JPS63128526A - Pigイオン源 - Google Patents
Pigイオン源Info
- Publication number
- JPS63128526A JPS63128526A JP27371686A JP27371686A JPS63128526A JP S63128526 A JPS63128526 A JP S63128526A JP 27371686 A JP27371686 A JP 27371686A JP 27371686 A JP27371686 A JP 27371686A JP S63128526 A JPS63128526 A JP S63128526A
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- cathode
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- Pending
Links
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Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
」棗上図■且分賢
本発明はより長時間、荷電粒子を各種装置に提供するこ
とのできるPIGイオン源に関する。
とのできるPIGイオン源に関する。
見来佼伎五
原子核の人工的な核変換やその構造を調べるために使用
されるサイクロトロン等の装置に荷電粒子を提供する装
置の一つとしてPIGイオン源がある。 第3図は従来
のPIGイオン源の断面の概略を示す模式図である。図
において陰極52には負電圧が印加され、陽極51は接
地されている。すると陰極52の端面53からは電子6
1が飛び出す。しかし、磁界が矢印90の方向に加えら
れているので、電子61aは陽極51に向かわずに螺旋
運動をしながら対向する陰極52bに向かって進み、対
向する陰極52bに近づくと反発されて戻ってくる。そ
して、元の陰極52aによって再び反発されるので、電
子61aは往復の運動をくり返す。電子61の運動によ
って、陽極51内に導入されているガス58の一部がイ
オン71になる。プラスの電荷を帯びたイオンの一部7
2は陰極52aに引き寄せられて衝突し、2次電子81
を発生させる。この2次電子81もまた上記と同様の往
復運動をくり返し、これら電子とイオン相互の働きによ
ってプラズマ状態かっ(られる。
されるサイクロトロン等の装置に荷電粒子を提供する装
置の一つとしてPIGイオン源がある。 第3図は従来
のPIGイオン源の断面の概略を示す模式図である。図
において陰極52には負電圧が印加され、陽極51は接
地されている。すると陰極52の端面53からは電子6
1が飛び出す。しかし、磁界が矢印90の方向に加えら
れているので、電子61aは陽極51に向かわずに螺旋
運動をしながら対向する陰極52bに向かって進み、対
向する陰極52bに近づくと反発されて戻ってくる。そ
して、元の陰極52aによって再び反発されるので、電
子61aは往復の運動をくり返す。電子61の運動によ
って、陽極51内に導入されているガス58の一部がイ
オン71になる。プラスの電荷を帯びたイオンの一部7
2は陰極52aに引き寄せられて衝突し、2次電子81
を発生させる。この2次電子81もまた上記と同様の往
復運動をくり返し、これら電子とイオン相互の働きによ
ってプラズマ状態かっ(られる。
そして、プラスの電荷を帯びたイオン73は引き出し電
極57によってイオン放射口56から構成される装置へ
と導かれていく。
極57によってイオン放射口56から構成される装置へ
と導かれていく。
陰極52はイオン72が1脂突した時に生じるスパッタ
リング現象によって徐々に減るとともに、陽極51の壁
面51aには陰極52からはじき出された粒子が堆積し
た針状の堆積物40が成長する。堆積物40が成長して
陰極52と接触すると陰極52に電圧がかからなくなる
ので、イオン73を発生させることができなくなる。そ
のような場合には、PIGイオン源を停止させ、陽極5
1に堆積した堆積物40を除去しなければならない。
リング現象によって徐々に減るとともに、陽極51の壁
面51aには陰極52からはじき出された粒子が堆積し
た針状の堆積物40が成長する。堆積物40が成長して
陰極52と接触すると陰極52に電圧がかからなくなる
ので、イオン73を発生させることができなくなる。そ
のような場合には、PIGイオン源を停止させ、陽極5
1に堆積した堆積物40を除去しなければならない。
(2しよ゛と る。−占
一旦堆積物が陰極と接触すると、そのPIGイオン源は
イオンを発生できなくなり、多大な時間を必要とする堆
積物を陽極から除去するメンテナンス作業をしなければ
ならない。
イオンを発生できなくなり、多大な時間を必要とする堆
積物を陽極から除去するメンテナンス作業をしなければ
ならない。
本発明は上記事情に鑑みて創案されたもので、堆積物を
陽極の壁面から取り除くことで、メンテナンス作業まで
の時間を延ばし、寿命の長いPIGイオン源を提供する
ことを目的としている。
陽極の壁面から取り除くことで、メンテナンス作業まで
の時間を延ばし、寿命の長いPIGイオン源を提供する
ことを目的としている。
4、 占 〒° るための
本発明に係るPIGイオン源は、陰極とイオンとの間に
生じるスパッタリング現象によって陽極に成長する堆積
物に振動を与えて前記堆積物を掻き落とす振動発生装置
を有する。
生じるスパッタリング現象によって陽極に成長する堆積
物に振動を与えて前記堆積物を掻き落とす振動発生装置
を有する。
皿
本発明に係るPIGイオン源は、陽極に成長する堆積物
に振動を与えることによって堆積物を陽極から掻き落と
す。
に振動を与えることによって堆積物を陽極から掻き落と
す。
1蓋賀
以下、図面を参照して本発明に係る一実施例を説明する
。
。
第1図はPIGイオン源の断面の模式図である。
なお、PIGイオン源の構造、動作は従来のものと同一
なので詳細な説明は省略する。
なので詳細な説明は省略する。
PIGイオン源は、図示しない真空チャンバの内部に設
置されており、当該チャンバはサイクロトロン等の加速
装置の所定位置に取り付けられている。
置されており、当該チャンバはサイクロトロン等の加速
装置の所定位置に取り付けられている。
例えば、銅等で形成された円筒形状の陽極100は、発
生したイオンを図示しない加速装置に提供するための引
出口110が所定位置に開設されるとともに、その内部
には、絶縁性のインシュレータ300a、 300bを
介して一対の陰極200a、200bが設置されている
。また、120は冷却水が流れるジャケットであり、1
30はプラズマ用空間140にガスを補給するガス導入
口である。
生したイオンを図示しない加速装置に提供するための引
出口110が所定位置に開設されるとともに、その内部
には、絶縁性のインシュレータ300a、 300bを
介して一対の陰極200a、200bが設置されている
。また、120は冷却水が流れるジャケットであり、1
30はプラズマ用空間140にガスを補給するガス導入
口である。
例えば、タンタル等で形成された一対の陰極200a、
200bは、その端面210a、 210bが丸く形成
されるとともに、当該端面210a、 210bが対向
するように陽極100内に設置されている。
200bは、その端面210a、 210bが丸く形成
されるとともに、当該端面210a、 210bが対向
するように陽極100内に設置されている。
インシュレータ300は陽極100と陰極200′との
間を絶縁するものであり、インシュレータ300の略中
央部には、前記陰極が立設されている。図面下側のイン
シュレータ300bは断面略凸字形状をなし、中央の突
部に陰極200bが立設されている。
間を絶縁するものであり、インシュレータ300の略中
央部には、前記陰極が立設されている。図面下側のイン
シュレータ300bは断面略凸字形状をなし、中央の突
部に陰極200bが立設されている。
第2図に示すように、振動発生装置500は、絶縁物質
で被覆された陽極100の外周に接触して設置されてい
る。振動発生装置500は、コイル510と可動鉄片5
20と交流電源530とから構成され、コイル510に
発生する磁界によって可動鉄片520が振動し、その振
動を陽極100に与える。
で被覆された陽極100の外周に接触して設置されてい
る。振動発生装置500は、コイル510と可動鉄片5
20と交流電源530とから構成され、コイル510に
発生する磁界によって可動鉄片520が振動し、その振
動を陽極100に与える。
陰極300から発生した電子は、従来の技術の欄での説
明と同様の過程を経てイオンを開口110から図示しな
い加速装置等に提供する。
明と同様の過程を経てイオンを開口110から図示しな
い加速装置等に提供する。
その際、陰極200とイオンとの間で、スパッタリング
現象が発生し、陰極300の表面を構成する粒子が陰極
300の表面から叩き出されて、陽極100の内面に堆
積し、針状の堆積物400となる。
現象が発生し、陰極300の表面を構成する粒子が陰極
300の表面から叩き出されて、陽極100の内面に堆
積し、針状の堆積物400となる。
堆積物400が成長して、陰極200と接触すると、陰
極200に電圧がかからな(なり、陰極200から電子
が発生しなくなるので、イオンも発生しなくなる。その
際、振動発生装置500によって陽極100に振動を与
えると、陽極100の内面に成長した堆積物400が陽
極100の内面から掻き落とされ、当該堆積物400は
前記インシュレータ300bの凹部骨に溜り、陽極10
0と陰極200とをショートさせることがない。
極200に電圧がかからな(なり、陰極200から電子
が発生しなくなるので、イオンも発生しなくなる。その
際、振動発生装置500によって陽極100に振動を与
えると、陽極100の内面に成長した堆積物400が陽
極100の内面から掻き落とされ、当該堆積物400は
前記インシュレータ300bの凹部骨に溜り、陽極10
0と陰極200とをショートさせることがない。
なお、上記実施例では、振動発生装置500をコイル5
101可動鉄片520及び交流電源530から構成した
が、本発明は上記実施例に限定されることなく他の手段
、例えば弾性片等による機械的手段とすることも可能で
ある。
101可動鉄片520及び交流電源530から構成した
が、本発明は上記実施例に限定されることなく他の手段
、例えば弾性片等による機械的手段とすることも可能で
ある。
また、振動発生装置500は、陽極100を介して堆積
物400に対し振動を与えることが可能な場所であれば
、陽極100に接触させて設置しなくともよい。さらに
、振動発生装置500の振動は、断続的なものでも連続
的なものでもよい。
物400に対し振動を与えることが可能な場所であれば
、陽極100に接触させて設置しなくともよい。さらに
、振動発生装置500の振動は、断続的なものでも連続
的なものでもよい。
主所豊苅1
本発明に係るPIGイオン源によれば、イオン発生の阻
害要因となる堆積物を振動発生装置によって掻き落とす
ことができるので、イオンを発生させる能力がより長時
間持続するとともに、堆積物を陽極から掻き落とすメン
テナンス作業までの時間が延長される。
害要因となる堆積物を振動発生装置によって掻き落とす
ことができるので、イオンを発生させる能力がより長時
間持続するとともに、堆積物を陽極から掻き落とすメン
テナンス作業までの時間が延長される。
第1図は本発明に係るPIGイオン源の断面の模式図、
第2図は本発明に係るPIGイオン源の正面の模式図、
第3図は従来のPIGイオン源の断面の模式図である。 100 ・・・陽極、200 ・・・陰極、400
・・・堆積物、500 ・・・振動発生装置。
第2図は本発明に係るPIGイオン源の正面の模式図、
第3図は従来のPIGイオン源の断面の模式図である。 100 ・・・陽極、200 ・・・陰極、400
・・・堆積物、500 ・・・振動発生装置。
Claims (1)
- (1)荷電粒子を各種装置に提供するPIGイオン源に
おいて、陰極と荷電粒子との間に生じるスパッタリング
現象によって陽極に成長する堆積物に振動を与えて前記
堆積物を掻き落とす振動発生装置を有することを特徴と
するPIGイオン源。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27371686A JPS63128526A (ja) | 1986-11-17 | 1986-11-17 | Pigイオン源 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27371686A JPS63128526A (ja) | 1986-11-17 | 1986-11-17 | Pigイオン源 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63128526A true JPS63128526A (ja) | 1988-06-01 |
Family
ID=17531563
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27371686A Pending JPS63128526A (ja) | 1986-11-17 | 1986-11-17 | Pigイオン源 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63128526A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006093137A (ja) * | 2004-09-20 | 2006-04-06 | Samsung Electronics Co Ltd | イオン電流密度を向上させるアークチャンバを持つイオン注入装置 |
-
1986
- 1986-11-17 JP JP27371686A patent/JPS63128526A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006093137A (ja) * | 2004-09-20 | 2006-04-06 | Samsung Electronics Co Ltd | イオン電流密度を向上させるアークチャンバを持つイオン注入装置 |
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