JPS63156808A - 分子量分布の狭いスチレン類オリゴマ−の製造方法 - Google Patents
分子量分布の狭いスチレン類オリゴマ−の製造方法Info
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- JPS63156808A JPS63156808A JP30180886A JP30180886A JPS63156808A JP S63156808 A JPS63156808 A JP S63156808A JP 30180886 A JP30180886 A JP 30180886A JP 30180886 A JP30180886 A JP 30180886A JP S63156808 A JPS63156808 A JP S63156808A
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Landscapes
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、樹脂原料、不飽和ポリエステルの硬化剤、樹
脂改質材等のスチレン類の代替原料等として用いられる
スチレン類オリゴマーの製造方法に関するものである。
脂改質材等のスチレン類の代替原料等として用いられる
スチレン類オリゴマーの製造方法に関するものである。
(従来の技術)
従来より、かかる有用なスチレン類オリゴマーを狭い分
子量分布で、かつ反応性の高い不飽和体を選択的に得よ
うとする試みがなされてきた。この試みは、特にα−メ
チルスチレンに関して不飽和2量体を選択的に合成する
方法として盛んに検討されてきた。例えば、この種の研
究として、反応基質の濃度を下げる方法(特開昭49f
126655号公報)、酸強度を変化させる方法(特開
昭53−21149号公報)、反応中間体と相互作用し
得る第3成分を加える方法、(特公昭49−32845
号、特公昭52−31866号、特開昭59−1909
27号、特開昭59−204138号各公報)1および
形状選択性を利用した方法(特開昭59−112927
号公報)等が知られている。
子量分布で、かつ反応性の高い不飽和体を選択的に得よ
うとする試みがなされてきた。この試みは、特にα−メ
チルスチレンに関して不飽和2量体を選択的に合成する
方法として盛んに検討されてきた。例えば、この種の研
究として、反応基質の濃度を下げる方法(特開昭49f
126655号公報)、酸強度を変化させる方法(特開
昭53−21149号公報)、反応中間体と相互作用し
得る第3成分を加える方法、(特公昭49−32845
号、特公昭52−31866号、特開昭59−1909
27号、特開昭59−204138号各公報)1および
形状選択性を利用した方法(特開昭59−112927
号公報)等が知られている。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながら、上述の試みはいずれも、立体障害が大き
く反応制御の容易なα−メチルスチレンに対して行われ
たのみであって、反応制御の難しいスチレンに適用され
たものではなかった。スチレンの分子量制御に関しては
、従来の硫酸触媒の欠点を解決するために過塩素酸アニ
オンを用いた方法(特公昭59−10329号公報)、
スルホネートアニオンを用いた方法(特開昭59−62
535号公報)が提案されたが、いずれも反応が均一系
で行われるため、工業的に有利なプロセスとはいえなか
った。
く反応制御の容易なα−メチルスチレンに対して行われ
たのみであって、反応制御の難しいスチレンに適用され
たものではなかった。スチレンの分子量制御に関しては
、従来の硫酸触媒の欠点を解決するために過塩素酸アニ
オンを用いた方法(特公昭59−10329号公報)、
スルホネートアニオンを用いた方法(特開昭59−62
535号公報)が提案されたが、いずれも反応が均一系
で行われるため、工業的に有利なプロセスとはいえなか
った。
上述の如く、従来から知られている技術は均一系におけ
る反応が主体であり、生成物の分離精製、洗浄及び触媒
除去等の工程が必要となるばかりでなく、かかる反応系
は溶媒を必要とする低スチレン濃度の系(スチレン濃度
が5〜10%程度)であるために溶媒の分離回収をも必
要とし、工業的に不利であるという問題点があった。
る反応が主体であり、生成物の分離精製、洗浄及び触媒
除去等の工程が必要となるばかりでなく、かかる反応系
は溶媒を必要とする低スチレン濃度の系(スチレン濃度
が5〜10%程度)であるために溶媒の分離回収をも必
要とし、工業的に不利であるという問題点があった。
従って本発明の目的は、分子量が低くかつ高不飽和度で
、しかも分子量分布の狭いスチレン類オリゴマーを工業
的に有利なプロセスで製造する方法を提供することにあ
る。
、しかも分子量分布の狭いスチレン類オリゴマーを工業
的に有利なプロセスで製造する方法を提供することにあ
る。
(問題点を解決するための手段)
本発明者等は、固体超強酸の一種であるパーフルオロス
ルホン酸樹脂のイオン交換体を用いて工業的に有利なプ
ロセスでスチレン類のオリゴマーを合成する技術を既に
開発しているが(特開昭61−233004号公報参照
)、この技術はスチレン類のオリゴマーの重合度および
不飽和度を特に規定するものではなかった。ところが、
今回スチレン類のオリゴマーに反応性を付与するという
要請から分子量が低くかつヨウ素価40以上という高不
飽和度で、しかも分子量分布の狭いスチレン類のオリゴ
マーが必要となってきた。そこで本発明者等は、かかる
条件を満足するスチレン類のオレゴマーを合成すべく鋭
意検討した結果、前記反応系に第3成分としてセロソル
ブを添加することにより目的を達成し得ることを見出し
、本発明を完成するに至った。
ルホン酸樹脂のイオン交換体を用いて工業的に有利なプ
ロセスでスチレン類のオリゴマーを合成する技術を既に
開発しているが(特開昭61−233004号公報参照
)、この技術はスチレン類のオリゴマーの重合度および
不飽和度を特に規定するものではなかった。ところが、
今回スチレン類のオリゴマーに反応性を付与するという
要請から分子量が低くかつヨウ素価40以上という高不
飽和度で、しかも分子量分布の狭いスチレン類のオリゴ
マーが必要となってきた。そこで本発明者等は、かかる
条件を満足するスチレン類のオレゴマーを合成すべく鋭
意検討した結果、前記反応系に第3成分としてセロソル
ブを添加することにより目的を達成し得ることを見出し
、本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は、スチレン類をパーフルオロスルホン
酸樹脂触媒の存在下で反応させて、2〜5の重合度およ
び40以上のヨウ素価を有する分子量分布の狭いスチレ
ン類オリゴマーを製造するにあたり、 反応系内にセロソルブを共存させることを特徴とする分
子量分布の狭いスチレン類オリゴマーの製造方法に関す
るものである。
酸樹脂触媒の存在下で反応させて、2〜5の重合度およ
び40以上のヨウ素価を有する分子量分布の狭いスチレ
ン類オリゴマーを製造するにあたり、 反応系内にセロソルブを共存させることを特徴とする分
子量分布の狭いスチレン類オリゴマーの製造方法に関す
るものである。
本発明で用いるパーフルオロスルホン酸樹脂の触媒は、
次の一般式、 (CFz’h CF−(cpz)イ R7 03H (式中のnおよびmは夫々正の整数、R7はパーフルオ
ロアルキル基である)で表される化合物であり、例えば
米国デュポン社製のナフィオン(Nafion)として
知られているもの等がある。この触媒の使用量は、スチ
レン類に対して0.1〜3重量%、好ましくは0.5〜
1重量重量%下ある。
次の一般式、 (CFz’h CF−(cpz)イ R7 03H (式中のnおよびmは夫々正の整数、R7はパーフルオ
ロアルキル基である)で表される化合物であり、例えば
米国デュポン社製のナフィオン(Nafion)として
知られているもの等がある。この触媒の使用量は、スチ
レン類に対して0.1〜3重量%、好ましくは0.5〜
1重量重量%下ある。
本発明に用いるスチレン類は、次の一般式、(式中のR
oおよびR2は夫々水素原子または炭素数1〜3個のア
ルキル基である)で表され、例えばスチレン、m−メチ
ルスチレン、p−メチルスチレン、α−メチルスチレン
、p−メチル−α−メチルスチレン等の芳香族オレフィ
ン類を挙げることができる。
oおよびR2は夫々水素原子または炭素数1〜3個のア
ルキル基である)で表され、例えばスチレン、m−メチ
ルスチレン、p−メチルスチレン、α−メチルスチレン
、p−メチル−α−メチルスチレン等の芳香族オレフィ
ン類を挙げることができる。
また本発明で使用するセロソルブは、エチレングリコー
ルのモノエーテルであってエーテル結合とアルコール性
の水酸基を同一分子内に有するものであるため、共存物
質としてのアルコールと比較すると触媒へのブロッキン
グ現象による活性低下を招かない点で有利である。また
、モノエーテルと比較すると高沸点生成物が少なく、共
存物質の使用量が少なくてすむ点で有利である。共存さ
せるべきセロソルブの種類は特に限定されるものではな
いが、炭素数が6個以下で沸点がスチレン類の沸点の近
傍にないものが好ましい。炭素数が6個を越えるとセロ
ソルブとしての性質よりも炭化水素としての性質が強く
なるので、セロソルブの使用量を多くせざるを得ず、好
ましくない。また、炭素数が多くなってより高沸点とな
ると、その回収に要する熱量も多大となり工業上不利と
なる。具体的にはメチル、エチル、n−ブチル、iso
−ブチル、terd−ブチルセロソルブが好ましい。セ
ロソルブの使用量はその種類により適宜の量を用い得る
が、炭素数6個以下のセロソルブでは触媒の4〜20倍
、より好ましくは4〜10倍である。セロソルブがこの
量よりも少ないと高分子量生成物が生成し、またより多
量のセロソルブを共存させるならば、触媒の活性が低下
し、スチレンの転化率が低下するので、いずれの場合も
好ましくない。
ルのモノエーテルであってエーテル結合とアルコール性
の水酸基を同一分子内に有するものであるため、共存物
質としてのアルコールと比較すると触媒へのブロッキン
グ現象による活性低下を招かない点で有利である。また
、モノエーテルと比較すると高沸点生成物が少なく、共
存物質の使用量が少なくてすむ点で有利である。共存さ
せるべきセロソルブの種類は特に限定されるものではな
いが、炭素数が6個以下で沸点がスチレン類の沸点の近
傍にないものが好ましい。炭素数が6個を越えるとセロ
ソルブとしての性質よりも炭化水素としての性質が強く
なるので、セロソルブの使用量を多くせざるを得ず、好
ましくない。また、炭素数が多くなってより高沸点とな
ると、その回収に要する熱量も多大となり工業上不利と
なる。具体的にはメチル、エチル、n−ブチル、iso
−ブチル、terd−ブチルセロソルブが好ましい。セ
ロソルブの使用量はその種類により適宜の量を用い得る
が、炭素数6個以下のセロソルブでは触媒の4〜20倍
、より好ましくは4〜10倍である。セロソルブがこの
量よりも少ないと高分子量生成物が生成し、またより多
量のセロソルブを共存させるならば、触媒の活性が低下
し、スチレンの転化率が低下するので、いずれの場合も
好ましくない。
反応温度は、通常60℃〜150℃、好ましくは80℃
〜120℃である。60℃未満の反応温度ではオリゴメ
リゼーション化の速度が遅く、反応時間がかかりすぎる
ので好ましくない。また150℃を越えるとラジカル重
合による高分子量生成物の生成が顕著になると共に、触
媒の劣化も激しくなるので好ましくない。
〜120℃である。60℃未満の反応温度ではオリゴメ
リゼーション化の速度が遅く、反応時間がかかりすぎる
ので好ましくない。また150℃を越えるとラジカル重
合による高分子量生成物の生成が顕著になると共に、触
媒の劣化も激しくなるので好ましくない。
本発明における反応は通常無溶媒で行うが、n−パラフ
ィンの如き不活性溶媒を用いることもできる。更に溶媒
としてデカリンを用いると、溶媒に分子量制御効果を持
たせることもできる。
ィンの如き不活性溶媒を用いることもできる。更に溶媒
としてデカリンを用いると、溶媒に分子量制御効果を持
たせることもできる。
また、反応はバッチ式あるいは流通式のいずれの形式で
も行うことができる。目的生成物たるオリゴマーは、反
応終了後、例えば蒸留等により未反応スチレン類、セロ
ソルブ等を分離することにより得られる。
も行うことができる。目的生成物たるオリゴマーは、反
応終了後、例えば蒸留等により未反応スチレン類、セロ
ソルブ等を分離することにより得られる。
次に本発明を実施例により説明する。
(実施例)
実施炎上
内容積約300−の3つロフラスコに攪拌機、温度計お
よび冷却器を装着し、これにスチレン50gとn−ブチ
ルセロソルブ3.0gを入れ、触媒としてナフィオン(
Nafion)−117(デュポン社製パーフルオロス
ルホン酸樹脂の商品名) 0.25 gを用いて100
℃にて2時間反応させた。
よび冷却器を装着し、これにスチレン50gとn−ブチ
ルセロソルブ3.0gを入れ、触媒としてナフィオン(
Nafion)−117(デュポン社製パーフルオロス
ルホン酸樹脂の商品名) 0.25 gを用いて100
℃にて2時間反応させた。
反応生成物を蒸留により回収し、ゲルパーミェーション
クロマトグラフ(GPC)分析で分子量分布を測定した
所、2量体40.0%、3量体26.8%、4量体15
.3%、5景体および6量体14.2%であった。
クロマトグラフ(GPC)分析で分子量分布を測定した
所、2量体40.0%、3量体26.8%、4量体15
.3%、5景体および6量体14.2%であった。
また、生成物のヨウ素価を測定した所、54.8であっ
た。
た。
次去I津て
溶媒としてデカリンを用いてスチレン濃度を10%とし
、n−ブチルセロソルブ0.06g 、ナフィオン−1
170,05gとした以外は実施例1と同様の操作に従
い反応させた結果、2量体51.3%、3量体28.4
%、4量体7.2%となった。また、ヨウ素価は50.
0であった。
、n−ブチルセロソルブ0.06g 、ナフィオン−1
170,05gとした以外は実施例1と同様の操作に従
い反応させた結果、2量体51.3%、3量体28.4
%、4量体7.2%となった。また、ヨウ素価は50.
0であった。
実j11走
反応温度を110℃とした以外は実施例1と同様の操作
に従い反応を行った。
に従い反応を行った。
大衡拠土
反応温度を120°Cとした以外は実施例1と同様の操
作に従い反応を行った。
作に従い反応を行った。
各反応生成物の収率に対する反応温度の影響をみるため
に、実施例3.4で得られた生成物のGPC分析の結果
を実施例1の結果と比較して以下の第1表に示す。
に、実施例3.4で得られた生成物のGPC分析の結果
を実施例1の結果と比較して以下の第1表に示す。
実用開j
反応基質としてスチレンの代わりにp−メチルスチレン
を用いた以外は実施例1と同様の操作に従い反応を行っ
た。
を用いた以外は実施例1と同様の操作に従い反応を行っ
た。
反応生成物をGPCで分析した所、2量体17.1%、
3量体22.8%、4量体18.1%、5量体および6
量体36.9%であった。また生成物のヨウ素価は50
.0であった。
3量体22.8%、4量体18.1%、5量体および6
量体36.9%であった。また生成物のヨウ素価は50
.0であった。
北笠開
セロソルブを使用しない以外は実施例5と同様の操作に
従い反応を行った所、GPC分析による生成物の組成ば
、2量体9.4%、3量体6.6%、4量体18.3%
、5量体および6量体60.5%であった。
従い反応を行った所、GPC分析による生成物の組成ば
、2量体9.4%、3量体6.6%、4量体18.3%
、5量体および6量体60.5%であった。
また生成物のヨウ素価は30.0であった。
第1表
(発明の効果)
以上説明してきたように、本発明の製造方法では、スチ
レン類をパーフルオロスルホン酸樹脂触媒の存在下で反
応させる際に、反応系内にセロソルブを共存させること
により、樹脂原料、不飽和ポリエステルの硬化剤等、ス
チレンの代替原料として有用な、分子量分布が狭くかつ
反応性の高いスチレン類オリゴマーを工業的に有利なプ
ロセスで製造することができるという効果が得られる。
レン類をパーフルオロスルホン酸樹脂触媒の存在下で反
応させる際に、反応系内にセロソルブを共存させること
により、樹脂原料、不飽和ポリエステルの硬化剤等、ス
チレンの代替原料として有用な、分子量分布が狭くかつ
反応性の高いスチレン類オリゴマーを工業的に有利なプ
ロセスで製造することができるという効果が得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、スチレン類をパーフルオロスルホン酸樹脂触媒の存
在下で反応せて、2〜5の重合度および40以上のヨウ
素価を有する分子量分布の狭いスチレン類オリゴマーを
製造するにあたり、 反応系内にセロソルブを共存させることを 特徴とする分子量分布の狭いスチレン類オリゴマーの製
造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30180886A JPS63156808A (ja) | 1986-12-19 | 1986-12-19 | 分子量分布の狭いスチレン類オリゴマ−の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30180886A JPS63156808A (ja) | 1986-12-19 | 1986-12-19 | 分子量分布の狭いスチレン類オリゴマ−の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63156808A true JPS63156808A (ja) | 1988-06-29 |
Family
ID=17901409
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30180886A Pending JPS63156808A (ja) | 1986-12-19 | 1986-12-19 | 分子量分布の狭いスチレン類オリゴマ−の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63156808A (ja) |
-
1986
- 1986-12-19 JP JP30180886A patent/JPS63156808A/ja active Pending
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