JPS63149344A - 高力高導電性銅合金 - Google Patents

高力高導電性銅合金

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JPS63149344A
JPS63149344A JP29480086A JP29480086A JPS63149344A JP S63149344 A JPS63149344 A JP S63149344A JP 29480086 A JP29480086 A JP 29480086A JP 29480086 A JP29480086 A JP 29480086A JP S63149344 A JPS63149344 A JP S63149344A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、トランジスタや集積回路(IC)などの半導
体機器のリード材、コネクター、端子、リレー、スイッ
チ等の導電性ばね材に適する銅合金に関するものである
[従来の技術] 従来、半導体機器のリード材としては熱膨服係数が低く
、素子及びセラミックとの接着および封着性の良好なコ
バール(F e −29N i −16Co)、42合
金などの高ニッケル合金が好んで使われてきた。しかし
、近年、半導体回路の集積度の向上に伴い消費電力の高
いICが多く使用されるようになってきたことと、封止
材料として樹脂が多く使用され、かつ素子とリードフレ
ームの接着も改良が加えられたことにより使用されるリ
ード材の放熱性の良い銅基合金が使われるようになって
きた。
又、従来電気機器用ばね、計測器用ばね、スイッチ、コ
ネクター等に用いられるばね用材料としては、安価な黄
銅、優れたばね特性及び耐食性を有する洋白、あるいは
優れたばね特性を有するりん青銅が使用されていた。
[発明が解決しようとする問題点] 一般に半導体機器のリード材としては以下のような特性
が要求されている。
(1)リードが電気信号伝達部であるとともに、パッケ
ージング工程中及び回路使用中に発生する熱を外部に放
出する機能を併せ持つことを要求されるため、優れた熱
及び電気伝導性を示すもの。
(2)リードとモールドとの密着性が半導体素子保護の
観点から重要であるため、リード材とモールド材の熱膨
張係数が近いこと。
(3)パッケージング時に種々の加熱工程が加わるため
、耐熱性が良好であること。
(4)リードはリード材を打ち恢き加工し、また曲げ加
工して作製されるものがほとんどであるため、これらの
加工性が良好であること。
(5)リードは表面に貴金属めっきを行うため、これら
貴金属とのめつき密着性が良好であること。
(6)パッケージング後に封止材の外に露出している、
いわゆるアウター・リード部に半田付けするものが多い
ので、良好な半田付は性を示すこと。
(7)機器の信頼性及び寿命の観点から耐食性が良好な
こと。
(8)価格が低廉であること。
これら各種の要求特性に対し従来より使用されている無
酸素銅、錫入り銅、りん青銅、コバール、42合金はい
ずれも一長一短があり、これらの特性のすべてを必ずし
も満足しえるものではない。
又、バネ材として用いられている黄銅は強度、ばね特性
が劣っており、又強度、ばね特性の優れた洋白、りん青
銅も洋白は18重ω%のNi、りん青銅は8重向%のS
nを含むため、原料の面及び製造上熱間加工性が悪い等
の加工上の制約も加わり高価な合金であった。ざらには
電気機器用等に用いられる場合、電気伝導度が低いとい
う欠点を有していた。従って、導電性が良好であり、ば
ね特性に優れた安価な合金の出現が待たれていた。
[問題点を解決するための手段] 本発明はかかる点に鑑みなされたもので、従来の銅基合
金のもつ欠点を改良し、半導体機器のリード材及び導電
性ばね材として好適な諸特性を有する銅合金を提供しよ
うとするものである。
特にCu−Cr−Zr系合金を改良し、要求に合致した
銅合金を提供しようとするものである。すなわちCLI
−Cr−zr合金は優れた導電性と強度を示し、半導体
機器リード材としても導電性ばね材としても優れた銅合
金といえるが、はんだ付は性、めっき性、エツチング性
、折り曲げ性については満足できる特性を示さず改良の
必要があった。
本発明者らはこれらの特性劣化要因を種々検討したとこ
ろ、Cr、Zrの硫化物がその原因であり、その大きざ
をある一定値以下とすることよりこれら諸特性の改善を
はかれることを見出した。
本発明は、 (1) Cr0.05〜1.0重旧%及びZr0.05
〜1.0重但%含金み、残部がCu及び不可避不純物で
あり、かつ介在物であるCr、Zrの硫化物の大きさが
160μm以下であることを特徴とする高力高導電性銅
合金。
および (2) Cr0.05〜1.0重足%、Z r0.05
〜1.0重間%及びA!、Be1C○、F e N N
 i、Hf、I n、M0. M0.Pb、S i 、
Te、3n、Ti、Znからなる群より選択された1種
又は2種以上の元素を0.05〜1.0重量%含み、残
部がCu及び不可避不純物であり、かつ介在物であるC
r、Zrの硫化物の大きさが1.0μm以下であること
を特徴とする高力高導電性銅合金。
で必り、半導体機器リード材又は導電性ばね材として優
れた電気及び熱伝導性、耐熱性、ばね特性を有するばか
りでなく、半田付は性、めつき性、エツチング性、折り
曲げ性をも著しく改良したことを特徴とするものである
次に本発明(1)、(2)の両合金を構成する合金成分
の限定理由を説明する。
Crの含有量を0.05重量%以−ヒ1.0重量%以下
とするのは、Crの含有量が0.05重量%未満ではZ
rの共添を伴っても十分な強度が得られず、逆にCrの
含有量が1.0重量%を越えると、加工性、導電性の低
下が見られるようになるためである。
Zrの含有量を0.05重量%以上1.0重量%以下と
した理由は、Zrの含有量が0.05重量%未満ではZ
rの含有による強度の向上は顕著でなく、zr含有量が
1.0重量%を越えると加工性、導電性の低下が見られ
るようになるためである。
Or、Zrの硫化物の大きさくなお硫化物の大きざとは
硫化物の粒の平均さしわたし寸法を意味する。)を1.
0μm以下とする理由は、通常Cu中には微量のSが存
在し、かつ溶解鋳造時に外部からSが混入する場合もあ
るが、Sが存在するとCr、Zrは非常にSと結合しや
すく容易に硫化物になり胴中に存在するようになり、素
材の最終製品時の硫化物の大きさが160μmをこえる
と折り曲げ性、半田付は性、めっき性、エツチング性が
著しく低下するためである。
具体的には硫化物が1.0μmをこえると折り曲げ時の
割れ起点として働きやすく、さらに半田付けあるいはめ
っきを施した時に、これら硫化物のぬれ性が悪いため硫
化物の上に正常な半田、めっきがつきにくく、めっき密
着性も急激に低下する。エツチング性についてもマトリ
ックスと硫化物で腐食速度が異なるため、パリ状の硫化
物がエツチング面により残され、リード材としての所定
の寸法がでないという現象が起こる。従ってCu−Qr
−2r系合金においては硫化物の大きざを1,0μm以
下にしなければ実用に供する合金とならない。
硫化物の大きざを1.0μm以下とするには、インゴッ
ト時のSの含有量を例えば0.0015重量%以下のよ
うに少なくするとともに溶体化処理、冷間加工、時効処
理条件の組合せを例えば実施例のように選定することに
より得られる。
さらに副成分としてAl、ice、C0. Fe1N 
i 1Hf 1.I n 、M ON M ’J、Pb
、Si、Te、3n、T i、znの1種又は2種以上
を含有すると強度、ばね特性ケ向上させるが、その含有
量が0.05重量%未満では効采があまり期待できず、
又、1.0重母%を越えると導電率の低下が著しくなる
ことから0.05〜1.0小母%とした。
[実施例] 第1表に示される本発明合金に係る各種成分組成のイン
ゴットを電気銅あるいは無酸素銅を原料として、高周波
溶解炉で大気、又は不活性あるいは還元性雰囲気中で溶
解・鋳造した。なお、本発明合金用として用いた銅原料
のS含有量は0.0015重串%以下であった。
次にこれを900°Cで熱間圧延して厚さ4mmの板と
しだ後900℃×5分の溶体化98浬を行い、面前を行
って、冷間圧延で厚さ0.3111mの板とした。これ
に種々の条件の時効処理を施した。
こうして得られた供試材の硫化物の大きさを確認すると
ともリード材及びばね材としての評価を以下の方法で行
った。
強度と伸びは引張試験によりばね性をに6値により評価
した。曲げ性は板の圧延方向に平行な方向における曲げ
(り)同直角な方向における曲げ(上)について、定荷
重(225gf)負荷により板厚と同一の曲げR(0,
25mm)での繰り返し曲げ(破断させずに曲げること
のできる90°曲げ往復回数〉により、耐・熱性は加熱
時間5分における軟化湿度により、また電気伝導性と放
熱性とを導電率(%IAC3)により示したが、これは
電気伝導性と熱伝導性は相互に比例関係にあり、共に導
電率で評価し得るからである。
半田付は性は、垂直式浸漬法によって、230±5℃の
半田浴(Sn60%、pb40%)に5秒間浸漬して、
半田のぬれ状態を目視観察することにより評価した。半
田の耐剥離性は上記の方法で半田付けした試料を大気中
で150℃、1500時間加熱後、板厚と同一の曲げR
(0,25mm)の90゜曲げを行い、剥離の有無を評
価した。エツチング性は供試材を塩化第二鉄でエツチン
グを行い、その断面のパリ状の突出物の有無によって評
価した。
密着性は試料に厚さ3μmのAQめっきを施し、表面に
発生するフクレの有無を目視観察することにより評価し
た。
これらの結果を比較合金を含めて第1表に示した。
第1表に示すように、本発明の合金は強度、ばね性、曲
げ性、導電性、耐熱性、半田付は性、半田耐剥離性、エ
ツチング性、めっき密着性に優れていることが明白であ
り、半導体機器のリードあるいはばね用材料等の高力高
導電性銅合金として好適であるということができる。
[発明の効果] このように本発明合金はCu−0r−Zr系合金の硫化
物の大きさを限定することにより、今まで本合金の欠点
であった折り曲げ性、半田付は性、めっき性、エツチン
グ性を著しく改善することができる。又、熱膨張係数は
プラスチックに近く、半導体機器のリード材としてはプ
ラスチックパッケージ用に適している。従って、本発明
合金は半導体機器のリード材及び導電性ばね材として好
適な材料であり、先行技術の合金においてこのような総
合的特性を兼備するものはない。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)Cr0.05〜1.0重量%及びZr0.05〜
    1.0重量%を含み、残部がCu及び不可避不純物であ
    り、かつ介在物であるCr、Zrの硫化物の大きさが1
    .0μm以下であることを特徴とする高力高導電性銅合
    金。
  2. (2)Cr0.05〜1.0重量%、Zr0.05〜1
    .0重量%及びAl、Be、Co、Fe、Ni、 Hf、In、Mo、Mg、Pb、Si、Te、Sn、T
    i、Znからなる群より選択された1種又は2種以上の
    元素を0.05〜1.0重量%含み、残部がCu及び不
    可避不純物であり、かつ介在物であるCr、Zrの硫化
    物の大きさが1.0μm以下であることを特徴とする高
    力高導電性銅合金。
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