JPS63150271A - ２−アミノ−３−ホモフラノサイド類 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［目的］ （産業上の利用分野） 本発明は、抗菌作用を有する新規なアミノ糖に関する。

（当該発明が解決しようとする問題点）本発明者等は、
糖骨格を有する誘導体の合成とその薬理活性について永
年に亘り鋭意研究を行なった結果、既知のアミノ糖とは
全く構造を異にする新規な２−アミノ−３−ホモ糖が、
抗菌作用を有することを見出し本発明を完成した。

［構成］ 本発明の新規な２−アミノ−３−ホモフラノサイド類及
びその薬理学上許容される塩は、［式中、Ｒ１は、水素
原子、水酸基の保護基又は水酸基の置換基を示し、Ｒ′
Ｌ又はＲ３は同−又は異なって、水素原子、アミノ基の
保護基又はアミノ基の置換基を示し、Ｒ４は式−ＣＯＲ
”（式中、Ｒ６は、水素原子、低級アルキル基、保護さ
れていてもよい水酸基、置換された水酸基、保護されて
いてもよいメルカプト基、置換されたメルカプト基又は
式−ＮＲ２Ｒ３を示す。）又は式−ＣＨ，ＯＲ”（式中
、Ｒ１は前記と同意義を示す。）を示し、Ｒ５は、水素
原子、低級アルキル基、アリール基、アリル基、ビニル
基又は （式中、Ｒ８は、Ｒ１と同様の基を示し、Ｒ７はジオー
ルの保護基を示す。）を示し、又は、Ｒ４及びＲ５は一
緒になって、 を示す。］を有する。

上記一般式（Ｉ）において、Ｒ１の定義における水酸基
の保護基及びＲ６の定義における「保護されていてもよ
い水酸基」の保護基分としては、例えば、ホルミル、ア
セチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペン
タノイル、ピバロイル、バレリル、イソバレリル、オク
タノイル、ラウロイル、バルミトイル、ステアロイルの
ようなアルキルカルボニル基、クロロアセチル、ジブロ
モメチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル
のようなハロゲン化脂肪族アシル基、メトキシアセチル
のような低級アルコキシ脂肪族アシル基、（Ｅ）−２−
メチル−２−ブテノイルのような不飽和脂肪族アシル基
等の脂肪族アシル基；ベンゾイル、０−（ジブロモメチ
ル）ベンゾイル、０−（メトキシカルボニル）ベンゾイ
ル、Ｐ−フェニルベンゾイル、２，４．６−ドリメチル
ベンゾイル、ｐ−トルオイル、ｐ−アニソイル、Ｐ−ク
ロロベンゾイル、ｐ−ニトロベンゾイル、０−ニトロベ
ンゾイル、α−ナフトイルのような芳香族アシル基；テ
トラヒドロピラン−２−イル、３−ブロモテトラヒドロ
ピラン−２−イル、４−メトキシテトラヒドロピラン−
４−イル、テトラヒドロチオピラン−２−イル、４−メ
トキシテトラヒドロチオピラン−４−イルのようなテト
ラヒドロピラニル基；テトラヒドロフラン−２−イル、
テトラヒドロチオフラン−２−イルのようなテトラヒド
ロフラニル基ニトリメチルシリル、トリエチルシリル、
イソプロピルジメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリ
ル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジー１−ブチ
ルシリル、トリイソプロピルシリルのようなトリ低級ア
ルキルシリル基；メトキシメチル、１，１−ジメチル−
１−メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチ
ル、イソプロポキシメチル、ブトキシメチル、ｔ−ブト
キシメチル、２−メトキシエトキシメチル、２，２．２
−トリクロロエトキシメチル、ビス（２−クロロエトキ
シ）メチルのようなアルコキシメチル基；１−エトキシ
エチル、１−メチル−１−メトキシエチル、１−（イソ
プロポキシ）エチル、２，２．２−トリクロロエチル、
２−（フェニルゼレニル）エチルのような置換エチル基
；ベンジル、フェネチル、３−フェニルプロピル、ｐ−
メトキシベンジル、０−ニトロベンジル、ｐ−クロロベ
ンジル、ｐ７二トロベンジル、Ｐ−シアノベンジル、ジ
フェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチルメ
チル、β−ナフチルメチル、α−ナフチルジフェニルメ
チル、Ｐ−メトキシフェニルジフェニルメチルのような
アラルキル基；メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、ｔ−ブトキシカルボニル、２．２．２−トリクロロ
エトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、２−ト
リメチルシリルエトキシカルボニルのようなアルコキシ
カルボニル基；ビニルオキシカルボニル、アリルオキシ
カルボニルのようなアルケニルオキシカルボニル基又は
ベンジルオキシカルボニル、ｐ−メトキシベンジルオキ
シカルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオキシカル
ボニル、０−ニトロベンジルオキシカルボニル、Ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニルのようなアラルキルオキ
シカルボニル基を拳げることかでき、好適には、脂肪族
アシル基、芳（了） 級アルキルシリル基、アルコキシメチル基、アラルキル
基及びアラルキルオキシカルボニル基である。

上記一般式（Ｉ）において、Ｒ１の定義における水酸基
の置換基及びＲ６の定義における「置換された水酸基」
の置換分としては、例えば、メチル、エチル、プロピル
、イソプロピル、ブチル、イソブチル、Ｓ−ブチル、ｔ
−ブチル、ペンチル、ヘキシルのような低級アルキル基
；フェニル、ｐ−トリル、Ｐ−メトキシフェニル、Ｐ−
クロロフェニル、α若しくはβ−ナフチルのようなアリ
ール基又はアリル基を拳げることかでき、好適には低級
アル鼻ル基及びアリル基である。

Ｒ２及びＲ３の定義におけるアミノ基の保護基としては
、通常アミノ基の保護基として使用するものであれば限
定はないが、好適には、ホルミル、アセチル、プロピオ
ニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロ
イル、バレリル、イソバレリル、オクタノイル、ラウロ
イル、バルミトイル、（Ｓン ステアロイルのようなアルキルカルボニル基、クロロア
セチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリ
フルオロアセチルのようなハロゲン化脂肪族アシル基、
メトキシアセチルのような低級アルコキシ脂肪族アシル
基、（Ｅ）−２−メチル−２−ブテノイルのような不飽
和脂肪族アシル基等の脂肪族アシル基；ベンゾイル、０
−（ジブロモメチル）ベンゾイル、０−（メトキシカル
ボニル）ベンゾイル、Ｐ−フェニルベンゾイル、２．４
．６−トリメチルベンゾイル、Ｐ−トルオイル、Ｐ−ア
ニソイル、Ｐ−クロロベンゾイル、Ｐ−ニトロベンゾイ
ル、０−二トロベンゾイル、α−ナフトイルのような芳
香族アシル基；メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、ｔ−ブトキシカルボニル、２，２．２−トリクロロ
エトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、２−ト
リメチルシリルエトキシカルボニルのようなアルコキシ
カルボニル基；ビニルオキシカルボニル、アリルオキシ
カルボニルのようなアルケニルオキシカルボニル基：ベ
ンジルオキシカルボニル、ｐ−メトキシベンジルオキシ
カルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオキシカルボ
ニル −ニトロベンジルオキシカルボニルのようなアラルキル
オキシカルボニル基；トリメチルシリル、トリエチルシ
リル、イソプロピルジメチルシリル、ｔ−ブチルジメチ
ルシリル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ−ｔ
−ブチルシリル、トリイソプロピルシリルのようなトリ
低級アルキルシリル基又はベンジル、フェネチル、３−
フェニルプロピル、Ｐ−メトキシベンジル、２，４−ジ
メトキシベンジル、０−ニトロベンジル、ｐ−クロロベ
ンジル、Ｐ−ニトロベンジル、Ｐ−シアノベンジルジフ
ェニルメチル、トリフェニルメチル、α若しくはβ−ナ
フチルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、Ｐ−メ
トキシフェニルジフェニルメチルのようなアラルキル基
である。

Ｒ２及びＲ３の定義のおけるアミノ基の置換基としては
、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、イソブチル、Ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル
、ヘキシルのような低級アルキル基；メトキシ、エトキ
シ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、
ｔ−ブトキシ、２−メトキシエトキシ、２．２．２−ト
リクロロエトキシのようなアルコキシ基：ビニル基又は
フェニル、Ｐ〜トリル、Ｐ−メトキシフェニル、Ｐ−ク
ロロフェニル、α若しくはβ−ナフチルのようなアリー
ル基をあげることができ、好適には低級アルキル基、ビ
ニル基及びアリール基である。

Ｒ５及びＲ６の定義における低級アルキル基としては、
例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、Ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、
ヘキシルのような炭素数１乃至６のアルキル基を示し、
好適には、炭素数１乃至４のアルキル基である。

Ｒ６の定義における「保護されていてもよいメルカプト
」の保護基分としては、例えば、ホルミル、アセチル、
プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル
、ピバロイル、バレリル、イソバレリル、オクタノイル
、ラウロイル、バルミトイル、ステアロイルのようなア
ルキルカルボニル（１り 基、クロロアセチル、ジブロモメチル、トリクロロアセ
チル、トリフルオロアセチルのようなハロゲン化脂肪族
アシル基、メトキシアセチルのような低級アルコキシ脂
肪族アシル基、（Ｅ）−２−メチル−２−ブテノイルの
ような不飽和脂肪族アシル基等の脂肪族アシル基又はベ
ンゾイル、０−（ジブロモメチル）ベンゾイル、ｏ−（
メトキシカルボニル）ベンゾイル、ｐ−フェニルベンゾ
イル、２゜４．６−トリメチルベンゾイル、ｐ−トルオ
イル、Ｐ−アニソイル、Ｐ−クロロベンゾイル、ｐ−二
トロベンゾイル、０−ニトロベンゾイル、α−ナフトイ
ルのような芳香族アシル基を挙げることができ、好適に
は、脂肪族アシル基である。

Ｒ６の定義における「置換されたメルカプト基」の置換
分としては、好適にはメチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、イソブチル、Ｓ−ブチル、ｔ−ブチ
ル、ペンチル、ヘキシルのような低級アルキル基；フェ
ニル、ｐ−トリル、Ｐ−メトキシフェニル、Ｐ−クロロ
フェニル、α若しくはβ−ナフチルのようなアリール基
又はベンジル、フエネチル、３−フェニルプロピル ジル、０−ニトロベンジル、Ｐ−クロロベンジル、ｐ−
ニトロベンジル、Ｐ−ハロペンシル、Ｐ−シアノベンジ
ルジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α若しくは
β−ナフチルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、
Ｐ−メトキシフェニルジフェニルメチルのようなアラル
キル基である。

Ｒ５の定義におけるアリール基としては、フェニル、Ｐ
−トリル、Ｐ−メトキシフェニル、Ｐ−クロロフェニル
、α若しくはβ−ナフチルのようなアリール基をあげる
ことができ、好適にはフェニル基である。

Ｒ７の定義におけるジオールの保護基としては、メチリ
デン、エチリデン、イソプロピリデンのような低級アル
キリデン基：ベンジリデンのようなアラルキリデン基又
はメトキシエチリデン、エトキシエチリデンのようなア
ルコキシエチリデン基を拳げることかでき、好適には低
級アルキリデン基及びアラルキリデン基である。

本発明の化合物（Ｉ）は、薬理学上許容される無毒性塩
することができるが、そのような塩としては、好適には
ナトリウム塩、カリウム塩又はカルシウム塩のようなア
ルカリ金属又はアルカリ土類金属の塩；弗化水素酸、塩
酸、臭化水素酸、沃化水素酸のようなハロゲン化水素酸
、硫酸、燐酸等の無機酸；メタンスルホン酸、トリフル
オロメタンスルホン酸、エタンスルホン酸のような低級
アルキルスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエ
ンスルホン酸のようなアリールスルホン酸、蓚酸、マレ
イン酸等の有機酸及びグルタミン酸、アスパラギン酸の
ようなアミノ酸をあげることができる。

本発明の化合物（Ｉ）は、その分子内に不斉炭素を有し
、各々がＳ配位、Ｒ配位である多種の立体異性体が存在
するが、その各々、或いはそれらの混合物のいずれも本
発明に包含される。

化合物（１）において、好適な化合物としては、（１）
　Ｒ”が、水素原子、脂肪族アシル基、アラルキル基、
低級アルキル基又はアリル基である化合物 （１牛） （２）　Ｒ’及びＲ３が同−又は異なって、水素原子、
脂肪族アシル基、芳香族アシル基、アラルキル基又は低
級アルキル基である化合物 （３）　Ｒ４が、式−ＣＯＲ６（式中、Ｒ６は水素原子
、低級アルキル基、保護されていてもよい水酸基又は置
換された水酸基を示す。）である化合物（４）　Ｒ４が
、式−ＣＨ２ＯＲ”　（式中、Ｒ１は水素原子又は水酸
基の保護基を示す。）である化合物（５）　Ｒ’が、低
級アルキル基又は （式中、Ｒ８は、Ｒ１と同様の基を示し、Ｒ７はジオー
ルの保護基を示す。）を示し、又は、Ｒ４及びＲ５は一
緒になって、 （式中、Ｒ９は、Ｒ１と同様の基を示す。）であるＲ１
町） 化合物 （６）　Ｒ’が、水素原子、脂肪族アシル基、アラルキ
ル基、低級アルキル基又はアリル基であり、Ｒ２及びＲ
３が同−又は異なって、水素原子、脂肪族アシル基、芳
香族アシル基、アラルキル基又は低級アルキル基であり
、Ｒ４が、式−ＣＯＲ６（式中、Ｒ６は水素原子、低級
アルキル基、保護されていてもよい水酸基又は置換され
た水酸基を示す。）であり、Ｒ５が、低級アルキル基又
は ＃ （式中、Ｒ８は、Ｒ１と同様の基を示し、Ｒ７はジオー
ルの保護基を示す。）を示し、又は、Ｒ４及びＲ５は一
緒になって、 （式中、Ｒ９は、Ｒ１と同様の基を示す。）である化合
物 （７）　Ｒ”が、水素原子、脂肪族アシル基、アラルキ
ル基、低級アルキル基又はアリル基であり、Ｒ２及びＲ
３が同−又は異なって、水素原子、脂肪族アシル基、芳
香族アシル基、アラルキル基又は低級アルキル基であり
、Ｒ４が、式−ＣｈＯＲ’（式中、Ｒ１は水素原子又は
水酸基の保護基を示す。）であり、Ｒ５が、低級アルキ
ル基又は （式中、Ｒ８は、Ｒ１と同様の基を示し、Ｒ７はジオー
ルの保護基を示す。）を示し、又は、Ｒ４及びＲ５は一
緒になって、 （１’７ン （式中、Ｒ９は、Ｒ１と同様の基を示す。）である化合
物 をあげることができる。

本発明の代表的化合物としては、例えば、第１表に記載
する化合物を拳げることかできるが、本発明はこれらの
化合物に限定されるものではない。

（＋ｇン 第１表 下記式中、　ＭＢＮは２，４−ジメトキシベンジル、Ｍ
ｅはメチル、Ｅｔはエチル、Ｐｒはプロピル、Ｂｕはブ
チル、Ａｃはアセチル、Ｂｎはベンジル、Ｂｚはベンゾ
イル、Ａ１はアリル、ｐｈはフェニル基を示す。

上記例示化合物のうち、好適な化合物としては、１．３
，４，５，７，９，１０，１２，１３，１５，１７，１
８，１９，２０，２２，２４，２５゜２６．２７，２８
，２９，３０，３１，３２，３３，３４，３５，３６，
３７，３９，４０，４３゜４５．４６，４８，４９，５
１，５３，５４，５６，５７，５８，６０，６１，６２
，６３，６４゜６５．６６．６７．６８，６９，７０，
７１，７２，７３，７４，７５，７７．７８，７９，８
１゜８３．８４，８６，８７，８９，９１，９２，９４
，９６，９８，９９，１００，１０１，１０２゜１０３
．１０４，１０５，１０６，１０７，１０８，１０９，
１１０，１１１，１１２，１１４゜１１５、１１７．１
１９，１２０．１２２，１２３．１２５．１２７．１２
８，１３０．１３２゜１３３．１３４，１３５，１３６
，１３７，１３８，１４０，１４１，１４５，１４６，
１４９゜１５１．１５３，１５４４５５，１５６，１５
８，１５９，１６０，１６１，１６２，１６３゜１６４
．１６５，１６６．１６７．１６８，１７０，１７３，
１７５，１７６．１７８，１７９゜１８１．１８３，１
８４，１８６，１８８，１８９，１９０，１９１，１９
２，１９３，１９４゜１９５．１９６．１９７の化合物
をあげることができる。、更に、好適な化合物としては
、１，５，９，１３，１９，２４゜２５．２８，３０，
３７，４５，４６，５１，５６，５７，６０，６４，６
７．７５，１０２゜１０６．１０８，１１２，１２５，
１３８，１６８の化合物をあげることができる。

（う〉） 本発明の２−アミノ−３−ホモフラノサイド類は以下に
記載する方法によって製造することができる。

［製法１］ （ＩＩ） ［製法２］ ［製法３］ （−３Ｓ） ［製法４］ （３ら）〔／すＩＩ〕 上記式中、Ｒ”、Ｒ’、Ｒ３、Ｒ７及びＲ８は前記と同
意義を示す。Ｍは、ナトリウム、カリウムのようなアル
カリ金属を示す。Ｒ”はカルボキシ基の保護基を示し、
好適には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、Ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチ
ル、ヘキシルのような低級アルキル基；２．２．２−ト
リクロロエチル、２−ハロエチル、２．２−ジブロモエ
チルのようなハロゲノ低級アルキル基又はベンジル、フ
ェネチル、３−フェニルプロピル、ｐ−メトキシベンジ
ル、０−ニトロベンジル、Ｐ−クロロベンジル、Ｐ−ブ
ロモベンジル、ｐ−ニトロベンジル、Ｐ−ハロペンシル
、Ｐ−シアノベンジルジフェニルメチル、ジフェニルメ
チル、ビス（０−ニトロフェニル）メチル、９−アンス
リルメチル、２．４．６−トリメチルベンジル、トリフ
ェニルメチル、α若しくはβ−ナフチルメチル、α−ナ
フチルジフェニルメチル、Ｐ−メトキシフェニルジフェ
ニルメチル、ピペロニルのようなアラルキル基である。

Ｒ１２は、Ｒ２及びＲ３の定義におけるアミノ基の保護
基又はアミノ基の置換基と同様の基を示す。Ｒ１３は、
Ｒ１の定義における水酸基の保護基又は水酸基の置換基
と同様の基を示す。Ｒ１４は、Ｒ１と同様の基を示す。

Ｒ１５は、Ｒ６と同様の基を示す。Ｒ１６は、Ｒ５の定
義における水素原子、低級アルキル基、アリール基、ア
リル基又はビニル基を示す。

第１工程及び第１′工程は、例えば、一般式（Ｉ■）を
有する化合物を、ジメチルテチン酸と反応させることに
より、一般式（ＩＩＩ）を有するエポキシ化合物を製造
する工程である。

原料化合物（Ｉ）は、チッテンデン等の方法［Ｊ、Ｆ。

Ｃｈｉｔｔｅｎｄｅｎ、　Ｃａｒｂｏｈｙｄｒａｔｅ　
Ｒｅｓ、、　８４．３５２　（１９８０）］及びバール
等の方法［Ｅ、Ｂａｅｒ　ａｎｄ　Ｈ，０，Ｌ、Ｆｉｓ
ｈｅｒ。

Ｃｈｅｍ、　Ｂｅｒ、、　１２８．４６３　（１９３９
）］に従って、Ｄ−マンニトールから製造される。

使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであわば特に限定はないが、好適
にはニー手ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメ
トキシエタンのようなエーテル類；ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリ
アミドのようなアミド類又はジメチルスルホキシドのよ
うなスルホキシド類を挙げることができる。

使用される塩基としては、通常、塩基としてアニオンを
発生させるものであれば特に限定はないが、好適には、
ナトリウムアミド、水素化ナトリウム、ブチルリチウム
、リチウムジトリメチルシリルアミド、リチウムジイソ
プロピルアミドのような塩基を挙げることができる。

反応温度は一７８℃乃至１００℃で行なわれるが、好適
には、０℃乃至５０℃である。反応時間は、主に反応温
度、原料化合物又は使用される溶媒及び塩基の種類によ
って異なるが、通常１０分乃至５日間である。反応終了
後、本反応の目的化合物（ＩＩＩ）は常法に従って、反
応混合物から採取される。例えば、反応混合物に水と混
和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去すること
によって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、
常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。

第２工程及び第２′工程は、例えば、一般式（ＩＩＩ）
を有する化合物を、縮合剤の存在下アミノ化合物と反応
させることにより、一般式（ＩＶ）を有する化合物を製
造する工程である。

使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素の
ようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸プ
ロピルのようなエステル類；エーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジメトキシエタンのようなエーテル
類；ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素
類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘ
キサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメ
チルスルホキシドのようなスルホキシド類又はアセトニ
トリルのようなニトリル類が用いられる。

使用される縮合剤としては、通常、縮合剤として作用す
るものであれば特に限定はないが、好適には、ジシクロ
へキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、ジフェニルカルボ
ジイミド、シアノリン酸ジエチル（ＤＥＰＣ）のような
有機縮合剤が挙げられる。

反応温度は、通常、−５０℃乃至１００℃で行なわれ、
反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される
溶媒、縮合剤の種類及び量によって異なるが、通常１乃
至２４時間である。反応終了後、本反応の目的化合物（
■■）は常法に従って、反応混合物から採取される。例
えば、反応混合物に水と混和しない有機溶媒を加え、水
洗後、溶剤を留去することによって得られる。得られた
目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿
又はクロｆｌｌ　） マドグラフィー等によって更に精製できる。

第３工程及び第３ゝ工程は、例えば、一般式（ＴＶ）を
有する化合物を、塩基存在下に環化縮合させ、一般式（
Ｖ）を有する化合物を製造する工程である。

使用される塩基としては、通常、塩基として作用するも
のであれば特に限定はないが、好適には、トリエチルア
ミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ、Ｎ
−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリ
ン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデク−
７−エン（ＤＢＵ）、１，５−ジアザビシクロ［４，３
，０］ノン−５−エン（ＤＢＮ）、１．４−ジアザビシ
クロ［２，２，２］オクタン（ＤＡＢＣ○）のような有
機塩基又は炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化バリウム、リチウムジイソプロピル
アミド、リチウムジトリメチルシリルアミド、ナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−ｔ−
ブトキシドのような無機塩基を挙げることができる。

（４ン） 使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭
素のようなハロゲン化炭化水素類；酢酸エチル、酢酸プ
ロピルのようなエステル類；エーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジメトキシエタンのようなエーテル
類；ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素
類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘ
キサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメ
チルスルホキシドのようなスルホキシド類又はアセトニ
トリルのようなニトリル類が用いられる。

反応温度は、通常、０℃乃至１５０℃で行なわれ、反応
時間は、主に反応温度、原料化合物、使用される塩基又
は使用される溶媒の種類によって異なるが、通常１０分
乃至２４時間である。

尚、反応の際、生成するアルコールを共沸等により除く
と収率が向上する。

＠３） 反応終了後、本反応の目的化合物（いは常法に従って、
反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に水と
混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去するこ
とによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば
、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィー
等によって更に精製できる。

第４工程は、一般式（Ｖ）を有する化合物のカルボニル
基を、常法により還元し、一般式（ＶＩ）を有する化合
物を製造する工程である。

尚、この工程により、水酸基の配位がα又はβである化
合物が得られ、各々単離できるので、以降の工程は、一
方の異性体又は混合物を用いて実施できる。第６エ程も
同様である。

使用される還元剤としては、通常、カルボニルを還元し
、エステルを還元しないものであれば特に限定はないが
、好適には、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リ
チウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化ジイソブチルアルミ
ニウム、水素化ジイソブチルホウ素、ジボラン、水素化
トリメトキシアルミニウムリチウム、水素化−ｔ−ブト
キシアルミニウムリチウム、水素化ビスメトキシエトキ
シアルミニウムリチウムのような還元剤が挙げられる。

使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類；エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
、ジメトキシエタン、ジグライムのようなエーテル類；
メタノール、エタノール、ｎ−プロパツール、インプロ
パツール、ｎ−ブタノール、インブタノール、イソアミ
ルアルコールのようなアルコール類；ヘキサン、シクロ
ヘキサンのような脂肪族炭化水素類を挙げることができ
る。

反応温度は、通常、−７８℃乃至１５０℃で行なわれ、
反応時間は、主に反応温度、原料化合物、使用される還
元剤又は使用される溶媒の種類によって異なるが、通常
１分乃至２４時間である。

反応終了後、本反応の目的化合物（ＶＩ）は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に
水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去す
ることによって得られる。得られた目的化合物は必要な
らば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフ
ィー等によって更に精製できる。

第５工程は、一般式（ＶＩ）を有する化合物のカルボキ
シ基を、脱炭酸し、一般式（ＶＩＩ）を有する化合物を
製造する工程である。

使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、水、又は含水有機溶媒である。このような有機溶
媒として、好適にはテトラヒドロフラン、ジオキサン、
ジメトキシエタン、ジグライムのようなエーテル類；メ
タノール−エタノール、ｎ−プロパツール、イソプロパ
ツール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、イソアミル
アルコールのようなアルコール類；ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリ
アミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシドのよう
なスルホキシド類；アセトニトリルのようなニトリル類
又はトリエチルアミン、ピリジン、コリジンのような有
機塩基類を拳げることかできる。

使用される塩基としては、通常、塩基として作用するも
のであれば特に限定はないが、好適には、トリエチルア
ミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ、Ｎ
−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリ
ン、■、８−ジアザビシクｏ　［５，４，０］ウンデ’
）−７−ｒ−ン（ＤＢＵ）、１，５−ジアザビシクロ［
４，３，０］ノン−５−エン（ＤＢＮ）、１，４−ジア
ザビシクロ［２，２，２］オクタン（ＤＡＢＧＯ）のよ
うな有機塩基又は炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム、水酸化バリウム、リチウムジイソプ
ロピルアミド、リチウムジトリメチルシリルアミド、ナ
トリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム
−ｔ−ブトキシドのような無機塩基を挙げることができ
る。

反応温度は、通常、３０℃乃至２００℃で行なわれ、Ｑ
トイ） 反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される
溶媒、塩基の種類によって異なるが、通常１０分乃至２
４時間である。

反応終了後、本反応の目的化合物（ＶＩＩ）は常法に従
って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物
に水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去
することによって得られる。得られた目的化合物は必要
ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラ
フィー等によって更に精製できる。

第６エ程は、一般式（ＶＩＩ）を有する化合物の水酸基
を、Ｒ１３基で保護することによって、一般式（ＶＩＩ
Ｉ）を有する化合物を製造する工程である。

製造は、以下に記載する３種の方法により行なうことが
できる。

溶媒は使用してもしなくてもよく、使用される溶媒とし
ては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するも
のであれば特に限定はないが、好適には、メチレンクロ
リド、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類が用
いられる。使用される酸は、好適には、塩酸、硫酸、リ
ン酸のような無機プロトン酸、トリフルオロ酢酸、メタ
ンスルホン酸、Ｐ−トルエンスルホン酸のような有機プ
ロトン酸又は三弗化ホウ素−エーテル、三塩化アルミニ
ウム、二塩化亜鉛、三塩化ガリウム、四塩化チタン、四
塩化スズ、三塩化ホウ素−三塩化鉄、五塩化アンチモン
、五塩化ヒ素のような無機ルイス酸が用いられる。反応
温度及び反応時間は、原料化合物及び使用される酸によ
り異なるが、通常、＝５０℃乃至１００℃で、１０分乃
至２４時間行なわれる。

使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素の
ようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類；エーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタンのようなエ
ーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類
；ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類；ニト
ロメタンのようなニトロアルカン類アセトニトリルのよ
うなニトリル類アセトンのようなケトン類；酢酸エチル
、酢酸プロピルのようなエステル類及びピリジンをあげ
ることができる。

使用される触媒は、酸化銀、酸化水銀、酢酸銀、シアン
化水銀又は臭化水銀が用いられる。反応温度及び反応時
間は、原料化合物及び使用される触媒により異なるが、
通常、０℃乃至１００℃で、３０分乃至２４時間行なわ
れる。

主にアルキル化において行なわれる。

Ｃニー式Ｒ１３ｘを　する他人　　式　、足１型すは紬
彊荷ζ鳳意−１を示すか、Ｒ１３ｘ使用される溶媒とし
ては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するも
のであれば特に限定はないが、好適には、メチレンクロ
リド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭
化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香
族炭化水素類；ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪
族炭化水素類；エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタンのようなエーテル類；ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホ
スホロトリアミドのようなアミド類及び酢酸エチル、酢
酸プロピルのようなエステル類をあげることができる。

使用される塩基としては、通常、塩基として作用するも
のであれば特に限定はないが、好適には、トリエチルア
ミン、ピリジン、４−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）ピリ
ジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ、Ｎ−ジエチルア
ニリン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデ
ク−７−エン（ＤＢＵ）、１，５−ジアザビシクロ［４
，３゜０］ノン−５−エン（ＤＢＮ）のような有機塩基
を挙げることができる。

反応温度及び反応時間は、原料化合物及び使用される塩
基により異なるが、通常、−３０℃乃至１５０℃で、１
分乃至２４時間行なわれる。

主に、アシル化において用いられる。　　　　・反応終
了後、本反応の目的化合物（ＶＩＩＩ）は常法に従って
、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に水
と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去する
ことによって得られる。得られた目的化合物は必要なら
ば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ
ー等によって（弧） 第７エ程は、一般式（ＶＩＩＩ）を有する化合物を、還
元剤で処理することにより、ラクタム環を開環させ、更
に、所望により、水酸基の保護基（Ｒ７若しくは／及び
Ｒ１３）又は／及びアミノ基の保護基（Ｒ１２）の脱保
護並びに／或いは水酸基の保護・再保護、置換（Ｒ１、
Ｒ８若しくは／及びＲ１４）又は／及びアミノ基の保護
、置換（Ｒ２若しくは／及びＲＥ　）を行ない、一般式
（ＩＸ）を有する本願発明化合物を製造する工程である
。

使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
にはエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメ
トキシエタン、ジグライムのようなエーテル類；トルエ
ン、キシレン、ベンゼンのような芳香族炭化水素類及び
ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類を
挙げることができる。

使用される還元剤としては、通常、還元剤として用いる
ものであれば特に限定はないが、好適には、水素化リチ
ウムアルミニウムを挙げることができる。

反応温度及び反応時間は、原料化合物により異なるが、
通常、−７８℃乃至１２０℃で、１０分乃至２４時間実
施される。

所望の工程における保護基の除去はその種類によって異
なるが、一般にこの分野の技術において周知の方法によ
って以下の様に実施される。

水酸基の保護基として、トリ低級アルキルシリル基を使
用した場合には、通常弗化テトラブチルアンモニウムの
ような弗素アニオンを生成する化合物で処理することに
より除去する。反応溶媒は反応を阻害しないものであれ
ば特に限定はないが、テトラヒドロフラン、ジオキサン
のようなエーテル類が好適である。反応温度及び反応時
間は特に限定はないが、通常室温で１０乃至１８時間反
応させる。

水酸基の保護基が、アラルキルオキシカルボニル基又は
アラルキル基である場合には、通常還元剤と接触させる
ことにより除去することができる。

例えば、パラジウム炭素、白金のような触媒を用い、常
温にて接触還元を行なうか、又は硫化ナトリウム、硫化
カリウムのようなアルカリ金属硫化物を使用して実施さ
れる。反応は溶媒の存在下に行なわれ、使用される反応
溶媒としては本反応に関与しないものであれば特に限定
はないが、メタノール、エタノールのようなアルコール
類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル
類、酢酸のような脂肪酸又はこれらの有機溶媒と水との
混合溶媒が好適である。反応温度及び反応時間は出発物
質及び使用する還元剤等によって異なるが、通常は０℃
乃至室温で、５分乃至１２時間である。

水酸基の保護基が、脂肪族アシル基、芳香族アシル基又
はアルコキシカルボニル基である場合には、水性溶媒の
存在下に塩基で処理することにより除去することができ
る。塩基としては、化合物の他の部分に影響を与えない
ものであれば特に限定はないが、好適には炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸
化物又は濃アンモニア−メタノールを用いて実施される
。使用される溶媒としては通常の加水分解反応に使用さ
れるものであれば特に限定はなく、水又は水とメタノー
ル、エタノール、ｎ−プロパツールのようなアルコール
類若しくはテトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ
ーテル類のような有機溶媒との混合溶媒が好適である。

反応温度及び反応時間は出発物質及び用いる塩基等によ
って異なり特に限定はないが、副反応を抑制するために
、通常は０℃乃至１５０℃で、１乃至１０時間である。

水酸基の保護基が、アルコキシメチル基、テトラヒドロ
ピラニル基、テトラヒドロフラニル基又は置換されたエ
チル基である場合には、通常溶媒中で酸で処理する゛こ
とにより除去することができる。使用される酸としては
、好適には塩酸、酢酸−硫酸又はｐ−トルエンスルホン
酸−酢酸等である。使用される溶媒としては本反応に関
与しないものであれば特に限定はないが、メタノール、
エタノールのようなアルコール類；テトラヒドロフラン
、ジオキサンのようなエーテル類又はこれらの有機溶媒
と水との混合溶媒が好適である。反応温度及び反応時間
は出発物質及び用いる酸の種類等によって異なるが、通
常は０℃乃至５０℃で、１０分乃至１８時間である。

水酸基の保護基が、アルケニルオキシカルボニル基であ
る場合は、通常前記水酸基の保護基が脂肪族アシル基、
芳香族アシル基又はアルコキシカルボニル基である場合
の除去反応の条件と同様にして塩基と処理することによ
り脱離させることができる。尚、アリルオキシカルボニ
ルの場合は、特にパラジウム及びトリフェニルホスフィ
ン若しくはニッケルテトラカルボニルを使用して除去す
る方法が簡便で、副反応が少な〈実施することができる
。　保護基の除去はその種類によって異なるが、一般に
この分野の技術において周知の方法によって以下の様に
実施される。

尚、上記のような水酸基の保護基を除去する操作によっ
て、アミノ基の保護基が同時に除去されることもある。

（シフ） アミノ基の保護基として、トリ低級アルキルシリル基を
使用した場合には、通常弗化テトラブチルアンモニウム
のような弗素アニオンを生成する化合物で処理すること
により除去する。反応溶媒は反応を阻害しないものであ
れば特に限定はないが、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類が好適である。反応温度及び反応
時間は特に限定はないが、通常室温で１０乃至１８時間
反応させる。

アミノ基水酸基の保護基が、脂肪族アシル基、芳香族ア
シル基又はアルコキシカルボニル基である場合は、水性
溶媒の存在下に酸又は塩基で処理することにより除去す
ることができる。酸としては、塩酸、硫酸、リン酸、臭
化水素酸が用いられ、塩基としては、化合物の他の部分
に影響を与えないものであれば特に限定はないが、好適
には炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金
属炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのような
アルカリ金属水酸化物又は濃アンモニア−メタノールを
用いて実施される。尚、塩基による加（、！；Ｒ） 水分解では異性化が起こることがある。使用される溶媒
としては通常の加水分解反応に使用されるものであれば
特に限定はなく、水又は水とメタノール、エタノール、
ｎ−プロパツールのようなアルコール類若しくはテトラ
ヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類のような
有機溶媒との混合溶媒が好適である。反応温度及び反応
時間は出発物質及び用いる塩基等によって異なり特に限
定はないが、副反応を抑制するために、通常は０℃乃至
１５０℃で、１乃至１０時間である。

アミノ基の保護基が、アラルキル基又はアラルキルオキ
シカルボニル基である場合には、白金若しくはパラジウ
ム炭素のような触媒を使用して、常温で接触還元を行な
い、除去する方法又は酸化剤を用いて除去する方法が好
適である。

還元による除去において使用される溶媒としては本反応
に関与しないものであれば特に限定はないが、メタノー
ル、エタノール、イソプロパツールのようなアルコール
類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル（５ｑ） 類、トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化
水素類、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化
水素類、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類
、酢酸のような脂肪酸類又はこれらの有機溶媒と水との
混合溶媒が好適である。

使用される触媒としては、通常、接触還元反応に使用さ
れるものであれば、特に限定はないが、好適にはパラジ
ウム炭素、ラネーニッケル、酸化白金、白金黒、ロジウ
ム−酸化アルミニウム、トリフェニルホスフィン−塩化
ロジウム、パラジウム−硫酸バリウムが用いられる。

圧力は、特に限定はないが、通常１乃至１０気圧で行な
われる。

反応温度及び反応時間は、出発物質及び触媒の種類等に
より異なるが、通常、０℃乃至１００℃で、５分乃至２
４時間実施される。

酸化による除去において使用される溶媒としては本反応
に関与しないものであれば特に限定は゛ないが、好適に
は、含水有機溶媒である。このような有機溶媒として好
適には、アセトンのようなケトン類、メチレンクロリド
、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水
素類、アセトニトリルのようなニトリル類、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエー
テル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類及
びジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類を挙げ
ることができる。

使用される酸化剤としては、通常、酸化に使用される化
合物であれば特に限定はないが、好適には過硫酸カリウ
ム、過硫酸ナトリウム、アンモニウムセリウムナイトレ
イト（ＣＬＡＮ）、２．３−ジクロロ−５，６−ジシア
ツーＰ−ベンゾキノン（ＤＤＱ）が用いられる。

反応温度及び反応時間は、出発物質及び触媒の種類等に
より異なるが、通常、０℃乃至１５０℃で、１０分乃至
２４時間実施される。

アミノ基の保護基がアルケニルオキシカルボニル基であ
る場合は、通常前記アミノ基の保護基が脂肪族アシル基
、芳香族アシル基又は低級アルコキシカルボニル基であ
る場合の除去反応の条件と同様にして塩基と処理するこ
とにより脱離させることができる。尚、アリルオキシカ
ルボニルの場合は、特にパラジウム及びトリフェニルホ
スフィン若しくはニッケルテトラカルボニルを使用して
除去する方法が簡便で、副反応が少な〈実施することが
できる。

尚、上記のようなアミノ基の保護基を除去する操作によ
って、水酸基の保護基が同時に除去されることもある。

上記の水酸基の保護基の除去反応及びアミノ基の保護基
の除去反応は、順不同で希望する除去反応を順次実施す
ることができる。

水酸基の保護・再保護、置換並びに／或いはアミノ基の
保護、置換は、第６エ程と同様にして実施される。

反応終了後、本本願発明化合物（ＩＸ）は常法に従って
、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に水
と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去する
ことによって得られる。得られた（もユ） 目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿
又はクロマトグラフィー等によって更に精製できる。

第８工程は、一般式（ＶＩＩＩ）を有する化合物をリチ
ウム化合物又は常法に従って塩基と反応させ、ラクタム
環を開環し、所望により、第７エ程の所望の工程を同様
に実施又は／及び常法に従ってカルボキシ基をアミド化
又はチオエステル化［酸ハライドとした後、相当する求
核試薬と反応させるコすることにより、本願発明化合物
（Ｘ）を製造する工程である。使用される溶媒としては
、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するもので
あれば特に限定はないが、好適には、エーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジグラ
イムのようなエーテル類が用いられる。使用されるリチ
ウム化合物としては特に限定はないが、好適にはメチル
リチウム、ブチルリチウムのような有機リチウム化合物
があげられる。

反応温度及び反応時間は、原料化合物及び反応試薬によ
り異なるが、通常、−７８℃乃至５０℃で、１分乃至５
時間である。反応終了後、本願発明化合物（Ｘ）は常法
に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混
合物に水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を
留去することによって得られる。得られた目的化合物は
必要なら゛ば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマ
トグラフィー等によって更に精製できる。

第９工程は、一般式（ＶＩＩＩ）を有する化合物を、酸
で処理することにより、開環・再閉環させ、更に、所望
により、第７エ輻の所望の工程を同様に実施することに
より、一般式（ＸＩ）を有する本願発明化合物を製造す
る工程である。

使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、ベンジルアルコール、アリルアルコールのようなア
ルコール類が用いられる。

使用される酸としては、通常、酸として作用するもので
あれば特に限定はないが、好適には、塩酸、硫酸、臭化
水素酸、弗化水素酸を挙げることができる。

反応温度及び反応時間は、原料化合物及び使用する酸に
より異なるが、通常、０℃乃至１００℃で、１乃至２４
時間である。

反応終了後、本願発明化合物（Ｘ、Ｔ）は常法に従って
、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に水
と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去する
ことによって得られる。得られた目的化合物は必要なら
ば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ
ー等によって更に精製できる。

第１０工程は、一般式（ＸＩ）を有する化合物のカルボ
ニル基を、第４工程と同様の方法で還元剤で処理しする
ことによりヒドロキシ基とし、更に、所望により、第７
エ程の所望の工程を同様に実施することにより、一般式
（ＸＩＩ）を有する本願発明化合物を製造する工程であ
る。

第１１工程及び第１１′工程は、一般式（ＸＩ）又は（
ＸＩＩ）を有する化合物のカルボニル基又はヒト（６号
） ロキシ基を、ルイス酸存在下、還元剤で処理し、更に、
所望により、第７エ程の所望の工程を同様に実施するこ
とにより、一般式（ＸＩＩＩ）を有する本願発明化合物
を製造する工程である。

使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、エーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタ
ン、ジグライムのようなエーテル類又はベンゼン、トル
エンのような芳香族炭化水素類が用いられる。

使用される還元剤としては、通常、還元剤として作用す
るものであれば特に限定はないが、好適には、水素化リ
チウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム又は水素
化ジイソブチルアルミニウムを挙げることができる。

使用されるルイス酸としては、通常のルイス酸であれば
よいが、好適には三弗化ホウ素−エーテル、三塩化アル
ミニウムである。

反応温度及び反応時間は、原料化合物及び使用する還元
剤により異なるが、通常、−７８℃乃至（訪） １００℃で、１０分乃至２４時間である。

反応終了後、本願発明化合物（ＸＩＩｌ、）は常法に従
って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物
に水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去
することによって得られる。得られた目的化合物は必要
ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラ
フィー等によって更に精製できる。

第１２工程は、一般式（ＸＦ）を有する公知化合物のヒ
ドロキシ基を、第６エ程と同様にして保護又は置換し、
一般式（ＸＶＩ）を有する化合物を製造する工程である
。

尚、原料化合物（ＸＩいは、例えば、汐崎らの文献［Ｍ
、５ｈｉｏｚａｋｉ、　Ｎ、ｌ５ｈｉｄａ、　Ｈ，Ｍａ
ｒｕｙａｍａ　ａｎｄ　Ｔ、Ｈｉｒａｏｋａ、　Ｔｅｔ
ｒａｈｅｄｒｏｎ、　３９．２３９９−２４０７　（１
９８３月に記載の方法により製造される。

第１３工程は、一般式（ＸＶＩ）を有する化合物を、第
９工程と同様に処理し開環させ、更に所望により、第７
エ程の所望の工程を同様に実施及び／又はカルボキシ基
の保護、修飾又は保護基の除去等を行ない、本願発明化
合物であるカルボキシ誘導体（ＸＶ）を製造する工程で
ある。

保護反応は、常法に従って実施される。

保護基の除去はその種類によって異なるが、一般にこの
分野の技術において周知の方法によって以下の様に実施
される。

カルボキシ基の保護基として、低級アルキル基を使用し
た場合には、酸又は塩基で処理することにより除去する
ことができる。酸としては、塩酸、硫酸、リン酸、臭化
水素酸が用いられ、塩基としては、化合物の他の部分に
影響を与えないものであれば特に限定はないが、好適に
は炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属
炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなア
ルカリ金属水酸化物又は濃アンモニア−メタノールを用
いて実施される。尚、塩基による加水分解では異性化が
起こることがある。使用される溶媒としては通常の加水
分解反応に使用されるものであれば特に限定はなく、水
又は水とメタノール、エタノール、ｎ−プロパツールの
ようなアルコール（び） 類若しくはテトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ
ーテル類のような有機溶媒との混合溶媒が好適である。

反応温度及び反応時間は出発物質及び用いる塩基等によ
って異なり特に限定はないが、副反応を抑制するために
、通常は０℃乃至１５０℃で、１乃至１０時間である。

カルボキシ基の保護基がジフェニルメチル基である場合
には、通常酸性条件下で除去する。使用される反応溶媒
としてはアニソールのような芳香族炭化水素類又はメチ
レンクロリド、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水
素類がよく、酸としてはトリフルオロ酢酸のようなフッ
素置換有機酸が用いられる。反応温度及び反応時間は出
発物質等によって異なるが、通常は室温で３０分乃至１
０時間である。

カルボキシ基の保護基がアラルキル基又はハロゲノ低級
アルキル基である場合には、通常還元剤と接触させるこ
とにより除去することができる。

還元剤としては、カルボキシ基の保護基がハロゲノ低級
アルキル基である場合には、亜鉛−酢酸が（／Ｄｑ） 好適であり、アラルキル基である場合には、パラジウム
炭素、白金のような触媒を用い、接触還元を行なうか、
又は硫化カリウム、硫化ナトリウムのようなアルカリ金
属硫化物を用いて実施される。

反応は溶媒の存在下に行なわれ、使用される溶媒として
は本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、
メタノール、エタノールのようなアルコール類；テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；酢酸の
ような脂肪酸又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が
好適である。反応温度及び反応時間は出発物質及び用い
る還元剤等によって異なるが、通常は０℃乃至室温付近
で、５分乃至１２時間である。

カルボキシ基の保護基がアルコキシメチル基である場合
には、通常酸で処理することにより除去することができ
る。使用される酸としては、好適には塩酸、酢酸−硫酸
又はＰ−トルエンスルホン酸−酢酸等である。反応は溶
媒の存在下に行なわれ、使用される溶媒としては本反応
に関与しないものであれば特に限定はないが、メタノー
ル、工（”’７０ン タノールのようなアルコール類；テトラヒドロフラン、
ジオキサンのようなエーテル類又はこれらの有機溶媒と
水との混合溶媒が好適である。反応温度及び反応時間は
出発物質及び用いる酸の種類等によって異なるが、通常
は０℃乃至５０℃で、１０分乃至１８時間である。

又、カルボキシ基の保護基の除去を常法に従って、アン
モニア処理によって行なうと、アミド化することもでき
る。

更に、カルボキシ基を酸ハライドとして、相当する求核
試薬と反応させることにより、アミド化合物又はチオエ
ステル化合物を製造することができる 尚、所望により、常法に従って、上記生成したカルボン
酸化合物を水と酢酸エチルのような水と混和しない有機
溶媒との混合溶媒に溶かし、炭酸水素ナトリウム水溶液
、炭酸カリウム水溶液のようなアルカリ金属炭酸塩若し
くは重炭酸塩水溶液を、０℃乃至室温下に加え、ｐＨ７
付近とし析出した沈殿を濾取することによりアルキル金
属塩を形成することができる。

更に、このようにして製造した塩、又はカルボン酸化合
物をテトラヒドロフランのようなニー、チル類又はＮ、
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘ
キサメチルホスホロトリアミド、トリエチルホスフェー
トのような極性溶媒類に溶解し、２当量のトリエチルア
ミン、ジシクロヘキシルアミンのような有機塩基、ナト
リウムヒドリドのような水素化アルカリ金属類又は炭酸
水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのよう
なアルカリ金属炭酸塩若しくは重炭酸塩を反応させるこ
とによって生成した塩を使用し、これにアセトキシメチ
ルクロリド、プロピオニルオキシメチルプロミドのよう
な脂肪族アシルオキシメチルハライド類、１−メトキシ
カルボニルオキシエチルクロリド、１−エトキシカルポ
ニルオキシエチルイオダイドのような１−低級アルコキ
シカルボニルオキシエチルハライド類、フタリジルハラ
イド類又は（２−オキソ−５−メチル−１，３−ジオキ
ソレン−４−イル）メチルハライド類を反応させること
により、生体内で加水分解されやすいカルボキシ基の保
護基で再び保護されたエステル体を製造することができ
る。反応溶媒は反応を阻害するものでなければ特に限定
はないが、好適には上記極性溶媒を使用する。反応温度
及び反応時間は出発物質、溶媒及び反応試薬の種類によ
って異なるで、通常０℃乃至１００℃の範囲で、０゜５
乃至１０時間反応させる。

尚、上記のようなカルボキシ基の保護基を除去する操作
によって、水酸基、Ｒ６基におけるメルカプト基及び／
又はアミノ基の保護基が同時に除去されることもある。

上記のカルボキシ基の保護基の除去反応、水酸基の保護
基の除去反応、メルカプト基の保護基の除去反応及びア
ミノ基の保護基の除去反応は、順不同で希望する除去反
応を順次実施することができる。

第１４工程は、第１３工程と同様の工程であり、一般式
（ｘ■■）を有する化合物を、第９工程と同様に処理し
、開環した本願発明化合物であるカルボ（ち） キシ誘導体（ＸＶ）を製造する工程である。

第１５工程は、一般式（ＸＶＩ）を有する化合物を、第
７エ程と同様に処理し開環させ、本願発明化合物（ＸＩ
／ＩＩ）を製造する工程である。

ところで、本願発明化合物は不斉炭素を有するため、そ
の各々の炭素につき立体異性が存在するが、このような
化合物は、以下に示す［製法５〜８］における（ＩＩ：
Ｉ−１〜４）を出発物質として用いて上記の工程を実施
することにより、相当するすべての異性体を製造するこ
とができる。

尚、［製法８］においては、エポキシの配位を省略して
記載したが、各々選択的に製造することのできる各種エ
ポキシ異性体を用い、製法１．５．６及び７に準じて相
当する本願発明化合物が製造できる。

（Ｖ牛） ［製法５］ ［製法６］ ［製法７］ ［製法８］ 上記式中、Ｒ１、Ｒ′Ｌ、　Ｒ３、Ｒ８、Ｒ１４及びＲ
１５は前記と同意義を示す。

本願発明の原料化合物である（ＩＩＩ、　ｌｌｌ−１〜
４）、は、文献公知の方法により以下に示すように立体
選択的に製造できる。例えば、化合物（ＸＩＸ）は、国
中等の方法［Ａ、Ｔａｎａｋａ、　Ｓ、０ｔｓｕｋａ　
ａｎｄ　Ｋ、Ｙａｍａｓｉｔａ、　Ａｇｒｉｃ、　Ｂｉ
ｏｌ、　Ｃｈｅｍ、、　４８（８）、　２１３５　（１
９８４）］（イＲ２ に従って製造できる。

（効果） 本発明の新規な２−アミノ−３−ホモ糖誘導体は、抗菌
作用を有し、且つ、毒性もないので、治療剤として有用
である。

本発明の化合物（Ｉ）の投与形態としては、例えば、錠
剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤等に
よる経口投与又は注射剤若しくは坐剤等による非経口投
与を挙げることができる。これらの製剤は、賦形剤、結
合剤、崩壊剤、滑沢剤、安定剤、矯味矯臭剤等の添加剤
を用いて周知の方法で製造される。その使用量は症状、
年齢等により異なるが、１日１−５００ｍｇ／ｋｇ体重
を通常成人に対して、１日１回又は数回に分けて投与す
ることができる。

以下に、実施例をあげて本発明を更に具体的に説明する
。

実施例１ シペンタノイ・・シアシ・・ド ジメチルテチン酸　臭化水素塩（４０，２ｇ。

０．２ｍｏｌ）のジメチルスルホキシド（５００ｍ　ｌ
　）溶液に、水素化ナトリウム（５５％鉱油分散、２５
．８ｇ、０．６ｍｏｌ）を水冷下２０℃以下に温度を保
ちながら、攪拌しつつ窒素ガス中で加えた。更に１．５
−２時間、室温２５℃で反応させると、ジメチルテチン
アニオンが析出してきた。ここに、２．３−０−イソプ
ロピリデン−α−Ｄ−グリセルアルデヒドと酢酸の混合
物（２：１．２１．４ｇ）のジメチルスルホキシド（１
００ｍ　ｌ　）溶液を水冷上攪拌しつつ滴下した。混＋
Ｏｌ’１ 合物を室温で２０時間反応させ、氷１．５ｋｇにあける
。溶液をエーテルで洗い、水層は１規定塩酸５００　ｍ
　ｌで酸性とした。酢酸エチルで抽出し、水洗し、硫酸
マグネシウムで乾燥し、濾過後、溶媒を減圧上濃縮する
と、１８．．１ｇの油状の目的物が得られた。この化合
物はエポキシドの立体配位の異なる２、６：１の混合物
であった。

実施例２ ビリデン−２，３−エポキシペンタノアミドロＣＨ−３ 実施例１の化合物（３，４５ｇ、１８．３ｍｍ０１）と
Ｎ−２，４−ジメトキシベンジル−Ｎ−（？）） （ビスカルボエトキシ）メチル（５，９６ｇ、１８．３
ｍｍｏｌ）のメチレンクロリド（３０ｍｌ）溶液にジシ
クロへキシルカルボジイミド４ｇ（１９，３ｍｍｏｌ）
を加えた。１時間攪拌した後、生成するジシクロへキシ
ルカルボジイミド・１水を濾去し、濾液は濃縮した後に
カラムクロマトグラフィーにて精製すると３．７８ｇ　
（４１，６％）が得られた。

赤外吸収スペクトル　ν、ａ。（フィルム）１７５０（
ｓｈｏｕｌｄｅｒ）、　１７４０　、１６６８　。

１６１０．１５８７　ｏ、−１ マススペクトル　ｍ／ｚ：　　４９５　（Ｍ”）元素分
析値（Ｃ２４Ｈ３３０１ＯＮとして）計算値：　Ｃ：　
５８．１７．　Ｈ：　６．７１．　Ｎ：　２．８３実測
値：　Ｃ：　５７．８９．　Ｈ：　６．８０．　Ｎ：　
２．９１実施例３ −４．７−シオキソー３−オキサ−６−アザビシクロ　
３．２．○　ヘプタン 実施例２の化合物４．９６　ｇ　（１０ｍｍｏ　ｌ）を
ベンゼン５００ｍ１に溶解し、共沸しＬｏｏｍｌのベン
ゼンを除き、これに１．８−ジアザビシクロ［５，４，
Ｏ］ウンデ−７−セン２００　ｍ　ｌを加え、生成する
エタノールをベンゼンと共沸しつつ、２０分間で１５０
ｍ１留去すた。冷却後、酢酸エチルにて希釈し、希塩酸
、水、食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥す
た。濃縮してシリカゲルカラムクロマトグラフィーを行
ない（溶出液：酢酸エチル−シクロヘキサン（１：　１
））、２．３５ｇの目的物を得た。

（吋） 赤外吸収スペクトル　乍ｍａ、、（フィルム）１７７０
．１７４０　（ｓｈｏｕｌｄｅｒ）。

１６１３．１５９０　ｃ、−１ ＮＭＲスペクトル（６０ＭＨｚ）　（ＣＤＣ１３）δ１
．２５（３Ｈ，ｔ、、］＝７．０Ｈｚ）、　１．３６（
３Ｈ，ｓ）、　１．４３（３Ｈ，ｓ）。

３．８０（６Ｈ，ｓ）、　３．９−４．６（９Ｈ，ｍ）
、　６．３−６．５（２Ｈ，＋ｎ）。

７．１５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９．０Ｈｚ）実施例４ キ立ユ辻ユｌチビＺクロ　３．２．０　　へプ　ン（？
９） 実施例３の化合物３．５８ｇをメタノール８０ｍ１に溶
解し、−４０℃に冷却する。クロマト用シリカゲル粉を
５０　ｍ　ｇ加え、水素化ホウ素ナトリウム６５０ｍｇ
の粉末を一気に攪拌しつつ加えると発泡しつつ水素化ホ
ウ素ナトリウムが溶解した。１５分後、この温度で酢酸
２．５ｍｌを加え、過剰の水素化ホウ素ナトリウムを分
解した。酢酸エチルにて希釈し、炭酸水素ナトリウム水
、食゛塩水で洗い、硫酸マグネシウムにて乾燥した。濾
過、濃縮後シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精
製し、油状物３．５１−ｇの目的物が得られた。

赤外吸収スペクトル　Ｖ＋ｍａｙ（フィルム）３３８０
、１７６０　（ｓｈｏｕｌｄｅｒ）、　１７５０−１７
３０，１６１０，１５８８　ｏ、−１実施例５ （♀６） 実施例４の化合物１．８３ｇをピリジン２０ｍ１、水１
ｍｌに溶解し１．８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウ
ンデ−７−セン３００ｍｇを加え、４５分間還流した。

減圧上濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて
精製した。酢酸エチル−シクロヘキサン（２：１）にて
溶出し、目的化合物１．１５ｇの結晶を得た。

融点　１７２−１７ｓ℃ 赤外吸収スペクトル　ヤ、。（ヌジョール）３３２０．
１７１５，１６１２，１５９０ｃ、、（ ［α］　ｎ”　　−１０，５°　（Ｃ１，６１，）；ｔ
ｏｏ＊＃ム）マススペクトル　ｍ／ｚ：　　３７９　（
Ｍつ、３６４゜３２１．２７９，２５０，１９３，１６
６゜１５１．１２１，１０１ 元素分析値（Ｃｘ９Ｈ，５０７Ｎとして）計算値：　Ｃ
：　６０．１４．　ｆ（：　６．６４．　Ｎ：　３．６
９実測値：　Ｃ：　５９．８６．　Ｈ：　６．５６．　
Ｎ：　３．７２ＮＭＲスペクトル（６０ＭＨｚ）　（Ｃ
ＤＣｈ）δ１．３６（３Ｈ，ｓ）、　　１．４２（３Ｈ
，ｓ）、　　３．１０（ＩＨ，ｄ、Ｊ−２，０Ｈｚ）。

３．４−４．６（１４Ｈ，ｍ）、　５．１７（ＬＨ，ｄ
、Ｊ＝２．０Ｈｚ）。

６．３−６．６（２Ｈ，ｍ）、　７．１２（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝９．０Ｈｚ）実施例６ ヘプタン 実施例５の化合物３７９ｍｇをジメチルホルムアミド−
沃化メチル（１：１．１０　ｍ　ｌ　）に溶解し、酸化
銀７００ｍｇを加え、４時間、室温にて攪拌した。酢酸
エチルにて希釈した後、酸化銀を濾去し、有機層を水、
食塩水にて洗浄した。濃縮しシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにて精製した。酢酸エチル−シクロヘキサン
にて溶出し、目的化合物３４０ｍｇを得た。

赤外吸収スペクトル　ヤｎ１Ｘ（フィルム）１７４８．
１６１０，１５８８、、−１マススペクトル　ｍ／ｚ：
　　３９３　（Ｍつ実施例７ メチル　２．３−ジデオキシ−２−２，４−ジメ　キシ
ベンジルアミノ　−３−ヒ゛ロキシメ実施例６の化合物
２００ｍｇのテトラヒドロフラン４ｍｌ溶液に水冷下６
０　ｍ　ｇの水素化リチウムアルミニウムを加え、４０
分間攪拌した。酢酸にて過剰の水素化リチウムアルミニ
ウムを分解し、酢酸エチルにて希釈し、炭酸水素ナトリ
ウム水、食塩水で洗い、硫酸マグネシウムにて乾燥した
。

濾過、濃縮後シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて
精製した。シクロヘキサン−酢酸エチル（１：　４）に
て溶出すると、Ｒｆ値の高いα−異性体１３６ｍｇ、Ｒ
ｆ値の低いβ−異性体３４ｍｇが得られた。

［α−異性体］ 赤外吸収スペクトル　ｙＩｍａＸ　（フィルム）３５０
０−３３００，１６１０，１５８８ａ、、−１ マススペクトル　ｍ／ｚ：　　３９７　（Ｍ”）ＮＭＲ
スペクトル（６０ＭＨ２）　（ＣＤＣ１３）δ１．３４
（３Ｈ，ｓ）、　１．３９（３Ｈ，ｓ）、　２．６４（
ＩＨ，ｍ）。

２．７８（２Ｈ，ｓ、ＯＨ及びＮＨ）、　３．７−４．
３（１４Ｈ，ｍ）、　４．７６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２．５
Ｈｚ）、　６．３−６．５（２Ｈ，ｍ）、　７．１０（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８．５Ｈ２） ［β−異性体］ 赤外吸収スペクトル　シ、ａ８（フィルム）３５００−
３３００．１６１２，１５９０ｃ　ｎ　”−１ マススペクトル　ｍ／ｚ：　　３９７（Ｍつ実施例８ 実施例７のα−異性体１４３　ｍ　ｇをエタノール８ｍ
ｌに溶解し、１０％パラジウム炭素５００ｍ１を加え、
室温、−気圧で５時間水素添加した。

触媒を濾去し、濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにて精製した。メタノール−酢酸エチル（１：　
９）にて溶出すると、目的化合物４３ｍｇを得た。

赤外吸収スペクトル　νｍａｘ　（フィルム）３３６０
（ｂｒｏａｄ）　　、、−１ マススペクトル　ｎ＋／ｚ：　　２４８　（Ｍ”＋　１
　）ＮＭＲスペクトル（６０ＭＨｚ）　（ＣＤＣ１３）
δ１．３５（３Ｈ，ｓ）、　１．４１（３Ｈ，ｓ）、　
２．１７（３Ｈ，ｂｒｏａｄ、）。

２．６４（ＩＨ，ｑｕｉｎｔｕｐｌｅｔ、Ｊ＝６．５Ｈ
ｚ）、　３．３５（３Ｈ，ｓ）。

３．５０（ＩＨ，ｂｄ、Ｊ＝６．５Ｈｚ）、　３．７−
４．４（６Ｈ，ｍ）。

４．６５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１．５Ｈｚ）実施例９ 実施例８の化合物３７　ｍ　ｇをテトラヒドロフラン２
ｍｌに溶解し、トリエチルアミン５０　ｍ　ｇとベンゾ
イルクロリド２５　ｍ　ｇを攪拌しつつ加えた。

１５分後、酢酸エチルにて希釈し、炭酸水素ナトリウム
水、食塩水で洗い、硫酸マグネシウムにて乾燥した。濾
過、濃縮後シリカゲル薄層カラムク（ｑ３） ロマトグラフィーにて精製すると、目的化合物５１ｍｇ
を得た。

赤外吸収スペクトル　ヤ、、ａｗ　（フィルム）３３５
０．１６４０　ｃ、−１ 実施例１０ イソプロピ１−ンーα−Ｄ−マンノフラッジ″実施例９
の化合物２９　ｍ　ｇをピリジン−無水酢酸（２：１）
にてアセチル化すると定量的に目的化合物が得られた。

融点　　１２０−１２１℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン
、１：９） 赤外吸収スペクトル　ヤ、δ８（ヌジョール）３３６０
．１７３７，１６４０、、−１（ｑ牛） マススペクトル　ｍ／ｚ：　　３７８　（Ｍ”−１５）
ｙ３６２，３４５，３３３，３０４，２９２゜２３２．
１７３ ［αコＤ＋４８．９°　（Ｃ１，１２５，エタノール）
ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨ２）　（ＣＤＣ１３）　
δ１．３７（３Ｈ，ｓ）、　１．４１（３Ｈ，ｓ）、　
２．０４（３Ｈ，ｓ）、　３．１９（ＩＨ，ｍ）、　３
．３８（３Ｈ，ｓ）、　３．８６（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝６
．６，８．４Ｈｚ）、　４．１３（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝７
．１，８．６Ｈｚ）、　４．２８（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝５
．５，８．４Ｈｚ）、　４．４１−４．３４（２Ｈ，ｍ
）、　４．５０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝８．１，１１．７Ｈ
ｚ）、　４．７９（ＩＨ，ｄｄｄ、Ｊ＝１．０，６．４
，８．８Ｈｚ）。

４．８４（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝１．０Ｈｚ）、　７．０８（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８．８Ｈｚ）。

７．５４−７．４０（３Ｈ，ｍ）、　７．８０−７．７
７（２Ｈ，ｍ）元素分析値（Ｃ２０Ｈ２７０７Ｎとして
）計算値：　Ｃ：　６１．０５．　Ｈ：　６．９２．Ｎ
：　３．５６実測値：　Ｃ：　６１．２２．　Ｈ：　７
．１３．　Ｎ：　３．５９実施例１１ ノシド （ｑ号） 実施例６の化合物３９３．４ｍｇをテトラヒドロフラン
１０ｍ１に溶解し、−７８℃、窒素気流下、メチルリチ
ウムのエーテル溶液（１，４Ｍ。

１．５ｍ１）をテトラヒドロフラン２ｍｌに希釈して滴
下した。１５分後酢酸にてメチルリチウムを分解した。

酢酸エチルで希釈し、炭酸水素ナトリウム水、食塩水で
洗い、硫酸マグネシウムにて乾燥した。濾過、濃縮後シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。シク
ロヘキサン−酢酸エチル（１：１）にて溶出すると、目
的化合物１７６ｍｇを得た。尚、α、β−混合物が１０
６ｍｇ得られ、更に次の分画からβ−異性体２９ｍｇが
得られた。

［α−異性体］ マススペクトル　ｍ／ｚ：　　４０９　（Ｍ”）［β−
異性体］ マススペクトル　ｍ／ｚ：　　４０９　（Ｍ”）実施例
１２ 実施例１１のα−異性体８２　ｍ　ｇをテトラヒドロフ
ラン２ｒｎｌに溶解し、トリエチルアミン５０ｍｇとベ
ンゾイルクロリド３０　ｍ　ｇを攪拌しつつ加えた。２
０分後、そのまま濾過、濃縮後シリカ（ｑｌ） ゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。シクロヘ
キサン−酢酸エチル（３：　２）にて溶出すると、目的
化合物７６　ｍ　ｇが得られた。

融点　　１４３−１４６℃（酢酸エチル−シクロヘキサ
ン） 赤外吸収スペクトル　シｒｍ、、ｘ　（ヌジョール）１
７０５．１６２５，１６０７，１５８８゜１２０５、、
、−１ マススペクトル　ｍ／ｚ：　　５１３（Ｍ”）、４９５
゜４８１．４３６，４０８，３５０，３２２゜２７０、
．１８８，１５１ ［α１０”　　＋１４０．０３゜ （Ｃ１，２１，クロロホルム） ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨ２）　（ＣＤＣ１３）δ
１．３１（３Ｈ，ｓ）、　１．４３（３Ｈ，ｓ）、　２
．３７（３Ｈ，ｓ）、　２．９６（３Ｈ，ｓ）、　３．
６７（３Ｈ，ｓ）、　３．８１（３Ｈ，ｓ）、　３．９
１−３．８７（ＬＨ，ｍ）、　４．１８−４．０６（３
Ｈ，ｍ）、　４．３６（ＩＨ，ｂｓ）、　４．５１（２
Ｈ，ｓ）、　４．９５（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝２．９，７．
４Ｈｚ）、　５．０５（ＬＨ，ｄ。

Ｊ＝２．９Ｈｚ）、　６．３６（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝２．３
Ｈｚ）、　６．５１（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝２．３，８．４
Ｈｚ）、　７．１１（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８．４Ｈｚ）、　
７．３１−７．２３（９♀う （５Ｈ、ｍ） 元素分析値（Ｃ２ｅＨ：＋５ＯＢＮとして）計算値：　
Ｃ：　６５．４８．　Ｈ：　６．８７．　Ｎ：　２．７
３実測値：　Ｃ：　６５．１５．　Ｈ：　６．８６．　
Ｎ：　２．７６実施例１３ ５−オキソビシクロ　３．３．０　　オクタン実施例６
の化合物６７ｒｎｇを乾燥メタノール２ｍｌと塩酸の２
規定メタノール溶液０．１７ｍ１（２当量の塩酸）を加
え、１．５時間還流させた。

減圧上濃縮し残る油状物を４ｍｌメチレンクロリドに溶
解し、炭酸水素ナトリウム２００ｍｇを加え、室温で３
０分間激しく攪拌した。シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィーにて精製した。酢酸エチルにて展開し、目的化合物
４７　ｍ　ｇを得た。

マススペクトル　ｍ／ｚ：　　３５４　（Ｍ”＋　１　
）、３５３（Ｍ＋）、３５２（Ｍ”−１）、３２２，１
６６゜１５１．１２１ 赤外吸収スペクトル　νｒ、ａ！（フィルム）３５００
−３２００．１７６０（ｂｒｏａｄ）。

１６１２．１５８８　　。、、−１ ＮＭＲスペクトル（６０ＭＨｚ）　（ＣＤＣ１３）δ２
．８（２Ｈ，ｂ）、　３．２−３．６（５Ｈ，ｒ＋＋）
、　３．７０−３．８５（ＩＯＨ，ｎ＋）。

４．４−４．９（３Ｈ，ｍ）、　６．３−６．５（２Ｈ
，ｎ＋）、　７．１１（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝９　、０Ｈｚ） 実施例１４ 実施例１３の化合物２０　ｍ　ｇをジメチルホルムアミ
ド０．５ｍｌと２．２−ジメトキシプロパン１ｍｌに溶
解し、ピリジニウム　ｐ−トルエンスルホネート５ｍｇ
を加え、１．５時間還流させた。

減圧上濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
て精製した。シクロヘキサン−酢酸エチル（１：　１）
にて溶出し、目的化合物１５ｍｇが油状物質として得ら
れた。

赤外吸収スペクトル　ν、δ８（フィルム）１７６３．
１６１２，１５８８　Ｇ、−１マススペクトル　ｍ／ｚ
：　　４２６　（Ｍ”＋　１　）、３９４３５２．３２
３，２９３．２７５．２０４．１６６．１５１．１２１
．９１．７３．４３（ＩＱＩ） ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ）　（ＣＤＣ１３）　
δ１．２８（３Ｈ，ｓ）、　１．３０（３Ｈ，ｓ）、　
１．９２（ＩＨ，ｂ）、　３．１６（３Ｈ，ｓ）、　３
．３７（３Ｈ，ｓ）、　３．３７（坩、ｄｄ、Ｊ＝８．
０−９．０゜６．０−７．０Ｈｚ）、　３．４７（ＩＨ
，ｄｄ、シ８．８，１．０Ｈｚ）、　３．５２（ＬＨ，
ｄｄ、Ｊ＝１０．７，１．９Ｈｚ）、　３．７３（ＬＨ
，ｄｄ、Ｊ−１０，７゜２．４Ｈｚ）、　３．７８（３
Ｈ，ｓ）、　３．８３（３Ｈ，ｓ）、　３．８７．３．
７０（２Ｈ，ＡＢ−ｑ、Ｊ＝１３．６Ｈｚ）、　４．６
８（１）１．ｔ、Ｊ−１，９−２，４Ｈｚ）。

４．７２（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝６．８Ｈｚ）、　４．９０（
ＩＨ，ｂｓ）、　６．４３（ＬＨ。

ｄｄ、Ｊ＝２．４，８．３Ｈｚ）、　６．４５（ＩＨ，
ｄ、Ｊ＝２．４Ｈｚ）、　７．１３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８
．３Ｈｚ） 実施例１５ ベンジルアルコールに塩酸を飽和させた溶液に水冷下粉
末状の文献公知の化合物である（ＩＲ９２Ｓ、４Ｒ，５
Ｓ）　−６−（２，４−ジメトキシベンジル）−２−メ
チル−４−ヒドロキシ−７−オキソ−３−オキサ−６−
アザビシクロ［３，２゜０］ヘプタン５００　ｍ　ｇを
加え攪拌すると結晶が溶解した。Ｏ−５℃の冷蔵庫内に
一夜放置した。

酢酸エチルにて希釈し、炭酸水素すＩ〜リウム水で洗い
、硫酸マグネシウムにて乾燥した。濾過、濃縮した後、
シリカゲル力ラムグロマトグラフィーにて精製する。酢
酸エチル−シクロヘキサン（１：２）にて溶出し、目的
化合物４５４　ｍ　ｇの結晶を得た。更に、実施例１７
の化合物のβ−異性体６（（Ｄう） ５ｍｇが得られた。

赤外吸収スペクトル　シ７．８（フィルム）１７５０．
１６１０，１５８６　ｃ、−１ＨＭＲスペクトル（６０
ＭＨｚ）　（ＣＤＣ，ｂ）δ１．３０（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝
６．０ＪＩｚ）、　３．３８（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝０．５
，４．０Ｈｚ）、　３．７１（３Ｈ，ｓ）、　３．８０
（３Ｈ，ｓ）、　４．０２（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４．０Ｈｚ
）、　４．１１．４．４０（２Ｈ，ＡＢ−ｑ、Ｊ＝＝１
４，０Ｈｚ）、　４，３９゜４．７１（２Ｈ，ＡＢ−ｑ
、Ｊ＝１２．０Ｈｚ）、　４．６０（ＬＨ，ｄｑ、Ｊ＝
０．５゜６．０Ｈｚ）、　４．９３（ＬＨ，ｓ）、　６
．３８−６．５３（２Ｈ，ｍ）、　７．１２（ＬＨ，ｄ
、Ｊ＝９．０Ｈｚ）、　７．３３（５Ｈ，ｓ）実施例１
６ キシメチル　−−Ｄ−Ｔボフラノシ゛ （ｔｏ牛） 実施例１５の化合物３８　ｍ　ｇのテトラヒドロフラン
２ｍｌ溶液に水冷下１０ｍｇの水素化リチウムアルミニ
ウムを加え、室温で一夜攪拌した。酢酸にて過剰の水素
化リチウムアルミニウムを分解し、酢酸エチルにて希釈
し、炭酸水素ナトリウム水で洗い、硫酸マグネシウムに
て乾燥した。濾過、濃縮後シリカゲル薄層クロマトグラ
フィーにて精製した。シクロヘキサン−酢酸エチル（１
：　１）にて展開すると、目的化合物１６ｍｇを得た。

融点　７３−７８℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン）［綿
状品］ 赤外吸収スペクトル　”ｌ’ｎａＸ（フィルム）３３５
０（ｂｒｏａｄ）；　１６１０，１５８５　ｃ、−１マ
ススペクトル　ｍ／ｚ：　　３８７　（Ｍ”）ＮＭＲス
ペクトル（６０ＭＨｚ）　（ＣＤＣ１３）δ１．３２（
３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．０Ｈｚ）、　２．１６（ＬＨ，ｍ）
、　２．９０（２Ｈ，ｂｓ）、　３．３７（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝６．０Ｈｚ）、　３．５−４．０（ＩＯＨ，ｍ）、
　４．１−４．３（ＩＨ，ｎ）、　４．３８．４．７５
（２Ｈ，ＡＢ−ｑ、Ｊ＝１２．０Ｈｚ）。

４．７９（ＬＨ，ｓ）、　６．３−６．４（２Ｈ，ｍ）
、　７．０９（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９．０（＋ｏＩ；′）− （＋ｏ６　） 実施例１フ ルオキシカルボニル　−　−Ｄ−リボフラノシド粉末状
の文献公知の化合物である（ＩＲ，２Ｓ。

４Ｒ，５Ｓ）−６−（２，４−ジメトキシベンジル）−
２−メチル−４−ヒドロキシ−７−オキソ−３−オキサ
−６−アザビシクロ［３，２，０］へブタン又は実施例
１５の化合物をベンジルアルコールに塩酸を飽和させた
溶液に水冷不溶解し、−夜装置した。酢酸エチルにて希
釈し、炭酸水素ナトリウム水で洗い、硫酸マグネシウム
にて乾燥した。濾過、濃縮した後、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにて精製した。酢酸エチル−シクロヘ
キサン（１：　２）にて溶出し、目的化合物ｍｇを得た
。又、次の分画からα−異性体ｍｇが得られた。

［β−異異性体 界外吸収スペクトル　Ｗ＋ｗａｘ（フィルム）３３３０
．１７３０，１６１０，１５８５ｃ、−１ マススペクトル　ｍ／ｚ：　　４９１　（Ｍ”）、　４
００　。

３５４．２２０，２０６，１６７．１５１゜１２１．９
１ 元素分析値（Ｃ２ｓＨ３ａ０６Ｎとして）計算値：　Ｃ
：　７０．８５．　Ｈ：　６．７７、　Ｎ：　２．８５
実測値：　Ｃ：　７０．７５．　Ｈ：　７．００．　Ｎ
：　２．８ＯＮＭＲスペクトル（６０ＭＨｚ）　（ＣＤ
Ｃ１３）　δ１．３４（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．５Ｈｚ）、
　１．８３（ＩＨ，ｓ）、　３．１２（ＩＨ，ｄｄ。

Ｊ＝６．０，９．０Ｈｚ）、　３．５２（ＩＨ，ｄ、Ｊ
＝６．０Ｈｚ）、　３．６８（３Ｈ。

ｓ）、　３．７４（３Ｈ，ｓ）、　３．６８−３．７４
（２Ｈ，ｍ）、　４．３５゜４．７２（２Ｈ，ＡＢ−ｑ
、Ｊ＝１２．０Ｈｚ）、　４．４−４．８（ＩＨ，ｍ）
。

４．８９（ＬＨ，ｓ）、　５．１３（２Ｈ，ｓ）、　６
．２５−６．４（２Ｈ，ｍ）。

７．０５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９．０Ｈｚ）、　７．２８（
５Ｈ，ｓ）、　７．３０（５Ｈ，ｓ）［α−異性体］ 赤外吸収スペクトル　ν、ａ８（フィルム）３３５０．
１７３０，１６１３，１５８８Ｇ、−１ マススペクトル　ｍ／ｚ：　　’４９１　（Ｍつ、４０
０゜３５４．２２０，２０６，１６７．１５１゜１２１
．９１ ＮＭＲスペクトル（６０ＭＨ２）　（ＣＤＣ１３）　δ
１．２７（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．０Ｈｚ）、　２．１０（
ＬＨ，ｓ）、　２．８２（ＩＨ，ｄｄ。

Ｊ＝７．０，１０．０Ｈｚ）、　３．５８（ＩＨ，ｄｄ
、Ｊ＝７．０，４．０Ｈｚ）。

３．５９（３Ｈ，ｓ）、　３．６８（２Ｈ，ｓ）、　３
．７８（３Ｈ，ｓ）、　４．３０゜４．７３（２Ｈ，Ａ
Ｂ−ｑ、Ｊ＝１２．０Ｈｚ）、　４．５２（ＩＨ，ｍ）
、　４．８８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４．０Ｈｚ）、　５．１
１（２Ｈ，ｓ）、　６．２−６．５（２Ｈ，ｍ）。

７．０６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９．０Ｈｚ）、　７．３２（
ＩＯＨ，ｓ）実施例１８ （（○９） 実施例１７の化合物４５３ｍｇをアセトン１２ｍ１に溶
解しこれにセリツクアンモニウムナイトライド１．５ｇ
の水８ｍｌの水溶液を加えた。５分間攪拌した後、酢酸
エチルで希釈し、炭酸水素ナトリウム水で洗い、硫酸マ
グネシウムにて乾燥した。濾過、濃縮した後、残る油状
物をアセトン５ｍｌに溶解し、１規定塩酸５ｍｌを加え
、３時間攪拌した。アセトンを減圧上留去し水６ｍｌを
加えエーテルにて洗い、残った水層を炭酸水素ナトリウ
ムでアルカリ性とした。酢酸エチルで抽出し、硫酸マグ
ネシウムにて乾燥した。濾過、濃縮すると、目的化合物
１４４ｍｇが得られた。

赤外吸収スペクトル　シ７．．。（フィルム）１７３３
　、、−１ マススペクトル　ｍ／ｚ：　　３４１　（Ｍつ、２３４
゜２１８．２０４，１８６，１１４ ＮＭＲスペクトル（６０ＭＨｚ）　（ＣＤＣ１３）　δ
１．３０（２ｔ（、ｂｓ）、　１．３９（３Ｈ，ｄ、Ｊ
＝６．０Ｈｚ）、　３．１３（ＩＨ。

ｄｄ、Ｊ＝５．５，９．０Ｈｚ）、　３．６９（ＩＨ，
ｄ、Ｊ＝５．５Ｈｚ）、　４．４３゜４．７８（２Ｈ，
ＡＢ−ｑ、、Ｊ＝１２．０Ｈｚ）、　４．４−４．９（
ＩＨ，ｍ）。

４．８５（ＩＨ，ｓ）、　５．１８（２Ｈ，ｓ）、　７
．３４（５Ｈ，ｓ）、　７．３６（５Ｈ、ｓ） 実施例１９ ボフラノシド 実施例１７のα−異性体　　　ｍｇを実施例１８と同様
に処理すると目的化合物　ｍｇを得た。

１’ｌ１ＭＲスペクトル（６０ＭＨｚ）　（ＣＤＣ１ｑ
）δ１．３０（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．０Ｈｚ）、　１．５
２（２Ｈ，ｓ）、　２．７５（ＬＨ，ｄｄ。

Ｊ＝８．０，９．５Ｈｚ）、　３．８４（ＩＨ，ｄｄ、
Ｊ＝４．５，９．５Ｈｚ）。

（Ｉｌｌ） ４．４９．４．８４（２Ｈ，ＡＢ−ｑ、Ｊ＝１１．５Ｈ
ｚ）、　４．６６（ＩＨ，ｄｑ。

Ｊ＝６．０，８．０Ｈｚ）、　５．０５（ＩＨ，ｄ、Ｊ
＝４．５Ｈｚ）、　５．１５（２Ｈ。

ｓ）、　７．３５（ＩＯＨ，ｓ） 実施例２Ｏ −Ｄ−リボフラノシド 実施例１８の化合物を常法に従い、無水酢酸−ピリジン
（１：　２）にてアセチル化し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにて精製すると、定量的に目的化合物が
得られた。

融点　　１４４−１４５℃ （酢酸エチル−シクロヘキサン） 赤外吸収スペクトル　νｍ＆Ｘ　（ヌジョール）３２７
０．１７２８，１６５２　　ｏ、、−１マススペクトル
　ｍ／ｚ：　　３８３　（Ｍつ、３６８゜３２４．２９
２，２７７．２４６，２０４゜［α］　ｏ２４−７４．
４°（Ｃ＝１．０３．エタノール）Ｎ阿Ｒスペクトル（
６０阿Ｈｚ）　（ＣＤＣ１３）　　δ１．３７（３Ｈ，
ｄ、Ｊ＝６．０Ｈｚ）、　１．８３（３Ｈ，ｓ）、　３
．２８（ＩＨ，ｄｄ。

Ｊ＝６．０，９．０Ｈｚ）、　４．４５．４．７５（２
Ｈ，ＡＢ−ｑ、Ｊ＝１２．０Ｈｚ）。

４．６６（ＩＨ，ｄ、Ｊ−６，０Ｈｚ）、　４．４−４
．８（ＩＨ，ｍ）、　４．９６（ＩＨ，ｓ）、　５．１
２（２Ｈ，ｓ）、　５．９１（ＩＨ，ｂｓ）、　７．３
４（５Ｈ，ｓ）、　７．３７（５Ｈ，Ｓ） 実施例２１ ノー３−カルボキシ−α−Ｄ−１ポフラノシ゛実施例１
９の化合物２７ｍｇのエタノール２ｍ１溶液に０．１規
定水酸化ナトリウム１　ｍ　ｌを加（ＩＩら） え、室温にて一夜放置した。１規定塩酸０．２ｍｌを加
え、減圧上濃縮した。エタノール１ｍｌを加え、塩酸塩
を溶解し、塩化ナトリウムを濾去した。濾液にトリエチ
ルアミン３０　ｍ　ｇを加え、減圧上濃縮した。メチレ
ンクロリド２ｍｌを加え、トリエチルアミンの塩酸塩を
溶解した。残った不溶物をデカンテーションにより得た
。デカンテーションを数回繰り返すと、粉状の目的化合
物８ｍｇが得られた。

ＮＭＲスペクトル（６０ＭＨｚ）　（Ｄ２０）δ１．３
３（３Ｈ，ｄ、、Ｊ＝６．０Ｈｚ）、　２．７３（ＩＨ
，ｄｄ、Ｊ＝７．５，９．０Ｈｚ）、　４．００（ＩＨ
，ｄｄ、Ｊ＝５．０，９．０Ｈｚ）、　４．２−４．７
（ＩＨ，ｍ）。

４．５３．４．７９（２）（、ＡＢ−ｑ、Ｊ４２−ＯＨ
ｚ）、　５．３７（１，Ｈ，ｄ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式中、Ｒ＾１は、水素原子、水酸基の保護基又は水酸
   基の置換基を示し、Ｒ＾２又はＲ＾３は同一又は異なっ
   て、水素原子、アミノ基の保護基又はアミノ基の置換基
   を示し、Ｒ＾４は式−ＣＯＲ＾６（式中、Ｒ＾６は、水
   素原子、低級アルキル基、保護されていてもよい水酸基
   、置換された水酸基、保護されていてもよいメルカプト
   基、置換されたメルカプト基又は式−ＮＲ＾２Ｒ＾３を
   示す。）又は式−ＣＨ＿２ＯＲ＾１（式中、Ｒ＾１は前
   記と同意義を示す。）を示し、Ｒ＾５は、水素原子、低
   級アルキル基、アリール基、アリル基、ビニル基又は 式 ▲数式、化学式、表等があります▼若しくは▲数式、化
   学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾８は、Ｒ＾１と同様の基を示し、Ｒ＾７は
   ジオールの保護基を示す。）を示し、又は、Ｒ＾４及び
   Ｒ＾５は一緒になつて、 式 ▲数式、化学式、表等があります▼若しくは▲数式、化
   学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾９は、Ｒ＾１と同様の基を示す。）を示す
   。］を有する２−アミノ−３−ホモフラノサイド類及び
   その薬理学上許容される塩。