JPS63140083A - 黒色透明外観のステンレス鋼およびその製造方法 - Google Patents
黒色透明外観のステンレス鋼およびその製造方法Info
- Publication number
- JPS63140083A JPS63140083A JP62126046A JP12604687A JPS63140083A JP S63140083 A JPS63140083 A JP S63140083A JP 62126046 A JP62126046 A JP 62126046A JP 12604687 A JP12604687 A JP 12604687A JP S63140083 A JPS63140083 A JP S63140083A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stainless steel
- diamond
- carbon
- film
- black
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 45
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 title claims abstract description 41
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 78
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 43
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 34
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims abstract description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 16
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract description 10
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 27
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 44
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 31
- 235000019646 color tone Nutrition 0.000 abstract description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 abstract 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 abstract 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 abstract 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 30
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 17
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 17
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 238000001237 Raman spectrum Methods 0.000 description 4
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 4
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 229910021385 hard carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 241000726096 Aratinga Species 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000001914 calming effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004042 decolorization Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 238000000572 ellipsometry Methods 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- -1 neohentane Chemical compound 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000002436 steel type Substances 0.000 description 1
- 210000004243 sweat Anatomy 0.000 description 1
- 230000009897 systematic effect Effects 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/26—Deposition of carbon only
- C23C16/27—Diamond only
- C23C16/278—Diamond only doping or introduction of a secondary phase in the diamond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/26—Deposition of carbon only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/26—Deposition of carbon only
- C23C16/27—Diamond only
- C23C16/272—Diamond only using DC, AC or RF discharges
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
- Y10T428/12625—Free carbon containing component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/30—Self-sustaining carbon mass or layer with impregnant or other layer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31678—Of metal
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、プラズマを利用した装飾用途および耐食性を
生かした用途、特に建築材料や自動車用材料に使用する
ダイヤモンド状炭素含有グラファイト被膜を有するステ
ンレス鋼及びその製造方法に関するものである。
生かした用途、特に建築材料や自動車用材料に使用する
ダイヤモンド状炭素含有グラファイト被膜を有するステ
ンレス鋼及びその製造方法に関するものである。
従来の技術
ステンレス鋼は、その表面の美麗さのために、近年多く
の建築用の内装材料および外装材料に使用されてきてい
る。特に最近では、単にステンレス生地表面のみならず
、それらに装飾として色を加味したものが望まれてきて
いる。
の建築用の内装材料および外装材料に使用されてきてい
る。特に最近では、単にステンレス生地表面のみならず
、それらに装飾として色を加味したものが望まれてきて
いる。
これに対して、従来インコ着色法など各種の方法で着色
したステンレス鋼も開発されている。しかしながら、こ
のような湿式法では水分を含むためか、永年の使用中、
色あせ、変色、脱色等の現象を生起し耐候性に問題があ
るとともに、傷がつき易いために耐摩耗性等についても
性能の向上が要望されている。現在求められているのは
、各色彩に種々のバリエージ、ンを持たせることであり
、その内の一つに透明感を伴なった深みのある黒色の色
調がある。黒色を外観とすることは、前記の従来法の改
良により、可能となったが、未だ単一の平均的黒色であ
る。変化のある黒色や耐候性、#摩耗性を合わせ持つも
のはまだ得られていないのが現ス【である。
したステンレス鋼も開発されている。しかしながら、こ
のような湿式法では水分を含むためか、永年の使用中、
色あせ、変色、脱色等の現象を生起し耐候性に問題があ
るとともに、傷がつき易いために耐摩耗性等についても
性能の向上が要望されている。現在求められているのは
、各色彩に種々のバリエージ、ンを持たせることであり
、その内の一つに透明感を伴なった深みのある黒色の色
調がある。黒色を外観とすることは、前記の従来法の改
良により、可能となったが、未だ単一の平均的黒色であ
る。変化のある黒色や耐候性、#摩耗性を合わせ持つも
のはまだ得られていないのが現ス【である。
一方、1960年代までに工業化きれた高温高圧条件下
でのバルクなダイヤモンド合成に比べ、ダイヤモンドの
薄膜合成技術は、 歴史的に浅いものの、グラファ
イト安定望域におけるダイヤモンド合成という研究上興
味ある分野である。また、ダイヤモンドの有する種々の
物理的性質が多方面に利用できる可能性があるために、
ダイヤモンドの薄膜合成技術は切削工具の被覆等の材料
分野、半導体素子、半導体放熱用基板等の半導体分野、
スピーカーの振動板等の音響分野、そして光学分野にと
巾広く研究が進められている(例えば、特開昭59−2
32991号)。
でのバルクなダイヤモンド合成に比べ、ダイヤモンドの
薄膜合成技術は、 歴史的に浅いものの、グラファ
イト安定望域におけるダイヤモンド合成という研究上興
味ある分野である。また、ダイヤモンドの有する種々の
物理的性質が多方面に利用できる可能性があるために、
ダイヤモンドの薄膜合成技術は切削工具の被覆等の材料
分野、半導体素子、半導体放熱用基板等の半導体分野、
スピーカーの振動板等の音響分野、そして光学分野にと
巾広く研究が進められている(例えば、特開昭59−2
32991号)。
しかしながら、その薄膜製造技術の困難さのため、実用
に供されているものは工具材料の部分的被覆や小面積で
よい音響分野の一部に限られているのが現状である。ま
た、それらは、 100%ダイヤモンドの膜製造を目的
としており、本発明のような、ダイヤモンド状炭素とグ
ラファイトとが混在したタイプの膜の生成を目的とする
ものは極〈少ない。
に供されているものは工具材料の部分的被覆や小面積で
よい音響分野の一部に限られているのが現状である。ま
た、それらは、 100%ダイヤモンドの膜製造を目的
としており、本発明のような、ダイヤモンド状炭素とグ
ラファイトとが混在したタイプの膜の生成を目的とする
ものは極〈少ない。
ダイヤモンドとグラファイトの混在した薄膜の先行技術
に日本特許特開昭60−85796がある。その発明は
大方晶系のダイヤモンドとグラファイトの混晶からなる
硬質カーボン膜を開示しているが、そのダイヤモンドと
グラファイトの比率については、その特許公報に何ら記
載していない、またその硬質カーボン膜の用途として1
例えば機構部品の摺動部品や切削工具などを対象として
おり、その薄膜には高硬度性、耐摩耗性、潤滑性等の機
能を求めているが、装飾性特に色彩に関することは何ら
記載されていない、その薄膜の製造方法としては、熱電
子放出型直流プラズマを利用した化学気相蒸着方法が開
示されているだけである。この熱電子放出型直流プラズ
マを利用した化学気相蒸着法によって薄膜を作ると小面
積しか良い膜ができないという短所があった。更に、ダ
イヤモンドとグラファイトの生成比率を制御する方法に
ついては、何ら開示されていない。
に日本特許特開昭60−85796がある。その発明は
大方晶系のダイヤモンドとグラファイトの混晶からなる
硬質カーボン膜を開示しているが、そのダイヤモンドと
グラファイトの比率については、その特許公報に何ら記
載していない、またその硬質カーボン膜の用途として1
例えば機構部品の摺動部品や切削工具などを対象として
おり、その薄膜には高硬度性、耐摩耗性、潤滑性等の機
能を求めているが、装飾性特に色彩に関することは何ら
記載されていない、その薄膜の製造方法としては、熱電
子放出型直流プラズマを利用した化学気相蒸着方法が開
示されているだけである。この熱電子放出型直流プラズ
マを利用した化学気相蒸着法によって薄膜を作ると小面
積しか良い膜ができないという短所があった。更に、ダ
イヤモンドとグラファイトの生成比率を制御する方法に
ついては、何ら開示されていない。
最近、アモルファスカーボン薄膜の装飾関連分野への応
用もとりあげられつつあるが、単一な純黒色に近いもの
が得られてはいるものの(特開昭60−21373号)
、透明感のある黒色はまだ得られていない、また、前記
単一な純黒色の被膜は、耐候性には優れているものの硬
さの点で問題を残しており、実用化にまで至っていない
のが現状である。
用もとりあげられつつあるが、単一な純黒色に近いもの
が得られてはいるものの(特開昭60−21373号)
、透明感のある黒色はまだ得られていない、また、前記
単一な純黒色の被膜は、耐候性には優れているものの硬
さの点で問題を残しており、実用化にまで至っていない
のが現状である。
発明が解決しようとする問題点
機械部品の摺動部品や切削工具を対象としたダイヤモン
ド炭素の被膜は、従来、高硬度、#摩耗性等の機能を持
っていたが、それを装飾用材料に適用する場合には、黒
色でも単一色でなく、バラエティな色合い特に透明感の
ある黒色でかつその透明度合を種々変化させたステンレ
ス鋼が求められていた。また装飾用材料特に自動車用材
料や建築材料では、大面桔にダイヤモンド状炭素が被膜
でき、かつダイヤモンド状炭素とグラファイトの生成比
率を制御できる製造方法が求められていた。
ド炭素の被膜は、従来、高硬度、#摩耗性等の機能を持
っていたが、それを装飾用材料に適用する場合には、黒
色でも単一色でなく、バラエティな色合い特に透明感の
ある黒色でかつその透明度合を種々変化させたステンレ
ス鋼が求められていた。また装飾用材料特に自動車用材
料や建築材料では、大面桔にダイヤモンド状炭素が被膜
でき、かつダイヤモンド状炭素とグラファイトの生成比
率を制御できる製造方法が求められていた。
本発明は、ステンレス鋼表面にグラファイトとダイヤモ
ンド状炭素の混合膜を一度に定量的に形成することによ
り、従来なかった黒色透明膜を得る、特にその透明度合
を巾広く変えることを可能にしたものである。また、当
該被膜は、高耐候性はもとよりダイヤモンドに近い硬度
を有しているため、傷つき等に対する抵抗性も高いもの
である。
ンド状炭素の混合膜を一度に定量的に形成することによ
り、従来なかった黒色透明膜を得る、特にその透明度合
を巾広く変えることを可能にしたものである。また、当
該被膜は、高耐候性はもとよりダイヤモンドに近い硬度
を有しているため、傷つき等に対する抵抗性も高いもの
である。
問題点を解決するための手段
本発明は、前記問題点を解決する機能性薄膜を表面に施
したステンレス鋼と合わせて、その製造方法をも提供す
るものである。
したステンレス鋼と合わせて、その製造方法をも提供す
るものである。
すなわち、本発明は、ステンレス鋼の表面に膜厚17h
m以下のダイヤモンド状炭素を10〜75%の範囲で含
有したグラファイト薄膜を有する黒色透明外観のステン
レス鋼及びその製造方法である。
m以下のダイヤモンド状炭素を10〜75%の範囲で含
有したグラファイト薄膜を有する黒色透明外観のステン
レス鋼及びその製造方法である。
前記のステンレス鋼は、容量結合型高周波プラズマを利
用する化学気相蒸着法によって、炭化水素(以下余白) ガスと共に水素ガス、不活性ガスの両方を含む混合ガス
雰囲気中で、ステンレス鋼を基板として、該基板を陰極
側にし100〜600vの範囲の直流電圧を印加しつつ
反応させることによって得ることができる。
用する化学気相蒸着法によって、炭化水素(以下余白) ガスと共に水素ガス、不活性ガスの両方を含む混合ガス
雰囲気中で、ステンレス鋼を基板として、該基板を陰極
側にし100〜600vの範囲の直流電圧を印加しつつ
反応させることによって得ることができる。
装飾用に使用されるステンレス鋼には、ダイヤモンド状
炭素が持つ高硬度性および耐摩耗性等に加えて、色彩の
再現性のある制御により種々の微妙な色合いを作り分け
られることが必要である。
炭素が持つ高硬度性および耐摩耗性等に加えて、色彩の
再現性のある制御により種々の微妙な色合いを作り分け
られることが必要である。
更には、雨や風にさらされる外装用材料や人間の汗や清
浄の水に触れる内装用材料には耐候性を有すること、お
よび多少の加工性も必要とされる。
浄の水に触れる内装用材料には耐候性を有すること、お
よび多少の加工性も必要とされる。
本発明は、透明度合の微妙な変化は、ダイヤモンド状炭
素とグラファイトの生成比率を制御して達成しており、
透明度合を外観上から大きく分けると、ダイヤモンド炭
素とグラファイトの生成比率が10〜30%、30〜5
0%、および50〜75%の3レベルに識別できる。
素とグラファイトの生成比率を制御して達成しており、
透明度合を外観上から大きく分けると、ダイヤモンド炭
素とグラファイトの生成比率が10〜30%、30〜5
0%、および50〜75%の3レベルに識別できる。
本発明のグラファイト薄膜中のダイヤモンド状炭素の含
有率が10%未満の場合には十分な硬度が得られず、耐
摩耗性に乏しい膜となる。一方ダイヤモンド状炭素の含
有率が75%を越えるとダイヤモンドの優れた透光性の
性質が顕著となり、目的の黒色透明感のある膜となりに
くい。
有率が10%未満の場合には十分な硬度が得られず、耐
摩耗性に乏しい膜となる。一方ダイヤモンド状炭素の含
有率が75%を越えるとダイヤモンドの優れた透光性の
性質が顕著となり、目的の黒色透明感のある膜となりに
くい。
建築用材料および自動車用材料として求められる黒色透
明外観のステンレス鋼はダイヤモンド状炭素の含有率が
10〜75%の範囲で含んでおり、それを前記3レベル
に分ければ、ユーザの好みに応じた、幅広い色合いの要
望にも答えることができる。
明外観のステンレス鋼はダイヤモンド状炭素の含有率が
10〜75%の範囲で含んでおり、それを前記3レベル
に分ければ、ユーザの好みに応じた、幅広い色合いの要
望にも答えることができる。
このような黒色透明外観のステンレス鋼の用途には、ま
ず第一にその落ち着いた色合いとともに高い耐候性を生
かした外装用材料があり、例えば、よく知られているも
のに、建物の屋根や外壁、自動車の外装材、門およびガ
レージの外壁や入口扉等風雨にさらされる部材用の材料
である。
ず第一にその落ち着いた色合いとともに高い耐候性を生
かした外装用材料があり、例えば、よく知られているも
のに、建物の屋根や外壁、自動車の外装材、門およびガ
レージの外壁や入口扉等風雨にさらされる部材用の材料
である。
次に、主要な用途の1つに自動車用材料もあり、これも
よく知られているものとしてモール、マフラーおよび飾
り等がある。
よく知られているものとしてモール、マフラーおよび飾
り等がある。
また、建築用の外装材料および内装材料も太きな用途の
1つであり、建築用の外装材料とは、建物の外部で、風
雨にさらされる所に使用される部材用材料を意味し、例
えば屋根材、外壁材および階段等が含まれる。そして内
装材料とは建物の内部で使用される部材用材料を意味し
、例えば床材、内壁材、天井材およびドア材が含まれる
。
1つであり、建築用の外装材料とは、建物の外部で、風
雨にさらされる所に使用される部材用材料を意味し、例
えば屋根材、外壁材および階段等が含まれる。そして内
装材料とは建物の内部で使用される部材用材料を意味し
、例えば床材、内壁材、天井材およびドア材が含まれる
。
また、ステンレス鋼表面のダイヤモンド状炭素を含むグ
ラファイト薄膜の膜厚はlpm以下がよい、これより厚
い膜厚とすると該gi膜のバルクな性質が現われるため
、その物理的特性の相違から曲げ、切断等の加工性に乏
しいものとなる。
ラファイト薄膜の膜厚はlpm以下がよい、これより厚
い膜厚とすると該gi膜のバルクな性質が現われるため
、その物理的特性の相違から曲げ、切断等の加工性に乏
しいものとなる。
一方、本発明の製造方法は、容疑結合型高周波プラズマ
を利用する化学気相蒸着法において、炭化水素ガスと共
に水素ガス、不活性ガスの両方を含む混合ガス雰囲気中
で、ステンレス鋼をプラズマ用直流電圧の陰極側に接続
した基板とし、前記基板温度、プラズマ用高周波出力お
よび前記プラズマ用直流電圧の値を特定の範囲内で調整
することにより、被膜中のダイヤモンド状炭素とグラフ
ァイトの生成比率を制御する方法である。
を利用する化学気相蒸着法において、炭化水素ガスと共
に水素ガス、不活性ガスの両方を含む混合ガス雰囲気中
で、ステンレス鋼をプラズマ用直流電圧の陰極側に接続
した基板とし、前記基板温度、プラズマ用高周波出力お
よび前記プラズマ用直流電圧の値を特定の範囲内で調整
することにより、被膜中のダイヤモンド状炭素とグラフ
ァイトの生成比率を制御する方法である。
本発明におけるグラファイト薄膜中のダイヤモンド状炭
素の存在は、ステンレ鋼表面に形成された薄膜のラマン
スペクトルを測定し、両者の吸収特性から換算して割合
を算出した。
素の存在は、ステンレ鋼表面に形成された薄膜のラマン
スペクトルを測定し、両者の吸収特性から換算して割合
を算出した。
本発明で用いる炭素水素ガスとしてはメタン、ネオヘン
タン、シクロヘキサン、アセチレン、ベンゼン等、直鎖
、環状、不飽和、芳香族炭化水素と広く利用することが
できる。また、不活性ガスには、アルゴン、ヘリウム等
が利用できる。
タン、シクロヘキサン、アセチレン、ベンゼン等、直鎖
、環状、不飽和、芳香族炭化水素と広く利用することが
できる。また、不活性ガスには、アルゴン、ヘリウム等
が利用できる。
ステンレス鋼表面に形成される薄膜の膜厚は、後述する
製造装置のステンレス鋼基板を収納するチャンバー内に
モニター用の水晶板を設置しておき、電気的な特性を連
続して測定することにより成膜速度を測定するとともに
、得られた薄膜の膜厚はエリプソニトリ−によって測定
した。
製造装置のステンレス鋼基板を収納するチャンバー内に
モニター用の水晶板を設置しておき、電気的な特性を連
続して測定することにより成膜速度を測定するとともに
、得られた薄膜の膜厚はエリプソニトリ−によって測定
した。
さらに、本発明では基板とするステンレス鋼を陰極側と
して直流電圧を印加することによって、基板にマイナス
の電位を重畳するため密着性に優れたコーティングを可
能としている。
して直流電圧を印加することによって、基板にマイナス
の電位を重畳するため密着性に優れたコーティングを可
能としている。
このため、本発明で用いるステンレス鋼はその鋼種、及
び表面性状、形状に制限なく利用することができる。
び表面性状、形状に制限なく利用することができる。
また、本発明では、基板として用いるステンレス鋼は金
属光沢のままでもよいが、予め、TiNの様なそれ自身
有色のセラミックス等をコーティングしたステンレス鋼
に本発明の薄膜を重ねてコーティングすることにより、
表面の耐候性、耐摩耗性をそこなわずに種々の色調をも
たせ、かつ、その色を黒味がかった深い色にして装飾的
価値を高めることもできる。
属光沢のままでもよいが、予め、TiNの様なそれ自身
有色のセラミックス等をコーティングしたステンレス鋼
に本発明の薄膜を重ねてコーティングすることにより、
表面の耐候性、耐摩耗性をそこなわずに種々の色調をも
たせ、かつ、その色を黒味がかった深い色にして装飾的
価値を高めることもできる。
広い面積の基板に均一な膜を製造するには容量結合型高
周波プラズマを利用する化学蒸着法が有利であるが、前
述の本発明の黒色透明外観のステンレスを製造するため
には次のような工夫が必要である。
周波プラズマを利用する化学蒸着法が有利であるが、前
述の本発明の黒色透明外観のステンレスを製造するため
には次のような工夫が必要である。
以下、本発明の薄膜製造方法を図面をもとに説明する。
第1図は1本発明を実施するための装置の一例であり、
その概略図を示すものである。
その概略図を示すものである。
第1図中の1は高周波電源で、2は定電圧又は定電流直
流電源である0両電源は、フィルターを用いることによ
って同一電極上に同時印加できる構造になっている。
流電源である0両電源は、フィルターを用いることによ
って同一電極上に同時印加できる構造になっている。
高周波プラズマによりイオン化された原料ガスは、電極
間に形成されるシース電圧(自己バイアス)に、更に直
流電圧が加わることによるイオンの加速効果が表われ、
高周波プラズマだけからでは得られない良質な膜が基板
(8)となるステンレス鋼上に形成される。
間に形成されるシース電圧(自己バイアス)に、更に直
流電圧が加わることによるイオンの加速効果が表われ、
高周波プラズマだけからでは得られない良質な膜が基板
(8)となるステンレス鋼上に形成される。
電極3はステンレスなどの耐熱性と導電性の良好な材質
で形成されており、内部に水冷機構を設けである。また
電極3は、チャンバー7と電気的に絶縁された状態で上
下に可動な構造となっていて、電極間距離を連続的に変
えることができる。
で形成されており、内部に水冷機構を設けである。また
電極3は、チャンバー7と電気的に絶縁された状態で上
下に可動な構造となっていて、電極間距離を連続的に変
えることができる。
一方の基板(8)側の電極4は銅などの熱伝導性、導電
性の良好な材質からできており、下のヒーター5からの
熱を効率よく伝えることができる。
性の良好な材質からできており、下のヒーター5からの
熱を効率よく伝えることができる。
前記のイオンの加速効果を利用するため、電極3はアー
スされており、基板側の電極である4に高周波電位、及
び直流電圧のマイナスの電位ががけられる。
スされており、基板側の電極である4に高周波電位、及
び直流電圧のマイナスの電位ががけられる。
ガスフローコントローラーにより成分制御された炭化水
素ガス、水素ガスおよび不活性ガスの混合ガスは、反応
ガス導入バイブロを通じて均一にチャンバー内に導入さ
れる0反応ガスの導入方法は必ずしもこのような形状を
している必要はなく、7ノードとガス導入口とを兼ね備
えた形でもよい。
素ガス、水素ガスおよび不活性ガスの混合ガスは、反応
ガス導入バイブロを通じて均一にチャンバー内に導入さ
れる0反応ガスの導入方法は必ずしもこのような形状を
している必要はなく、7ノードとガス導入口とを兼ね備
えた形でもよい。
チャンバー内の雰囲気として用いる反応ガスの組成成分
比は薄膜形成に綿密な関係をもっている0反応ガス中の
水素ガスの成分比を上げることにより、グラファイトと
ダイヤモンド状炭素とが混在する薄膜中のグラファイト
を優先的にエツチングするようになるので、混在膜の中
からグラファイトをエツチング除去し、結果的に薄膜中
のダイヤモンド状炭素の含有率を上げることができる。
比は薄膜形成に綿密な関係をもっている0反応ガス中の
水素ガスの成分比を上げることにより、グラファイトと
ダイヤモンド状炭素とが混在する薄膜中のグラファイト
を優先的にエツチングするようになるので、混在膜の中
からグラファイトをエツチング除去し、結果的に薄膜中
のダイヤモンド状炭素の含有率を上げることができる。
一方、不活性ガスは、炭化水素分解のための増感作用の
働きのため、成膜速度の増大をもたらす。また、混合ガ
ス中の炭化水素ガスの割合は0.5%〜10容量%とす
ることが望ましい、0.5%未満であると成膜速度が小
さく実用性が少ない、一方、10%超では、逆に成膜速
度が大きくなりすぎて、グラファイトへの水素ガスによ
る優先的なエツチングが有効に行なえなくなるからであ
る。従って、炭化水素ガスに適当な割合で水素ガスと不
活性ガスを混合することにより、該被膜の組成、及び成
膜速度を制御することができる。
働きのため、成膜速度の増大をもたらす。また、混合ガ
ス中の炭化水素ガスの割合は0.5%〜10容量%とす
ることが望ましい、0.5%未満であると成膜速度が小
さく実用性が少ない、一方、10%超では、逆に成膜速
度が大きくなりすぎて、グラファイトへの水素ガスによ
る優先的なエツチングが有効に行なえなくなるからであ
る。従って、炭化水素ガスに適当な割合で水素ガスと不
活性ガスを混合することにより、該被膜の組成、及び成
膜速度を制御することができる。
次に、本発明を実施するための製造条件の一例を第2図
をもとに説明する。
をもとに説明する。
第2図は、後述する実施例1をベースにして、次の条件
で実験を繰り返したものであり、水素ガスと不活性ガス
のl:1混合ガスで希釈して、メタン含有量を1容量%
とした混合ガスを用いたときの、基板温度(℃)、高周
波出力(W)、直流電圧(V)と生成されるグラファイ
ト薄膜中のダイヤモンド状炭素含有率との関係を体系的
に表したものである。
で実験を繰り返したものであり、水素ガスと不活性ガス
のl:1混合ガスで希釈して、メタン含有量を1容量%
とした混合ガスを用いたときの、基板温度(℃)、高周
波出力(W)、直流電圧(V)と生成されるグラファイ
ト薄膜中のダイヤモンド状炭素含有率との関係を体系的
に表したものである。
ただし、他のパラメータ(電極間距離、52分圧等)に
より膜質が多少変動する。第2図中、A領域はダイヤモ
ンド状炭素を含まない領域、すなわち薄膜のほとんどが
アモルファス炭素もしくはグラファイトである。B領域
はダイヤモンド状炭素の割合が10%未満の領域、C領
域はダイヤモンド状炭素が10〜75%、D領域はダイ
ヤモンド状炭素が75%を越える領域であることを示し
ている。
より膜質が多少変動する。第2図中、A領域はダイヤモ
ンド状炭素を含まない領域、すなわち薄膜のほとんどが
アモルファス炭素もしくはグラファイトである。B領域
はダイヤモンド状炭素の割合が10%未満の領域、C領
域はダイヤモンド状炭素が10〜75%、D領域はダイ
ヤモンド状炭素が75%を越える領域であることを示し
ている。
もちろんC領域は更に、細かく例えば10〜30%、3
0〜50%および50〜75%等に区分することができ
る。なお、グラファイトとダイヤモンド状炭素の割合は
、ラマンスペクトルによる吸収特性から換算したもので
ある。
0〜50%および50〜75%等に区分することができ
る。なお、グラファイトとダイヤモンド状炭素の割合は
、ラマンスペクトルによる吸収特性から換算したもので
ある。
基板温度は100℃以上600℃以下に加熱するとよい
、特に 150℃以上500℃以下が望ましい。
、特に 150℃以上500℃以下が望ましい。
100℃より低い温度では、ダイヤモンド状炭素の生成
確率が極めて低くなるためか、グラファイトへの優先的
なエツチングによる効果もあまりみられなくなり、目的
とする膜は得られにくい。また、600℃を越える温度
は必要でなく、実用上無意味な温度領域となるばかりで
なく、一度生成したダイヤモンド状炭素がグラファイト
に変態するようになる。
確率が極めて低くなるためか、グラファイトへの優先的
なエツチングによる効果もあまりみられなくなり、目的
とする膜は得られにくい。また、600℃を越える温度
は必要でなく、実用上無意味な温度領域となるばかりで
なく、一度生成したダイヤモンド状炭素がグラファイト
に変態するようになる。
高周波出力は100w未満ではアモルファス炭素もしく
はグラファイトが主に生成するようになり、目的とする
薄膜を得るためには好ましくは150w以上、500W
以下とすることがよい。
はグラファイトが主に生成するようになり、目的とする
薄膜を得るためには好ましくは150w以上、500W
以下とすることがよい。
直流電圧は、 100v以上600v以下とすることが
必要で、 100 v未満では目的とするダイヤモンド
状炭素を含有するグラファイト膜が得られず、600v
超の電圧印加は高周波プラズマの不安定化を誘起し膜に
損傷を与える0本発明で目的とするような黒色透明外観
を有する薄膜を得るためには、その範囲内でも特に15
0 v以上500v以下が望ましい。
必要で、 100 v未満では目的とするダイヤモンド
状炭素を含有するグラファイト膜が得られず、600v
超の電圧印加は高周波プラズマの不安定化を誘起し膜に
損傷を与える0本発明で目的とするような黒色透明外観
を有する薄膜を得るためには、その範囲内でも特に15
0 v以上500v以下が望ましい。
耐候性試験の方法は大気曝露中3.5%NaCQ水溶液
散布(3回/日、1週間)を行ない、発錆度を5段階で
評価した。
散布(3回/日、1週間)を行ない、発錆度を5段階で
評価した。
また黒色の色合いは、既存の色差計を用いて測定したL
車、a富、b8値をもとに、黒色からの色の隔たり程度
をΔE= (L”+a”+b” )″とじて算出した
ものである。
車、a富、b8値をもとに、黒色からの色の隔たり程度
をΔE= (L”+a”+b” )″とじて算出した
ものである。
ステンレス鋼板上に、ダイヤモンド含有率(ダイヤモン
ド状炭素とグラファイトの生成比率)を各種に変化させ
た被膜をコーティングした試料の上記した耐候性試験の
評価および色差計で測定した黒色からの色の隔たり程度
(ΔE)を第3図に示す0図中の■印は前記の耐候性評
価を表わし、X印は前記のΔEを表わしている。
ド状炭素とグラファイトの生成比率)を各種に変化させ
た被膜をコーティングした試料の上記した耐候性試験の
評価および色差計で測定した黒色からの色の隔たり程度
(ΔE)を第3図に示す0図中の■印は前記の耐候性評
価を表わし、X印は前記のΔEを表わしている。
第3図より、装飾用ステンレス鋼に求められる耐候性の
良さおよび透明感のある黒色を満足する範囲は、被膜中
のダイヤモンド含有率が10〜75%の範囲であること
がわかる。ダイヤモンド含有率が10%未満では、耐候
性評価が劣ると共に色合い上でもほとんど透明感が感じ
られない、また75%超では、色合い上で、透明感が強
すぎて、落ちついた感覚が失なわれてしまう。
良さおよび透明感のある黒色を満足する範囲は、被膜中
のダイヤモンド含有率が10〜75%の範囲であること
がわかる。ダイヤモンド含有率が10%未満では、耐候
性評価が劣ると共に色合い上でもほとんど透明感が感じ
られない、また75%超では、色合い上で、透明感が強
すぎて、落ちついた感覚が失なわれてしまう。
実施例
次に本発明の実施例について述べる。
実施例1
第1図に示す装置を使用し、チャンバー内をI X 1
O−5torrまで排気後、抵抗加熱装置5により、ノ
、(板のステンレスm(100X 100mm角)の温
度を300℃にした。その後、反応ガス(メタン1%、
水素:アルゴン、l:1の混合ガス39%)を導入バイ
ブロより11005ecの汝速で導入し、雰囲気を0.
5 torrに保った。高周波電源(300W) 、定
電圧直流電源(200V )を電極間に同時印加させて
、30分間対処理行なった。
O−5torrまで排気後、抵抗加熱装置5により、ノ
、(板のステンレスm(100X 100mm角)の温
度を300℃にした。その後、反応ガス(メタン1%、
水素:アルゴン、l:1の混合ガス39%)を導入バイ
ブロより11005ecの汝速で導入し、雰囲気を0.
5 torrに保った。高周波電源(300W) 、定
電圧直流電源(200V )を電極間に同時印加させて
、30分間対処理行なった。
生成した薄膜は、ラマンスペクトルにより炭素の構造解
析を行うとともに、分光学的特性、硬さ試験、耐候性試
験等の評価を行なった。該薄膜は膜厚0.18 g m
で42%のダイヤモンド状炭素を含み、十分な硬さをも
つと共に、ステンレス鋼に黒色透明外観(L’ a窓b
” 、 27.8 2.7 5.3)を午え、また、耐
候性試験では4.6と非常に良い結果を得た。
析を行うとともに、分光学的特性、硬さ試験、耐候性試
験等の評価を行なった。該薄膜は膜厚0.18 g m
で42%のダイヤモンド状炭素を含み、十分な硬さをも
つと共に、ステンレス鋼に黒色透明外観(L’ a窓b
” 、 27.8 2.7 5.3)を午え、また、耐
候性試験では4.6と非常に良い結果を得た。
比較例1
実施例1と同一の条件下で、混合ガスにメタンガス1%
、アルゴンガス88%の混合ガスを用いて処理を行なっ
た。その結果、得られた膜は200A/winの成膜速
度を得、黒色(Ltall、車、19、? 9゜5
12.4)を呈しているものの光沢に乏しく、また硬度
の低いものであり、耐候性の結果も3.2と低下した。
、アルゴンガス88%の混合ガスを用いて処理を行なっ
た。その結果、得られた膜は200A/winの成膜速
度を得、黒色(Ltall、車、19、? 9゜5
12.4)を呈しているものの光沢に乏しく、また硬度
の低いものであり、耐候性の結果も3.2と低下した。
ラマンスペクトル構造解析の結果、ダイヤモンド状炭素
の生成は認められなかった。
の生成は認められなかった。
比較例2
実施例1と同一の条件下で、混合ガスにメタンガス1%
、水素ガス98%の混合ガスを用いて処理を行なった。
、水素ガス98%の混合ガスを用いて処理を行なった。
その結果、得られた膜は高硬度ではあるも(7)(7)
無色透明(L” a富す富、 85.3 −1.27.
5)を呈し、また成膜速度も数A/+sin、と実用的
な数字は得られなかった。
無色透明(L” a富す富、 85.3 −1.27.
5)を呈し、また成膜速度も数A/+sin、と実用的
な数字は得られなかった。
実施例2
基板温度を300℃に加熱し、高周波出力350W、直
流電圧150 vで成膜を行なった。生成した薄膜は膜
厚0.21 p−wrで成膜速度(70A/win、)
では上昇したが、ラマンスペクトル解析の結果含有する
ダイヤモンド状炭素の割合は14%と低下した。これに
伴い、膜の硬度の低下も観測されたが、依然として高い
水準の硬度を低しており、耐候性試験結果(4,5)や
装飾性(L富a本り!。
流電圧150 vで成膜を行なった。生成した薄膜は膜
厚0.21 p−wrで成膜速度(70A/win、)
では上昇したが、ラマンスペクトル解析の結果含有する
ダイヤモンド状炭素の割合は14%と低下した。これに
伴い、膜の硬度の低下も観測されたが、依然として高い
水準の硬度を低しており、耐候性試験結果(4,5)や
装飾性(L富a本り!。
22.4 7.3 11.2 )にも優れ、特に生産性
が重視される分野への応用が期待されるものである。
が重視される分野への応用が期待されるものである。
実施例3
基板温度を300℃に加熱し、高周波出力250W、直
流電圧250vで成膜を行なった。生成した薄膜は膜厚
0.11Bmと成膜速度(38A/sin、)としては
かなりの低下が見られたが、ダイヤモンド状炭素の含有
率としては71%と高く、これに伴い装飾性(L”a富
b” 、 25.5 4.1 2.2)を損なわずに非
常に高い硬度を有するものであった。また、耐候性試験
でも、4.8という優れたものであった。
流電圧250vで成膜を行なった。生成した薄膜は膜厚
0.11Bmと成膜速度(38A/sin、)としては
かなりの低下が見られたが、ダイヤモンド状炭素の含有
率としては71%と高く、これに伴い装飾性(L”a富
b” 、 25.5 4.1 2.2)を損なわずに非
常に高い硬度を有するものであった。また、耐候性試験
でも、4.8という優れたものであった。
発明の効果
本発明によって、従来得られなかった耐候性、耐摩耗性
に優れた黒色透明外観ステンレス鋼板が、広い面積にわ
って膜厚が均一で、しかも充分な成膜速度で得られる。
に優れた黒色透明外観ステンレス鋼板が、広い面積にわ
って膜厚が均一で、しかも充分な成膜速度で得られる。
装置そのものの構造も比較的簡単であり、本発明により
新しい装飾ステンレス鋼板の実用化が実現可能となり、
各種用途(特に外装および内装用建築材料および自動車
用材料等)に利用することができる。
新しい装飾ステンレス鋼板の実用化が実現可能となり、
各種用途(特に外装および内装用建築材料および自動車
用材料等)に利用することができる。
また本発明の薄膜を有するステンレス鋼は、ダイヤモン
ド状炭素とグラファイトとの混在膜であるために、スポ
ット溶接等に際してもさまたげになるものではない。
ド状炭素とグラファイトとの混在膜であるために、スポ
ット溶接等に際してもさまたげになるものではない。
第1図は、本発明を実施するための装置の一例を示す概
略図である。 第2図は、f!1膜中のダイヤモンド状炭素の割合に与
える製造要因の影響を示す図面である。 第3図は、薄膜中のダイヤモンド状炭素の割合を変えた
ステンレ鋼の耐候性評価および黒色からの色の隔たり程
度を表わすグラフである。 lφ・・高周波電源、2・・・直流電源、3・・e電極
、4・・・基板側の電極、5・・・抵抗加熱装置、6・
・・反応ガス導入パイプ、7・・・真空チャンバー、8
・・・基板、W・・・水、G・争・排気、AφΦ・ダイ
ヤモンド状炭素の割合Oの領域、B・・・ダイヤモンド
状炭素の割合105未満の領域、(II @・ダイヤモ
ンド状炭素の’l’;1合lO〜75%の領域、D−・
・ダイヤモンド状炭素の割合75%超の領域。
略図である。 第2図は、f!1膜中のダイヤモンド状炭素の割合に与
える製造要因の影響を示す図面である。 第3図は、薄膜中のダイヤモンド状炭素の割合を変えた
ステンレ鋼の耐候性評価および黒色からの色の隔たり程
度を表わすグラフである。 lφ・・高周波電源、2・・・直流電源、3・・e電極
、4・・・基板側の電極、5・・・抵抗加熱装置、6・
・・反応ガス導入パイプ、7・・・真空チャンバー、8
・・・基板、W・・・水、G・争・排気、AφΦ・ダイ
ヤモンド状炭素の割合Oの領域、B・・・ダイヤモンド
状炭素の割合105未満の領域、(II @・ダイヤモ
ンド状炭素の’l’;1合lO〜75%の領域、D−・
・ダイヤモンド状炭素の割合75%超の領域。
Claims (4)
- (1)ステンレス鋼の表面に、膜厚1μm以下のダイヤ
モンド状炭素を10〜75重量%の範囲で含有したグラ
ファイト薄膜を有することを特徴とする黒色透明外観の
ステンレス鋼。 - (2)容量結合型高周波プラズマを利用する化学気相蒸
着法によって、炭化水素ガスと共に水素ガス、不活性ガ
スの両方を含む混合ガス雰囲気中で、ステンレス鋼を基
板として、該基板を陰極側にし100〜600vの範囲
の直流電圧を印加しつつ反応させ、基板表面に膜厚1μ
m以下のダイヤモンド状炭素を10〜75重量%の範囲
で含有したグラファイト薄膜を形成させることを特徴と
する黒色透明外観のステンレス鋼の製造方法。 - (3)混合ガスが炭化水素ガスを0.5〜10容量%含
有したものである特許請求の範囲第2項記載の黒色透明
外観のステンレス鋼の製造方法。 - (4)基板温度、高周波出力および直流電圧がそれぞれ
150〜500℃、150〜500wおよび150〜5
00vの範囲であることを特徴とする特許請求の範囲第
2項または第3項記載の黒色透明外観のステンレス鋼の
製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61-122215 | 1986-05-29 | ||
JP12221586 | 1986-05-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63140083A true JPS63140083A (ja) | 1988-06-11 |
JPH0433864B2 JPH0433864B2 (ja) | 1992-06-04 |
Family
ID=14830403
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62126046A Granted JPS63140083A (ja) | 1986-05-29 | 1987-05-25 | 黒色透明外観のステンレス鋼およびその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4842945A (ja) |
JP (1) | JPS63140083A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5290610A (en) * | 1992-02-13 | 1994-03-01 | Motorola, Inc. | Forming a diamond material layer on an electron emitter using hydrocarbon reactant gases ionized by emitted electrons |
US8035929B2 (en) | 2007-08-22 | 2011-10-11 | Hitachi Maxell, Ltd. | Magnetic head assembly and magnetic tape driving apparatus |
JP2017155278A (ja) * | 2016-03-01 | 2017-09-07 | トヨタ自動車株式会社 | 成膜方法及びプラズマ化学気相成長装置 |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2580265B2 (ja) * | 1988-06-30 | 1997-02-12 | 大阪瓦斯株式会社 | 複合不織布 |
US5178905A (en) * | 1988-11-24 | 1993-01-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Process for the formation of a functional deposited film by hydrogen radical-assisted cvd method utilizing hydrogen gas plasma in sheet-like state |
JPH0649634B2 (ja) * | 1990-03-26 | 1994-06-29 | 工業技術院長 | 水素プラズマジェットを用いた六方晶ダイヤモンドの合成法 |
US5075094A (en) * | 1990-04-30 | 1991-12-24 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Method of growing diamond film on substrates |
USH1249H (en) | 1991-07-01 | 1993-11-02 | Machonkin Mary A | Coating processes with a polycrystalline diamond passivation layer |
US5669144A (en) * | 1991-11-15 | 1997-09-23 | The Gillette Company | Razor blade technology |
ZA928617B (en) * | 1991-11-15 | 1993-05-11 | Gillette Co | Shaving system. |
US5645900A (en) * | 1993-04-22 | 1997-07-08 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Diamond composite films for protective coatings on metals and method of formation |
GB2286689B (en) * | 1994-02-17 | 1997-12-03 | Kodak Ltd | A method of photography |
US6077572A (en) * | 1997-06-18 | 2000-06-20 | Northeastern University | Method of coating edges with diamond-like carbon |
JP3645726B2 (ja) * | 1999-01-14 | 2005-05-11 | 株式会社ミツトヨ | ゲージブロック |
US6245435B1 (en) | 1999-03-01 | 2001-06-12 | Moen Incorporated | Decorative corrosion and abrasion resistant coating |
FR2811686B1 (fr) * | 2000-07-17 | 2003-01-10 | Commissariat Energie Atomique | Procede de fabrication de couches de carbone aptes a emettre des electrons, par depot chimique en phase vapeur |
CA2386462A1 (en) * | 2001-05-18 | 2002-11-18 | Institut National De La Recherche Scientifique | Multi-layers coating for protecting metallic substrates |
US7026057B2 (en) | 2002-01-23 | 2006-04-11 | Moen Incorporated | Corrosion and abrasion resistant decorative coating |
US7866343B2 (en) | 2002-12-18 | 2011-01-11 | Masco Corporation Of Indiana | Faucet |
US7866342B2 (en) | 2002-12-18 | 2011-01-11 | Vapor Technologies, Inc. | Valve component for faucet |
US8555921B2 (en) | 2002-12-18 | 2013-10-15 | Vapor Technologies Inc. | Faucet component with coating |
US8220489B2 (en) | 2002-12-18 | 2012-07-17 | Vapor Technologies Inc. | Faucet with wear-resistant valve component |
US7306778B2 (en) * | 2003-06-19 | 2007-12-11 | Nanotech Llc | Diamond films and methods of making diamond films |
US20070026205A1 (en) | 2005-08-01 | 2007-02-01 | Vapor Technologies Inc. | Article having patterned decorative coating |
US9534830B2 (en) * | 2014-12-17 | 2017-01-03 | Whirlpool Corporation | Transparent tinted coating for appliance exterior panels to allow for tinted surface patterns and a process for application of coating |
US10052655B2 (en) | 2014-12-17 | 2018-08-21 | Whirlpool Corporation | Transparent tinted coating for appliance exterior panels to allow for tinted surface patterns and a process for application of coating |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4504519A (en) * | 1981-10-21 | 1985-03-12 | Rca Corporation | Diamond-like film and process for producing same |
US4434188A (en) * | 1981-12-17 | 1984-02-28 | National Institute For Researches In Inorganic Materials | Method for synthesizing diamond |
US4486286A (en) * | 1982-09-28 | 1984-12-04 | Nerken Research Corp. | Method of depositing a carbon film on a substrate and products obtained thereby |
US4495044A (en) * | 1983-05-17 | 1985-01-22 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Diamondlike flakes |
US4524106A (en) * | 1983-06-23 | 1985-06-18 | Energy Conversion Devices, Inc. | Decorative carbon coating and method |
SE442305B (sv) * | 1984-06-27 | 1985-12-16 | Santrade Ltd | Forfarande for kemisk gasutfellning (cvd) for framstellning av en diamantbelagd sammansatt kropp samt anvendning av kroppen |
US4490229A (en) * | 1984-07-09 | 1984-12-25 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Deposition of diamondlike carbon films |
US4663183A (en) * | 1984-09-10 | 1987-05-05 | Energy Conversion Devices, Inc. | Glow discharge method of applying a carbon coating onto a substrate |
US4645713A (en) * | 1985-01-25 | 1987-02-24 | Agency Of Industrial Science & Technology | Method for forming conductive graphite film and film formed thereby |
US4725345A (en) * | 1985-04-22 | 1988-02-16 | Kabushiki Kaisha Kenwood | Method for forming a hard carbon thin film on article and applications thereof |
US4647512A (en) * | 1986-03-20 | 1987-03-03 | The Perkin-Elmer Corporation | Diamond-like carbon films and process for production thereof |
-
1987
- 1987-05-25 JP JP62126046A patent/JPS63140083A/ja active Granted
- 1987-05-26 US US07/053,659 patent/US4842945A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5290610A (en) * | 1992-02-13 | 1994-03-01 | Motorola, Inc. | Forming a diamond material layer on an electron emitter using hydrocarbon reactant gases ionized by emitted electrons |
US8035929B2 (en) | 2007-08-22 | 2011-10-11 | Hitachi Maxell, Ltd. | Magnetic head assembly and magnetic tape driving apparatus |
JP2017155278A (ja) * | 2016-03-01 | 2017-09-07 | トヨタ自動車株式会社 | 成膜方法及びプラズマ化学気相成長装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0433864B2 (ja) | 1992-06-04 |
US4842945A (en) | 1989-06-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS63140083A (ja) | 黒色透明外観のステンレス鋼およびその製造方法 | |
JP2002009071A (ja) | フッ素含有材料及び処理 | |
Petherbridge et al. | Low temperature diamond growth using CO 2/CH 4 plasmas: Molecular beam mass spectrometry and computer simulation investigations | |
JPS6171626A (ja) | グロー放電による硬質の炭素質膜の堆積方法及び該方法により堆積された膜を有する半導体デバイス | |
Wu et al. | Synthesis and characterization of fine grain diamond films | |
Lin et al. | Preparation and characterization of aluminum oxide films by plasma enhanced chemical vapor deposition | |
Klerer | On the mechanism of the deposition of Silica by Pyrolytic decomposition of Silanes | |
González-Luna et al. | Deposition of silicon oxinitride films from hexamethyldisilizane (HMDS) by PECVD | |
Poll et al. | Optical properties of plasma polymer films | |
Yoshihara et al. | SiC synthesis by a plasma deposition process | |
Shiue et al. | Effects of deposition parameters on characteristics of carbon coatings on optical fibers prepared by thermal chemical vapor deposition | |
Kristof et al. | Emission FTIR studies on the formation mechanism of IrO2/TiO2 based coatings | |
CA2074331A1 (en) | Thin-film coatings made by means of plasma-activated chemical vapor deposition of fluorinated cycle siloxanes | |
Creatore et al. | Ellipsometric characterization of expanding thermal plasma deposited SiO2-like films | |
Rouessac et al. | Preparation of silica membranes inside macroporous alumina tubes by PECVD for hydrogen selectivity | |
JPS62180073A (ja) | 非晶質炭素膜およびその製造方法 | |
Lindsay et al. | Effect of surface species concentrations and temperature on diamond film morphology in inductively coupled rf plasma CVD | |
Lin et al. | High‐Rate Deposition of Electrochromic Organotungsten Oxide Thin Films for Flexible Electrochromic Devices by Atmospheric Pressure Plasma Jet: The Effect of Substrate Distance | |
Therasse et al. | Effects of deposition temperature on the structure of amorphous carbon nitride films | |
Marcinauskas et al. | Synthesis of carbon coatings employing a plasma torch from an argon–acetylene gas mixture at reduced pressure | |
Lin et al. | Effects of ammonia addition on thermal chemical vapor deposition rates and microstructures of carbon films | |
Huran et al. | Effect of deposition temperature on the properties of amorphous silicon carbide thin films | |
CN113213774A (zh) | 石墨烯玻璃及其制备方法 | |
Pisana et al. | Optical properties of hydrogenated amorphous carbon thin films prepared by dc saddle field plasma-enhanced chemical vapor deposition | |
JPH05202211A (ja) | 耐摩耗性プラスチック成形物及びその製造方法 |