JPS63154655A - 放射線治療の補助薬として有用な置換された３−ニトロベンゼンスルホンアミド - Google Patents
放射線治療の補助薬として有用な置換された３−ニトロベンゼンスルホンアミドInfo
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07C311/00—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
- C07C311/15—Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、低酸素腫瘍細胞の治療用放射線に対する増
感剤として使用される新規の置換された３−ニトロベン
ゼンスルホンアミド化合物に関する。それは又、置換さ
れた３−ニトロベンゼンスルホンアミドの有効量をその
ような放射線治療を必要とする患者に投与することから
成る放射線の治療効果を増強する方法、及び前記の置換
された３−ニトロベンゼンスルホンアミドの治療的有効
量を含む医薬組成物に関する。
感剤として使用される新規の置換された３−ニトロベン
ゼンスルホンアミド化合物に関する。それは又、置換さ
れた３−ニトロベンゼンスルホンアミドの有効量をその
ような放射線治療を必要とする患者に投与することから
成る放射線の治療効果を増強する方法、及び前記の置換
された３−ニトロベンゼンスルホンアミドの治療的有効
量を含む医薬組成物に関する。
現在、他の無関係なある種の化合物が放射線増感剤とし
て実験的に臨床使用されている。しかしながら、これら
の化合物、例えばメトロニダゾール及びミソニダゾール
は、神経毒となり、そのためその用途が制限されるとい
う欠点がある。この発明に有用な化合物は有効な放射線
増感剤であり、より好ましい治療比率を持つと信じられ
ている。
て実験的に臨床使用されている。しかしながら、これら
の化合物、例えばメトロニダゾール及びミソニダゾール
は、神経毒となり、そのためその用途が制限されるとい
う欠点がある。この発明に有用な化合物は有効な放射線
増感剤であり、より好ましい治療比率を持つと信じられ
ている。
この発明の医薬組成物の製造に有用な化合物は式
【
（式中、Ｒ１及びＲ２は共にヒドロキシ低級アルキル基
ではないことを条件として、Ｒ１及びＲ２は同一か又は
異なり、並びに各々は独立に水素、炭素原子１〜４個の
低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、トリス（
ヒドロキシメチル）メチル基、アリル基、アミノ低級ア
ルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級
アルキルアミノ低級アルキル基、アザシクロアルキル（
低級アルキル）基から選ばれ、又はそれらが結合してい
る窒素と共に環形成する場合には、モルホリノ基又はＲ
４で置換された３−オキソ−ピペラジン−１−イル基 （式中、Ｒ４は水素、炭素原子１〜４個の低級アルキル
基又は炭素原子１〜４個のヒドロキシアルキル基である
。）から選ばれる複素環を表す。）の置換された３−ニ
トロベンゼンスルホンアミド化合物又はその生理学上許
容し得る塩である。
ではないことを条件として、Ｒ１及びＲ２は同一か又は
異なり、並びに各々は独立に水素、炭素原子１〜４個の
低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、トリス（
ヒドロキシメチル）メチル基、アリル基、アミノ低級ア
ルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級
アルキルアミノ低級アルキル基、アザシクロアルキル（
低級アルキル）基から選ばれ、又はそれらが結合してい
る窒素と共に環形成する場合には、モルホリノ基又はＲ
４で置換された３−オキソ−ピペラジン−１−イル基 （式中、Ｒ４は水素、炭素原子１〜４個の低級アルキル
基又は炭素原子１〜４個のヒドロキシアルキル基である
。）から選ばれる複素環を表す。）の置換された３−ニ
トロベンゼンスルホンアミド化合物又はその生理学上許
容し得る塩である。
この発明の置換された３−ニトロベンゼンスルホンアミ
ドは次の方法で製造される。
ドは次の方法で製造される。
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、
又はクロロホルムのような非プロトン性熔ｆ）Ｘ中３−
二トロベンゼンスルホニルクロリドの混合物を、少なく
とも等モル量の式 ％式％ （式中、Ｒ１及びＲ２は上に示した通りである。）のア
ミンで処理する。
又はクロロホルムのような非プロトン性熔ｆ）Ｘ中３−
二トロベンゼンスルホニルクロリドの混合物を、少なく
とも等モル量の式 ％式％ （式中、Ｒ１及びＲ２は上に示した通りである。）のア
ミンで処理する。
反応の過程で形成される塩化水素を中和するのに十分量
の塩基の存在下で反応を行なうのが望ましい。使用する
塩基はトリエチルアミン又はピリジンのような第三級ア
ミンである。一方、理論的に必要な反応物としてのアミ
ンの少なくとも２倍モル量を添加することにより同様の
結果が得られる。この場合、反応物としてのアミンはス
ルホンアミドの形成とアミン化反応で形成される塩化水
素の中和に使用される。
の塩基の存在下で反応を行なうのが望ましい。使用する
塩基はトリエチルアミン又はピリジンのような第三級ア
ミンである。一方、理論的に必要な反応物としてのアミ
ンの少なくとも２倍モル量を添加することにより同様の
結果が得られる。この場合、反応物としてのアミンはス
ルホンアミドの形成とアミン化反応で形成される塩化水
素の中和に使用される。
反応を行なう温度は臨界的ではなく、０〜１００℃の間
で変動可能であり、又、１００℃以下であるなら溶媒の
還流温度でもよい。反応温度は、好ましくは約０〜２５
℃で１〜２４時間維持する。
で変動可能であり、又、１００℃以下であるなら溶媒の
還流温度でもよい。反応温度は、好ましくは約０〜２５
℃で１〜２４時間維持する。
アミン化反応は、次の式
（式中、Ｒ′及びＲ２は上記で定義した通りである。）
で表される。
で表される。
工程の出発物質は公知の市販の化合物である。
この発明の一つの実施態様により、新規な式（式中、Ｒ
１及びＲ２は共にヒドロキシ低級アルキル基ではないこ
とを条件として、Ｒ１及びＲ２は同一か又は異なり、並
びに各々は独立に水素、炭素原子１〜４個の低級アルキ
ル基、ヒドロキシ低級アルキル基、トリス（ヒドロキシ
メチル）メチル基、アリル基、アミノ低級アルキル基、
低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルア
ミノ低級アルキル基、アザシクロアルキル（低級アルキ
ル）基から選ばれ、又はそれらが結合している窒素と共
に環形成する場合には、モルホリノ基又はＲ４で置換さ
れた３−オキソ−ピペラジン−１−イル基 （式中、Ｒ４は水素、炭素原子１〜４個の低級アルキル
基又は炭素原子１〜４個のヒドロキシアルキル基である
。）から選ばれる複素環を表す。）の置換された３−ニ
トロベンゼンスルホンアミド化合物又はその生理学上許
容し得る塩が提供される。
１及びＲ２は共にヒドロキシ低級アルキル基ではないこ
とを条件として、Ｒ１及びＲ２は同一か又は異なり、並
びに各々は独立に水素、炭素原子１〜４個の低級アルキ
ル基、ヒドロキシ低級アルキル基、トリス（ヒドロキシ
メチル）メチル基、アリル基、アミノ低級アルキル基、
低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルア
ミノ低級アルキル基、アザシクロアルキル（低級アルキ
ル）基から選ばれ、又はそれらが結合している窒素と共
に環形成する場合には、モルホリノ基又はＲ４で置換さ
れた３−オキソ−ピペラジン−１−イル基 （式中、Ｒ４は水素、炭素原子１〜４個の低級アルキル
基又は炭素原子１〜４個のヒドロキシアルキル基である
。）から選ばれる複素環を表す。）の置換された３−ニ
トロベンゼンスルホンアミド化合物又はその生理学上許
容し得る塩が提供される。
この発明の他の実施態様により、式
の放射線増感性化合物の有効量及び薬学上許容し得る無
毒性担体から成る、悪性疾患の放射線治療を受けている
人間患者又は家畜の治療のための医薬処方が提供される
。静脈内投与のための投与形態は放射線増悪性化合物の
無菌等張溶液である。
毒性担体から成る、悪性疾患の放射線治療を受けている
人間患者又は家畜の治療のための医薬処方が提供される
。静脈内投与のための投与形態は放射線増悪性化合物の
無菌等張溶液である。
錠剤、カプセル又はエリキシルのような経口投与形態も
使用することができる。
使用することができる。
カプセル又は錠剤当り薬剤２５．５０．１００又は５０
０■を含有するカプセル又は錠剤はこの発明の治療方法
に十分に使用することができる。
０■を含有するカプセル又は錠剤はこの発明の治療方法
に十分に使用することができる。
この発明の更に別の実施態様により、式（式中、Ｒ１及
びＲ２は上記に定義した通りである。）を含む放射線増
感性組成物の有効量を、悪性疾患の放射線治療を受けて
いる患者に投与することから成る人間患者又は家畜の治
療方法が提供される。
びＲ２は上記に定義した通りである。）を含む放射線増
感性組成物の有効量を、悪性疾患の放射線治療を受けて
いる患者に投与することから成る人間患者又は家畜の治
療方法が提供される。
悪性疾患の放射線治療を受けている疾病個体の治療方法
は、経口又は非経口的に投与される医薬組成物において
この発明の化合物を使用して行なう。使用する投与量は
個別の患者の放射計画に基づく。放射計画において放射
線の照射が多数回に分けられている場合、薬剤はスケジ
ュール中に間隔を置いて投与することができ、各放射線
治療毎に投与する必要はない。この発明の化合物は長期
投与を意図するものではないことに注意すべきであ、る
。一般に薬剤は体表面平方メートル当り約０．２５ない
し約４．０ｇの投与量を放射線治療前１０分ないし５時
間に投与する。
は、経口又は非経口的に投与される医薬組成物において
この発明の化合物を使用して行なう。使用する投与量は
個別の患者の放射計画に基づく。放射計画において放射
線の照射が多数回に分けられている場合、薬剤はスケジ
ュール中に間隔を置いて投与することができ、各放射線
治療毎に投与する必要はない。この発明の化合物は長期
投与を意図するものではないことに注意すべきであ、る
。一般に薬剤は体表面平方メートル当り約０．２５ない
し約４．０ｇの投与量を放射線治療前１０分ないし５時
間に投与する。
与えられる投与量範囲は有効な投与量範囲であり、正し
い投与量に関する決定は投与する医師により患者の一般
的肉体的条件の判断に基づいて成されなければならない
。個別の患者の投与量を決定するには、医師は薬剤がど
の程度許容されるかを決定するために、体表面平方メー
トル当り０．２５ｇの始発投与量で開始し、患者に何等
かの薬剤の副作用がないかを注意深く観察しながら、各
々の連続する放射線治療と共に投与量を増加させること
ができる。投与される組成物は、活性化合物の有効量と
前記活性化合物の薬剤用担体である。
い投与量に関する決定は投与する医師により患者の一般
的肉体的条件の判断に基づいて成されなければならない
。個別の患者の投与量を決定するには、医師は薬剤がど
の程度許容されるかを決定するために、体表面平方メー
トル当り０．２５ｇの始発投与量で開始し、患者に何等
かの薬剤の副作用がないかを注意深く観察しながら、各
々の連続する放射線治療と共に投与量を増加させること
ができる。投与される組成物は、活性化合物の有効量と
前記活性化合物の薬剤用担体である。
次の実施例は特定の活性化合物の製造法の記述であるが
、この発明の製造法、生産物、組成物、治療法を例証す
るものであり、限定するものではない。温度は明細書全
体について別記せぬ限り摂氏で表す。
、この発明の製造法、生産物、組成物、治療法を例証す
るものであり、限定するものではない。温度は明細書全
体について別記せぬ限り摂氏で表す。
実施例１
テトラヒドロフラン（２０ｍ＃）中ジェタノールアミン
（２，１ｇ、２０ミリモル）の溶液を、２０〜２５℃で
テトラヒドロフラン（８０ｍＡ）中３−二トロベンゼン
スルボニルク口’Ｊｌ’（２，２ｇ、１０ミリモル）の
攪拌している溶液にゆっくり添加した。この温度で３時
間攪拌後、溶媒を減圧下で除去した。残留物を酢酸エチ
ルと水の間で分配した。酢酸エチル抽出液を硫酸ナトリ
ウム（ＮａｚＳＯ−）で乾燥後、濾過し、濃縮し、残留
物を酢酸エヂルーヘキサンから再結して、０．８９ ｇ
のスルホンアミドを得、ｍ、ｐ、 １． Ｏ０〜１０２
℃であった。
（２，１ｇ、２０ミリモル）の溶液を、２０〜２５℃で
テトラヒドロフラン（８０ｍＡ）中３−二トロベンゼン
スルボニルク口’Ｊｌ’（２，２ｇ、１０ミリモル）の
攪拌している溶液にゆっくり添加した。この温度で３時
間攪拌後、溶媒を減圧下で除去した。残留物を酢酸エチ
ルと水の間で分配した。酢酸エチル抽出液を硫酸ナトリ
ウム（ＮａｚＳＯ−）で乾燥後、濾過し、濃縮し、残留
物を酢酸エヂルーヘキサンから再結して、０．８９ ｇ
のスルホンアミドを得、ｍ、ｐ、 １． Ｏ０〜１０２
℃であった。
災旌炎叢
テトラヒドロフラン（２５ｍ／）中２−ジメチルアミノ
エチルアミン（２，２ｍｊ！、２０ミリモル）の溶液を
、水浴中で冷却したテトラヒドロフラン（５０ｍＡ）中
３−二トロベンゼンスルホニルクロリド（２，２ｇ、１
０ミリモル）の攪拌している溶液に３０分間にわたって
添加した。添加完了後、反応混合物を水浴中で３０分間
、次いで２０〜２５°で２０時間攪拌した。溶媒を減圧
下で除去し、残留物を酢酸エチル及び水の間で分配した
。
エチルアミン（２，２ｍｊ！、２０ミリモル）の溶液を
、水浴中で冷却したテトラヒドロフラン（５０ｍＡ）中
３−二トロベンゼンスルホニルクロリド（２，２ｇ、１
０ミリモル）の攪拌している溶液に３０分間にわたって
添加した。添加完了後、反応混合物を水浴中で３０分間
、次いで２０〜２５°で２０時間攪拌した。溶媒を減圧
下で除去し、残留物を酢酸エチル及び水の間で分配した
。
酢酸エチル抽出液を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し
、硫酸ナトリウム（Ｎａ、５Ｏ４）で乾燥し、濾過し、
濃縮した。残留物をシリカゲル上でフランシュクロマト
グラフし、５％メタノール９５％クロロホルムで溶離し
て純粋な塩基を得た。塩酸塩（１，７５ｇ）に変換する
ことによりさらに精製し、ｍ、ｐ、 １７４．０〜１７
６．０℃であった。
、硫酸ナトリウム（Ｎａ、５Ｏ４）で乾燥し、濾過し、
濃縮した。残留物をシリカゲル上でフランシュクロマト
グラフし、５％メタノール９５％クロロホルムで溶離し
て純粋な塩基を得た。塩酸塩（１，７５ｇ）に変換する
ことによりさらに精製し、ｍ、ｐ、 １７４．０〜１７
６．０℃であった。
ホンアミド
テトラヒドロフラン（５０ｍ６）及びジメチルホルムア
ミド（７５ｍ１）中３−ニトロベンゼンスルホニルクロ
リド（２，５ｇ、 １１．３ミリモル）及び２−アミノ
−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール（
２，７５ｇ、 ２２．７ミリモル）の混合物を、５０℃
で４時間加熱した。溶媒を減圧下で除去し、残留物を温
酢酸エチルで抽出した。
ミド（７５ｍ１）中３−ニトロベンゼンスルホニルクロ
リド（２，５ｇ、 １１．３ミリモル）及び２−アミノ
−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール（
２，７５ｇ、 ２２．７ミリモル）の混合物を、５０℃
で４時間加熱した。溶媒を減圧下で除去し、残留物を温
酢酸エチルで抽出した。
酢酸エチル抽出液を濾過、濃縮後、残留物をシリカゲル
上でフラッシュクロマトグラフし、生成物を５％メタノ
ール−９５％クロロホルムで溶離した。酢酸エチル−ヘ
キサンから再結して分析用試料を得、ｍ、ｐ、 ９８〜
９９°であった。
上でフラッシュクロマトグラフし、生成物を５％メタノ
ール−９５％クロロホルムで溶離した。酢酸エチル−ヘ
キサンから再結して分析用試料を得、ｍ、ｐ、 ９８〜
９９°であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ｛式中、Ｒ＾１及びＲ＾２は共にヒドロキシ低級アルキ
ル基ではないことを条件として、Ｒ＾１及びＲ＾２は同
一か又は異なり、並びに各々は独立に水素、炭素原子１
〜４個の低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、
トリス（ヒドロキシメチル）メチル基、アリル基、アミ
ノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル基
、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、アザシクロア
ルキル（低級アルキル）基から選ばれ、又はそれらが結
合している窒素と共に環形成する場合には、モルホリノ
基又はＲ＾４で置換された３−オキソ−ピペラジン−１
−イル基 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾４は水素、炭素原子１〜４個の低級アルキ
ル基又は炭素原子１〜４個のヒドロキシアルキル基であ
る。）から選ばれる複素環を表す。｝の置換された３−
ニトロベンゼンスルホンアミド化合物又はその生理学上
許容し得る塩。 ２、Ｎ−（２−ジメチルアミノエチル）−３−ニトロベ
ンゼンスルホンアミド又はその生理学上許容し得る塩か
ら成る特許請求の範囲第１項記載の置換された３−ニト
ロベンゼンスルホンアミド化合物。 ３、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ｛式中、Ｒ＾１及びＲ＾２は共にヒドロキシ低級アルキ
ル基ではないことを条件として、Ｒ＾１及びＲ＾２は、
同一か又は異なり、並びに各々は独立に水素、炭素原子
１〜４個の低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基
、トリス（ヒドロキシメチル）メチル基、アリル基、ア
ミノ低級アルキル基、低級アルキルアミノ低級アルキル
基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、アザシクロ
アルキル（低級アルキル）基から選ばれ、又はそれらが
結合している窒素と共に環形成する場合には、モルホリ
ノ基又はＲ＾４で置換された３−オキソ−ピペラジン−
１−イル基 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾４は水素、炭素原子１〜４個の低級アルキ
ル基又は炭素原子１〜４個のヒドロキシアルキル基であ
る。）から選ばれる複素環を表す。｝の置換された３−
ニトロベンゼンスルホンアミド化合物又はその生理学上
許容し得る塩の有効量をそのような治療を必要とする患
者に投与することから成る放射線の治療効果を増強する
方法。 ４、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ｛式中、Ｒ＾１がヒドロキシ低級アルキル基である場合
にＲ＾２はヒドロキシ低級アルキル基ではないことを条
件として、Ｒ＾１及びＲ＾２は同一か又は異なり、並び
に各々は独立に水素、炭素原子１〜４個の低級アルキル
基、ヒドロキシ低級アルキル基、トリス（ヒドロキシメ
チル）メチル基、アリル基、アミノ低級アルキル基、低
級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ低級アルキルアミ
ノ低級アルキル基、アザシクロアルキル（低級アルキル
）基から選ばれ、又はそれらが結合している窒素と共に
環形成する場合には、モルホリノ基又はＲ＾４で置換さ
れた３−オキソ−ピペラジン−１−イル基 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾４は水素、炭素原子１〜４個の低級アルキ
ル基又は炭素原子１〜４個のヒドロキシアルキル基であ
る。）から選ばれる複素環を表す。｝の置換された３−
ニトロベンゼンスルホンアミド化合物又はその生理学上
許容し得る塩の有効量から成る放射線の治療効果を増強
する医薬組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US937,275 | 1986-12-03 | ||
| US06/937,275 US4845284A (en) | 1986-12-03 | 1986-12-03 | Substituted 3-nitrobenzenesulfonamides useful as adjuncts in radiation therapy |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63154655A true JPS63154655A (ja) | 1988-06-27 |
Family
ID=25469720
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62304661A Pending JPS63154655A (ja) | 1986-12-03 | 1987-12-03 | 放射線治療の補助薬として有用な置換された３−ニトロベンゼンスルホンアミド |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4845284A (ja) |
| EP (1) | EP0270293B1 (ja) |
| JP (1) | JPS63154655A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4897423A (en) * | 1988-08-02 | 1990-01-30 | Merck & Co. Inc. | Dinitrobenzenesulfonamides |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE205901C (ja) * | ||||
| US2531755A (en) * | 1948-12-30 | 1950-11-28 | American Cyanamid Co | Composition for controlling coccidiosis |
| US3066158A (en) * | 1961-04-28 | 1962-11-27 | Carwin Company | Nitrosophenyl-n, n-di(monohydroxyalkyl)-sulfonamides and their methods of preparation |
| IL42520A0 (en) * | 1972-06-29 | 1973-08-29 | Lilly Co Eli | Chloro-nitro-benzene sulfonamides |
| CA1072359A (en) * | 1974-10-08 | 1980-02-26 | Hiroyuki Konishi | Method for controlling the growth of plants |
| IT1159802B (it) * | 1982-01-05 | 1987-03-04 | Mitsui Toatsu Chemicals | Derivati di 3-nitrobenzen solfonanilidi e composizioni fungicide, conteneti gli stessi, per il controllo di malattie di piante |
| DD205901A1 (de) * | 1982-06-22 | 1984-01-11 | Gerhard Kempter | Verfahren zur herstellung von 3-amino-benzen-sulfonyl-n-cycloimiden |
| FR2553409B1 (fr) * | 1983-10-18 | 1986-04-18 | Choay Sa | Nouveaux benzenesulfonyl-lactames, leur procede de preparation et leur application comme substance active de compositions pharmaceutiques |
| FR2553414B1 (fr) * | 1983-10-18 | 1986-08-14 | Choay Sa | Nouveaux benzenesulfonamides n-cyclises, leur procede de preparation et leur utilisation comme substance active de compositions pharmaceutiques |
| DE3661070D1 (en) * | 1985-03-27 | 1988-12-08 | Merck & Co Inc | 2-(substituted sulfamyl) derivatives of 6-nitrobenzoic acid, process for their preparation and pharmaceutical compositions containing them |
| US4603133A (en) * | 1985-11-06 | 1986-07-29 | Merck & Co., Inc. | Amides and esters of 2-[N-(morpholinoalkyl)aminosulfonyl]-6-nitrobenzoic acids and compositions useful as adjuncts to radiation therapy |
| US4665227A (en) * | 1986-05-23 | 1987-05-12 | American Home Products Corporation | N-substituted-4(3)-nitrobenzene sulphonamides |
-
1986
- 1986-12-03 US US06/937,275 patent/US4845284A/en not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-11-24 EP EP87310353A patent/EP0270293B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-12-03 JP JP62304661A patent/JPS63154655A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4845284A (en) | 1989-07-04 |
| EP0270293A1 (en) | 1988-06-08 |
| EP0270293B1 (en) | 1991-06-19 |
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