　　
　　　ロ　　　　　　　　　　　　　０工　　　　　　
　　　　　　匡　　　　　　　　　　　　　−ａ　　　
　　工　　　　　　　閃　　　　　　　　国い ０　　　　　　　　　　０　　　　　　　　　　　Ｑ　
　　　　　　　　　　Ｏ閃　　　　　　　　　　　　≠
　　　　　　　　　　　　工　　　　　　　　　　　　
エヱ 国　　　　　　　　　　　　国　　　　　　　　　　　
　工　　　　　　　　　　　　Ｑｏ　　　　　　　　０
　　　　　　　０　　　　　　　　。

Ｏ：　　　　　　　　す　　　　　　　　閃　　　　　
　　　ヱｏ　　　　　　　　　　ｏ　　　　　　　　　
　Ｏ工　　　　　　　　　　　国　　　　　　　　　　
−一　　　　　　　　　　　　閃　　　　　　　　　　
　　ＩＣ６ω　　　　　　　　　　　ω ≠　　　　　　　　工　　　　　　　　工工 ＃Ｊ　　　　　工　　　　　　　　工　　　　　　　　
○η　　　　　　　　　　ω　　　　　　　　　　ω　
　　　　　　　　　の工　　　　　　　平　　　　　　
　工　　　　　　　工工 ω　　　　　　　　　　　　　ω　　　　　　　　　　
　　　０閃　　　　　　　　　　≠　　　　　　　　　
　開国 ″　　　　　閃　　　　　　　ω　　　　　　　閃Ｗ　
　　　　　　　　　　ω　　　　　　　　　　　ｃ／３
　　　　　　　　　　　。

冒　　　　　　　　　　工　　　　　　　　　　工　　
　　　　　　　　閃０　　　　　　　　　　ロ　　　　
　　　　　　ＯＩＩ′１　　　　　　　　　　　　　　
　哨　　　　　　　　　　　　　　哨ｒｌｔ１４　　　
　　　　　　　　Ｃ−１ω　　　　　　　　　　ｇ　　
　　　　　　　　　ｕ閃　　　　　　　　　ヱ　　　　
　　　　　工ロ　　　　　　　　　Ｑ　　　　　　　　
　　ＯＯ閑　　　　　　　　真　　　　　　　　Ｏ１８
：Ｉ１８第ａ表一つづ龜 ／／７　　　　ＨＨＣＦ’、　　　０ しｈ５ 実施例（川−７） コートリフルオルメトキシーペンジルスルホン酸アミド
ｆ、　９．９　（０，０３５モル）、ｎ−ブチルインシ
アネート３．５　、Ｆ　（０，０３３モル）、ヅアデー
ビシクロー〔コ、２．コ〕−オクタン（ＤＡＢＣＯ）０
．．２Ｊおよび無水キシレン／！；Ｏｍｌの混合物を還
流温度まで加熱し、そしてホスダンの緩やかな流れを２
時間通過させる。ついで混合物を還流下でさらに３０分
間攪拌してから冷却し、濾過し、そして濃縮する。残渣
を塩化メチレンに吸収させて、再び濾過する。このろ液
はＤＡＢＣＯと混合した粗製材料としてコートリフルオ
ルメトキシーペンジルスルホニルイソシアネートを含み
、高い真空下の蒸留に際しては一部分解を起こすので、
その後はそのままの形で次の反応のために使用される。

下記の第３表に列記した式（ｎ）の化合物は実施■−／
）の例によって説明された方法にし九がって製造するこ
とができる。

第３表 実施 （■−コ）ＨＣＨＦ２０ （ＩＩ−、？）　　　）ｌ　　　ＣＦ２ＣＨＦ２０（■
−り）　　　ＨＣＦ２ＣＨＦＣｌ　　　Ｏ（■−、！−
）　　　ＣＭ、　　ＣＦ３０（■−乙）　　　ＣＨ３Ｃ
ＨＦ２０ （ｎ−７）　　　ＨＣＨ２−ＣＦ３０ （ｎ−ｇ）　　　Ｉ（ＣＨ２Ｃｌ２Ｃ１０（ＩＩ−９）
　　　ＣＨ，ＣＨ２−ＣＦ、　　　　０（ＩＩ　−７０
）　　　Ｃ）（、ＣＨ２ＣＨ２Ｃｌ　　　０（ｎ−／／
）　　　ＨＣＣｌＦ２０ （ＩＩ−／２）　　　ＨＣＣｌ２Ｆ　　　　　Ｏ式（Ｉ
Ｖ）で表わされる中間体 実施例（Ｉｆ／−／） ／、５１の飽和アンモニア水溶液中に３０〜グ０℃で２
０よｑ、９　（０，７５モル）のコートリフルオルメト
キシーペンジルスルホニルクロリドヲ導入し、ついでそ
の混合物ｔｓｏ−ｔｏ℃において３時間攪拌する。冷却
後、分離し九沈＃を吸引テ過し、水で中性になるまで洗
浄し、そして乾燥する０７２７℃の融点を有するλ−ト
リフルオルメトキシーベンジルスルホン酸アミドｉ３ｔ
、ｓｉ（理論量の７／チ）が得られる。

下記の第９表に列記された式（■）の化合物は実施例（
ＩＶ−／）の例によって説明された方法にしたがって製
造することができる。

第９表 （ＩＶ　−２）　　　ＨＣＨＦ２ （ＩＶ−、？）　　　ＨＣＦ２ＣＨＦ２（ＩＶＩ）　　
　ＨＣＦ２ＣＨＦＣＩ （Ｙ　−！ｒ　）　　　ＣＨ３ＣＦ３ （ＩＶ　−４）　　　ＣＨ，ＣＨＦ２ （Ｖ−７）　　　ＨＣＨ２−ＣＦ３ （ＩＶ−ｆｆ）　　　ＨＣＨ２ＣＨ２Ｃ１（ＩＶ　−９
）　　　ＣＨ３ＣＨ２−ＣＦ。

（■−７の　　ＣＨ，ＣＨ，ＣＨ２Ｃ１（■−／／）　
　　ＨＣＣｌＦ２ （■−７２）ＨＣＣｌ２Ｆ 実施例（ＩＸ−／　） ２３、７　＃　（０，Ｏｇ　５モ／Ｉ／）のコートリフ
ルオルメトキシーペンジルスルホン酸ナトリウムを３ヨ
５ｉ（ｏ、ｉクモル）の五塩化燐と混合してから、この
混合物をｇθ〜９０℃の浴温で回転蒸発器により約２時
間回転させる。混合物を冷却し、そして生成したオキシ
塩化燐を真空中で除去する。残渣を塩化メチレン中に懸
濁させてから氷水の上に注ぐ。有機相を分離し、中性に
なるまで洗浄し、乾燥し、そして濃縮する。

／９．０＆（理論量のｇ　／、　４　％　＞のコートリ
フルオルメトキシーペンジルスルホニルクロリドが粗製
材料の形で得られ、これはスルホンアミドｔｌＥ成させ
る次の反応にとって十分な純度ヲ有する。

これを精製するには、粗製材料を塩化メチレン中に吸収
させた後、シリカダル上で精製するとｎｏ　　−／、’
１ｇ３’ｌを有する生成物が得られる。

下記の第５表に列記された式（Ｋ）の化合物は実施例（
ＩＸ−／）の例によって説明された方法にしたがって製
造できる。

第３表 （Ｄ（−Ｊ）　　　ＨＣＦ２ＣＨＦ２ （Ｘ−ｐ）　　　ＨＣＦ２ＣＨＦＣＩ （ＩＫ−５）　　、ＣＨ，ＣＦ３ （Ｄ（−ｉｓ　）　　　ＣＨ３ＣＨＦ２（■−７）　　
　　ＨＣＨ２−ＣＦ。

（Ｄ（−４）　　　ＨＣＨ２ＣＨ２Ｃ１（ＩＫ−？）　
　　ＣＨ，ＣＨ２−ＣＦ３（■−／の　　ＣＨ３ｃＨ２
ｃＨ２ｃｌ（■−／／）　　　ＨＣＣｌＦ２ （ＤＣ−／、２）　　　ＨＣＣ１２Ｆ 実施例（ｘ−ｉ） ２　／、　Ｏｇ（０，１モル）のニートリフルオルメト
キシーペンジルクロリドを、徹底的に攪拌しながら、／
　３．　ｑ、９　（０，／　１モル）のチオ硫酸ナトリ
ウムを含むチオ硫酸ナトリウムの飽和水浴液とともに還
流下で加熱する。冷却後、分離した白色沈澱を吸引濾過
してから、氷で冷やした少量の水ですすぐ。

五酸化焼土で乾燥した後に、７１５℃の融点を有するニ
ートリフルオルメトキシーペンジルスルホン酸ナトリウ
ム、２Ａ、ｌＩ＆（理論量の９５％）が得られる。

下記の第６表に列記された式（Ｘ）の化合物は実施例（
Ｘ−／）の例によって説明された方法にしたがって製造
できる。

第６表 （Ｘ−，２）　　ＨＣＨＦ２Ｎａ （Ｘ−、？）　　ＨＣＦＣＨＦ　　　Ｎａ（Ｘ　−’Ｉ
　）　　ＨＣＦ　２　ＣＨＦＣＩ　　Ｎａ（Ｘ　−ｊ　
）　　ＣＨｓ　　ＣＦｓ　　　　Ｎａ（Ｘ−６）　　Ｃ
Ｈｓ　　ＣｌｌＦ２　　　　Ｎａ（Ｘ−７）　　ＨＣＨ
２−ＣＦ、　　Ｎａ（Ｘ−ｇ）　　ＨＣＨ２ＣＨ２Ｃｌ
　　Ｎｕ（Ｘ　−９）　　ｃＨｓ　　ＣＨ２−ＣＦ、　
　Ｎａ（Ｘ−／の　ＣＨ，ＣＨ２ＣＨ２ＣＩＮａ（Ｘ−
／／）　　ＨＣＨＦ２Ｎａ （ｘ−／２）　　Ｈｃｃｔ　Ｆ　　　Ｎａ（Ｘ−／３）
　　ＨＣＦ３に 式０３）で表わされる中間体 実施例（ＸＩ−／） ９００９１１モル）のニートリフルオルメトキシートル
エン（−一メチルートリフルオルアニソ−／Ｌ／）を７
００℃に加熱。してから、この温度で紫外線照射の下に
１ｇ０９（，２，、！；’Ｉモル）の塩素を通す。つい
で窒素を泡立たせながら通した後、減圧下で反応混合物
に分留を施こす。

主要な留分として、／１０℃／１００ミリバールの融点
とｎ　ｏ０＝／−！；　’Ｉ　３０　　の屈折率を有す
るλ−トリフルオルメトキシーベンジルクロリド（ニー
クロルメチル−トリフルオルアニソール）４’２！ｒｇ
（理論量の１７０％）が得られる。

下記の第・７表に列記された式（ＸＩ）の化合物は実施
例（ＸＩ−／）の例によって説明された方法にしたがっ
て製造できる。

第７表 （Ｘ−２）　　　ＨＣＨＦ２ （ＸＩ−、？）　　　ＨＣＦ２ＣＨＦ２−（ＸＩ−ｌＩ
）　　　Ｈｃｐ２ｃｎｐｃｔ（ＸＩ　−！；　）　　　
ＣＨＣＦ３ （ＸＩ　−Ｉ、）　　　ＣＨ３ＣＨＦ。

（ＸＩ−７）　　　ＨＣＨ２−ＣＦ。

（ＸＩ−ｇ）　　　）Ｉ　　　　ＣＨ２ＣＨ２Ｃ１（Ｍ
　−９）　　　０Ｈ３０Ｈ２−ＣＦ。

（ＸＩ−１０）　　　ＨＣＦ２Ｃ１ （ＸＩ−／／）　　　ＨＣＦＣｌ２ 使用例 下記の使用例における比較物質として、下に示す化合物
全使用する。

／−（２−メトキシカルボニル−ペンジルスルホニル’
）　−３−（ｔｌ、Ａ−ジメトΦシーピリミジンーコー
イル）−尿素 （米国特許第偽’１２０３２３号明細書から公知）実施
例Ａ 発芽前試験 溶　剤ニア七トン、５−ｉ置部 乳化剤：アルキルアリールポリグリコールエーテル／重
量部 活性化合物の適当な調合物を製造するために、７重量部
の活性化合物を上記量の溶剤と混合し、上記量の乳化剤
を加え、そしてその濃厚液を水で希釈して所望の濃度に
する。

試験植物の種子を通常の土壌中に播き、そして２グ時間
後に、活性化合物の調合物音かける。単位面積当りの水
の量を一定に保つのが当を得ている。調合物中の活性化
合物の濃度は重要でなく、単位面積当りに施用される活
性化合物の量のみが決定的な因子である。３週間後に、
未処理の対照植物の発育と比較した損傷百分率によって
、各植物の損傷度を等級付けし、七の数値は次の意味、
すなわち Ｏ係＝作用皆無（未処理の対照植物と同様）１００優＝
全部が枯死 を表わす。

この試験において、本発明の活性化合物は極めてすぐれ
た除草活性を示し、例えば、調合物例（２）による活性
化合物は、比較化合物（Ａ）よりもＡ例えばコメおよび
トウモロコシのような作物植物に対してすぐれた許容度
を示すと同時に、例えばヤエムグラ（Ｇａｌｉｕｍ　）
およびアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ　）のような厄介な雑
草に対してすぐれた作用を発揮する。

実施例Ｂ 発芽後試験 溶　剤：アセトン５重量部 乳化剤：アルキルアリールポリグリコールエーテル／重
量部 活性化合物の適当な調合物を製造するために、７重量部
の活性化合物を上記量の溶剤と混合し、上記量の乳化剤
を加え、そしてその濃厚液を水で希釈して所望の濃度に
する。

単位面積当りに所望の活性化合物の所定量が適用される
ような方法で、Ｓ〜７．５″譚の高さを有する試験植物
に活性化合物の調合物を吹付ける。噴霧液の濃度は、所
望の活性化合物の所定量が水２０００１／ｈ＆の形で施
用されるように選ばれる。

３週間後に、未処理の対照植物の発育と比較した損傷百
分率によって各植物の損傷度を等級付けし、その数値は
次の意味、すなわち Ｏチ＝作用皆無（未処理の対照植物と同様）７００％＝
全部が枯死 を表わす。

この試験において、本発明の活性化合物は極めてすぐれ
た除草活性を示し、例えば、調合物例（２）による活性
化合物は、比較化合物（Ａ）よりも、例えばトウモロコ
シのような作物植物に対してすぐれた許容度を示すと同
時に、例えばアカザ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ　）、チョ
ウセンアサガオ（Ｄａｔｕｒａ）、カラン（５ｌｎａｐ
ｌｓ　）およびオナモミ（Ｘａｎｔｈｉｕｍ　）のよう
な厄介な雑草に対してすぐれた使用を発揮する。

（以下余白ン

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. （１）下記の一般式（ I ）で表わされる、置換された
   １−ベンジルスルホニル−３−ヘテロアリール−（チオ
   ）尿素、およびこの式（ I ）の化合物と、金属との塩
   および塩基性有機窒素化合物との塩、▲数式、化学式、
   表等があります▼（ I ） 式中 Ｑは酸素または硫黄を表わし、 Ｒ＾１は水素を表わすか、あるいはアルキル基、アルケ
   ニル基、アルキニル基およびアラルキル基からなる組か
   ら選ばれた、随意に置換されている基を表わし、 Ｒ＾２は水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、アルキル基
   、ハロゲノアルキル基、アルコキシ基、ハロゲノアルコ
   キシ基、アルキルチオ基、ハロゲノアルキルチオ基、ア
   ミノ基、アルキルアミノ基またはジアルキルアミノ基を
   表わし、 Ｒ＾３は水素またはアルキル基を表わし、 Ｒ＾４はハロゲノアルキル基を表わし、 Ｘは窒素または−ＣＨ基を表わし、 Ｙは窒素または−ＣＲ＾５基を表わし、 この基の中で Ｒ＾５は水素、ハロゲン、シアノ基、アルキル基、ホル
   ミル基、アルキル−カルボニル基またはアルコキシ−カ
   ルボニル基を表わし、そして Ｚは窒素または−ＣＲ＾６基を表わし、 この基の中で Ｒ＾６は水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、アルキル基
   、ハロゲノアルキル基、アルコキシ基、ハロゲノアルコ
   キシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基またはジア
   ルキルアミノ基を表わす。
2. （２）前記一般式（ I ）の中で Ｑが酸素または硫黄を表わし、 Ｒ＾１が水素を表わすか、あるいはＣ＿１〜Ｃ＿６アル
   キル基〔これは弗素、シアノ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４アルコ
   キシ基またはＣ＿１〜Ｃ＿４アルキルチオ基によって随
   意に置換されている〕を表わすか、あるいはＣ＿３〜Ｃ
   ＿６アルケニル基またはＣ＿３〜Ｃ＿６アルキニル基〔
   これらの基は弗素または塩素によって随意に置換されて
   いる〕を表わすか、あるいはフェニル−Ｃ＿１〜Ｃ＿２
   アルキル基〔これは弗素、塩素、ニトロ基、シアノ基、
   メチル基、メトキシ基またはＣ＿１〜Ｃ＿２アルコキシ
   カルボニル基によってフェニル基部分が随意に置換され
   ている〕を表わし、 Ｒ＾２が水素、弗素、塩素、臭素、メチル基、エチル基
   、トリフルオルメチル基、メトキシ基、エトキシ基、ジ
   フルオルメトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ア
   ミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルア
   ミノ基またはジエチルアミノ基を表わし、 Ｒ＾３が水素またはＣ＿１〜Ｃ＿４アルキル基を表わし
   、Ｒ＾４がハロゲノ−Ｃ＿１〜Ｃ＿４アルキル基を表わ
   し、この基の中で ハロゲンが弗素および／または塩素を表わし、Ｘが窒素
   または−ＣＨ基を表わし、 Ｙが窒素または−ＣＲ＾５基を表わし、 この基の中で Ｒ＾５が水素、弗素、塩素、臭素、メチル基、ホルミル
   基、アセチル基、メトキシカルボニル基またはエトキシ
   カルボニル基を表わし、そして Ｚが窒素または−ＣＲ＾６基を表わし、 この基の中で Ｒ＾６が水素、弗素、塩素、臭素、メチル基、エチル基
   、トリフルオルメチル基、メトキシ基、エトキシ基、プ
   ロポキシ基、イソプロポキシ基、ジフルオルメトキシ基
   、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルアミノ基、エチ
   ルアミノ基、ジメチルアミノ基またはジエチルアミノ基
   を表わしていることを特徴とする、特許請求の範囲第（
   １）項記載の式（ I ）で表わされる、置換された１−
   ベンジルスルホニル−３−ヘテロアリール−（チオ）尿
   素。
3. （３）下記の式（II）で表わされる２−ハロゲノアルコ
   キシ−ベンジルスルホニル−イソ（チオ）シアネートを
   、 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｑ、Ｒ＾３およびＲ＾４は特許請求の範囲第（
   １）項に記載された意味を有する） 適当ならば希釈剤の存在下に、また適当ならば触媒の存
   在下において、下記の式（III）で表わされるヘテロア
   リールアミンと反応させ、 ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｘ、ＹおよびＺは特許請求の
   範囲に記載された意味を有する） そしてこのようにして得られた生成物を、適当ならば常
   法により塩に転化することを特徴とする、特許請求の範
   囲第（１）項記載の一般式で表わされる、置換された１
   −ベンジルスルホニル−３−ヘテロアリール−（チオ）
   尿素の製造方法。
4. （４）特許請求の範囲第（１）項記載の一般式（ I ）
   で表わされる、置換された１−ベンジルスルホニル−３
   −ヘテロアリール−（チオ）尿素の少なくとも１種を含
   有することを特徴とする、除草剤。
5. （５）特許請求の範囲第（１）項記載の一般式（ I ）
   で表わされる、置換された１−ベンジルスルホニル−３
   −ヘテロアリール−（チオ）尿素を、望ましくない植物
   の生長を打負かすために使用する方法。
6. （６）特許請求の範囲第（１）項に記載された一般式（
   I ）の１−ベンジルスルホニル−３−ヘテロアリール
   −（チオ）尿素を増量剤および／または表面活性剤と混
   合することを特徴とする、除草剤の調製方法。
7. （７）下記の一般式（II）で表わされる２−ハロゲノア
   ルコキシ−ベンジルスルホニル−イソ（チオ）シアネー
   ト、 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 式中 Ｑは酸素または硫黄を表わし、 Ｒ＾３は水素またはアルキル基を表わし、そしてＲ＾４
   はハロゲノアルキル基を表わす。
8. （８）（ａ）Ｑが酸素を表わす場合に、下記の式（IV）
   で表わされる２−ハロゲノアルコキシ−ベンジルスルホ
   ンアミドを、 ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （式中、Ｒ＾３およびＲ＾４は特許請求の範囲第（１）
   項に記載された意味を有する） 適当ならば触媒の存在下に、また希釈剤の存在下におい
   て、５０〜２００℃の温度で、約等モル量のアルキルイ
   ソシアネートと反応させ、かつ同時に少なくとも等モル
   量のホスゲンを通過させるか、あるいは （ｂ）Ｑが硫黄を表わす場合に、前記式（IV）で表わさ
   れる２−ハロゲノアルコキシ−ベンジルスルホンアミド
   を、酸受容体の存在下に、また適当ならば希釈剤の存在
   下において、０〜５０℃の温度で、二硫化炭素と反応さ
   せ、ついでその生成物を、適当ならば希釈剤の存在下に
   おいて、０〜５０℃の温度でホスゲンまたは塩化チオニ
   ルと反応させる ことを特徴とする、特許請求の範囲第（７）項記載の一
   般式（II）で表わされる２−ハロゲノアルコキシ−ベン
   ジルスルホニル−イソ（チオ）シアネートの製造方法。
9. （９）下記の一般式（IV）で表わされる２−ハロゲノア
   ルコキシ−ベンジルスルホンアミド、 ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） 式中、 Ｒ＾３は水素またはアルキル基を表わし、そしてＲ＾４
   はハロゲノアルキル基を表わす。
10. （１０）下記の式（IX）で表わされる２−ハロゲノアル
    コキシ−ベンジルスルホニルクロリドを、▲数式、化学
    式、表等があります▼（IX） （式中、Ｒ＾３およびＲ＾４は特許請求の範囲第（１）
    項に記載された意味を有する） 適当ならば希釈剤の存在下において、−２０〜＋１００
    ℃の温度でアンモニアと反応させることを特徴とする、
    特許請求の範囲第（９）項に記載された一般式（IV）で
    表わされる、２−ハロゲノアルコキシ−ベンジルスルホ
    ンアミドの製造方法。
11. （１１）下記の一般式（IX）で表わされる２−ハロゲノ
    アルコキシ−ベンジルスルホニルクロリド、▲数式、化
    学式、表等があります▼（IX） 式中 Ｒ＾３は水素またはアルキル基を表わし、そしてＲ＾４
    はハロゲノアルキル基を表わす。
12. （１２）下記の式（Ｘ）で表わされる２−ハロゲノアル
    コキシ−ベンジルスルホン酸またはその塩を、▲数式、
    化学式、表等があります▼（Ｘ） （式中、Ｍは水素またはアルカリ金属を表わし、そして
    Ｒ＾３およびＲ＾４は特許請求の範囲第（１）項に記載
    された意味を有する） 適当ならば希釈剤の存在下において、０〜１５０℃の温
    度で少なくとも等モル量の塩素化剤と反応させることを
    特徴とする、特許請求の範囲第（１１）項記載の一般式
    （IX）で表わされる２−ハロゲノアルコキシ−ベンジル
    スルホニルクロリドの製造方法。
13. （１３）下記の一般式（Ｘ）で表わされる２−ハロゲノ
    アルコキシ−ベンジルスルホン酸またはその塩。 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ） 式中 Ｍは水素またはアルカリ金属を表わし、 Ｒ＾３は水素またはアルキル基を表わし、そしてＲ＾４
    はハロゲノアルキル基を表わす。
14. （１４）下記の式（Ｘ I ）で表わされる２−ハロゲノ
    アルコキシ−ベンジルクロリドを、 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ I ） （式中、Ｒ＾３およびＲ＾４は特許請求の範囲第（１）
    項に記載された意味を有する） 水の中で、２０〜１１０℃の温度において、少なくとも
    等モル量のチオ硫酸ナトリウムまたはチオ硫酸カリウム
    と反応させ、ついでその生成物を常法にしたがつて仕上
    処理することを特徴とする、特許請求の範囲第（１３）
    項記載の一般式（Ｘ）で表わされる２−ハロゲノアルコ
    キシ−ベンジルスルホン酸またはその塩の製造方法。
15. （１５）下記の式で表わされる２−トリフルオルメトキ
    シ−ベンジルクロリド。 ▲数式、化学式、表等があります▼
16. （１６）下記の一般式で表わされる２−トリフルオルメ
    トキシ−トルエンを、 ▲数式、化学式、表等があります▼ 紫外線照射の下に５０〜１８０℃の温度で等モル量以下
    の量の塩素と反応させ、ついでその生成物を常法にした
    がつて仕上処理することを特徴とする、２−トリフルオ
    ルメトキシ−ベンジルクロリドの製造方法。