JPS63156531A - セラミックス超微粒子の製造方法 - Google Patents
セラミックス超微粒子の製造方法Info
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- JPS63156531A JPS63156531A JP27489087A JP27489087A JPS63156531A JP S63156531 A JPS63156531 A JP S63156531A JP 27489087 A JP27489087 A JP 27489087A JP 27489087 A JP27489087 A JP 27489087A JP S63156531 A JPS63156531 A JP S63156531A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
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- B01J12/00—Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor
- B01J12/02—Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor for obtaining at least one reaction product which, at normal temperature, is in the solid state
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野1
本発明は、気相法によるセラミックスjfi微粒子のs
!1遺方決方法し、特に、触媒、触媒担体、吸着剤、セ
ラミックス成型体製造用の原料粉体等の用途に供するこ
とのできる粒子径の極めて小さいセラミックス超微粒子
の製造方法に関する6[従来の技術] セラミックス粉体の製造方法としては、×相法、液相法
、同相法があるが、原料の精製が容易で畠純度のセラミ
ックスが得られること並びに比表面積の大きい微粒子の
場合に表面の汚染が生じにくい等の点から、気相法が望
ましいとされている。
!1遺方決方法し、特に、触媒、触媒担体、吸着剤、セ
ラミックス成型体製造用の原料粉体等の用途に供するこ
とのできる粒子径の極めて小さいセラミックス超微粒子
の製造方法に関する6[従来の技術] セラミックス粉体の製造方法としては、×相法、液相法
、同相法があるが、原料の精製が容易で畠純度のセラミ
ックスが得られること並びに比表面積の大きい微粒子の
場合に表面の汚染が生じにくい等の点から、気相法が望
ましいとされている。
特に、他の方法では直接合成が困難な窒化物、炭化物、
ホウ化物等の非酸化物微粒子の5!造法に適している。
ホウ化物等の非酸化物微粒子の5!造法に適している。
従来、金属、金属合金、ハロゲン化物とN I−1、等
との反応により窒化物微粒子を製造する方法、金属酸化
物に炭素粉末を加え還元性の雰囲気としNZ気流中で加
熱窒化する方法が知られている。
との反応により窒化物微粒子を製造する方法、金属酸化
物に炭素粉末を加え還元性の雰囲気としNZ気流中で加
熱窒化する方法が知られている。
[発明が解決しようとする問題点1
しかしながら、前記金属酸化物を窒化する方法においで
は、酸化物あるいは炭素との反応により生じる炭化物中
のO,C原子が、N、Irt、子と十分置換できないと
いう問題がある。さらに前記従来の方法においてはいず
れも気相中でたとえ微粒子が生成したとしてもその後に
竜粒子同士が集まった凝集体しか得られないという問題
がある。一度微粒子が凝集すると、それを再分散させる
ことは現在知られている技術では困難なことである。ま
た、得られる微粒子は結晶性が高いため、より安定な長
方体状さらに針状となりやすい。
は、酸化物あるいは炭素との反応により生じる炭化物中
のO,C原子が、N、Irt、子と十分置換できないと
いう問題がある。さらに前記従来の方法においてはいず
れも気相中でたとえ微粒子が生成したとしてもその後に
竜粒子同士が集まった凝集体しか得られないという問題
がある。一度微粒子が凝集すると、それを再分散させる
ことは現在知られている技術では困難なことである。ま
た、得られる微粒子は結晶性が高いため、より安定な長
方体状さらに針状となりやすい。
本発明においては、かがる問題を解決するとともに球形
で、極めて粒径の小さい超微粒子を、比較的容易な方法
で効率良く製造する方法を提供しようとするものである
。
で、極めて粒径の小さい超微粒子を、比較的容易な方法
で効率良く製造する方法を提供しようとするものである
。
[問題点を解決するための手段j
本発明は、気相反応によってセラミックスの超微粒子を
気相中に生成せしめ、該超微粒子が生成している気相の
温度がら註温度よりも低い温度の低温度部へ温度勾配を
形成し、熱泳動現象を利用して気相中に生成した超微粒
子を前記低温度部に拡散移動させることを特徴とするセ
ラミックス超微粒子の製造方法に関する。
気相中に生成せしめ、該超微粒子が生成している気相の
温度がら註温度よりも低い温度の低温度部へ温度勾配を
形成し、熱泳動現象を利用して気相中に生成した超微粒
子を前記低温度部に拡散移動させることを特徴とするセ
ラミックス超微粒子の製造方法に関する。
本発明においては、気相中で生成した超微粒子が熱泳動
により低温度部に拡散、移動し捕集されるように低温度
部の温度を気相の温度より低く保持する。この温度勾配
のために気相中に生成した超微粒子は熱泳動現象により
低温度部に向かって拡散移動する。低温度部としては、
冷却された基板又は冷却された壁面を用いることができ
、冷却された壁面は、冷却ブスの吹き込み或い、よ外部
からの冷却等通常の手段によって形成される。
により低温度部に拡散、移動し捕集されるように低温度
部の温度を気相の温度より低く保持する。この温度勾配
のために気相中に生成した超微粒子は熱泳動現象により
低温度部に向かって拡散移動する。低温度部としては、
冷却された基板又は冷却された壁面を用いることができ
、冷却された壁面は、冷却ブスの吹き込み或い、よ外部
からの冷却等通常の手段によって形成される。
また反応管出口付近に/Xニルより水、アルコール等の
凝集性液体又は〃スを吹き込み、そこでできる液滴を使
用することら可能である。さらにまた、反応部に赤外線
イメーゾ炉のような局部加熱装置を用いることにより壁
面との温度差を設けることら可能である。
凝集性液体又は〃スを吹き込み、そこでできる液滴を使
用することら可能である。さらにまた、反応部に赤外線
イメーゾ炉のような局部加熱装置を用いることにより壁
面との温度差を設けることら可能である。
低温度部として冷却された基板等を用いる場合には、こ
の基板に超微粒子を付、?′1させて、これを基板と共
に取り出すことができ、低温度部とじて壁面を用いた場
合には、壁面に拡散した微粒子をキャリヤーガスととも
に反応管出口へ送り出し、フィルター等で回収できる。
の基板に超微粒子を付、?′1させて、これを基板と共
に取り出すことができ、低温度部とじて壁面を用いた場
合には、壁面に拡散した微粒子をキャリヤーガスととも
に反応管出口へ送り出し、フィルター等で回収できる。
熱泳動速度V【は、粒子の大きさdpが気体の平均自由
工程λよりも小さい場合はdpにほぼ無関係で次式で与
えられることが知られている(例えば高橋幹二者「基礎
エアロゾル工学]養賢堂書店1982年発行 32〜3
6頁)。
工程λよりも小さい場合はdpにほぼ無関係で次式で与
えられることが知られている(例えば高橋幹二者「基礎
エアロゾル工学]養賢堂書店1982年発行 32〜3
6頁)。
α9は通常0.8〜1の間の定数、Vは−(体の動粘度
、Tは気体温度、dT/dXは気体温度の勾配である。
、Tは気体温度、dT/dXは気体温度の勾配である。
ここでνはT””に比例するので、ν/Tl!T”2
に比例し、従って(1)式では、操作条件で決まるdT
/dXがほとんどVLを決定する。
に比例し、従って(1)式では、操作条件で決まるdT
/dXがほとんどVLを決定する。
例えば、λ:4000人の常圧のヘリウム中にある40
00Å以下の粒子は上述の条件に該当する。
00Å以下の粒子は上述の条件に該当する。
最も熱泳動現象の起こりやすい上記ヘリウム中において
、必要な温度勾配について、低温度部として冷却された
基板を使用し、基板上に超微粒子を付着されて捕集する
場合を例として以下に検討する。気体の平均温度が30
0℃、基板上の温度勾配が100℃/cmのとき、VL
−0,4cx/sとなる。気体流路が基板上ICJあり
、気体の平均流速U=1cz/sとすれば、発生した粒
子すべては、発生点から流れ方向2 、5 cm以内で
基板表面に到達することになる。
、必要な温度勾配について、低温度部として冷却された
基板を使用し、基板上に超微粒子を付着されて捕集する
場合を例として以下に検討する。気体の平均温度が30
0℃、基板上の温度勾配が100℃/cmのとき、VL
−0,4cx/sとなる。気体流路が基板上ICJあり
、気体の平均流速U=1cz/sとすれば、発生した粒
子すべては、発生点から流れ方向2 、5 cm以内で
基板表面に到達することになる。
気相と低温度部である基板の開の温度勾配を減少させる
と、比例して熱泳動速度が小さくなる。
と、比例して熱泳動速度が小さくなる。
上記よりも熱泳動の遅い条件では、比例して他の条件を
緩和すれば良い。従って、上記で仮定した温度勾配置0
0℃/cmに対し、熱泳動速度が1/10となる10℃
/ czの温度勾配で、本発明における超微粒子の低温
度部への拡散移動を十分達成できる。
緩和すれば良い。従って、上記で仮定した温度勾配置0
0℃/cmに対し、熱泳動速度が1/10となる10℃
/ czの温度勾配で、本発明における超微粒子の低温
度部への拡散移動を十分達成できる。
熱泳動現象は雰囲気によって起こりやすさに差があるの
で、比較的熱泳動現象が起こりにくい雰囲気中では、こ
の温度勾配を適宜より大きく採ればよい。
で、比較的熱泳動現象が起こりにくい雰囲気中では、こ
の温度勾配を適宜より大きく採ればよい。
尚、本発明においては、気相の温度と低温度部の温度の
差を反応管の半径で除した値を、気相と基板の間の平均
の温度勾配と定義し、この温度勾配が10℃/CJ以上
であれば、十分な熱泳動現象が生じることが実験的にも
確認された。また、反応管等の形状は例えば縦型とする
等種々変えることができるが、その場合は、気相の温度
と低温度部の温度の差を、気体流の厚さで除した値を気
相と低温度部の開の平均の温度勾配と定義することがで
きる。
差を反応管の半径で除した値を、気相と基板の間の平均
の温度勾配と定義し、この温度勾配が10℃/CJ以上
であれば、十分な熱泳動現象が生じることが実験的にも
確認された。また、反応管等の形状は例えば縦型とする
等種々変えることができるが、その場合は、気相の温度
と低温度部の温度の差を、気体流の厚さで除した値を気
相と低温度部の開の平均の温度勾配と定義することがで
きる。
尚、低温度部として冷却された基板を使用する場合には
、反応時間が長いと基板上に超微粒子が多く堆積して結
合したり、堆積した超微粒子上において反応が継続進行
して、多孔質膜を形成するようになるので、それ以萌に
反応を停止する。
、反応時間が長いと基板上に超微粒子が多く堆積して結
合したり、堆積した超微粒子上において反応が継続進行
して、多孔質膜を形成するようになるので、それ以萌に
反応を停止する。
本発明により製造が可能なセラミックスH1微粒子の種
類は、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、酸
化アルミニウム、酸化デルマニウム、酸化カルシウム、
酸化バリウム、酸化ストロンチウム、ランタノイド酸化
物、酸化イツトリウム、Fll化ニオブ、酸化ビスマス
、酸化モリブデン、酸化鉛等、又はこれらの多元系から
なる酸化物、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化チタ
ン、窒化ホウ素等の窒化物、炭化ケイ素、炭化ホウ素、
炭化ジルコニウム、炭化チタン等の炭化物、ホウ化モリ
ブデン、ホウ化クロム、ケイ化モリブデン、等であり、
本発明方法の実施が可能であれは、特にセラミックスの
種類は限定されない。更に、化合物の還元反応による金
属の超微粒子の製造にも応用することができる。
類は、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、酸
化アルミニウム、酸化デルマニウム、酸化カルシウム、
酸化バリウム、酸化ストロンチウム、ランタノイド酸化
物、酸化イツトリウム、Fll化ニオブ、酸化ビスマス
、酸化モリブデン、酸化鉛等、又はこれらの多元系から
なる酸化物、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化チタ
ン、窒化ホウ素等の窒化物、炭化ケイ素、炭化ホウ素、
炭化ジルコニウム、炭化チタン等の炭化物、ホウ化モリ
ブデン、ホウ化クロム、ケイ化モリブデン、等であり、
本発明方法の実施が可能であれは、特にセラミックスの
種類は限定されない。更に、化合物の還元反応による金
属の超微粒子の製造にも応用することができる。
本発明方法においては、まず気相中にセラミックスの超
微粒子を生I&させる。気相反応としては、例えば、酸
化物の場合はアルコキシドの熱分解、加水分解又は酸化
、ハロゲン化物の加水分解又は酸化、アルキル化物の酸
化、又は水素化物の酸化等の反応、また、窒化物の場合
にはハロゲン化物とアンモニアとの反応、アンモニア付
加ノ10デン化−i属の熱分解、金属蒸気とアンモニア
或いは窒素或いはヒドラノンとの反応、又はアルミニウ
ムアルキル7ミドに代表される有機含窒素アルミニウム
化合物の熱分解等、炭化物の場合には、ハロゲン化物の
炭化水素存在下の水素による或いは直接炭化水素による
還元等である。
微粒子を生I&させる。気相反応としては、例えば、酸
化物の場合はアルコキシドの熱分解、加水分解又は酸化
、ハロゲン化物の加水分解又は酸化、アルキル化物の酸
化、又は水素化物の酸化等の反応、また、窒化物の場合
にはハロゲン化物とアンモニアとの反応、アンモニア付
加ノ10デン化−i属の熱分解、金属蒸気とアンモニア
或いは窒素或いはヒドラノンとの反応、又はアルミニウ
ムアルキル7ミドに代表される有機含窒素アルミニウム
化合物の熱分解等、炭化物の場合には、ハロゲン化物の
炭化水素存在下の水素による或いは直接炭化水素による
還元等である。
その他前記各種セラミックス製造のための気相反応とし
て従来から知られている反応によることができる。これ
ら各種の気相反応はその反応温度が異なり、例えばアル
コキシドの熱分解では250〜1500℃、ハロゲン化
物の加水分解では50〜1000℃、アルキル化物の酸
化では100〜500℃、水素化物の酸化では100〜
i o o o ’c、ハロゲン化物とアンモニアとの
反応では400〜1500℃、金属蒸気とアンモニア或
いは窒素との反応では金属の沸点より50℃低い温度か
ら金属の沸点より100°C高い温度の間である。アル
ミニウムアルキルアミドに代表される有磯含室索アルミ
ニツム化合物の熱分解では30()〜1500℃である
。
て従来から知られている反応によることができる。これ
ら各種の気相反応はその反応温度が異なり、例えばアル
コキシドの熱分解では250〜1500℃、ハロゲン化
物の加水分解では50〜1000℃、アルキル化物の酸
化では100〜500℃、水素化物の酸化では100〜
i o o o ’c、ハロゲン化物とアンモニアとの
反応では400〜1500℃、金属蒸気とアンモニア或
いは窒素との反応では金属の沸点より50℃低い温度か
ら金属の沸点より100°C高い温度の間である。アル
ミニウムアルキルアミドに代表される有磯含室索アルミ
ニツム化合物の熱分解では30()〜1500℃である
。
本発明においては、気相中で反応が進行して超微粒子が
生成するようにするため、気相の温度を上記の範囲の反
応温度とする。
生成するようにするため、気相の温度を上記の範囲の反
応温度とする。
気相中にffi微粒子が生成するためには、従来粉体の
製造を目的としたセラミックス題微粒子!!!遣方法と
して知られている方法における条件を適用することがで
きる。これらは、例えば、[化学総説JNo、9「固体
の関与する黒磯反応」(学会出版センター1975年)
、「触媒調整化学」(尾崎草他編講談社すイエンティフ
ィック刊)、特公昭47−46274号、特開昭50−
115190号等に示されている。
製造を目的としたセラミックス題微粒子!!!遣方法と
して知られている方法における条件を適用することがで
きる。これらは、例えば、[化学総説JNo、9「固体
の関与する黒磯反応」(学会出版センター1975年)
、「触媒調整化学」(尾崎草他編講談社すイエンティフ
ィック刊)、特公昭47−46274号、特開昭50−
115190号等に示されている。
また、[微粒子の径は、低温度部への拡散移動及び捕集
が効果的に可能なように、4000Å以下とする。!微
粒子の径は反応性物質の濃度、反応温度並びに気相中で
の滞留時間によって調整できる。このことは、例えば、
前掲の「化学総説」及び“Chemical & E
ngineering N ews″Vol、62N
o、 32 (1984年8月)にも示されている。
が効果的に可能なように、4000Å以下とする。!微
粒子の径は反応性物質の濃度、反応温度並びに気相中で
の滞留時間によって調整できる。このことは、例えば、
前掲の「化学総説」及び“Chemical & E
ngineering N ews″Vol、62N
o、 32 (1984年8月)にも示されている。
前記したように反応の種類によって反応温度は異なり、
各反応においても原料となる具体的化合物の種類によっ
て最適反応温度は異なるが、反応温度に拘わらず超微粒
子の低温度部への拡散が生じるようにするには、気相と
基板との温度勾配は10℃/cx以上あればよい。
各反応においても原料となる具体的化合物の種類によっ
て最適反応温度は異なるが、反応温度に拘わらず超微粒
子の低温度部への拡散が生じるようにするには、気相と
基板との温度勾配は10℃/cx以上あればよい。
気相中に供給する反応気体の流量は線速度で0.1〜1
00cz/s程度が望ましく、反応分子の濃度は、必要
に応じて添加される不活性〃スとの混合〃ス中、アルコ
キシドの熱分解の場合でフルフキシトo、o i〜10
%、ハロゲン化物の加水分解の場合でハロゲン化物0.
01〜10%にH2O1〜20%、アルキル化物や水素
化物の酸化の場合でフルキル化物又は水素化物0.01
〜1()%に酸素1〜99.9%、ハロゲン化物とアン
モニアとの反応の場合ハロゲン化物0.01〜10%に
アンモニア1〜99.9%、金属蒸気とアンモニア又は
窒素との反応では金属蒸気0.01〜5%にアンモニア
は1〜99.9%、窒素は10〜99.9%、有機含窒
素アルミニウムの熱分解の場合には0.01〜10%で
ある。
00cz/s程度が望ましく、反応分子の濃度は、必要
に応じて添加される不活性〃スとの混合〃ス中、アルコ
キシドの熱分解の場合でフルフキシトo、o i〜10
%、ハロゲン化物の加水分解の場合でハロゲン化物0.
01〜10%にH2O1〜20%、アルキル化物や水素
化物の酸化の場合でフルキル化物又は水素化物0.01
〜1()%に酸素1〜99.9%、ハロゲン化物とアン
モニアとの反応の場合ハロゲン化物0.01〜10%に
アンモニア1〜99.9%、金属蒸気とアンモニア又は
窒素との反応では金属蒸気0.01〜5%にアンモニア
は1〜99.9%、窒素は10〜99.9%、有機含窒
素アルミニウムの熱分解の場合には0.01〜10%で
ある。
低温度部の最低温度の具体例を挙げれば、チタニウムテ
トライソプロポキサイドの熱分解による酸化チタンの製
造においては、200〜230℃であり、ジルコニクム
テトライソブロボキサイドの熱分解による酸化ジルコニ
ウムの製造においては、250〜280℃であり、塩化
アルミニツムとアンモニアガスとの反応による窒化アル
ミニツムの製造においては、40()〜450℃である
。
トライソプロポキサイドの熱分解による酸化チタンの製
造においては、200〜230℃であり、ジルコニクム
テトライソブロボキサイドの熱分解による酸化ジルコニ
ウムの製造においては、250〜280℃であり、塩化
アルミニツムとアンモニアガスとの反応による窒化アル
ミニツムの製造においては、40()〜450℃である
。
超微粒子の大きさは、気体の流量、反応性物質の濃度、
反応温度等の気相の条件で:s4整できる6ptS1図
は、本発明を実施するのに使用する反応装置の一例であ
り、ptSi図において、1は反応管であり、ヒーター
2によって反応管1の内部の気相が加熱されるようにな
っている。反応管1はその本体が、中央部で基板3を保
持できるように基板ホルダー4を反応l1y1内部に導
入する部材5と擦り合わせ部6において密閉状態で接合
される補遺となっている。基板ホルダー4は中2管もη
造であり、その内部に基板を冷却するための冷媒が導入
できるように冷媒導入管7が設けられている。
反応温度等の気相の条件で:s4整できる6ptS1図
は、本発明を実施するのに使用する反応装置の一例であ
り、ptSi図において、1は反応管であり、ヒーター
2によって反応管1の内部の気相が加熱されるようにな
っている。反応管1はその本体が、中央部で基板3を保
持できるように基板ホルダー4を反応l1y1内部に導
入する部材5と擦り合わせ部6において密閉状態で接合
される補遺となっている。基板ホルダー4は中2管もη
造であり、その内部に基板を冷却するための冷媒が導入
できるように冷媒導入管7が設けられている。
基板ホルダーによって基板の角度は適宜調整することが
できる。また反応管には、基板3と反対側から反応気体
を基板3の近くにa(給するための、ノズル8、及び別
の反応気体を反応管内部に供給する導入管9、更に気体
の排出口10が設けられている。f51図に示す装置は
2種の気体による気相反応、例えばハロゲン化物の加水
分解、アルキル化物や水素化物の酸化、ハロゲン化物と
アンモニアとの反応、金、@蒸気とアンモニア又は窒素
との反応等の場合、ノズル8よt)ハロゲン化物又は金
属蒸気等を供給し、導入W9よす&索、窒素等の気体を
供給することができる。フルフキシトの熱分解等1種の
気体による反応に用いる場合は、アルコキシドを7ズル
8より供給し、導入管9は閉じておく。
できる。また反応管には、基板3と反対側から反応気体
を基板3の近くにa(給するための、ノズル8、及び別
の反応気体を反応管内部に供給する導入管9、更に気体
の排出口10が設けられている。f51図に示す装置は
2種の気体による気相反応、例えばハロゲン化物の加水
分解、アルキル化物や水素化物の酸化、ハロゲン化物と
アンモニアとの反応、金、@蒸気とアンモニア又は窒素
との反応等の場合、ノズル8よt)ハロゲン化物又は金
属蒸気等を供給し、導入W9よす&索、窒素等の気体を
供給することができる。フルフキシトの熱分解等1種の
気体による反応に用いる場合は、アルコキシドを7ズル
8より供給し、導入管9は閉じておく。
第2図は、本発明を実施するのに使用する装置の別の一
例であり、反応管1、ヒーター2、基板3、基板ホルダ
ー4、基板ホルダー導入部材5、擦り合わせ部6、排出
口10等の基本的構成は第1図の場合と同様であるが、
反応−(体を供給するためのノズルが、外側77:ル1
]と内側ノズル12からなる二重構造になっている。第
2図に示す装;87士、2つの7でルから2JITlの
Kf u 、例テば2種のアルコキシドを供給して熱分
解することにより、多元系の酸化物を得る場合等に適し
ている。
例であり、反応管1、ヒーター2、基板3、基板ホルダ
ー4、基板ホルダー導入部材5、擦り合わせ部6、排出
口10等の基本的構成は第1図の場合と同様であるが、
反応−(体を供給するためのノズルが、外側77:ル1
]と内側ノズル12からなる二重構造になっている。第
2図に示す装;87士、2つの7でルから2JITlの
Kf u 、例テば2種のアルコキシドを供給して熱分
解することにより、多元系の酸化物を得る場合等に適し
ている。
勿論ノズルの一力のみを使用することにより、1種の反
応気体を用いる反応にも使用できる。
応気体を用いる反応にも使用できる。
[作用1
本発明方法においては、気相反応によって気相中にセラ
ミックスの超微粒子を生成させ、m微粒子の大きさけ、
気体の流量、反応性物質の濃度、反応温度等によって調
整する。気相の温度より低い温度の低温度部を設けるこ
とによって、熱泳動現象を利用して、超微粒子が凝集す
ることなく超微粒子を捕集することができる。
ミックスの超微粒子を生成させ、m微粒子の大きさけ、
気体の流量、反応性物質の濃度、反応温度等によって調
整する。気相の温度より低い温度の低温度部を設けるこ
とによって、熱泳動現象を利用して、超微粒子が凝集す
ることなく超微粒子を捕集することができる。
低温度部として、冷却された基板を用いる場合には、超
微粒子の堆M、成長が進行して多孔質膜を形成する以前
に反応を停止することによって、基板に超微粒子を付着
させて取り出すことがでさる。
微粒子の堆M、成長が進行して多孔質膜を形成する以前
に反応を停止することによって、基板に超微粒子を付着
させて取り出すことがでさる。
[実施例11
A/IC1,粉末2()gを充填したガラス容器を13
0°Cに保持し、ヘリウムガスを通じること1こより3
.2%のA IC1,蒸気を含有するがス流Iを調整し
た。別にアンモニアボンベからのN H、とヘリウムが
スとより15%のNH,を含有するガス流■を調整した
。
0°Cに保持し、ヘリウムガスを通じること1こより3
.2%のA IC1,蒸気を含有するがス流Iを調整し
た。別にアンモニアボンベからのN H、とヘリウムが
スとより15%のNH,を含有するガス流■を調整した
。
第1図に示す構造の石英ガラス製、管径30xx。
全長500JIJの反応管を有する反応装置(ヒーター
艮200 am、基板ホルダー径10JJI、冷媒導入
管径5xx、ノズル径5 my、導入管径511)にお
いて、ガス流1はノズル8より、〃ス流■は導入管9よ
り、いずれも2000 x1/ 鴫inの流星で供給し
た。熱電対により測定した7ズル8先端の温度は800
℃であった。
艮200 am、基板ホルダー径10JJI、冷媒導入
管径5xx、ノズル径5 my、導入管径511)にお
いて、ガス流1はノズル8より、〃ス流■は導入管9よ
り、いずれも2000 x1/ 鴫inの流星で供給し
た。熱電対により測定した7ズル8先端の温度は800
℃であった。
一方、基板ホルダーによって保持された石英ガラス製の
基板(10ziX 10xz)を、ノズル8と反対側か
ら反応管内に挿入し、基板の背面を空気流によって冷却
し600℃に保持し、10分後に反応を停止して、基板
を取り出したところ、比表面積16012/g、平均粒
径400人、粒径分布範囲300〜700人の超微粒子
が基板上に得られた。
基板(10ziX 10xz)を、ノズル8と反対側か
ら反応管内に挿入し、基板の背面を空気流によって冷却
し600℃に保持し、10分後に反応を停止して、基板
を取り出したところ、比表面積16012/g、平均粒
径400人、粒径分布範囲300〜700人の超微粒子
が基板上に得られた。
気相と基板の温度差(800℃−600”C)を反応管
の半径(15JFz)で除して求められる気相と基板の
間の平均の温度勾配は133,3°C/cmであった。
の半径(15JFz)で除して求められる気相と基板の
間の平均の温度勾配は133,3°C/cmであった。
形成された 超微粒子のx#X回折図(使用X線Cu−
Kff#i[)を第3図として示した。第3図からAI
N以外は何も検出されなかった。
Kff#i[)を第3図として示した。第3図からAI
N以外は何も検出されなかった。
[実施例2]
Z r(CzH70)4151Fを〃ラス容器に充填し
て230℃に保持し、融解して液状となったところへヘ
リウムがスを通じることにより、1.1%Zr(C,I
(to)4を含有するがス流1■を調整した。
て230℃に保持し、融解して液状となったところへヘ
リウムがスを通じることにより、1.1%Zr(C,I
(to)4を含有するがス流1■を調整した。
fjS2図に示す構造の石英がラスS!! 管径40x
y、全長40011の反応管を有する反応装置(ヒータ
ー長200肩11基板ホルグー径1011、冷媒導入管
径4 ax、外側ノズル径10mx、内側ノズル径5a
m)において、外側7ズル11よりガス流■を3000
ml/ winの流速で反応管内に供給した。
y、全長40011の反応管を有する反応装置(ヒータ
ー長200肩11基板ホルグー径1011、冷媒導入管
径4 ax、外側ノズル径10mx、内側ノズル径5a
m)において、外側7ズル11よりガス流■を3000
ml/ winの流速で反応管内に供給した。
内側ノズル12の方は閏じておいた。熱電対?測定した
7ズル11先端の温度は400°Cであった。
7ズル11先端の温度は400°Cであった。
基板(10zzX 10xx)は背面を空気流によって
冷却し150℃に保持し、10分後に反応を停として基
板を取り出したところ、基板上に、180112/gの
比表面積を有し、平均粒径300人で、粒径分布範囲2
00〜600人の超微粒子が得られた。
冷却し150℃に保持し、10分後に反応を停として基
板を取り出したところ、基板上に、180112/gの
比表面積を有し、平均粒径300人で、粒径分布範囲2
00〜600人の超微粒子が得られた。
気相と基板の開の平均の温度勾配は125°C/cxで
あった。
あった。
形成されたは、Xm回折及びICP(プラズマ発光分光
分析)による元素分析の結果98%以上の純度の酸化ゾ
ルコニウムであることが確認された。X線回折図を第4
図として示した。
分析)による元素分析の結果98%以上の純度の酸化ゾ
ルコニウムであることが確認された。X線回折図を第4
図として示した。
[実施例3]
Arch粉末の代わりに8(1’、粉末を使用した池は
実施例1と同様にしてBNの超微粒子を!!!遺した。
実施例1と同様にしてBNの超微粒子を!!!遺した。
10分後に反応を停止して基板を取り出したところ、基
板上に20012/gの比表面積を有し、平均粒径30
0人で、粒径分布範囲200〜400人のBHの超微粒
子が得られた。
板上に20012/gの比表面積を有し、平均粒径30
0人で、粒径分布範囲200〜400人のBHの超微粒
子が得られた。
形成された超微粒子のX線回折図を第5図として示した
。
。
[比較例1
基板を冷却せず、基板の温度を800℃とした以外は実
施例1と同様にして反応を行わせたところ、基板上には
痕跡程度の固体の付着が見られたにすぎなかった。
施例1と同様にして反応を行わせたところ、基板上には
痕跡程度の固体の付着が見られたにすぎなかった。
[発明の効果J
本発明によれば、球形で極めて粒径の小さい超微粒子を
、比較的容易な方法で効率良く製造することができ、触
媒その他のセラミックス窺微粒子の用途に供するための
超微粒子の製造方法として有用である。
、比較的容易な方法で効率良く製造することができ、触
媒その他のセラミックス窺微粒子の用途に供するための
超微粒子の製造方法として有用である。
第1図は、本発明を実施するのに使用する反応装置の一
例である。 fjs2図は、本発明を実施するのに使用する反応装置
の別の一例である。 f:tS3図、第4図及び第5図は、それぞれ実施例1
、実施例2及び実施例3により製造されたセラミックス
超徽粒子のX!8回折図である。
例である。 fjs2図は、本発明を実施するのに使用する反応装置
の別の一例である。 f:tS3図、第4図及び第5図は、それぞれ実施例1
、実施例2及び実施例3により製造されたセラミックス
超徽粒子のX!8回折図である。
Claims (3)
- (1)気相反応によってセラミックスの超微粒子を気相
中に生成せしめ、該超微粒子が生成している気相の温度
から該温度よりも低い温度の低温度部へ温度勾配を形成
し、熱泳動現象を利用して気相中に生成した超微粒子を
前記低温度部に拡散移動させることを特徴とするセラミ
ックス超微粒子の製造方法。 - (2)セラミックス超微粒子の生成する気相と低温度部
との間に形成される平均の温度勾配が 10℃/cm以上である特許請求の範囲第1項記載のセ
ラミックス超微粒子の製造方法。 - (3)気相中に形成する超微粒子の径が4000Å以下
である特許請求の範囲第1項記載のセラミックス超微粒
子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27489087A JPS63156531A (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | セラミックス超微粒子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27489087A JPS63156531A (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | セラミックス超微粒子の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59273994A Division JPS61158877A (ja) | 1984-12-27 | 1984-12-27 | セラミツクス多孔質膜の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63156531A true JPS63156531A (ja) | 1988-06-29 |
Family
ID=17547957
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27489087A Pending JPS63156531A (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | セラミックス超微粒子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63156531A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006045032A (ja) * | 2004-08-09 | 2006-02-16 | National Institute For Materials Science | 窒化ホウ素膜で被覆された窒化アルミニウムナノチューブ及びその製造方法 |
JP2006290720A (ja) * | 2004-07-08 | 2006-10-26 | Mitsui Chemicals Inc | 窒化アルミニウム粉末およびその製造方法ならびにその用途 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57107237A (en) * | 1980-12-26 | 1982-07-03 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Production of compound powder |
JPS57197237A (en) * | 1981-05-28 | 1982-12-03 | Daicel Chem Ind Ltd | Preparation of ketone |
JPS61158877A (ja) * | 1984-12-27 | 1986-07-18 | 小宮山 宏 | セラミツクス多孔質膜の製造方法 |
-
1987
- 1987-10-30 JP JP27489087A patent/JPS63156531A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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