JPS63111987A - 蒸気洗浄方法及び装置 - Google Patents

蒸気洗浄方法及び装置

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JPS63111987A
JPS63111987A JP25858186A JP25858186A JPS63111987A JP S63111987 A JPS63111987 A JP S63111987A JP 25858186 A JP25858186 A JP 25858186A JP 25858186 A JP25858186 A JP 25858186A JP S63111987 A JPS63111987 A JP S63111987A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 く技術分野〉 開示技術は蒸気の凝縮の際の洗浄機能を利用し光学レン
ズや電子部品等の超精密部品の洗浄を行う洗浄装置の蒸
気供給の技術分野に属する。
〈要旨の解説〉 而して、この出願の発明は光学レンズや電子部品等の超
精密工業製品のワークが前段で一次洗浄され、その後の
蒸気洗浄に用いる蒸気洗浄装置において、蒸気洗浄槽が
その底部に洗浄作用により熱を失ってワーク表面に凝縮
する原液を回収するドレンを有し、別設されている蒸気
原液苗の原液貯留部とパイプ等の通路で接続され、又、
蒸気原液室の下部に設けられているヒーターによって原
液上方に生成貯留される蒸気のストック部と該蒸気洗浄
槽の蒸気の洗浄有効熱量を保つべく連通され、蒸気量を
蒸気洗浄槽が維持して洗浄を行う方法とそれに直接使用
する装置に関する発明であり、特に、連通路の間には蒸
気洗浄槽に貯留される蒸気の量の不足に対すべく設けら
れたセンサーにより開閉制御されるシャッターによって
蒸気量を常に所定量維持し、確実にワークを蒸気中に浸
漬して洗浄するように補給される蒸気洗浄槽内の蒸気量
維持状態での洗浄方法及び装置に係る発明でおる。
〈従来技術〉 周知の如く、光学工業、電子工業等超精密部品製造産業
においては製品の超精密部品の精度が極めて高く要求さ
れるようになってきており、一般に該種超精密部品の精
度を高めることは換言すれば、微細な塵埃の影響を無視
出来ないまでの精度とするということであり、したがっ
て、製造技術か相当に高度に開発されてくると、塵埃を
除去する装置もそれに附随してより高度に開発される必
要がある。
現実に近代超精密工業では塵埃等が超精密部品に影響を
及ぼす程製品が精密度化されており、製造工程と洗浄工
程が終了して製品が出荷されるものであり、洗浄工程に
おいてはよりいっそうの効率化が求められている。
而して、製造工程で不可避的に付着する汚れの形態とし
て製造工程で塵埃等の付着に対し充分の配慮がされてい
るものの、クリーンルームでさえ全くの無塵とは言いき
れず、搬送、取り扱い特等空気中に浮遊する塵埃等は該
種精密部品の有する静電気によってむしろ塵埃を吸着す
る場合もおる。
又、前段洗浄工程で不充分な洗浄状態で送られて来た場
合等では部品に汚れがそのまま付着し次工程へ持ち込ま
れる場合もおる。
該種電子部品の材質、取り扱い上−度塵埃等を取り除い
たものに再び塵埃が付着していく悪循環に対しては容易
に完全洗浄は果せず、このような、現状のもとに洗浄分
野では複数工程の洗浄が行われるようにされており、そ
の1つとして蒸気の凝結液化プロセスでの洗い流し作用
を利用した所謂蒸気洗浄が用いられている。
核種超精密部品の最終洗浄等で使用される蒸気洗浄は洗
浄されるワークを蒸気の中へ曝すことによって、ワーク
の相対低温による蒸気の凝結液化を介してのワークの表
面での洗浄液のワーク表面での洗い流し作用により汚れ
が除去されることを利用したものである。
かかる蒸気洗浄を従来核種蒸気洗浄装置による態様で略
説すると、第5図に示す様に、蒸気洗浄装置1は蒸気洗
浄槽2の上部が開口されており、例えば、アルコール蒸
気中に上方より所定のバスケット3に収納されてレンズ
等のワーク4が浸されると、該ワーク4は洗浄原液とは
相対的に低温のため蒸気の凝結によりワーク4に付着流
下することにより表面の汚れが剥離され、蒸気は原液の
滴となり凝縮してワーク4から@脱落下し、蒸気洗浄槽
2の底部に設けられているドレン5に集液され、別設さ
れている蒸気原液室11の原液貯留部12に継合される
通路8を流下していく。
そして、通路8の途中に設けられた防塵フィルター9を
介して汚れを分離した後、ポンプ13によって蒸気原液
室11の原液貯留部12へ圧送され除去された汚れ分は
適宜に処理される。
蒸気原液室11に於いては下部にアルコール原液を蒸気
化する所定のヒーター14が設けられて蒸気が生成され
、ストレートに蒸気洗浄槽2と蒸気原液室11の蒸気ス
トック部15は連通路19で接続され、アルコールの経
路をして循環的になるようにされている。
〈発明が解決しようとする問題点〉 ざりながら、かかる態様の従来技術では搬入されたワー
ク4に凝結する液滴の量がワーク4の熱吸収量によって
決まり、ヒーター14は蒸気を生成する一方であって、
蒸気洗浄槽2に蒸気不足をきたさないように常に多量に
送給すると、蒸気洗浄槽2の上部開口部からオーバーフ
ローする場合もあり、不経済である不利点があり、逆に
蒸気の少量生成分ではワーク搬入時に最も多量の蒸気が
大きな温度差により凝結されるので、原液貯留部の蒸気
生成能力では追従出来ず、蒸気レベルが急速に下がり、
ワークの上部が蒸気層の上に露出して洗浄不良を起こし
、洗浄不充分が生じてシミ等が生ずる虞がある欠点があ
る。
又、効率良く蒸気を生成させようとすれば、ワーク4の
時間経過による蒸気の凝結に合わせたヒーター加熱の制
御をしなければならず、制御に難点があり、又、確実に
蒸気洗浄を行うために蒸気を充分に供給するためヒータ
ー14の容量を大きくぜざるを得ず、容量が大きく、装
置の高が大となってメンテナンスが煩瑣となるという不
都合がおる。
〈発明の目的〉 この出願の発明の目的は上述従来技術に基づく蒸気洗浄
の蒸気温維持手段の不備による問題点を解決すべき技術
的課題とし、蒸気洗浄における洗浄用の蒸気量を自動的
に最適量に常に保持するように制御し、必要時に必要充
分な最の供給がなされ、ヒーター容量の無駄を防ぐと共
に、装置は全体としてコンパクトに、且つ、操作し易く
有効な蒸気洗浄が行えるようにして精密部品製造産業に
おける洗浄技術利用分野に益する優れた蒸気洗浄方法及
び装置を提供せんとするものである。
〈発明の構成〉 上述目的に沿い先述特許請求の範囲を要旨とするこの出
願の発明の構成は前述問題点を解決するために、蒸気洗
浄装置の蒸気洗浄槽の底部に洗浄用蒸気の凝縮液を回収
するドレンを設けてスムースに蒸気の凝結による滴下液
回収液を排出するようにし、該ドレンには除便フィルタ
ーが介装されて不純物を除去するようにし、ドレンから
の通路が蒸気原液室の原液貯留部へ接続され、又、該蒸
気原液室に設置されているヒーターによって原液から蒸
気が加熱生成され、蒸気ストック部で昇圧されて貯留さ
れ、而して、蒸気洗浄槽と接続する連通路の途中にシャ
ッターが設けられており、蒸気洗浄槽内の蒸気が常にオ
ーバーフローしないように所定量貯留されるようにし、
蒸気洗浄槽に設けられたセンサーにより蒸気面の所定レ
ベル以下に蒸気を保つようにそのセンサーと接続するυ
III装置を介してシャッターを開閉し、蒸気洗浄槽に
蒸気を送気するようにし、而して、蒸気洗浄装置の蒸気
洗浄槽の上部よりワークが投入され、蒸気はワークに冷
却されて凝結し集合されて液滴となり、ワーク表面で流
下し、ワークに対する洗浄作用を行い、滴下して蒸気洗
浄槽下部のドレンを介して蒸気原液室に戻され、しかも
、ワークは周囲の蒸気に対し上述の如く相対的に低温で
あるために、該ワーク周囲の蒸気に対する熱吸収と相俟
ってワーク投入直後に最も多量の蒸気が凝結することと
なり、該蒸気の減少量に対し蒸気量、もしくは、投入さ
れるワークを検知センサーで検出して電気的制御を介し
てシャッターを開き、蒸気洗浄槽に蒸気を補充するよう
に蒸気原液室の蒸気ストック部より昇圧されている蒸気
を送り込み、蒸気レベルの上限、もしくは、ワークの引
き上げをセンサーの検出による電気的制御を介してシャ
ッターを再び閉じてオーバーフローすることがないよう
にし、その間、蒸気ストック部ではヒーターによる蒸気
の生成が少量づつ続行し、蒸気洗浄槽に於ける蒸気量を
有効に保持し、又、併せてヒーター容量を小さく出来る
ようにした技術的手段を講じたものである。
〈実施例〉 次に、この出願の発明の実施例を第1〜4図に基づいて
説明すれば以下の通りである。尚、第5図と同一態様部
分は同一符号を用いて説明するものとする。
第1.2図に示す実施例において、1′は、蒸気洗浄装
置であり、この発明の要旨の中心を成すものであって、
その蒸気洗浄槽2は上部が開放されており、上方より図
示しない搬送コンベアによって前段工程から送給されて
くるバスケット3がレンズ等の被洗浄物のワーク4を蒸
気洗浄槽2の蒸気中に所定時間浸漬させて所定の蒸気洗
浄作用を受けさせ、引き上げられて次段工程に送給され
るように制御されている。
そして、蒸気洗浄槽2はステンレス製の平断面四角形で
その底部にはドレン孔5を有したトレイ6が凝縮して落
下する蒸気の液滴を回収すべく外部に対する保温をなす
断熱材7が介され設けられている。
而して、後述する如く洗浄済で凝結落下するアルコール
の原液はドレン孔5より継合されるパイプ8を介し除塵
フィルター9で汚れ分と原液が分離され、汚れ分は外部
へ所定に排出され、原液10は蒸気原液室11の原液貯
留部12ヘポンプ13を介して送給されるようにされて
いる。
又、該原液貯留部12を有する蒸気原液室11はステン
レス製でその下部には在来態様よりは小電力のヒーター
14が設けられ、蒸気原液室11の内部の原液貯留部1
2に貯留される洗浄用の有機溶剤のアルコール原液10
を加熱して蒸気原液室11の内部の蒸気ストック部15
にアルコールの蒸気16を生成するようにされている。
尚、図示はしないが、原液10の補充や交換のために注
入口、及び、排液口が設けられている。
又、ヒーター14は上述の如く在来態様よりは小電力タ
イプではあるが、蒸気洗浄槽2内の蒸気16がワーク4
によって冷却され、凝結して減じた量をワーク4の洗浄
時間内で生成し1qる充分の発熱容量を有しており、稼
動中は常時加熱作用を行うようにされている。
そして、蒸気原液室11には生成され、昇圧された蒸気
16を蒸気洗浄槽2へ送給する通路口17が設けられて
不測の圧力オーバーに備えて、リリーフバルブ18が付
設されている。
而して、蒸気原液室11は蒸気洗浄槽2と連通路19に
よって連通され、その所定部位には蒸気洗浄槽2の蒸気
層のオーバーフローしない上限の上レベルと下レベル(
ワーク4のバスケット3のレベルよりは充分な上位のレ
ベル)を検出して制御信号を送る周知の適宜の温度セン
サー20により制御装置21を介して開閉が制御される
電磁式のシャッター22が設けられて設定レベルの上レ
ベルでは閉じ、下レベルでは開いて蒸気洗浄槽2内へ蒸
気を蒸気原液室11から供給し、該蒸気洗浄槽2内には
バスケット3より上位で充分に蒸気が在るように自動制
御されるようにされている。
上述の蒸気洗浄装置1′の偶成において、蒸気洗浄槽2
の上部よりバスケット3に収納されて前段の洗浄工程か
ら搬送されて来る低温のワーク4が蒸気洗浄槽2の内部
に貯留されている蒸気16中に投入され、完全に浸漬さ
れてその位置で所定時間停止して蒸気洗浄に供される。
而して、蒸気16はワーク4の供給により該ワーク4の
表面にて相対温度差により凝結し、液滴となって該ワー
ク4の表面を流下して洗浄作用を行い、付着している塵
埃等の汚れを剥離させ、更に、ワーク40周辺近くのア
ルコール蒸気16も冷熱伝導によって凝結し、横軸に経
過時間tを、縦軸に蒸気mの上限レベルをとった第2図
に示す様に、特に、ワーク投入直後に最も多量の蒸気1
6が凝結し、蒸気16と外気の境面のレベルは急速に下
降する。
この間、汚れを含み凝縮落下する液滴はトレイ6により
ドレン5で集合され、継合されるパイプ8を介し除塵フ
ィルター9にて完全に除塵された後、ポンプ13で昇圧
され、蒸気原液室11の原液貯留部12へ循環送給され
、ヒーター14によって再び蒸気化される。
而して、蒸気原液室11では前述した如く蒸気16が常
時緩慢に低容量のヒーター14により生成され、必要時
に常に蒸気洗浄槽2へ蒸気16を送給することが出来る
ようにされている。
尚、設計によってはシャッター22に小孔を穿設してお
いて該シャッター22の閉鎖状態でも僅かに蒸気16を
供給するようにしても良い。
而して、蒸気洗浄槽2の上部内壁面に設けられ、蒸気レ
ベルを感知する温度センサー20が蒸気mを感知してそ
れが下レベルに達すると、制御装置21を介し連通路1
9に介装されたシャッター22に制御信号を送信するこ
とによって連通路19は開放され、蒸気ストック部15
より蒸気洗浄槽2へ蒸気16が送給され、蒸気量が設定
高さの上レベルに達すると、これを感知する温度センサ
ー20がその出力信号を送信するまで連通路19は開状
態に維持し、したがって、蒸気16を供給し蒸気16と
外気の境界面が設定高さの上レベルに達すると、シャッ
ター22が閉じられて蒸気16の送給が停止される。
この場合、シャッター22の開放は急速であるため、蒸
気ストック部15内に蓄圧された蒸気16は速やかに供
給され、第2図に示す様に蒸気洗浄槽2内の蒸気16の
減少速度に打勝って蒸気間を回1すする。
そして、ワーク4が洗浄されるとバスケット3が蒸気洗
浄槽2よりワークを取り出す。
そして、ワークの投入サイクルに応じてこのプロセスが
反復され蒸気洗浄槽2内には常に洗浄に最適の蒸気16
の量が維持される。
尚、第2図は蒸気洗浄槽2内の蒸気量16の変位をワー
ク4の投入から時間を追いシャッター22の開閉°を通
して表した特性曲線である。
又、第3.4図に示す実施例において11は蒸気洗浄装
置であり、同じくこの出願の発明の要旨の中心を成すも
のであり、その蒸気洗浄槽2は上部が開放されており、
上方より図示しない搬送コンベアによって送給されてく
るバスケット3は上述実施例同様にレンズ等の被洗浄物
のワーク4が蒸気洗浄槽2の中に所定時間浸漬されて洗
浄作用を受け、洗浄後に引き上げられるようにサイクル
制御されている。
又、蒸気洗浄槽2は同じくステンレス製でドレン孔5を
有したトレイ6が凝縮して落下する液滴を回収すべく蒸
気洗浄槽2の内周に密着する支持與7が介され設けられ
ている。
而して、洗浄済で凝縮落下する原液はドレン孔5より継
合されるパイプ8を介し除塵フィルター〇で汚れ分と原
液は分離され、汚れ分は外部へ所定に排出され、原液1
0は蒸気原液室11の原液貯留部12ヘポンプ13を介
して送給される。
又、該原液貯留部12を有する蒸気原液室11はステン
レス製でその下部にはヒーター14が設けられ、蒸気原
液室11の内部の原液貯留部12に貯留される原液10
を加熱して蒸気原液室11の内部の蒸気ストック部15
にアルコールの蒸気16を生成する。
又、ヒーター14は蒸気洗浄槽2内の蒸気16が凝結し
て減じた母をワーク4の蒸気洗浄時間中に蓄積するため
の発熱容量を有しており、稼動中は常時加熱している。
そして、蒸気原液室11には生成され昇圧された蒸気1
6を蒸気洗浄槽2へ送給する通路口17が設けられて不
測の圧力オーバーに備えてリリーフバルブ18が付設さ
れており、これらの構成は上述実施例と実質的に変わり
はないものである。
而して、蒸気原液室11は蒸気洗浄槽2と連通路19に
よって連通され、当該実施例においてはその所定部位に
蒸気洗浄槽2のバスケット3の下降経路に対して照射す
べく所定位置に設けた光センサ−20のワーク4の投入
による光遮断による検出が開閉2段の回路をもつ制WJ
装置21′へ信号を送り、開閉が制御されるシャッター
22が設けられている。
而して、蒸気洗浄槽2には槽外へ蒸気16をオーバーフ
ローさせないための冷却コイル23が上部内側へ付設さ
れている。
そして、ワーク4はバスケット3に収納され、前段の洗
浄後搬送されて蒸気洗浄槽2に投下されるプロセスで位
置設定されている光センサ−20の通光路を遮断し、し
たがって、その光センサ−20のワーク4の投入検出信
号は制御装置21を介しシャッター22を開き、蒸気1
6はワーク4の表面の付着塵埃等の汚れを剥離させると
共にワーク4の温度によって冷却され、凝結し、更に、
ワーク4の周辺近くの蒸気16の熱も吸収され凝縮し、
特に、ワーク4の投入直後に最も多量の蒸気16が凝縮
されるにもかかわらず、上述の如くワーク4の投入検出
によりシャッター22が開くことにより大量の蒸気16
が蒸気原液至11より一気に供給されることにより蒸気
洗浄槽2内に於ける蒸気16の母は所定レベルを下降す
ることはなく、ワーク4は蒸気洗浄槽2内部に貯留され
ている蒸気16中に完全に浸漬されてその位置で所定時
間停止して蒸気洗浄に供される。
尚、汚れを含み凝縮落下する液滴はトレイ6によりドレ
ン5で集合され、継合されるパイプ8を介し除塵フィル
ター9にて除塵された後、ポンプ13で昇圧され、蒸気
原液至11の原液貯留部12へ循環送給され、ヒーター
14によって蒸気化される。
その間は、シャッター22は開いており、蒸気16は連
続的に供給されるため、引き続きワーク4が猶も蒸気1
6の熱を奪う作用は少く、その凝縮していく蒸気■に対
する蒸気16の供給量は低容量のヒーターにより常時補
っている。
又、シャッター22のワーク4投入後の開放により蒸気
洗浄槽2の外部へ不測にしてオーバーフローする余剰な
蒸気については蒸気洗浄槽2上部の冷却コイル23をし
て、上昇する蒸気16を冷却し凝結流下する原液はドレ
ン5で集合され、汚れを含み凝結落下する液滴はトレイ
6によりドレン5で集合され、継合されるパイプ8を介
し除塵フィルター9にて除塵された後、ポンプ13で昇
圧され蒸気原液至11の原液貯留部12へ循環送給され
、ヒーター14によって蒸気化される。
而して、常に蒸気原液苗11での蒸気16の生成により
、連通路19を介して両槽の蒸気16の量は蒸気洗浄槽
2内で常に冷却コイル23のレベルに保たれている。
又、ワーク4が充分洗浄された後引き上げる際、光セン
サ−20の通光路はワーク4により遮断され、その検出
信号が制御装置21に達し、シャッター22を閉じる。
この場合、シャッター22は完全閉鎖である必要はなく
、間隙等の小孔を設ける態様にして少量づつトリクル的
な補給によって蒸気洗浄槽2に蒸気16が充填しである
蒸気洗浄装置の態様も自在であることは勿論である。
而して、蒸気原液至11ではヒーター14が次回のワー
ク投入があるまでの時間経過によって充分な蒸気を生成
していく。
そして、このプロセスが反復され、常に洗浄に最適のア
ルコールの蒸気16の量が維持される。
そして、上述の蒸気洗浄槽2内へ供給される蒸気m16
の変位をワーク投入から時間tを追いシャッター22の
開閉を通して表したグラフが第4図であり、破線は連通
路19を介する蒸気洗浄がなされない場合の仮想の蒸気
減少量である。
尚、この出願の発明の実tM態様は上述各実施例に限る
ものでないことは勿論でおり、例えば、蒸気洗浄装置の
構造において、蒸気洗浄槽の外周部に原液貯留部をもつ
蒸気原液至を周設してヒーターをその下部に設け、蒸気
洗浄槽と原液貯留部の接部にセンサーと連動し、開閉機
構をもつシャッターを設ける等種々の態様が採用可能で
ある。
〈発明の効果〉 以上、この出願の発明によれば、基本的に蒸気洗浄槽内
に貯留される蒸気はワーク投入時にワークとの温度差に
より冷却されて多量に凝縮する現象が生ずるその液滴が
、下方のドレンが継合するパイプより蒸気原液至の原液
貯留部に回収される循環路を有しながら蒸気原液至の蒸
気ストック部より蒸気洗浄槽が要求する蒸気量をその必
要時期に従ってシャッターを介し蒸気を供給して補給す
ることとなるので、蒸気が蒸気洗浄槽上部からオーバー
フローしたりすることによる損失を防ぐことが出来ると
いう優れた効果が奏される。
又、蒸気洗浄槽に於いて、ワークの浸漬する蒸気の所定
高さのレベル範囲にセンサーが設置されているので、ワ
ークが蒸気洗浄槽の雰囲気中から露出することなくワー
クに所謂シミ等が残ることなく安定した効率の良い洗浄
が行われるという優れた効果が奏される。
更に、センサーとこれに電気的に接続したシVツタ−に
よる簡易な機構で上述作用効果が奏されるので、ヒータ
ーに特別の蒸気生成の制御をもたせる必要はなく、蒸気
洗浄装置が複雑になることなく、洗浄装置技術に対しコ
スト面でも有利である。
勿論、蒸気が蒸気洗浄槽外ヘオーバーフローすることに
よる原液の損失が防がれ、原液の節約になることは言う
までもない。
又、ワーク投入直後も引き続き、凝結されていく時間経
過に伴い蒸気量の減少は緩かであるのでワーク投入後に
多量に蒸気を供給すれば、その後のワーク所定の洗浄時
間を利用して蒸気原液至にあって比較的少い容量のヒー
ターの常時加熱で生成することが出来るので、電力の点
でも合理的であるという優れた効果が奏される。   
【図面の簡単な説明】
第1〜4図はこの出願の発明の1実施例の説明図であり
、第1図はこの装置の実施例の概略説明図、第2図は蒸
気量とシャッター開閉時期の関係の1態様を表わしたグ
ラフ、第3.4図は別の実施例の説明図であり、第3図
はその概略断面図、第4図は蒸気量とシャッター開閉時
期の関係の1態様を表したグラフ図、第5図は従来技術
の概略断面図である。 1・・・蒸気洗浄装置、  2・・・蒸気洗浄槽、5・
・・ドレン、 11・・・蒸気原液至、12・・・原液
貯留部、  8・・・通路、14・・・ヒーター、 1
5・・・蒸気ストック部19・・・連通路、 20・・
・レベルセンサー、22・・・シャッター

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)蒸気洗浄槽の蒸気の雰囲気中にワークを投入して
    洗浄し冷却して凝縮した蒸気原液を回収しヒーターによ
    り蒸気を生成して閉サイクルにワークの蒸気洗浄を行う
    方法において、蒸気洗浄に際し蒸気洗浄槽の蒸気量を常
    に所定レベル以上に維持するように補給することを特徴
    とする蒸気洗浄方法。
  2. (2)上記蒸気のレベル検出位置が洗浄槽内の所定位置
    にセットされるワークのバスケットの上端より上に設け
    られることを特徴とした特許請求の範囲第1項記載の蒸
    気洗浄方法。
  3. (3)蒸気のレベル検出位置が蒸気洗浄槽の上端部に設
    けられることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    蒸気洗浄方法。
  4. (4)蒸気洗浄槽が底部にドレンを有し別設された蒸気
    原液室の原液貯留部に通路で接続され、又下部にヒータ
    ーを設けた該蒸気原液室の蒸気ストック部と該蒸気洗浄
    槽の間に連通路が設けられている蒸気洗浄装置において
    、上記連通路の間に該蒸気洗浄槽に設けられている蒸気
    量感知用のレベルセンサーに電気的に接続されているシ
    ャッターが設けられていることを特徴とする蒸気洗浄装
    置。
  5. (5)上記レベルセンサーが蒸気洗浄槽の所定位置のワ
    ークのバスケットの上端に設けられていることを特徴と
    する特許請求の範囲第4項記載の蒸気洗浄装置。
  6. (6)上記レベルセンサーが蒸気洗浄槽の上端に設けら
    れていることを特徴とする特許請求の範囲第4項記載の
    蒸気洗浄装置。
  7. (7)上記レベルセンサーが蒸気洗浄所定位置のワーク
    のバスケットの上端と蒸気洗浄槽の上端の2点に設けら
    れていることを特徴とする特許請求の範囲第4項記載の
    蒸気洗浄装置。
  8. (8)蒸気洗浄槽が底部にドレンを有し別設された蒸気
    原液室の原液貯留部に通路で接続され、又下部にヒータ
    ーを設けた該蒸気原液室の蒸気ストック部と該蒸気洗浄
    槽の間に連通路が設けられている蒸気洗浄装置において
    、上記連通路の間に該蒸気洗浄槽に設けられているワー
    ク検知センサーに電気的に接続されているシャッターが
    設けられていることを特徴とする蒸気洗浄装置。
  9. (9)上記ワーク検知センサーが蒸気洗浄槽の上限位置
    に設けられていることを特徴とする特許請求の範囲第8
    項記載の蒸気洗浄装置。
  10. (10)上記ワーク検知センサーが洗浄所定位置にある
    ワークのバスケットの下端に設けられていることを特徴
    とする特許請求の範囲第8項記載の蒸気洗浄装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6328809B1 (en) 1998-10-09 2001-12-11 Scp Global Technologies, Inc. Vapor drying system and method
JP5076033B1 (ja) * 2012-06-08 2012-11-21 ジャパン・フィールド株式会社 被洗浄物の蒸気洗浄方法及びその装置

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