JPS63122222A - 溶剤洗浄装置 - Google Patents
溶剤洗浄装置Info
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- JPS63122222A JPS63122222A JP27017186A JP27017186A JPS63122222A JP S63122222 A JPS63122222 A JP S63122222A JP 27017186 A JP27017186 A JP 27017186A JP 27017186 A JP27017186 A JP 27017186A JP S63122222 A JPS63122222 A JP S63122222A
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- processing vessel
- vessel
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- Pending
Links
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 20
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 3
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Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体ウェハー又は治工具類の洗浄等で用いる
溶剤洗浄装置に関し、特に、溶剤の環境汚染低減に関す
るものである０ 〔従来の技術〕 従来、この種の溶剤洗浄装置は、上部が開口となり九処
理権に処理液を溜めて、被処理物を洗浄する為、処理槽
のまわりより、排気欠取る構造となってい九〇 〔発明が解決しようとする問題点〕 上述し九従来の溶剤洗浄装置では、処理液が直接外気と
触れる為、排気ダクト終段に高価な溶剤回収装置ｔｒａ
ｖ付ける必要があり、又、被処理物を取り出す時に処理
液を持ち出すという環境汚染の原因となる欠点があり７
ｔ。
溶剤洗浄装置に関し、特に、溶剤の環境汚染低減に関す
るものである０ 〔従来の技術〕 従来、この種の溶剤洗浄装置は、上部が開口となり九処
理権に処理液を溜めて、被処理物を洗浄する為、処理槽
のまわりより、排気欠取る構造となってい九〇 〔発明が解決しようとする問題点〕 上述し九従来の溶剤洗浄装置では、処理液が直接外気と
触れる為、排気ダクト終段に高価な溶剤回収装置ｔｒａ
ｖ付ける必要があり、又、被処理物を取り出す時に処理
液を持ち出すという環境汚染の原因となる欠点があり７
ｔ。
一本発明は、このような欠点を除去するために密閉式の
処理槽と処理槽内へ処理液上提供する機能と処理槽内の
空気を貯留、脱臭上行なうｋめの加圧タンクｋＮしてい
る。
処理槽と処理槽内へ処理液上提供する機能と処理槽内の
空気を貯留、脱臭上行なうｋめの加圧タンクｋＮしてい
る。
次に、本発明について図面上参照して説明する。
第１図は本発明の一実施例の側面断面内である。
図示するよりに処理槽ＩＫ被処理物２２を入れ、処理槽
１を密閉にし、処理槽内を真空ポンプ２０゜排気パルプ
１ｓｔ−用いて、外気へにがし、真空パルブ１９ｔ−開
け、加圧タンク１２と処理槽１の圧力を等しくしておく
。貯液タンク４には、あらかじめ処理液５を満しておき
、圧送ポンプ６にて。
１を密閉にし、処理槽内を真空ポンプ２０゜排気パルプ
１ｓｔ−用いて、外気へにがし、真空パルブ１９ｔ−開
け、加圧タンク１２と処理槽１の圧力を等しくしておく
。貯液タンク４には、あらかじめ処理液５を満しておき
、圧送ポンプ６にて。
処理槽１へ給液することにより、被処理物２２’ｔ−洗
浄することができる。指定時間の洗浄が終れば、回収パ
ルプ３を開け、処理液５を再び貯液タンク４へもどし、
回収パルプ３を閉める。次に被処理物２２及び処理槽内
に付着し次処理液５を取るためにパルプ９及びパルプ１
５７Ｆ−開け、処理槽内を乾燥させる。一定時間の乾燥
が終れば処理僧門の処理液５の雰囲気を真空ポンプ２（
１−用いて、加圧タンク１２に貯留しておく。加圧タン
ク内では冷却コイルで、処理液５の回収を行なう。処理
槽１へはパルプ１ｓｔ用いて外気圧と同じにしておき、
被処理物２２′ｔ−取り出せば処理液５の雰囲気を外気
に放出することがなく、又、被処理物２２に付着し次処
理液を持ち出すことがなくなる為。
浄することができる。指定時間の洗浄が終れば、回収パ
ルプ３を開け、処理液５を再び貯液タンク４へもどし、
回収パルプ３を閉める。次に被処理物２２及び処理槽内
に付着し次処理液５を取るためにパルプ９及びパルプ１
５７Ｆ−開け、処理槽内を乾燥させる。一定時間の乾燥
が終れば処理僧門の処理液５の雰囲気を真空ポンプ２（
１−用いて、加圧タンク１２に貯留しておく。加圧タン
ク内では冷却コイルで、処理液５の回収を行なう。処理
槽１へはパルプ１ｓｔ用いて外気圧と同じにしておき、
被処理物２２′ｔ−取り出せば処理液５の雰囲気を外気
に放出することがなく、又、被処理物２２に付着し次処
理液を持ち出すことがなくなる為。
安全でかつ環境汚染もなく、溶剤の洗浄が可能となる。
第２幽は１本発明の実施例２の側面断面図である０実施
例１において、処理槽ｌ七耐高圧のものｔ用い、ヒータ
ー２５７設けることにより、煮沸洗浄及びペーパー洗浄
が可能となる。
例１において、処理槽ｌ七耐高圧のものｔ用い、ヒータ
ー２５７設けることにより、煮沸洗浄及びペーパー洗浄
が可能となる。
以上説明したように本発明は、中導体ウェハー又は治工
具類を溶剤上用いて洗浄する装置において、密閉式の処
理櫂七有し、処理槽内へ処理液上提供する機能を有し、
又、処理槽内の空気を貯留し、脱臭上行なう丸めの加圧
タンクを有することにより、処理液が直接外気と触れな
い為、排気ダクト終段の高価な溶剤回収装置が不用にな
り、又、処理液ｔ−ａｍ外に持ち出すということがなく
なるという効果がある。
具類を溶剤上用いて洗浄する装置において、密閉式の処
理櫂七有し、処理槽内へ処理液上提供する機能を有し、
又、処理槽内の空気を貯留し、脱臭上行なう丸めの加圧
タンクを有することにより、処理液が直接外気と触れな
い為、排気ダクト終段の高価な溶剤回収装置が不用にな
り、又、処理液ｔ−ａｍ外に持ち出すということがなく
なるという効果がある。
第１図及び第２図は本発明の実施例である。
１・・・・・・処理’！ａ、 ｚ・・・・・・パンチ
ング板、３・・・・・・回収バルブ、４・・・・・・貯
液タンク、５・・・・・・処理液、６・・・・・・圧送
ポンプ、７・・・・・・排液パルプ、８・・・・・・給
液パルプ、９・・・・・・パルプ、１０・・・・・・水
分離器、１１・・・・・・パルプ、１２・・・・・・加
圧タンク、１３・・・・・・回収パルプ、１４・・・・
・・冷却コイル、１５−・・・・・パルプ、。 １６・・・・・・冷却コイル、１７・・・・・・パルプ
、１８・・・・・・排気パルプ、１９・・・・・・真空
パルプ、２０・・・・・・真空ポンプ、２１・・・・・
・真空ゲージ、２２・・・・・・被処理物、２３・・・
・・・パルプ、２４・・・・・・ヒーター、第３図は従
来の溶剤洗浄装置である０２５・・・・・・処理槽、２
６・・・・・・処理液、２７・・・・・・ヒーター、２
８・旧・・冷却パイプ、２９・・・・・・フード、３０
・・・・・・排気ダクト。
ング板、３・・・・・・回収バルブ、４・・・・・・貯
液タンク、５・・・・・・処理液、６・・・・・・圧送
ポンプ、７・・・・・・排液パルプ、８・・・・・・給
液パルプ、９・・・・・・パルプ、１０・・・・・・水
分離器、１１・・・・・・パルプ、１２・・・・・・加
圧タンク、１３・・・・・・回収パルプ、１４・・・・
・・冷却コイル、１５−・・・・・パルプ、。 １６・・・・・・冷却コイル、１７・・・・・・パルプ
、１８・・・・・・排気パルプ、１９・・・・・・真空
パルプ、２０・・・・・・真空ポンプ、２１・・・・・
・真空ゲージ、２２・・・・・・被処理物、２３・・・
・・・パルプ、２４・・・・・・ヒーター、第３図は従
来の溶剤洗浄装置である０２５・・・・・・処理槽、２
６・・・・・・処理液、２７・・・・・・ヒーター、２
８・旧・・冷却パイプ、２９・・・・・・フード、３０
・・・・・・排気ダクト。
Claims (1)
- 半導体ウェハー又は治工具類を溶剤を用いて洗浄する
装置において、密閉式の処理槽を有し、処理槽内へ処理
液を提供する機能を有し、又、処理槽内の空気を貯留し
、脱臭を行なうための加圧タンクを有し、処理液が消耗
しない完全回可能なことを特徴とした溶剤洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27017186A JPS63122222A (ja) | 1986-11-12 | 1986-11-12 | 溶剤洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27017186A JPS63122222A (ja) | 1986-11-12 | 1986-11-12 | 溶剤洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63122222A true JPS63122222A (ja) | 1988-05-26 |
Family
ID=17482520
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27017186A Pending JPS63122222A (ja) | 1986-11-12 | 1986-11-12 | 溶剤洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63122222A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008279828A (ja) * | 2007-05-09 | 2008-11-20 | Japan Hamuwaaji Kk | 舵取機の舵角検出装置 |
-
1986
- 1986-11-12 JP JP27017186A patent/JPS63122222A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008279828A (ja) * | 2007-05-09 | 2008-11-20 | Japan Hamuwaaji Kk | 舵取機の舵角検出装置 |
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